DE4301830A1 - 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser mit erweitertem Wellenlängen-Durchstimmungsbereich - Google Patents

3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser mit erweitertem Wellenlängen-Durchstimmungsbereich

Info

Publication number
DE4301830A1
DE4301830A1 DE19934301830 DE4301830A DE4301830A1 DE 4301830 A1 DE4301830 A1 DE 4301830A1 DE 19934301830 DE19934301830 DE 19934301830 DE 4301830 A DE4301830 A DE 4301830A DE 4301830 A1 DE4301830 A1 DE 4301830A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
section
semiconductor laser
laser
dfb semiconductor
phase shift
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19934301830
Other languages
English (en)
Inventor
Hartmut Dr Rer Nat Hillmer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bosch Telecom GmbH
Original Assignee
ANT Nachrichtentechnik GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ANT Nachrichtentechnik GmbH filed Critical ANT Nachrichtentechnik GmbH
Priority to DE19934301830 priority Critical patent/DE4301830A1/de
Priority to EP94100540A priority patent/EP0608729A1/de
Priority to DE9421330U priority patent/DE9421330U1/de
Publication of DE4301830A1 publication Critical patent/DE4301830A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/062Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes
    • H01S5/0625Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes in multi-section lasers
    • H01S5/06255Controlling the frequency of the radiation
    • H01S5/06258Controlling the frequency of the radiation with DFB-structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/12Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
    • H01S5/124Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers incorporating phase shifts

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft einen 3-Sektions-DFB-Halbleiter­ laser (DFB = distributed feedback), der eine größere Wellenlängen-Durchstimmbarkeit ohne Modensprünge als die bisher bekannten Ausführungen von 3-Sektions-DFB-Halb­ leiterlasern ermöglicht.
Es existieren zahlreiche Veröffentlichungen über 3-Sekti­ ons-DFB-Halbleiterlaser mit identischen Sektionslängen, z. B. D. Leclerc, J. Jaquet, D. Sigogne, C. Labourie, Y. Louis, C. Artigue and J. Benoit, "Three-electrode DFB wavelength tunable FSK transmitter at 1,53 µm" Electron. Lett. 25, 45 (1989), und Y. Yoshikuni and G. Motosugi, "Independent modulation in amplifier and frequency regimes by a multielectrode distributed feedback laser" Technical digest of OFC 86, pp. 32-33 (1986).
Weiterhin sind symmetrische 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser bekannt, bei denen die äußeren beiden Sektionen identische Längen aufweisen, wie z. B. in folgenden Quellen beschrie­ ben: Y. Kotaki and H. Ishikawa, "Wavelength tunable DFB and DBR lasers for coherent optical fibre communications", IEE Proceedings- J. 138,171 (1991), und Y. Kotaki, S. Ogita, M. Matsuda, Y. Kuwahara and H. Ishikawa, "Tunable, narrow-linewidth and high-power λ/4- shifted DFB-Laser" Electron. Lett. 25,990 (1989). Die Phasenverschiebung/-en sind bei den bekannten Lösungen immer im Zentrum des Lasers, also in der Mitte der zentra­ len Sektion, angeordnet. Gegenüber den bekannten Bauformen durchstimmbarer Laser zeichnet sich der erfindungsgemäße Laser durch höhere Modulierbarkeit und kleinere Linien­ breite aus. Ein entscheidender Nachteil aller bisher be­ kannten 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser sind ihre, vergli­ chen mit anderen Lasern wie z. B. DBR-Laser oder TTG-Laser, geringen Wellenlängen-Durchstimmungsbereiche, die den An­ wendungsbereich der 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser doch erheblich einschränken.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen 3-Sektions- DFB-Halbleiterlaser zu entwickeln, der die bekannten Vor­ teile der 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser mit einem erwei­ terten Wellenlängen-Durchstimmungsbereich ohne Modensprünge verbindet.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die 3 Sektionen des DFB-Halbleiterlasers so ausgebildet sind, daß sie zueinander unterschiedliche Sektionslängen aufweisen. Bei einer Gesamtlänge L des DFB-Halbleiterlasers zwischen 150 und 400 µm sind die einzelnen Sektionen im Verhältnis zueinander und im Verhältnis zur Gesamtlänge L so ausgebil­ det, daß die Länge der linken Sektion LS1 im Bereich zwi­ schen 1/10 bis 3/10, die Länge der mittleren Sektion LC im Bereich zwischen 3/10 bis 6/10 und die Länge der rechten Sektion LS2 im Bereich zwischen 4/10 bis 6/10 in Bezug auf die Gesamtlänge L des 3-Sektions-DFB-Halbleiterlasers liegt. Innerhalb der o. g. Längenangaben sind damit die Sektionen, entsprechend den Erfordernissen, längenmäßig zueinander variierbar, wobei aber immer gewährleistet sein muß, daß die Sektionslängen, bezüglich ihrer Längen zuein­ ander, unsymmetrisch ausgebildet sind, die Phasenverschie­ bung stark aus dem Zentrum des Halbleiterlasers herausge­ schoben ist und der Kopplungskoeffizient K des DFB-Gitters hoch gewählt ist. Die Trennungslücken WG zwischen den Sek­ tionen, die ebenfalls in der Gesamtlänge L enthalten sind, sind so ausgebildet, daß jeweils von Sektionslänge zu Sek­ tionslänge ein Abstand in den Grenzen von 5 bis 10 µm ge­ währleistet ist. Die Nachteile eines größeren Kopplungs­ koeffizienten K, die insbesondere in der geringeren opti­ schen Ausgangsleistung zum Ausdruck kommen, werden erfin­ dungsgemäß durch eine Veränderung der Lage der Phasenver­ schiebung aus dem Zentrum des Halbleiterlasers heraus kom­ pensiert. Dabei gilt, je größer der Kopplungskoeffizient, desto weiter muß die Lage der Phasenverschiebung/-en in Richtung auf die Resonator-Endfläche verschoben sein, wel­ che in Richtung der für die Nachrichtenübertragung genutz­ ten Streckenfaser liegt. Der minimalste Abstand der Lage der Phasenverschiebung von der entsprechenden Laser-End­ fläche darf jedoch keinesfalls kleiner als L/10 sein.
Die erfindungsgemäße Lösung wird anhand eines Ausführungs­ beispiels näher erläutert.
Fig. 1 zeigt hierbei einen Querschnitt durch einen erfin­ dungsgemäßen 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser.
In Fig. 1 stellen die schwarz ausgefüllten Flächen an der Oberseite des Bauelements die Metallisierung der elektri­ schen Kontaktfelder dar, welche jeweils durch unterschied­ liche Längen LS1; LC; LS2 gekennzeichnet sind und damit die individuellen Sektionslängen verdeutlichen. Die punktier­ ten Flächen stellen die elektrische Isolierung der elek­ trischen Kontaktfelder voneinander dar, wobei der Isola­ tionswiderstand 100 Ω bis einige kΩ beträgt. Die elek­ trische Isolierung wird gewöhnlich mittels Ionenimplan­ tation, Ätzen oder der Kombination von Ätzen und Epitaxie realisiert. Die Struktur kann sowohl auf n- wie auch auf p-Substrat basieren. Als Beispiel wurde in Fig. 1 in das DFB- Gitter unter der mittleren Sektion LC eine λ/4 Phasenver­ schiebung integriert, deren Lage durch die senkrecht ge­ strichelte Linie angedeutet ist. Dabei ist die Lage der Phasenverschiebung aus dem Zentrum des Halbleiterlasers immer in Richtung auf die Laser-Endfläche verschoben, wel­ che in Richtung der für die Nachrichtenübertragung genutz­ ten Streckenfaser liegt. Bezogen auf das in Fig. 1 darge­ stellte Ausführungsbeispiel ist die Lage der Phasenver­ schiebung in Richtung auf diejenige Laser-Endfläche ver­ schoben, welche zur linken Sektion LS1 korrespondiert. Die Phasenverschiebung/-en liegt/liegen, wenn die Streckenfaser auf der linken Seite liegt, immer in der mittleren Sektion LC oder in der linken Sektion LS1. Die drei Sektionen wer­ den, wie in Fig. 1 dargestellt, mit 2 verschiedenen Strömen betrieben. Die äußeren Sektionen LS1 und LS2 werden durch den Strom IS- elektrisch gepumpt, während die mittlere Sek­ tion LC mit dem Strom IC gepumpt wird. Aus Gründen der All­ gemeingültigkeit sind die einzelnen Epitaxieschichten nicht separat dargestellt. Die aktive/-n Schicht/-en können auf beiden Seiten des DFB-Gitters liegen. Die Substratuntersei­ te ist ebenfalls metallisiert und dient als Masse-Kontakt (in Fig. 1 nicht dargestellt). Noch größere Durchstimmungs­ bereiche werden dadurch erreicht, daß alle drei Sektionen LS1; LC; LS2 mit verschiedenen Strömen betrieben werden. Als Grenzfall ist auch eine kurze ungepumpte oder schwach ge­ pumpte Rand-Sektion denkbar.
Die Wellenlängendurchstimmung kann bei dem Bauelement bei Verwendung von ein oder zwei Steuerströmen folgendermaßen erfolgen:
  • - der Strom IS oder IC ist fixiert und der andere Strom oder IS wird variiert,
  • - beide Ströme werden abhängig voneinander durch ein Netz­ werk bestimmt, welches mit einem einzelnen Steuerstrom betrieben wird, oder
  • - der Gesamtstrom IC + IS ist fixiert und das Teilungsver­ hältnis zwischen IC und IS wird variiert, z. B. mittels eines einzigen Steuerstroms über ein Netzwerk.
Große Kopplungskoeffizienten verursachen bekanntlich am Ort der Phasenverschiebung/-en sowohl eine starke Photonenfeld- Überhöhung als auch damit gekoppelt, eine starke Ladungs­ trägerdichte-Reduktion (räumliches Lochbrennen). Durch optimierte Geometrieparameter der Struktur und geeignete Variation der Steuerströme IC und IS kann die Schwell- Verstärkung (threshold gain modulation) und die durch räumliches Lochbrennen induzierte Verstärkung des Plasma­ effektes auf die Emissionswellenlängen-Änderung des Bau­ elements beträchtlich verstärkt werden. Bei der Nutzung des räumlichen Lochbrennens erweist sich eine λ/4-Phasenver­ schiebung günstiger als im Vergleich dazu zwei λ/8 Phasen­ verschiebungen. Diese verstärkte elektronische Wellenlän­ gen-Durchstimmung ist besonders für schnelle Emissions-Wel­ lenlängen-Änderungen über größere Wellenlängen-Bereiche interessant. Dieser Effekt läßt sich insbesondere durch die erfindungsgemäße Bauform des 3-Sektions-DFB-Halbleiterla­ sers herauspräparieren. Durch Optimierung kann dieser Effekt verstärkt und gezielt zur Vergrößerung des Wellen­ längen-Durchstimmungsbereiches eingesetzt werden.
Im folgenden werden einige konkrete Anwendungsbeispiele für die erfindungsgemäße Konfiguration beschrieben. Zur Erhöhung der einseitigen externen Quantenausbeute wird eine Veränderung der Lage der Phasenverschiebung in Rich­ tung einer Laser-Endfläche (Laser-Facette) vorgenommen, und zwar so, daß die gesamte Resonatorlänge im Verhältnis 3 : 7 geteilt ist. Durch diese Asymmetrie kann der Kopplungskoef­ fizient sehr groß gewählt werden (z. B. K < 80cm-1; L∼200-300 m). An der Facette, die näher an der Phasenverschiebung liegt (Frontfacette), ist nun die externe Quantenausbeute auf Kosten der rückwärtigen Facette wesentlich vergrö­ ßert. Zur Erhöhung der Braggmoden-Stabilität erfolgt die Berechnung der longitudinalen Photonenverteilungen derjenigen beiden Seitenmoden, welche dem Schwellengain der Braggmode am nächsten kommen. Die Wahl der Sektionslängen erfolgt z. B. nach folgendem Schema: Linke Sektionstrennung an der Stelle, an welcher der Mittelpunkt der beiden Inten­ sitätsmaxima der betrachteten Seitenmoden auf der linken Seite liegt. Rechte Sektionstrennung an der Stelle, an welcher der Mittelpunkt der beiden Intensitätsmaxima der betrachteten Seitenmoden auf der rechten Seite liegt. Der Kopplungskoeffizient, der relativ hoch gewählt wird (K < 80cm-1), wirkt dabei stabilisierend.
Zur Vergrößerung des Wellenlängen-Durchstimmungsbereichs müssen große Kopplungskoeffizienten (K < 80 cm-1; L∼200-300 m) verwendet werden, wenn das räumliche Lochbrennen verstär­ kend für die Wellenlängen-Durchstimmung genutzt werden soll.
Ein Beispiel dafür wird anhand eines 3-Sektions-DFB-Halb­ leiterlasers näher erläutert. Bei dieser Ausführungsform liegt die Phasenverschiebung in der mittleren Sektion LC bei 70 µm, gemessen von der linken Resonator-Endfläche. Die Länge der rechten Sektion LS2 liegt bei 149 µm. Die Länge der linken Sektion LS1 liegt bei 41 µm. Die Länge der mitt­ leren Sektion LC liegt bei 100 µm. Der Abstand zwischen den einzelnen Sektionen WG liegt bei 5 µm. Die Gesamtlänge L des erfindungsgemäßen Bauelements liegt bei 300 µm.
Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel für eine Bauelemen­ telänge von L = 200 µm liegt die Länge der linken Sektion LS1 bei 20 µm, die Länge der mittleren Sektion LC bei 80 µm und die Länge der rechten Sektion LS2 bei 90 µm. Der Abstand zwischen den einzelnen Sektionen WG liegt bei 5 µm und der Abstand der Phasenverschiebung liegt, gemessen von der lin­ ken Resonator Endfläche aus, bei 60 µm.
Bei diesen Beispielen handelt es sich um mögliche Ausfüh­ rungsformen. Die optimalen Kombinationen der Laserparameter werden rechnerisch ermittelt, z. B. mit Hilfe eines Trans­ fer-matrix-Modells oder eines Coupled-Mode Modells. Die Art, Größe und Verteilung der Phasenverschiebung/-en wird in diesen rechnerischen Optimierungsverfahren ebenfalls festgelegt. In die Verfahren können noch weitere Parameter einbezogen werden, wie z. B. die Variation in longitudina­ ler Richtung der DFB-Gitterperiode Λ(z) und des Kopplungs­ koeffizienten K(z). Die Optimierung erfolgt je nach der er­ wünschten Anwendung entweder im Hinblick auf die Verstär­ kung elektronischer Wellenlängen-Durchstimmungs-Effekte für ultra-schnelle Wellenlängendurchstimmung über weite Wellen­ längen-Differenzen, oder im Hinblick auf die simultane Aus­ nutzung von thermischen und elektronischen Wellenlängen- Durchstimmungs-Effekten zur Erzielung eines möglichst gro­ ßen Gesamt-Wellenlängen-Durchstimmungsbereichs. Der nutz­ bare Durchstimmungsbereich ist in herkömmlichen 3-Sektions- DFB-Halbleiterlasern vielfach auch durch Reduktion der Sei­ tenmoden-Unterdrückung eingeschränkt. Dies kann durch ein zusätzlich stabilisierendes Element der Einmodigkeit er­ reicht werden, indem eine kurze, schwach oder ungepumpte Seiten-Sektion, nur durch einen kleinen Separationswider­ stand von der mittleren Sektion getrennt wird, wobei der Separationswiderstand und die betreffende Sektionslänge rechnerisch optimiert werden.
Die Vorteile der erfindungsgemäßen Lösung liegen insbeson­ dere darin begründet, daß die Struktur des erfindungsgemä­ ßen Bauelements verhältnismäßig einfach ist, da es mit nur ein oder zwei Steuerströmen betrieben werden kann, wobei eine größere Wellenlängen-Durchstimmbarkeit ohne Moden­ sprünge als bei den bekannten 3-Sektions-DFB-Halbleiter­ lasern, welche mit vergleichbaren Steuerströmen betrieben werden, erreicht wird. Die größere Durchstimmbarkeit beruht auf der geometrischen Asymmetrie in Bezug auf die unter­ schiedlichen Sektionslängen, auf dem hohen Kopplungskoeffi­ zienten K, sowie auf der asymmetrischen Lage der Phasenver­ schiebung/-en außerhalb der Mitte des Halbleiterlasers. Da­ mit ist es möglich, unter Beibehaltung der bekannten Vor­ teile der 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser, wie der sehr ge­ ringen Linienbreite und der sehr schnellen Modulierbarkeit, trotz hoher Kopplungskoeffizienten eine hohe Lichtausbeute zu realisieren. Durch die erfindungsgemäße Lösung erfährt der durchstimmbare 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser, bezüg­ lich seines Anwendungsbereichs, eine beträchtliche Aufwer­ tung gegenüber dem durchstimmbaren DBR-Laser.

Claims (2)

1. 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser mit erweitertem Wellen­ längen-Durchstimmungsbereich, dadurch ge­ kennzeichnet, daß seine Gesamtlänge (L) zwischen 150 und 400 µm beträgt, und daß seine einzelnen Sektionen (LS1; LC; LS2) unterschiedlich lang sind, wobei im Verhältnis zur Gesamtlänge (L) der Längenanteil der linken Sektion (LS1) zwischen 1/10 bis 3/10, der Län­ genanteil der mittleren Sektion (LC) zwischen 3/10 bis 6/10 und der Längenanteil der rechten Sektion (LS2) zwischen 4/10 bis 6/10 der Gesamtlänge (L) variierbar ist, daß die Trennungslücken (WG), die in die Gesamt­ länge (L) einbezogen sind, zwischen den einzelnen Sek­ tionen einen Abstand von 5 bis 10 µm aufweisen, daß die drei Sektionen (LS1; LC; LS2) vorzugsweise mit zwei ver­ schiedenen Strömen (IC; IS) betrieben werden, daß das Produkt aus Gesamtlänge (L) und Kopplungskoeffizient (K) zwischen 2 und 4 beträgt, daß die Lage der Phasen­ verschiebung aus dem Zentrum des Halbleiterlasers in Richtung auf die Laser-Endfläche verschoben ist, die in Richtung der für die Nachrichtenübertragung genutzten Streckenfaser liegt, wobei dies diejenige Laser-End­ fläche ist, welche zur linken Sektion LS1 korrespon­ diert, und daß der minimalste Abstand der Lage der Pha­ senverschiebung von der entsprechenden Laser-Endfläche nicht kleiner als L/10 ist.
2. 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei Vertauschung der Längenanteile der linken Sektion LS1 mit den Längenanteilen der rech­ ten Sektion LS2 die Lage der Phasenverschiebung in Richtung auf die Laser-Endfläche verschoben ist, die zur rechten Sektion LS2 korrespondiert.
DE19934301830 1993-01-23 1993-01-23 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser mit erweitertem Wellenlängen-Durchstimmungsbereich Withdrawn DE4301830A1 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19934301830 DE4301830A1 (de) 1993-01-23 1993-01-23 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser mit erweitertem Wellenlängen-Durchstimmungsbereich
EP94100540A EP0608729A1 (de) 1993-01-23 1994-01-15 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser mit erweitertem Wellenlängen-Durchstimmungsbereich
DE9421330U DE9421330U1 (de) 1993-01-23 1994-01-15 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser mit erweitertem Wellenlängen-Durchstimmungsbereich

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19934301830 DE4301830A1 (de) 1993-01-23 1993-01-23 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser mit erweitertem Wellenlängen-Durchstimmungsbereich

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE4301830A1 true DE4301830A1 (de) 1994-07-28

Family

ID=6478813

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19934301830 Withdrawn DE4301830A1 (de) 1993-01-23 1993-01-23 3-Sektions-DFB-Halbleiterlaser mit erweitertem Wellenlängen-Durchstimmungsbereich

Country Status (2)

Country Link
EP (1) EP0608729A1 (de)
DE (1) DE4301830A1 (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19708385A1 (de) * 1997-03-01 1998-09-03 Deutsche Telekom Ag Wellenlängenabstimmbares optoelektronisches Bauelement
EP1703603B1 (de) * 2005-03-17 2015-03-18 Fujitsu Limited Abstimmbarer Laser

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0285393A2 (de) * 1987-03-31 1988-10-05 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Element zur Wellenlängenumwandlung
EP0289250A2 (de) * 1987-04-27 1988-11-02 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Phasenverschobener Halbleiterlaser mit verteilter Rückkopplung
EP0332453A2 (de) * 1988-03-11 1989-09-13 Kokusai Denshin Denwa Kabushiki Kaisha Halbleiterlaser mit verteilter Rückkoppelung und Strominjektions-Verfahren dafür
EP0409487A2 (de) * 1989-07-15 1991-01-23 Fujitsu Limited Abstimmbare Laserdiode mit verteilter Rückkoppelung
EP0480697A2 (de) * 1990-10-11 1992-04-15 Kokusai Denshin Denwa Kabushiki Kaisha Abstimmbarer Halbleiterlaser

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0387087A (ja) * 1989-06-29 1991-04-11 Hitachi Ltd 半導体レーザ装置
FR2677499A1 (fr) * 1991-06-07 1992-12-11 Alsthom Cge Alcatel Laser semiconducteur monomodal a retroaction distribuee et son procede de fabrication.

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0285393A2 (de) * 1987-03-31 1988-10-05 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Element zur Wellenlängenumwandlung
EP0289250A2 (de) * 1987-04-27 1988-11-02 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Phasenverschobener Halbleiterlaser mit verteilter Rückkopplung
EP0332453A2 (de) * 1988-03-11 1989-09-13 Kokusai Denshin Denwa Kabushiki Kaisha Halbleiterlaser mit verteilter Rückkoppelung und Strominjektions-Verfahren dafür
EP0409487A2 (de) * 1989-07-15 1991-01-23 Fujitsu Limited Abstimmbare Laserdiode mit verteilter Rückkoppelung
EP0480697A2 (de) * 1990-10-11 1992-04-15 Kokusai Denshin Denwa Kabushiki Kaisha Abstimmbarer Halbleiterlaser

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
et.al.: 1.55 mum Narrow-Linewidth Multielectrode DFB Laser for Coherent FSK Trans- mission. In: Electronics Letters, Vol.23, No.16, 1987, S.826-828 *
NAKANO, Y. *

Also Published As

Publication number Publication date
EP0608729A1 (de) 1994-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3851874T2 (de) Über ein Gitter gekoppelter, aus seiner Oberfläche strahlender Laser und Verfahren zu seiner Modulation.
DE69609547T2 (de) Optischer Halbleitervorrichtung, Antriebsverfahren und optisches Kommunikationssystem
DE69607493T2 (de) Polarisationsmodenselektiver Halbleiterlaser, Modulationsverfahren und optisches Kommunikationssystem unter Verwendung dieses Lasers
DE69521157T2 (de) Polarisationsselektiver Halbleiterlaser, Lichtsender und optisches Kommunikationssystem unter Verwendung dieses Lasers
DE69408802T2 (de) Polarisationsmodenselektiver Halbleiterlaser, Lichtquelle und optisches Kommunikationssystem unter Verwendung dieses Lasers
DE4328777B4 (de) Optische Filtervorrichtung
DE69104429T2 (de) Optisches Halbleiterbauelement.
DE69614602T2 (de) Optische Halbleitervorrichtung, Verfahren zu ihrer Ansteuerung, Verwendung der Vorrichtung als Lichtquelle und optisches Kommunikationssystemes mit einer derartigen Lichtquelle
DE69407312T2 (de) Integrierte optische Halbleiteranordnung und Herstellungsverfahren
DE69701749T2 (de) Optische Halbleitervorrichtung, Herstellungsverfahren, Modulationsverfahren, Lichtquelle und optisches Kommunikationssystem oder Verfahren zu deren Herstellung
DE19624514C1 (de) Laserdiode-Modulator-Kombination
DE69826088T2 (de) Lasersender mit verminderter Verzerrung
DE69532083T2 (de) Optische vorrichtung
DE69715337T2 (de) Halbleiterlaser mit aktiver Schicht in Quantentopstruktur, dessen Verwendungsverfahren, diesen beinhaltendes Lichtquellengerät sowie diesen verwendendes optisches Kommunikationssystem.
DE3688002T2 (de) Halbleiter-laser.
DE69505064T2 (de) Wellenlängenabstimmbarer Halbleiterlaser
DE69102240T2 (de) Abstimmbarer Halbleiterlaser.
DE69111197T2 (de) Abstimmbarer Halbleiterlaser mit verteilter Rückkopplung.
DE69809377T2 (de) Halbleiterlaser mit verteilter Rückkoppelung und unterschiedlichen Lichtintensitätsverteilungen der verschiedenen Polarisationsmoden, sowie zugehöriges Ansteuerverfahren
DE19519608A1 (de) Wellenlängenabstimmbare Halbleiter-Laservorrichtung
DE69101693T2 (de) Halbleiter-Wellenlängenwandler.
DE60204168T2 (de) Phasenverschobene oberflächenemittierende dfb laserstrukturen mit verstärkenden oder absorbierenden gittern
DE68911414T2 (de) Laserdiode mit Mitteln zur elektrischen Modulation der Intensität des ausgestrahlten Lichts einschliesslich des Ein- und Ausschaltens und zur elektrischen Steuerung der Position des Laserflecks.
DE69007602T2 (de) Analoges optisches Faser-Kommunikationssystem und zum Gebrauch in einem solchen System angepasster Laser.
DE69507347T2 (de) Polarisationsselektiver Halbleiterlaser, Lichtsender, und optisches Kommunikationssystem unter Verwendung dieses Lasers

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8139 Disposal/non-payment of the annual fee