ES2214444T3 - Metodo y aparato para formar un recubrimiento. - Google Patents

Metodo y aparato para formar un recubrimiento.

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ES2214444T3 ES01969976T ES01969976T ES2214444T3 ES 2214444 T3 ES2214444 T3 ES 2214444T3 ES 01969976 T ES01969976 T ES 01969976T ES 01969976 T ES01969976 T ES 01969976T ES 2214444 T3 ES2214444 T3 ES 2214444T3
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Abstract

Un método para formar un revestimiento sobre un sustrato, cuyo método comprende introducir un material de formación de revestimiento líquido y/o sólido atomizado en una descarga de plasma a la presión atmosférica y/o una corriente de gas ionizado resultante de la misma, y exponer el sustrato al material de formación de revestimiento atomizado sometido a condiciones de presión atmosférica.

Description

Método y aparato para formar un recubrimiento.
La presente invención se refiere a un método para formar un revestimiento sobre un sustrato, en particular a un método para formar un revestimiento sobre un sustrato usando una descarga de plasma a la presión atmosférica, a un método para polimerizar un material para formar polímeros, y además a un aparato para formar un revestimiento sobre un sustrato.
Los sustratos pueden ser revestidos por muchas razones, por ejemplo para proteger el sustrato de la corrosión, para proporcionar una barrera a la oxidación, para mejorar la adhesión a otros materiales, para incrementar la actividad de la superficie, y por razones de compatibilidad biomédica del sustrato. Un método usado ordinariamente para modificar o revestir la superficie de un sustrato consiste en colocar el sustrato dentro de un recipiente reactor y someter este a una descarga de plasma. En la técnica se conocen muchos ejemplos de tal tratamiento, por ejemplo, la Patente de EE.UU. Nº 5.876.753 describe un procedimiento para fijar materiales blanco a una superficie sólida, cuyo procedimiento incluye adherir compuestos carbonados a una superficie mediante una deposición de plasma, pulsatoria, de ciclo de trabajo de baja potencia variable, y el documento EP-A-0895035 describe un dispositivo que tiene un sustrato y un revestimiento, en el que el revestimiento se aplica al sustrato mediante polimerización de plasma de un gas que comprende al menos un compuesto orgánico o monómero. El documento DE 19924108, que fue el primero publicado después de la fecha de prioridad inicial de la presente invención, describe un procedimiento para revestir inhibidores de sustancias tintóreas y de la corrosión sobre sustratos. El procedimiento implica la aplicación de un revestimiento de película líquida sobre un sustrato y un posterior revestimiento protector polímero de plasma. El revestimiento polímero de plasma se forma usando monómeros gaseosos y plasma de baja presión.
No obstante, tal tratamiento de la superficie de plasma requiere que el sustrato esté sometido a condiciones de presión reducida, y por tanto requiere una cámara de vacío. Las presiones de gas típicas para formar el revestimiento están comprendidas en el intervalo de 5 a 25 Nm^{-2}. (en comparación, 1 atmósfera = 1,01 \times 10^{5} Nm^{-2}). Como resultado de la exigencia de una presión reducida, los tratamientos superficiales son caros, están limitados a tratamientos por tandas, y los materiales para formar el revestimiento han de estar en forma gaseosa y/o de vapor para mantener las condiciones de presión reducida.
Los presentes inventores han hallado que los inconvenientes anteriormente mencionados del tratamiento con plasma de la superficie del sustrato pueden ser superados usando una combinación de una descarga de plasma a la presión atmosférica y un material para formar el revestimiento líquido y/o sólido atomizado.
Por tanto, según la presente invención se proporciona un método para formar un revestimiento sobre un sustrato, cuyo método comprende introducir un material para formar el revestimiento líquido y/o sólido atomizado en una descarga de plasma a la presión atmosférica y/o una corriente de gas ionizado resultante de la misma, y exponer el sustrato al material atomizado de formación del revestimiento.
Se ha de entender que el material de formación de revestimiento de acuerdo con la presente invención es un material que puede ser usado para efectuar cualquier revestimiento apropiado, incluyendo, por ejemplo, un material que puede ser usado para hacer crecer una película o para modificar químicamente una superficie existente.
La presente invención proporciona también un método para polimerizar un material que forma polímeros, cuyo método comprende atomizar el material que forma polímeros, y exponer el material que forma polímeros a una descarga de plasma a la presión atmosférica.
La presente invención proporciona además un aparato para formar un revestimiento sobre un sustrato, cuyo aparato comprende medios para generar una descarga de plasma a la presión atmosférica dentro de la cual, en uso, se coloca el sustrato, un atomizador para proporcionar un material que forma el revestimiento atomizado dentro de la descarga de plasma, y medios para suministrar un material de formación de revestimiento al atomizador.
En la presente invención puede ser usado cualquier medio convencional para generar una descarga luminosa de plasma a la presión atmosférica, por ejemplo, un chorro de plasma a la presión atmosférica, una descarga luminosa de microondas a la presión atmosférica y una descarga luminosa de presión atmosférica. Típicamente, tales medios emplearán disolventes de helio y un suministro de potencia de alta frecuencia (por ejemplo >1 kHz) para generar una descarga luminosa homogénea a la presión atmosférica por medio de un mecanismo de ionización de Penning (véase por ejemplo, J. Phys. D: Appl. Phys. 1988 21, 838 de Kanazawa y otros, Proc. Jpn. Symp. Plasma Chem. 1989, 2, 95 de Okazaki y otros, Métodos e Instrumentos Nucleares en "Physical Research" 1989, B37/38, 842, de Kanazawa y otros, y J. Phys. D: Appl. Phys. 1990, 23, 374 de Yokoyama y otros).
El material para formar el revestimiento puede ser atomizado usando cualquier medio convencional, por ejemplo una tobera ultrasónica. El atomizador produce preferiblemente un tamaño de gota de material para la formación de revestimiento de 10 a 50 \mum. Atomizadores adecuados para ser usados en la presente invención son las toberas ultrasónicas de Sono-Tek Corporation, Milton, Nueva York, EE.UU. El aparato de la presente invención puede incluir una pluralidad de atomizadores, que pueden ser de particular utilidad, por ejemplo, donde el aparato ha de ser usado para formar un revestimiento copolímero sobre un sustrato de dos materiales de formación de revestimiento diferentes, en el que los monómeros no pueden ser mezclados o son de fases diferentes, por ejemplo el primero es un sólido y el segundo es gaseoso o líquido.
La presente invención puede ser usada para formar muchos tipos de revestimientos de sustrato diferentes. El tipo de revestimiento que se forma sobre el sustrato es determinado por el material o materiales de formación usados, y el presente método puede ser usado para (co)polimerizar material(es) monómero(s) de formación del revestimiento sobre la superficie de sustrato. El material de formación del revestimiento puede ser orgánico o inorgánico, sólido y/o líquido. Materiales adecuados para formar el revestimiento, orgánicos, adecuados incluyen carboxilatos, metacrilatos, acrilatos, estirenos, metacrilonitrilos, alquenos y dienos, por ejemplo metil metacrilato, etil metacrilato, propil metacrilato, butil metacrilato, y otros metacrilatos alquílicos, y los correspondientes acrilatos, que incluyen metacrilatos y acrilatos organofuncionales, que incluyen metacrilato glicidílico, propil metacrilato trimetoxílico, metacrilato de alilo, metacrilato hidroxietílico, metacrilato hidroxipropílico, metacrilatos dialquilaminoalquílicos, y (met)acrilatos fluoroalquílicos, ácido metacrílico, ácido acrílico, ácido y ésteres fumáricos, ácido (y ésteres) itacónicos, anhídrido maléico, estireno, \alpha-metilestireno, alquenos halogenados, por ejemplo, haluros vinílicos, tales como cloruros vinílicos y fluoruros vinílicos, y alquenos fluorados, por ejemplo peerfluoroalquenos, acrilonitrilo, metacrilonitrilo, etileno, propileno, alilamina, haluros vinilidínicos, butadienos, acrilamidas, tales como N-isopropilacrilamida, metacrilamida, compuestos epoxídicos, por ejemplo glicidoxipropiltrimetoxilano, glicidol, óxido de estireno, monóxido de butadieno, éter diglicidilo de etilenglicol, metacrilato glicidílico, eterdiglicidilo A bisfenol (y sus oligómeros), óxido de vinilcicloexano, polímeros conductores tales como pirrol y tiofeno y sus derivados, y compuestos que contienen fósforo, por ejemplo el dimetilalilfosfonato. Materiales para la formación de revestimientos inorgánicos adecuados incluyen metales y óxidos metálicos, que incluyen metales coloidales. Los compuestos organometálicos pueden ser también materiales adecuados para la formación de revestimientos, incluyendo alcoholatos metálicos tales como titanatos, alcoholatos de estaño, zirconatos y alcoholatos de germanio y erbio. No obstante, los presentes inventores han hallado que la presente invención tiene particular utilidad proporcionando sustratos con sílice, o revestimientos basados en siloxanos que usen composiciones que formen revestimientos que comprendan materiales que contengan silicio. Materiales que contengan silicio adecuados para ser usados en el método de la presente invención incluyen silanos (por ejemplo, silano, halosilanos alquílicos, silanos alcohóxilicos) y lineales (por ejemplo, polidimetilsiloxano) y siloxanos cíclicos (por ejemplo, octametilciclotetrasiloxano), que incluyen siloxanos organofuncionales lineales y cíclicos (por ejemplo, que contengan Si-H, halofuncionales, y siloxanos lineales y cíclicos haloalquílicos funcionales, por ejemplo tetrametilciclotetrassiloxano y tri(nonofluorobutil)trimetilciclotrisiloxano). Puede ser usada una mezcla de diferentes materiales que contengan silicio, por ejemplo para obtener las propiedades físicas del revestimiento de sustrato concretas para satisfacer una necesidad (por ejemplo propiedades térmicas, propiedades ópticas, tales como índice de refracción y propiedades viscoelásticas).
En adición, bajo condiciones de oxidación el presente método puede ser usado para formar un revestimiento que contenga oxígeno sobre el sustrato. Por ejemplo, pueden formarse revestimientos basados en sílice sobre la superficie de sustrato a partir de materiales de formación de revestimientos que contengan sílice atomizados. Bajo condiciones de reducción, el presente método puede ser usado para formar revestimientos exentos de oxígeno, por ejemplo, pueden formarse revestimientos basados en carburo de silicio a partir de materiales de formación de revestimientos que contengan silicio atomizados.
También pueden ser empleados gases que posean condiciones de generación de plasma distintos al oxígeno, por ejemplo gases nobles, aire, hidrógeno, nitrógeno y amoniaco. En una atmósfera que contenga nitrógeno puede ser ligado nitrógeno a la superficie de sustrato, y en una atmósfera nitrógeno y oxígeno, pueden ser ligados nitratos a, y/o ser formados sobre, la superficie de sustrato. Tales gases pueden ser también usados para pretratar la superficie de sustrato antes de que sea expuesta a la sustancia de formación de revestimiento. Por ejemplo un tratamiento de plasma que contenga oxígeno del sustrato puede proporcionar una mejor adhesión con el revestimiento aplicado. Siendo generado el plasma que contiene oxígeno mediante la introducción de materiales que contengan oxígeno en el plasma, tales como gas oxígeno o agua. Además, el revestimiento formado sobre el sustrato puede ser tratado posteriormente en un margen de condiciones de plasma. Por ejemplo, revestimientos derivados de siloxanos pueden ser oxidados además mediante un tratamiento del plasma que contenga oxígeno. Siendo generado el plasma que contiene oxígeno mediante la introducción de materiales que contienen oxígeno en el plasma tales como gas oxígeno o agua.
Una ventaja de la presente invención sobre la técnica anterior radica en que pueden ser utilizados materiales de formación de revestimiento atomizados líquidos y sólidos para formar revestimientos de sustrato, debido a que el método de la presente invención tiene lugar en condiciones de presión atmosféricas. Además, los materiales de formación de revestimiento pueden ser introducidos en la corriente de descarga de plasma o resultante, en la ausencia de un gas portador, es decir, pueden ser introducidos directamente, por ejemplo, mediante inyección directa, por lo que los materiales de formación de revestimiento son inyectados directamente en el plasma.
Como se ha mencionado anteriormente, los presentes inventores han hallado particularmente útil la presente invención para formar revestimientos basados en sílice y siloxanos sobre sustratos que usen materiales que contengan silicio. En condiciones de oxidación, por ejemplo una atmósfera que contenga oxígeno, pueden ser formados revestimientos basados en la sílice sobre la superficie del sustrato a partir de materiales que contengan silicio atomizados, ya que en condiciones no oxidantes puede ser formado un polímero de siloxano, por ejemplo un polímero de siloxano lineal, resinoso o ramificado sobre la superficie de sustrato a partir de la atomización de un monómero que contenga silicio. Un copolímero orgánico de siloxano puede ser formado sobre la superficie del sustrato mediante la utilización de una mezcla de monómeros orgánicos y que contengan silicio. Además, puede ser formado un revestimiento basado en sílice sobre una superficie de sustrato, que puede ser a su vez revestido mediante un material adicional, por ejemplo un polímero orgánico o siloxano. Por ejemplo, cuando se mezcla siloxano con un polímero orgánico y un sustrato formado a partir de dicha mezcla, el siloxano migrará a la superficie del cuerpo polímero orgánico del sustrato, debido a la diferencia en energía de superficie entre los polímeros orgánicos y los siloxanos. Si este sustrato se somete entonces a un tratamiento de plasma a la presión atmosférica, el siloxano en la superficie del sustrato se oxida para formar un revestimiento basado en sílice. Este revestimiento basado en sílice puede ser sometido entonces a tratamiento según la presente invención, sometiendo además este a tratamiento de plasma a la presión atmosférica en presencia de monómeros que contienen silicio atomizados, para formar un revestimiento de siloxano sobre el mismo. No obstante, la presente invención es también útil para formar un revestimiento orgánico sobre un sustrato, por ejemplo un ácido poliacrílico o revestimiento perfluorado orgánico.
El sustrato que ha de ser revestido puede comprender cualquier material, por ejemplo metal, cerámica, plásticos, siloxano, fibras tejidas o no tejidas, fibras naturales, fibras sintéticas, material celulósico y polvo. No obstante orgánico. No obstante, el tamaño del sustrato está limitado por las dimensiones del volumen dentro del cual se genera la descarga de plasma a la presión atmosférica, es decir la distancia entre los electrodos de los medios para generar el plasma. Para aparatos de generación de plasma típicos, el plasma es generado dentro de una separación de 5 a 50 mm, por ejemplo de 12 a 25 mm. Por tanto la presente invención tiene particular utilidad para revestir películas, fibras y polvos.
Los sustratos revestidos mediante el método de la presente invención pueden tener diversas utilidades. Por ejemplo, un revestimiento basado en sílice, generado en una atmósfera oxidante, puede mejorar las propiedades de barrera y/o de difusión del sustrato, y puede mejorar la capacidad de adherir de materiales adicionales a la superficie del sustrato; un revestimiento halofuncional orgánico o de siloxanos (por ejemplo, perfluoroalquenos) puede incrementar la hidrofobicidad, la oleofobicidad, la resistencia al combustible y la suciedad, y/o las propiedades de liberación del sustrato; un revestimiento de polidimetilsiloxano puede mejorar las propiedades de resistencia al agua y de liberación del sustrato, y puede mejorar la suavidad de telas al tacto; un revestimiento polimérico de ácido poliacrílico puede ser usado como una capa adhesiva para favorecer la adhesión a la superficie del sustrato o como parte de la estructura estratificada; la inclusión de especies metálicas coloidales en los revestimientos puede proporcionar conductividad superficial al sustrato, o mejorar sus propiedades ópticas. El politiofeno y el polipirrol proporcionan revestimientos polímeros eléctricamente conductores que pueden proporcionar también resistencia a la corrosión sobre sustratos metálicos.
Un problema importante que tiende a producirse cuando se revisten sustratos usando un procedimiento que implica tratamiento de plasma radica en que se pueden perder propiedades químicas del material usado para formar el revestimiento. Por lo tanto una ventaja importante de la presente invención radica en que las propiedades químicas del material que forma el revestimiento son sustancialmente retenidas en el revestimiento formado. Por ejemplo, en el caso en el que se usa ácido acrílico como material que forma el revestimiento, la funcionabilidad del ácido carboxílico es sustancialmente mantenida en el revestimiento formado.
La presente invención proporciona también un método para producir un sustrato que tiene un revestimiento multicapa mediante los procedimientos descritos anteriormente. En este caso una capa del revestimiento se aplica en cada pase que se repite del sustrato a través de la descarga luminosa de plasma atmosférico. Preferiblemente en un caso de ese tipo el sustrato puede ser revestido de un modo continuo al ser transportado a través de una descarga luminosa de plasma atmosférico por medio de un procedimiento de carrete a carrete en el que el sustrato se desplaza desde un primer carrete, a través de la descarga luminosa y sobre un segundo carrete a una velocidad constante para garantizar que todo el sustrato tiene un tiempo de residencia predeterminado dentro de la descarga luminosa. Cada sustrato puede ser sometido a uno o más pases a través de la descarga luminosa por lo que el carrete primero o de suministro en el primer pase se convierte en el carrete de recogida en el segundo pase y el carrete de recogida de sustrato del primer pase pasa a su vez a ser el carrete de suministro en el segundo pase, intercambiándose los dos carretes al final de cada pase. Alternativamente el sustrato puede hacerse pasar a través de una serie de cámaras de descarga luminosa atmosférica.
Usos preferidos de los revestimientos de los sustratos revestidos de acuerdo con la presente invención incluyen adhesivos estratificados, barreras al oxígeno y/o la humedad para aplicaciones de empaquetado de alimentos y como un componente en o sobre dispositivos de diodos de emisión luminosa orgánicos, por ejemplo, en presentaciones de panel plano.
La presente invención se ilustrará a continuación detalladamente con referencia al dibujo que se acompaña, en el que la figura 1 muestra una realización del aparato según la presente invención.
El aparato según la presente invención mostrado en la figura 1 comprende medios para generar una descarga de plasma a la presión atmosférica (designados en general con 10), y un atomizador (designado en general con 12) conectado a una bomba 14 de jeringa para suministrar un material de formación de revestimiento al atomizador 12. Los medios para generar la descarga 10 incluyen un suministro 20 de potencia de corriente alterna de 15 kHz de alta tensión, suministrado a través de dos electrodos 22 y 24 de aluminio espaciados 12 mm entre sí, con el electrodo activo inferior 22 apantallado por una placa 26 dieléctrica de vidrio. El atomizador 12 incluye una tobera ultrasónica 30 Sono-tek 8700-120 (Sono-tek Corporation, Milton, Nueva York 12547, EE.UU.), y está conectado a un generadoor ultrasónico 32 de banda ancha Sono-tek 06-05108. El atomizador 12 está asentado dentro del electrodo 24 de tierra sobre un anillo tórico 24. El sustrato 40 que ha de ser revestido se coloca sobre la placa dieléctrica 26 de vidrio entre los electrodos 22 y 24.
El aparato descrito anteriormente con referencia a la figura 1 fue usado para todos los procedimientos que se describen más adelante.
Ejemplo 1
Una pieza de sustrato de película de polietileno fue lavada ultrasónicamente en una mezcla 1:1 de alcohol isopropílico y cicloexano y fue colocada sobre una placa de vidrio. Después de la evacuación del gas residual, fue introducido el gas de descarga de plasma con un caudal de 1900 sccm y una presión de 1,02 \times10^{5} Nm^{-2}. Fueron usados dos gases de descarga, helio y una mezcla de 99% de helio y un 1% de oxígeno. Después de 10 minutos de purga, la bomba 13 de jeringa fue conectada y se permitió que el material de formación de revestimiento circulase con un régimen de 3\times10^{-5} mls^{-1}. Fueron usados dos materiales para formar el revestimiento, el octametilciclotetrasiloxano (denominado en esta memoria en adelante "D_{4}") y el tetrametilciclotetrasiloxano (denominado en esta memoria en adelante "D_{4}H"). Cuando el material de formación de revestimiento alcanzó la tobera ultrasónica, el generador ultrasónico fue conectado (2,5 W) para iniciar la atomización del material de formación del revestimiento, y la descarga de plasma a la presión atmosférica fue encendida para aplicar 1,5 kV a través de los electrodos. Se permitió que la deposición de material para formar el revestimiento continuase durante 10 minutos, después de lo cual el sustrato fue retirado y sometido al vacío durante 20 minutos para eliminar cualquier material inestable.
Los resultados del procedimiento anterior se muestran en la Tabla 1 más adelante. Fue usado un análisis espectroscópico fotoelectrónico de rayos X (Kratos ES300) para realizar un análisis elemental de la superficie de sustrato, y fue usado un espectrofotómetro (Instrumentos Aquila nkd-6000) para determinar el espesor de la película. Fueron hechas mediciones del ángulo de contacto usando un aparato de captura de vídeo (Productos AST VCA2500XE) usando gotitas de 2 \mul sésiles de agua desionizada.
Las mediciones de filtración de gas de la superficie del sustrato fueron tomadas usando un espectrómetro de masas, y los resultados se muestran en la Tabla 2. El Factor de Mejora de Barrera se calcula como [filtración de gas de sustrato revestido]/[filtración de gas de muestra de referencia].
1
2
Estudios de ATR-FTIR de las superficies de sustrato mostraron que la polimeración abierta de anillo de los materiales para formar el revestimiento D_{4} y D_{4}H se había producido para formar polisiloxano sobre la superficie de sustrato. En particular, los estudios ATR-FTIR sobre el último mostraron que el revestimiento de polisiloxano retenía mucha de la funcionalidad del D_{4}H Si-H.
Estudios de NMR de un preparado de revestimiento como se describe anteriormente sobre una superficie de vidrio mostraron que el polisiloxano formado sobre la superficie de sustrato por polimerización de los materiales de formación de revestimiento de D_{4} y D_{4}H comprendían unidades de (CH_{3})_{2}SiO_{2/2} trivalentes, es decir el polisiloxano es resinoso.
Ejemplo 2
El método del Ejemplo 1 anterior fue repetido usando un sustrato de vidrio y ácido acrílico como material para formar el revestimiento, y helio solamente como gas de descarga. El revestimiento fue retirado del sustrato anterior para análisis.
El análisis de FTIR y el NMR de estado sólido del revestimiento confirmaron que el ácido acrílico se había polimerizado para formar ácido poliacrílico. Los datos de FTIR y NMR mostraron consumo del enlace C=C no saturado.
Ejemplo 3
El método del Ejemplo 2 fue repetido, pero usando sustratos de nailon y polietileno.
Una comparación del análisis de FTIR del revestimiento con el ácido poliacrílico disponible comercialmente confirmó que el material de formación de revestimiento de ácido acrílico se había polimerizado para formar un revestimiento de ácido poliacrílico sobre las superficies del sustrato.
El análisis espectroscópico fotoelectrónico de rayos X, análisis de espesor de película, y mediciones del ángulo de contacto fueron realizados para el Ejemplo 1 anterior. Los resultados se muestran en la Tabla 3 más adelante.
3
El transporte de gas a través de la película de polietileno revestida fue determinado mediante el espectrómetro de masas, y el factor de mejora de barrera fue calculado para el Ejemplo 1 anterior sobre un sustrato de polietileno no tratado y ácido poliacrílico disponible comercialmente. Los resultados se muestran en la Tabla 4 más adelante.
4
Un ensayo de desgarramiento del recubrimiento fue realizado en los sustratos de nailon como sigue. Las caras opuestas de los sustratos de nailon fueron superpuestas para crear una junta que cubría 1 cm^{2}, y los sustratos fueron curados bajo 2 kg de peso a 70ºC durante 60 minutos. La resistencia adhesiva de cada junta fue determinada entonces tirando para separar los sustratos con un régimen de 5 mm por minuto usando un tensímetro (Instron), y registrando la carga máxima alcanzada antes de la rotura. Los sustratos revestidos resistieron una carga máxima de 74\pm11 Ncm^{-2} antes de la rotura. Las uniones de comparación hechas de nailon no revestido no mostraron propiedades adhesivas.
Ejemplo 4
El método del Ejemplo 2 fue repetido usando un sustrato de vidrio y 1H,1H,2H-perfluor-1-octeno (CF_{3}(CF_{2}
\hbox{) _{5} }
CH=CH_{2}) como el material de formación de revestimiento.
El análisis espectroscópico fotoelectrónico de rayos X, análisis de FTIR y mediciones del ángulo de contacto (con agua y decano) fueron realizados para el Ejemplo 1 anterior, y los resultados se muestran en la Tabla 5 más adelante. El análisis de XPS y FTIR mostró que el revestimiento de sustrato de vidrio era rico en CF_{2} y CF_{3} y los ángulos de contacto para el agua y el decano fueron determinados como para el ejemplo 1.
5
Los resultados de la medición del ángulo de contacto muestran que el sustrato de vidrio ha sido rendido sustancialmente hidrófobo y oleófobo mediante el revestimiento.

Claims (22)

1. Un método para formar un revestimiento sobre un sustrato, cuyo método comprende introducir un material de formación de revestimiento líquido y/o sólido atomizado en una descarga de plasma a la presión atmosférica y/o una corriente de gas ionizado resultante de la misma, y exponer el sustrato al material de formación de revestimiento atomizado sometido a condiciones de presión atmosférica.
2. Un método según la reivindicación 1, en el que el material de formación de revestimiento se introduce mediante inyección directa.
3. Un método según las reivindicaciones 1 ó 2, en el que el material de formación de revestimiento es un material que contiene silicio.
4. Un método según la reivindicación 3, en el que el material de formación de revestimiento es seleccionado de un dimetilsiloxano y un siloxano que tiene enlaces silicio-hidrógeno.
5. Un método según cualquiera de las reivindicaciones precedentes en el que el plasma es generado en una atmósfera que contiene oxígeno.
6. Un método según las reivindicaciones 1 ó 2 en el que el material de formación de revestimiento es un material orgánico u organometálico.
7. Un método según la reivindicación 6, en el que el material de formación de revestimiento es seleccionado entre el ácido acrílico y un perfluoroalqueno.
8. Un método según cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que el sustrato comprende metal, cerámica, plásticos, fibras tejidas y no tejidas, fibras naturales, fibras sintéticas, material celulósico y polvo.
9. Un método según cualquier de las reivindicaciones precedentes, en el que el revestimiento aumenta las propiedades adhesivas, de liberación, de barrera de gases, hidrófila, hidrófoba, y/o oleófoba del sustrato.
10. Un método para producir un sustrato que tiene un revestimiento multicapa según cualquiera de las reivindicaciones precedentes, mediante el cual el revestimiento se aplica repetidamente haciendo pasar dicho sustrato a través de la descarga luminosa de plasma atmosférico o haciendo pasar dicho sustrato a través de una serie de cámaras de descarga luminosa atmosféricas.
11. Un método según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4, 6 ó 7, en el que las propiedades químicas del líquido atomizado y/o material que forma el revestimiento sólido son sustancialmente retenidas en el revestimiento resultante formado.
12. Un método de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que el sustrato es revestido de modo continuo mediante la utilización de un aparato de carrete a carrete.
13. Un método de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que el sustrato es pretratado mediante exposición al plasma antes de la introducción del material de formación de revestimiento.
14. Un método de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones precedentes, en el que el revestimiento formado sobre el sustrato es tratado posteriormente mediante exposición al plasma.
15. Un método de acuerdo con las reivindicaciones 13 ó 14, en el que el plasma es aplicado por medio de una descarga luminosa a la presión atmosférica.
16. Un método de acuerdo con la reivindicación 15, en el que se añade un material que contiene oxígeno al plasma.
17. Un método de acuerdo con la reivindicación 16, en el que los materiales que contienen oxígeno son seleccionados del grupo de oxígeno gaseoso y agua.
18. Un método de acuerdo con la reivindicación 1, en el que el material de formación de revestimiento se compone de materiales monómeros, y dichos materiales monómeros después de haber sido atomizados, son copolimerizados mediante la exposición a una descarga de plasma a la presión atmosférica.
19. Aparato para formar un revestimiento sobre una sustancia bajo condiciones de presión atmosférica, cuyo aparato comprende medios para generar una descarga luminosa de plasma a la presión atmosférica dentro de la cual, en uso, se coloca el sustrato, un atomizador para proporcionar un material de formación de revestimiento líquido y/o sólido atomizado dentro de la descarga de plasma, y medios para suministrar dicho material de formación de revestimiento al atomizador.
20. Aparato de acuerdo con la reivindicación 19, en el que el atomizador es una tobera ultrasónica.
21. Aparato según las reivindicaciones 19 ó 20, en el que el sustrato se fija a un aparato de carrete a carrete para lograr un revestimiento continuo del sustrato.
22. Utilización de un sustrato revestido formado de acuerdo con el método de una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 17 como un adhesivo estratificado, una barrera de oxígeno y/o humedad o en dispositivos de diodos de emisión de luz orgánicos.
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Families Citing this family (145)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9712338D0 (en) 1997-06-14 1997-08-13 Secr Defence Surface coatings
DE60101747T3 (de) 2000-10-04 2008-04-03 Dow Corning Ireland Ltd., Midleton Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer beschichtung
US6821379B2 (en) 2001-12-21 2004-11-23 The Procter & Gamble Company Portable apparatus and method for treating a workpiece
TW200409669A (en) * 2002-04-10 2004-06-16 Dow Corning Ireland Ltd Protective coating composition
TW200308187A (en) * 2002-04-10 2003-12-16 Dow Corning Ireland Ltd An atmospheric pressure plasma assembly
GB0208263D0 (en) 2002-04-10 2002-05-22 Dow Corning Protective coating composition
GB0208261D0 (en) * 2002-04-10 2002-05-22 Dow Corning An atmospheric pressure plasma assembly
GB0211354D0 (en) * 2002-05-17 2002-06-26 Surface Innovations Ltd Atomisation of a precursor into an excitation medium for coating a remote substrate
GB0212848D0 (en) 2002-06-01 2002-07-17 Surface Innovations Ltd Introduction of liquid/solid slurry into an exciting medium
EP1588592B1 (en) * 2003-01-31 2009-12-09 Dow Corning Ireland Limited Plasma generating electrode assembly
DE10319058A1 (de) * 2003-04-25 2004-12-02 Carl Freudenberg Kg Silikonisierte Einlagestoffe, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
US7431989B2 (en) * 2003-05-06 2008-10-07 Tribofilm Research, Inc. Article with lubricated surface and method
US20060272675A1 (en) * 2005-06-02 2006-12-07 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
US20060272674A1 (en) * 2005-06-02 2006-12-07 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
US8092643B2 (en) * 2003-06-16 2012-01-10 Ionfield Systems, Llc Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
CA2528194A1 (en) * 2003-06-16 2005-01-06 Cerionx, Inc. Atmospheric pressure non-thermal plasma device to clean and sterilize the surface of probes, cannulas, pin tools, pipettes and spray heads
US20060162740A1 (en) * 2005-01-21 2006-07-27 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using non-equilibrium atmospheric pressure plasma
US8366871B2 (en) * 2003-06-16 2013-02-05 Ionfield Holdings, Llc Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
US20060162741A1 (en) * 2005-01-26 2006-07-27 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects with plasma
US8092644B2 (en) * 2003-06-16 2012-01-10 Ionfield Systems, Llc Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
WO2005021833A2 (en) * 2003-08-28 2005-03-10 Surface Innovations Limited Apparatus for the coating and/or conditioning of substrates
GB0323295D0 (en) * 2003-10-04 2003-11-05 Dow Corning Deposition of thin films
EP1673162A1 (en) 2003-10-15 2006-06-28 Dow Corning Ireland Limited Manufacture of resins
US7758928B2 (en) 2003-10-15 2010-07-20 Dow Corning Corporation Functionalisation of particles
JP4991310B2 (ja) * 2003-12-16 2012-08-01 サン・ケミカル・コーポレーション 放射硬化型コーティングの製造方法とコーティングされた物品
GB0406049D0 (en) 2004-03-18 2004-04-21 Secr Defence Surface coatings
EP1582270A1 (en) * 2004-03-31 2005-10-05 Vlaamse Instelling voor Technologisch Onderzoek Method and apparatus for coating a substrate using dielectric barrier discharge
GB2418379A (en) * 2004-09-23 2006-03-29 Reckitt Benckiser Cleansing wipes
GB0410749D0 (en) * 2004-05-14 2004-06-16 Dow Corning Ireland Ltd Coating apparatus
US20060060085A1 (en) * 2004-09-22 2006-03-23 Ptak Thaddeus J Composite filter media
DE102004051781A1 (de) * 2004-10-22 2006-04-27 Carl Freudenberg Kg Dichtung mit reduziertem Drehmoment, Verfahren zu deren Herstellung, deren Verwendung als Dichtung für Klappenventile und Klappenventil
EP1650254A1 (de) 2004-10-22 2006-04-26 Carl Freudenberg KG Dichtung mit reduziertem Drehmoment, Verfahren zur Herstellung, deren Verwendung als Dichtung für Klappenventile und Klappenventil
GB0423685D0 (en) * 2004-10-26 2004-11-24 Dow Corning Ireland Ltd Improved method for coating a substrate
RU2007119782A (ru) * 2004-10-29 2008-12-10 Дау Глобал Текнолоджиз Инк. (Us) Износостойкие покрытия, полученные посредством плазменного химического осаждения из паровой фазы
WO2006048650A1 (en) * 2004-11-05 2006-05-11 Dow Corning Ireland Limited Plasma system
GB0424532D0 (en) * 2004-11-05 2004-12-08 Dow Corning Ireland Ltd Plasma system
JP4926394B2 (ja) * 2004-11-30 2012-05-09 株式会社ブリヂストン トラバース塗装工程の前処理方法およびトラバース塗装方法
GB0504384D0 (en) * 2005-03-03 2005-04-06 Univ Durham Method for producing a composite coating
GB0506051D0 (en) * 2005-03-24 2005-04-27 Univ Durham A method for producing an aldehyde functionalised surface
US20060237030A1 (en) * 2005-04-22 2006-10-26 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects with plasma
GB0509648D0 (en) * 2005-05-12 2005-06-15 Dow Corning Ireland Ltd Plasma system to deposit adhesion primer layers
EP1741826A1 (en) 2005-07-08 2007-01-10 Nederlandse Organisatie voor Toegepast-Natuuurwetenschappelijk Onderzoek TNO Method for depositing a polymer layer containing nanomaterial on a substrate material and apparatus
EP1785198A1 (en) * 2005-11-14 2007-05-16 Vlaamse Instelling voor Technologisch Onderzoek A method for atmospheric plasma deposition of conjugated polymer coatings
GB2434369B (en) 2006-01-20 2010-08-25 P2I Ltd Plasma coated electrical or electronic devices
GB2434368B (en) 2006-01-20 2010-08-25 P2I Ltd Plasma coated laboratory consumables
US7250195B1 (en) 2006-02-27 2007-07-31 Ionic Fusion Corporation Molecular plasma deposition of colloidal materials
KR101244674B1 (ko) 2006-05-02 2013-03-25 다우 코닝 아일랜드 리미티드 웹 밀봉 장치
WO2007128947A1 (en) 2006-05-02 2007-11-15 Dow Corning Ireland Limited Fluid replacement system
JP5043394B2 (ja) * 2006-09-29 2012-10-10 東京エレクトロン株式会社 蒸着装置およびその運転方法
GB0621520D0 (en) 2006-10-28 2006-12-06 P2I Ltd Novel products
GB0703172D0 (en) * 2007-02-19 2007-03-28 Pa Knowledge Ltd Printed circuit boards
DK1978067T3 (da) * 2007-04-02 2010-04-26 Nitto Europe Nv Slipforing
EP1978038A1 (en) * 2007-04-02 2008-10-08 Vlaamse Instelling Voor Technologisch Onderzoek (Vito) A method for producing a coating by atmospheric pressure plasma technology
GB0713830D0 (en) 2007-07-17 2007-08-29 P2I Ltd Novel products method
CN101821020A (zh) * 2007-09-06 2010-09-01 布鲁塞尔大学 由前体单体沉积氟化层的方法
JP2011507683A (ja) * 2007-12-21 2011-03-10 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 流体濾過システム
FR2925911A1 (fr) * 2007-12-27 2009-07-03 Bmuestar Silicones France Sas Silicones-autoadhesifs, procede de fabrication, complexes les utilisant et applications
KR20110010130A (ko) * 2008-05-22 2011-01-31 다우 코닝 코포레이션 비-재봉 솔기를 제조하기 위한 방법 및 조성물
GB0810326D0 (en) * 2008-06-06 2008-07-09 P2I Ltd Filtration media
CN102083544A (zh) * 2008-07-04 2011-06-01 Abb研究有限公司 用于对工件进行静电涂覆的装置和减少其污染的方法
WO2013170052A1 (en) 2012-05-09 2013-11-14 Sio2 Medical Products, Inc. Saccharide protective coating for pharmaceutical package
MX350703B (es) 2009-05-13 2017-09-14 Sio2 Medical Products Inc Metodo de gasificacion para inspeccionar una superficie revestida.
US7985188B2 (en) 2009-05-13 2011-07-26 Cv Holdings Llc Vessel, coating, inspection and processing apparatus
WO2010146438A1 (en) 2009-06-16 2010-12-23 Plasmedica Technologies Limited Wound healing device
US9458536B2 (en) 2009-07-02 2016-10-04 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles
GB2475685A (en) 2009-11-25 2011-06-01 P2I Ltd Plasma polymerization for coating wool
JP2011144412A (ja) 2010-01-13 2011-07-28 Honda Motor Co Ltd プラズマ成膜装置
GB201000538D0 (en) 2010-01-14 2010-03-03 P2I Ltd Liquid repellent surfaces
US8445074B2 (en) 2010-04-01 2013-05-21 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of tire cords
US20110241269A1 (en) * 2010-04-01 2011-10-06 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles
US11624115B2 (en) 2010-05-12 2023-04-11 Sio2 Medical Products, Inc. Syringe with PECVD lubrication
JP2011252085A (ja) 2010-06-02 2011-12-15 Honda Motor Co Ltd プラズマ成膜方法
EP2596688A1 (en) 2010-07-21 2013-05-29 Dow Corning France Plasma treatment of substrates
US9878101B2 (en) 2010-11-12 2018-01-30 Sio2 Medical Products, Inc. Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods
US8771782B2 (en) 2010-12-13 2014-07-08 Enbio Limited Implantable medical devices
USD681706S1 (en) * 2010-12-30 2013-05-07 Sulzer Metco (Us), Inc. Neutrode stack
US9272095B2 (en) 2011-04-01 2016-03-01 Sio2 Medical Products, Inc. Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods
CN103609203A (zh) 2011-04-27 2014-02-26 道康宁法国公司 基材的等离子体处理
EP2532716A1 (en) 2011-06-10 2012-12-12 Eppendorf AG A substrate having hydrophobic moiety-repelling surface characteristics and process for preparing the same
GB201112369D0 (en) 2011-07-19 2011-08-31 Surface Innovations Ltd Polymeric structure
GB201112516D0 (en) 2011-07-21 2011-08-31 P2I Ltd Surface coatings
DE102011052306A1 (de) 2011-07-29 2013-01-31 Jokey Plastik Sohland Gmbh Verfahren zur Erzeugung einer permeationshemmenden Beschichtung von Kunststoffbehältern und Beschichtungsanlage
GB201113610D0 (en) 2011-08-08 2011-09-21 Surface Innovations Ltd Product and method
EP2777367A1 (en) * 2011-11-09 2014-09-17 Dow Corning France Plasma treatment of substrates
US8778462B2 (en) 2011-11-10 2014-07-15 E I Du Pont De Nemours And Company Method for producing metalized fibrous composite sheet with olefin coating
US11116695B2 (en) 2011-11-11 2021-09-14 Sio2 Medical Products, Inc. Blood sample collection tube
EP2776603B1 (en) 2011-11-11 2019-03-06 SiO2 Medical Products, Inc. PASSIVATION, pH PROTECTIVE OR LUBRICITY COATING FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE, COATING PROCESS AND APPARATUS
US8741393B2 (en) 2011-12-28 2014-06-03 E I Du Pont De Nemours And Company Method for producing metalized fibrous composite sheet with olefin coating
ES2472722T3 (es) * 2012-02-01 2014-07-02 Bioenergy Capital Ag Revestimiento con plasma hidrofilizante
EP2809453B1 (en) * 2012-02-02 2016-11-02 Centre de Recherche Public Henri Tudor Superamphiphobic surfaces by atmospheric plasma polymerization
US8545951B2 (en) * 2012-02-29 2013-10-01 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Endotracheal tubes and other polymer substrates including an anti-fouling treatment
WO2014004359A1 (en) 2012-06-24 2014-01-03 The Gates Corporation Carbon cord for reinforced rubber products and the products
US20150297800A1 (en) 2012-07-03 2015-10-22 Sio2 Medical Products, Inc. SiOx BARRIER FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE AND COATING PROCESS
US9133412B2 (en) 2012-07-09 2015-09-15 Tribofilm Research, Inc. Activated gaseous species for improved lubrication
CN104603345A (zh) 2012-08-09 2015-05-06 纳幕尔杜邦公司 改善的阻隔织物
US9433971B2 (en) 2012-10-04 2016-09-06 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles
US9441325B2 (en) 2012-10-04 2016-09-13 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles
CA2890066C (en) 2012-11-01 2021-11-09 Sio2 Medical Products, Inc. Coating inspection method
US9903782B2 (en) 2012-11-16 2018-02-27 Sio2 Medical Products, Inc. Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics
US9764093B2 (en) 2012-11-30 2017-09-19 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of PECVD deposition
JP6382830B2 (ja) 2012-11-30 2018-08-29 エスアイオーツー・メディカル・プロダクツ・インコーポレイテッド 医療シリンジ、カートリッジ等上でのｐｅｃｖｄ堆積の均一性制御
ES2688532T3 (es) 2013-01-18 2018-11-05 Basf Se Composiciones de recubrimiento a base de dispersión acrílica
US9662450B2 (en) 2013-03-01 2017-05-30 Sio2 Medical Products, Inc. Plasma or CVD pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus
JP6160498B2 (ja) * 2013-03-08 2017-07-12 住友金属鉱山株式会社 被覆はんだ材料およびその製造方法
US9937099B2 (en) 2013-03-11 2018-04-10 Sio2 Medical Products, Inc. Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate
EP2971228B1 (en) 2013-03-11 2023-06-21 Si02 Medical Products, Inc. Coated packaging
JP6159470B2 (ja) 2013-03-13 2017-07-05 セラニーズ アセテート，エルエルシー 煙流中の成分を低減するための煙フィルター
US20160017490A1 (en) 2013-03-15 2016-01-21 Sio2 Medical Products, Inc. Coating method
CN104069968B (zh) * 2013-03-28 2017-01-04 株式会社Enjet 喷雾嘴和使用该喷雾嘴的涂敷系统
ITMI20130855A1 (it) * 2013-05-27 2014-11-28 Univ Milano Bicocca Metodo di rivestimento con film polimerico di un substrato mediante deposizione e successiva polimerizzazione per trattamento a plasma di una composizione monomerica.
US9988536B2 (en) 2013-11-05 2018-06-05 E I Du Pont De Nemours And Company Compositions for surface treatments
WO2015095019A1 (en) 2013-12-17 2015-06-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Nonwoven fabric with low ice adhesion
CN103794462B (zh) * 2013-12-24 2016-11-23 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 一种超声波雾化等离子体处理装置
GB201403558D0 (en) 2014-02-28 2014-04-16 P2I Ltd Coating
KR101485980B1 (ko) * 2014-03-03 2015-01-27 주식회사 기가레인 코팅 장치
DE102014103025A1 (de) * 2014-03-07 2015-09-10 Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald Verfahren zur Beschichtung eines Substrates, Verwendung des Substrats und Vorrichtung zur Beschichtung
EP3124166B1 (en) * 2014-03-25 2019-10-23 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Coated solder material and method for producing same
WO2015148471A1 (en) 2014-03-28 2015-10-01 Sio2 Medical Products, Inc. Antistatic coatings for plastic vessels
US20170033269A1 (en) * 2014-04-15 2017-02-02 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Coating film, method for forming coating film, and light-emitting diode device
WO2015171727A1 (en) 2014-05-07 2015-11-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyimide web separator for use in an electrochemical cell
US10566106B2 (en) 2014-08-18 2020-02-18 The Boeing Company Conjugated polymer coatings and methods for atmospheric plasma deposition thereof
KR101532883B1 (ko) * 2014-09-02 2015-07-02 성균관대학교산학협력단 전이금속 디칼코게나이드 박막의 형성 방법
US10829415B2 (en) 2014-11-27 2020-11-10 Construction Research & Technology, Gmbh Surface-modified polyolefin fibers
WO2016198857A1 (en) 2015-06-09 2016-12-15 P2I Ltd Coatings
ES2821323T3 (es) 2015-06-09 2021-04-26 P2I Ltd Procedimiento para formar un recubrimiento sobre un dispositivo eléctrico o electrónico
JP2018527160A (ja) 2015-06-09 2018-09-20 ピーツーアイ リミティド コーティング
EP3337915B1 (en) 2015-08-18 2021-11-03 SiO2 Medical Products, Inc. Pharmaceutical and other packaging with low oxygen transmission rate
CN108367970A (zh) * 2015-10-02 2018-08-03 康宁股份有限公司 可除去的玻璃表面处理以及用于降低颗粒附着的方法
WO2017136334A1 (en) 2016-02-01 2017-08-10 Theradep Technologies Inc. Systems and methods for delivering therapeutic agents
DE102016124209A1 (de) 2016-12-13 2018-06-14 Jokey Plastik Wipperfürth GmbH Beschichtungsvorrichtung und Beschichtungsverfahren für Kunststoffbehälter
EP3446793B1 (en) 2017-08-23 2023-10-04 Molecular Plasma Group SA Soft plasma polymerization process for a mechanically durable superhydrophobic nanostructured coating
CN108080228B (zh) * 2017-10-26 2021-06-01 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 一种线路板防水防腐涂层及其制备方法
US11690998B2 (en) 2017-10-31 2023-07-04 Theradep Technologies, Inc. Methods of treating bacterial infections
FR3077821B1 (fr) 2018-02-09 2020-12-18 Coating Plasma Ind Film de protection a base de silicium pour adhesif, son procede de fabrication et ses utilisations
CN109267037A (zh) * 2018-11-21 2019-01-25 新疆大学 常压等离子体增强化学气相沉积方法及采用该方法的设备
EP3799964A1 (fr) * 2019-10-02 2021-04-07 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Procdede de fabrication d'une piece mecanique epilamee
EP3881941A1 (en) * 2020-03-17 2021-09-22 Molecular Plasma Group SA Plasma coating method and apparatus for biological surface modification
KR102856709B1 (ko) 2020-06-09 2025-09-05 지앙수 페이보레드 나노테크놀로지 컴퍼니., 리미티드 보호 코팅 및 그 제조 방법
CN111519168B (zh) * 2020-06-09 2022-06-14 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 一种保护涂层及其制备方法
EP3940106A1 (de) * 2020-07-15 2022-01-19 TI Automotive Engineering Centre (Heidelberg) GmbH Verfahren zum beschichten einer rohrleitung und rohrleitung
WO2022058218A1 (en) * 2020-09-18 2022-03-24 Haydale Graphene Industries Plc Methods and apparatus for delivering feedstocks for plasma treatment
EP4136974A1 (en) 2021-08-20 2023-02-22 Fixed Phage Limited Plasma treatment process and apparatus therefor
CN114460114B (zh) * 2022-04-13 2022-06-21 季华实验室 样品分析方法、装置、设备及存储介质
LU503697B1 (en) * 2023-03-20 2024-09-23 Luxembourg Inst Science & Tech List Plasma-polymer surface coating
KR20260020252A (ko) 2023-08-04 2026-02-10 후루카와 덴키 고교 가부시키가이샤 코트층을 구비하는 금속박 및 금속 피복 적층판

Family Cites Families (70)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4212719A (en) * 1978-08-18 1980-07-15 The Regents Of The University Of California Method of plasma initiated polymerization
JPS59160828A (ja) * 1983-03-01 1984-09-11 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気記録媒体
US4588641A (en) * 1983-11-22 1986-05-13 Olin Corporation Three-step plasma treatment of copper foils to enhance their laminate adhesion
JPH0753764B2 (ja) 1986-03-28 1995-06-07 ト−メ−産業株式会社 ビニルモノマ−の重合法
DE3705482A1 (de) † 1987-02-20 1988-09-01 Hoechst Ag Verfahren und anordnung zur oberflaechenvorbehandlung von kunststoff mittels einer elektrischen koronaentladung
GB8713986D0 (en) * 1987-06-16 1987-07-22 Shell Int Research Apparatus for plasma surface treating
DE3827628A1 (de) † 1988-08-16 1990-03-15 Hoechst Ag Verfahren und vorrichtung zur oberflaechenvorbehandlung eines formkoerpers aus kunststoff mittels einer elektrischen koronaentladung
DE3925539A1 (de) 1989-08-02 1991-02-07 Hoechst Ag Verfahren und vorrichtung zum beschichten eines schichttraegers
JP2811820B2 (ja) * 1989-10-30 1998-10-15 株式会社ブリヂストン シート状物の連続表面処理方法及び装置
US5185132A (en) 1989-12-07 1993-02-09 Research Development Corporation Of Japan Atomspheric plasma reaction method and apparatus therefor
JP2990608B2 (ja) * 1989-12-13 1999-12-13 株式会社ブリヂストン 表面処理方法
JP2897055B2 (ja) * 1990-03-14 1999-05-31 株式会社ブリヂストン ゴム系複合材料の製造方法
US5366770A (en) * 1990-04-17 1994-11-22 Xingwu Wang Aerosol-plasma deposition of films for electronic cells
US5206463A (en) * 1990-07-24 1993-04-27 Miraco, Inc. Combined rigid and flexible printed circuits and method of manufacture
JP3194148B2 (ja) * 1991-01-21 2001-07-30 イーシー化学株式会社 金属の表面処理方法
GB9102768D0 (en) 1991-02-09 1991-03-27 Tioxide Group Services Ltd Coating process
JPH04295818A (ja) 1991-03-26 1992-10-20 Seiko Epson Corp コンタクトレンズの製造方法
DE4111384C2 (de) * 1991-04-09 1999-11-04 Leybold Ag Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten
JP3283889B2 (ja) 1991-07-24 2002-05-20 株式会社きもと 防錆処理方法
JP3286816B2 (ja) * 1992-12-24 2002-05-27 イーシー化学株式会社 大気圧グロ−放電プラズマ処理法
JP3445632B2 (ja) 1993-02-26 2003-09-08 科学技術振興事業団 薄膜の製造方法とその装置
JPH06330326A (ja) 1993-03-26 1994-11-29 Shin Etsu Chem Co Ltd シリカ薄膜の製造方法
US5414324A (en) 1993-05-28 1995-05-09 The University Of Tennessee Research Corporation One atmosphere, uniform glow discharge plasma
JPH0762546A (ja) 1993-08-25 1995-03-07 Shinko Electric Co Ltd 大気圧プラズマ表面処理装置
FR2713511B1 (fr) 1993-12-15 1996-01-12 Air Liquide Procédé et dispositif de création d'une atmosphère d'espèces gazeuses excitées ou instables.
US6342275B1 (en) 1993-12-24 2002-01-29 Seiko Epson Corporation Method and apparatus for atmospheric pressure plasma surface treatment, method of manufacturing semiconductor device, and method of manufacturing ink jet printing head
JP3064182B2 (ja) 1994-06-14 2000-07-12 松下電工株式会社 大気圧プラズマ粉体処理方法及びその装置
FI103647B (fi) * 1994-06-17 1999-08-13 Valmet Paper Machinery Inc Menetelmä ja sovitelma paperiradan päällystämiseksi
JP3508789B2 (ja) 1994-07-04 2004-03-22 セイコーエプソン株式会社 基板の表面処理方法
US5540959A (en) * 1995-02-21 1996-07-30 Howard J. Greenwald Process for preparing a coated substrate
WO1996031997A1 (en) 1995-04-07 1996-10-10 Seiko Epson Corporation Surface treatment apparatus
DE19525453A1 (de) 1995-07-13 1997-01-16 Eltex Elektrostatik Gmbh Vorrichtung zum Ablösen der gasförmigen laminaren Grenzschicht
DE19546187C2 (de) 1995-12-11 1999-04-15 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Einrichtung zur plasmagestützten Oberflächenbehandlung
AUPN820396A0 (en) 1996-02-21 1996-03-14 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Method for reducing crazing in a plastics material
US5876753A (en) 1996-04-16 1999-03-02 Board Of Regents, The University Of Texas System Molecular tailoring of surfaces
CA2205817C (en) 1996-05-24 2004-04-06 Sekisui Chemical Co., Ltd. Treatment method in glow-discharge plasma and apparatus thereof
JP3624566B2 (ja) 1996-07-11 2005-03-02 日新電機株式会社 イオン照射装置
WO1998010116A1 (en) 1996-09-05 1998-03-12 Talison Research Ultrasonic nozzle feed for plasma deposited film networks
EP0851720B1 (de) 1996-12-23 1999-10-06 Sulzer Metco AG Indirektes Plasmatron
JP3899597B2 (ja) 1997-01-30 2007-03-28 セイコーエプソン株式会社 大気圧プラズマ生成方法および装置並びに表面処理方法
US6014235A (en) 1997-06-03 2000-01-11 Lucent Technologies Inc. Optical-loop buffer that enhances the extinction ratio of the buffered signal
JP3478068B2 (ja) 1997-06-11 2003-12-10 富士ゼロックス株式会社 定着装置
GB9715508D0 (en) * 1997-07-24 1997-10-01 Scapa Group Plc Industrial fabrics and method of treatment
DE19732901C1 (de) † 1997-07-30 1998-11-26 Tdz Ges Fuer Innovative Oberfl Vorrichtung zur Koronabehandlung der Oberfläche eines Substrats
AU744202B2 (en) 1997-08-08 2002-02-21 Board Of Regents Non-fouling, wettable coated devices
GB9717368D0 (en) * 1997-08-18 1997-10-22 Crowther Jonathan Cold plasma metallization
DE19742619C1 (de) † 1997-09-26 1999-01-28 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zur Einbringung pulverförmiger Feststoffe oder Flüssigkeiten in ein induktiv gekoppeltes Plasma
DE59904532D1 (de) 1998-02-05 2003-04-17 Empa Polare polymerartige beschichtung
US6368665B1 (en) 1998-04-29 2002-04-09 Microcoating Technologies, Inc. Apparatus and process for controlled atmosphere chemical vapor deposition
DE19826550C2 (de) † 1998-06-15 2001-07-12 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Pulveraerosols
US6705127B1 (en) * 1998-10-30 2004-03-16 Corning Incorporated Methods of manufacturing soot for optical fiber preforms and preforms made by the methods
JP3704983B2 (ja) 1998-12-25 2005-10-12 セイコーエプソン株式会社 表面処理装置
JP2000212753A (ja) 1999-01-22 2000-08-02 Sekisui Chem Co Ltd 表面処理品の製造方法
JP4096454B2 (ja) 1999-05-11 2008-06-04 コニカミノルタホールディングス株式会社 プラスティック支持体の表面処理装置及びプラスティック支持体の表面処理方法
WO2000070117A1 (en) 1999-05-14 2000-11-23 The Regents Of The University Of California Low-temperature compatible wide-pressure-range plasma flow device
DE19924108B4 (de) 1999-05-26 2007-05-03 Robert Bosch Gmbh Plasmapolymerbeschichtung und Verfahren zu deren Herstellung
US6331689B1 (en) 1999-06-15 2001-12-18 Siemens Aktiengesellschaft Method and device for producing a powder aerosol and use thereof
JP2001074907A (ja) * 1999-09-06 2001-03-23 Sekisui Chem Co Ltd ディスプレイ用反射防止フィルム及びその製造方法
JP3399887B2 (ja) 1999-09-22 2003-04-21 パール工業株式会社 プラズマ処理装置
DE29919142U1 (de) * 1999-10-30 2001-03-08 Agrodyn Hochspannungstechnik GmbH, 33803 Steinhagen Plasmadüse
JP2001158976A (ja) * 1999-12-02 2001-06-12 Showa Aluminum Kan Kk 大気圧低温プラズマにより処理したｄｉ缶及びその製造方法
FR2801814B1 (fr) 1999-12-06 2002-04-19 Cebal Procede de depot d'un revetement sur la surface interne des boitiers distributeurs aerosols
IES20010113A2 (en) 2000-02-11 2001-09-19 Anthony Herbert An atmospheric pressure plasma system
DE10011276A1 (de) 2000-03-08 2001-09-13 Wolff Walsrode Ag Verwendung eines indirrekten atomosphärischen Plasmatrons zur Oberflächenbehandlung oder Beschichtung bahnförmiger Werkstoffe sowie ein Verfahren zur Behandlung oder Beschichtung bahnförmiger Werkstoffe
DE10017846C2 (de) 2000-04-11 2002-03-14 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Abscheiden einer Polymerschicht und Verwendung derselben
JP2002057440A (ja) 2000-06-02 2002-02-22 Sekisui Chem Co Ltd 放電プラズマ処理方法及びその装置
FR2814382B1 (fr) 2000-09-28 2003-05-09 Cebal Procede de depot d'un revetement interne dans un recipient en matiere plastique
DE60101747T3 (de) 2000-10-04 2008-04-03 Dow Corning Ireland Ltd., Midleton Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer beschichtung
AU2002210861A1 (en) 2000-10-26 2002-05-06 Dow Corning S.A. An atmospheric pressure plasma assembly
CN1317423C (zh) 2000-11-14 2007-05-23 积水化学工业株式会社 常压等离子体处理方法及其装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN1261233C (zh) 2006-06-28
TW562708B (en) 2003-11-21
BR0114200B1 (pt) 2011-05-03
EP1326718B2 (en) 2007-09-05
KR20030068543A (ko) 2003-08-21
DE60101747T2 (de) 2004-10-14
TR200400076T4 (tr) 2004-02-23
WO2002028548A2 (en) 2002-04-11
JP5349726B2 (ja) 2013-11-20
EP1326718B1 (en) 2004-01-07
PT1326718E (pt) 2004-04-30
US7455892B2 (en) 2008-11-25
DK1326718T3 (da) 2004-04-13
ATE257412T1 (de) 2004-01-15
EA200300440A1 (ru) 2003-08-28
KR100823858B1 (ko) 2008-04-21
ES2214444T5 (es) 2008-02-16
US20040022945A1 (en) 2004-02-05
DE60101747D1 (de) 2004-02-12
BR0114200A (pt) 2003-12-09
DE60101747T3 (de) 2008-04-03
JP2004510571A (ja) 2004-04-08
EA006831B1 (ru) 2006-04-28
AU2001290097A1 (en) 2002-04-15
EP1326718A2 (en) 2003-07-16
CN1468154A (zh) 2004-01-14
WO2002028548A3 (en) 2002-10-17
MXPA03002988A (es) 2004-12-06

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