JP2000221633A - Heat developable sensitive material - Google Patents
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Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料に関
するものであり、さらにはカブリ(Dmin)が極めて
小さく、印刷製版用に適した熱現像超硬調感光材料に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photothermographic material, and more particularly, to a photothermographic material having extremely small fog (Dmin) and suitable for plate making.
【0002】[0002]
【従来の技術】支持体上に感光性層を有し、画像露光す
ることで画像形成を行う感光材料は、数多く知られてい
る。それらの中でも、環境保全や画像形成手段が簡易化
できるシステムとして、熱現像により画像を形成する技
術が挙げられる。2. Description of the Related Art There are many known photosensitive materials having a photosensitive layer on a support and forming an image by exposing the image. Among them, a technique for forming an image by thermal development is a system that can simplify environmental preservation and image forming means.
【0003】近年写真製版分野において環境保全、省ス
ペースの観点から処理廃液の減量が強く望まれている。
そこで、レーザー・スキャナーまたはレーザー・イメー
ジセッターにより効率的に露光させることができ、高解
像度および鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成するこ
とができる写真製版用途の感光性熱現像材料に関する技
術が必要とされている。これら感光性熱現像材料では、
溶液系処理化学薬品の使用をなくし、より簡単で環境を
損なわない熱現像処理システムを顧客に対して供給する
ことができる。In recent years, in the field of photoengraving, it has been strongly desired to reduce the amount of processing waste liquid from the viewpoint of environmental protection and space saving.
Therefore, there is a need for a technology relating to a photothermographic material for photoengraving, which can be efficiently exposed by a laser scanner or a laser imagesetter and can form a clear black image having high resolution and sharpness. It has been. In these photosensitive heat developing materials,
By eliminating the use of solution processing chemicals, it is possible to provide customers with a simpler and more environmentally friendly thermal development processing system.
【0004】熱現像により画像を形成する方法は、例え
ば米国特許第3,152,904号、同3,457,075号、およびD.
モーガン(Morgan)とB.シェリー(Shely)による
「熱によって処理される銀システム(Thermally Proces
sed Silver Systems)A」(イメージング・プロセッシ
ーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Processes and M
aterials) Neblette第8版、スタージ(Sturge)、V.
ウォールワーズ(Walworth)、A.シェップ(Shepp)
編集、第2頁、1969年)に記載されている。このような
感光材料は、還元可能な非感光性の銀源(例えば有機銀
塩)、触媒活性量の光触媒(例えばハロゲン化銀)、お
よび銀の還元剤を通常有機バインダーマトリックス中に
分散した状態で含有している。感光材料は常温で安定で
あるが、露光後高温(例えば、80℃以上)に加熱した場
合に、還元可能な銀源(酸化剤として機能する)と還元
剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸
化還元反応は露光で発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の還元可能な銀塩の反応によって
生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対
照をなし、画像の形成がなされる。[0004] Methods of forming an image by thermal development are described in, for example, US Patent Nos. 3,152,904 and 3,457,075, and US Pat.
Morgan and B.A. "Thermal Proces Silver System (Thermally Proces)" by Shely
sed Silver Systems) A "(Imaging Processes and M
aterials) Neblette 8th edition, Sturge, V.E.
Walworth, A .; Shepp
Edited, page 2, 1969). Such photosensitive materials are prepared by dispersing a reducible non-photosensitive silver source (eg, an organic silver salt), a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), and a silver reducing agent, usually in an organic binder matrix. It is contained in. The photosensitive material is stable at room temperature, but when heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after exposure, silver is reduced through a redox reaction between a reducible silver source (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent. Generate This oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image generated by the exposure. The silver formed by the reaction of the reducible silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image.
【0005】熱現像感光材料においてはカブリが大きな
問題である。熱写真用ハロゲン化銀感光材料のカブリ低
減に向け多くの検討がなされており、例えば、US358990
3号には水銀塩が開示されている。その他に、US4152160
号にはベンゼン酸およびフタル酸等のカルボン酸、US47
84939号にはベンゾイルベンゼン酸化合物、US4569906号
にはインダンまたはテトラリンカルボン酸、US4820617
号にはジカルボン酸、US4626500号にはヘテロ芳香族カ
ルボン酸が開示されている。US4546075号、US4756999
号、US4452885号、US3874946号およびUS3955982号には
ハロゲン化化合物が開示されている。US5028523号には
ハロゲン分子またはヘテロ原子環と結合したハロゲン原
子が開示されている。US4103312号およびGB1502670号に
はパラジウム化合物、US4128428号には鉄類の金属、US4
123374号、US4129557号およびUS4125430号には置換トリ
アゾール類、US4213784号、US4245033号および特開昭51
-26019号には硫黄化合物、US4002479号にはチオウラシ
ル類、特開昭50-123331号にはスルフィン酸、US4125403
号、US4152160号、US4307187号にはチオスルホン酸の金
属塩、特開昭53-20923号および特開昭53-19825号にはチ
オスルホン酸の金属塩とスルフィン酸の併用、特公昭62
-50810号、特開平7-209797号および特開平9-43760号に
はチオスルホン酸エステル類が開示されている。また、
特開昭51−42529号、特公昭63−37368号
にジスルフィド化合物が開示されている。Fog is a major problem in photothermographic materials. Many studies have been made to reduce fog of silver halide photosensitive materials for thermography. For example, US Pat.
No. 3 discloses a mercury salt. In addition, US4152160
No. include carboxylic acids such as benzene acid and phthalic acid, US47
No. 84939, benzoylbenzene compound, US Pat. No. 4,569,906, indane or tetralin carboxylic acid, US Pat.
Discloses dicarboxylic acids and US Pat. No. 4,626,500 discloses heteroaromatic carboxylic acids. US4546075, US4756999
Nos. 4,445,885, 3,874,946 and 3,955,982 disclose halogenated compounds. US5028523 discloses a halogen molecule or a halogen atom bonded to a heteroatom ring. US4103312 and GB1502670 palladium compounds, US4128428 US iron metals, US4
123374, US4129557 and US4125430 include substituted triazoles, US4213784, US4245033 and JP
-26019 to sulfur compounds, US4002479 to thiouracils, JP-A-50-123331 to sulfinic acid, US4125403
No. 4,415,160, US Pat. No. 4,307,187, a metal salt of thiosulfonic acid, JP-A-53-20923 and JP-A-53-19825 describe a combination of a metal salt of thiosulfonic acid and sulfinic acid,
-50810, JP-A-7-209797 and JP-A-9-43760 disclose thiosulfonic acid esters. Also,
JP-A-51-42529 and JP-B-63-37368 disclose disulfide compounds.
【0006】欧州特許762,196号、特開平9-90550号公報
等には、熱現像画像記録材料に用いる感光性ハロゲン化
銀粒子に周期律表第VII族またはVIII族(第7族〜第1
0族)の金属イオンまたは金属錯体イオンを含有させる
こと、および感光材料中にヒドラジン誘導体を含有させ
て高コントラストな写真特性を得ることができることが
開示されている。[0006] European Patent 762,196, JP-A-9-90550 and the like disclose photosensitive silver halide grains used in heat-developable image recording materials to groups VII or VIII of the periodic table (groups 7 to 1).
It is disclosed that a metal ion or a metal complex ion of Group 0) is contained, and that a hydrazine derivative is contained in the photosensitive material to obtain high-contrast photographic characteristics.
【0007】上記のように熱現像感光材料でもヒドラジ
ン誘導体を用いることにより、写真製版用途に適した高
コントラストかつDmax(最高濃度)の高い性能が得ら
れることが知られているが、一方、ヒドラジン誘導体に
代表される硬調化剤の水分散液は塗布液に添加するまで
の経時によりカブリが発生するという問題があった。硬
調化剤の水分散液の経時安定性は感光材料の安定製造に
関わる重要な問題である。As described above, it is known that the use of a hydrazine derivative also in a photothermographic material can provide high contrast and high Dmax (highest density) performance suitable for photolithography, but on the other hand, hydrazine An aqueous dispersion of a high contrast agent represented by a derivative has a problem that fogging occurs with time until it is added to a coating solution. The stability over time of an aqueous dispersion of a high contrast agent is an important problem relating to the stable production of photosensitive materials.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、硬調化剤の水分散液の経時に関わらず、カブリ(D
min)が極めて小さく、超硬調な写真特性を有する熱
現像超硬調感光材料を提供することである。Accordingly, an object of the present invention is to provide a fog (D) regardless of the aging of an aqueous dispersion of a high contrast agent.
min.) is to provide a heat-developable ultra-high contrast photosensitive material having extremely small photographic characteristics.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記課題は、下記の手段
により達成できた。 (1) 支持体の少なくとも一方の同一面上に、(a)
感光性ハロゲン化銀、(b)還元可能な銀塩、(c)還
元剤、(d)バインダー、ならびに(e)式(A)、式
(B)および式(C)で表される化合物から選ばれる少
なくとも1種の化合物を有する熱現像感光材料であっ
て、式(1)で表される化合物、式(2)で表される単
量体から誘導される繰り返し単位を有するポリマー、お
よび式(3)で表される化合物から選ばれる少なくとも
1種の化合物を有することを特徴とする熱現像感光材
料。The above object has been achieved by the following means. (1) On at least one same surface of the support, (a)
From photosensitive silver halide, (b) a reducible silver salt, (c) a reducing agent, (d) a binder, and (e) compounds represented by formulas (A), (B) and (C) A photothermographic material having at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by the formula (1), a polymer having a repeating unit derived from a monomer represented by the formula (2), and a compound represented by the formula: A photothermographic material comprising at least one compound selected from the compounds represented by (3).
【0010】[0010]
【化7】 Embedded image
【0011】[0011]
【化8】 Embedded image
【0012】[0012]
【化9】 Embedded image
【0013】[式(A)においてR1、R2およびR3は、
それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Zは電子
吸引性基を表す。式(A)において、R1とZ、R2と
R3、R1とR2、およびR3とZは、それぞれ互いに結合
して環状構造を形成していてもよい。式(B)において、
R4は置換基を表す。式(C)において、XおよびYはそ
れぞれ独立に水素原子または置換基を表し、AおよびB
は、それぞれ独立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、
アルキルアミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ
基、アニリノ基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基、
またはヘテロ環アミノ基を表す。式(C)において、Xと
Y、およびAとBは、それぞれ互いに結合して環状構造
を形成していてもよい。][In the formula (A), R 1 , R 2 and R 3 are
Each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group. In the formula (A), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1 and R 2 , and R 3 and Z may be mutually bonded to form a cyclic structure. In equation (B),
R 4 represents a substituent. In the formula (C), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent;
Is each independently an alkoxy group, an alkylthio group,
Alkylamino group, aryloxy group, arylthio group, anilino group, heterocyclic oxy group, heterocyclic thio group,
Or a heterocyclic amino group. In the formula (C), X and Y, and A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure. ]
【0014】[0014]
【化10】 Embedded image
【0015】[式(1)において、X1は含窒素複素環
を有する写真用抑制剤の残基を表し、Jは2価の結合基
を表し、B1はバラスト基を表し、nは1以上の整数を
表す。]In the formula (1), X 1 represents a residue of a photographic inhibitor having a nitrogen-containing heterocyclic ring, J represents a divalent linking group, B 1 represents a ballast group, and n represents 1 Represents the above integer. ]
【0016】[0016]
【化11】 Embedded image
【0017】[式(2)において、Qはエチレン性不飽
和基、またはエチレン性不飽和基を有する基を表し、X
2は含窒素複素環を有する写真用抑制剤の残基を表
す。][In the formula (2), Q represents an ethylenically unsaturated group or a group having an ethylenically unsaturated group;
2 represents a residue of a photographic inhibitor having a nitrogen-containing heterocyclic ring. ]
【0018】[0018]
【化12】 Embedded image
【0019】[式(3)において、A1は水溶性基を有
する基を表し、X3は含窒素複素環を有する写真用抑制
剤の残基を表す。] (2) 膜面pHが3以上7以下である上記(1)の熱
現像感光材料。[In the formula (3), A 1 represents a group having a water-soluble group, and X 3 represents a residue of a photographic inhibitor having a nitrogen-containing heterocyclic ring. (2) The photothermographic material according to the above (1), wherein the film surface pH is 3 or more and 7 or less.
【0020】[0020]
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の熱現像感光材料は、支持体の少なくとも一方の
面上に、還元可能な銀塩とバインダーとを含有する画像
形成層を有し、さらにこの画像形成層と同一面上に、感
光性ハロゲン化銀を含有する層、還元剤を含有する層を
有するものである。好ましくは、画像形成層は感光性ハ
ロゲン化銀を含有する感光性層であり、還元剤も同一層
に含有されていることが好ましい。このような感光材料
において、画像形成層と同一面上の層に、硬調化剤とし
て式(A)〜式(C)で表される化合物から選ばれる少
なくとも1種を含有させ、さらに式(1)で表される化
合物、式(2)で表される単量体から誘導される繰り返
し単位を有するポリマー、および式(3)で表される化
合物(これらをまとめて式(1)〜式(3)で表される
化合物ということもある。)から選ばれる少なくとも1
種を含有させることによって、写真性能に優れ、かつ経
時させた硬調化剤の水分散物を用いても安定した良好な
写真性能が得られる。これに対し、ヒドラジン誘導体の
ような硬調化剤を用いると、硬調性が低下し、特に経時
後の硬調化剤の水分散物を用いた場合の硬調性の低下は
大きくなる。また、カブリも上昇する傾向にある。一
方、式(I)で表される化合物等の上記化合物以外の化
合物を用いると、経時後の硬調化剤の水分散物の使用時
において軟調化が著しくなり、安定した性能が得られな
くなる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The photothermographic material of the present invention has an image forming layer containing a reducible silver salt and a binder on at least one surface of a support, and further comprises a photosensitive material on the same surface as the image forming layer. It has a layer containing a silver halide and a layer containing a reducing agent. Preferably, the image forming layer is a photosensitive layer containing a photosensitive silver halide, and the reducing agent is preferably contained in the same layer. In such a light-sensitive material, a layer on the same surface as the image forming layer contains at least one compound selected from the compounds represented by formulas (A) to (C) as a contrast agent, and further comprises a compound represented by the formula (1) ), A polymer having a repeating unit derived from a monomer represented by Formula (2), and a compound represented by Formula (3) (these are collectively represented by Formulas (1) to ( At least one compound selected from 3)).
By containing the seed, excellent photographic performance can be obtained, and stable and good photographic performance can be obtained even when an aqueous dispersion of the toning agent is aged. On the other hand, when a contrasting agent such as a hydrazine derivative is used, the contrasting property is reduced, and particularly when a water dispersion of the contrasting agent after aging is used, the contrasting property is greatly reduced. Fog also tends to increase. On the other hand, when a compound other than the above compounds such as the compound represented by the formula (I) is used, the softening becomes remarkable when the aqueous dispersion of the high contrast agent is used after a lapse of time, and stable performance cannot be obtained.
【0021】特に良好な写真性能を得る上では、画像形
成層側の面の膜面pHが3〜7の範囲にあることが好ま
しい。In order to obtain particularly good photographic performance, it is preferable that the surface pH of the surface on the image forming layer side is in the range of 3 to 7.
【0022】式(1)で表される化合物、あるいは式
(2)で表される単量体から誘導される繰り返し単位を
有するポリマー、あるいは式(3)で表される化合物に
ついて詳細に説明する。The compound represented by the formula (1), the polymer having a repeating unit derived from the monomer represented by the formula (2), or the compound represented by the formula (3) will be described in detail. .
【0023】式(1)、式(2)、式(3)の各々にお
いてX1、X2、X3で表される含窒素複素環を有する写
真用抑制剤の残基は、例えば写真工学の基礎銀塩編(日
本写真学会編コロナ社)354頁、写真の化学(笹井明
著写真工業出版社)168〜169頁、或いはザ・セオ
リー・オブ・フォトグラフィック・プロセス(T.H.
ジェームス編、マックミラン社)396〜399頁に記
載されているような、コンベンショナルなハロゲン化銀
写真感光材料において抑制剤(或いはカブリ防止剤)と
して知られている有機化合物の残基であり、好ましくは
25℃の水におけるその化合物の銀塩の溶解度積(pK
sp)が10以上の有機化合物の残基である。In each of the formulas (1), (2) and (3), the residue of a photographic inhibitor having a nitrogen-containing heterocyclic ring represented by X 1 , X 2 or X 3 is, for example, a photographic engineering compound. Basic silver salt edition (edited by the Photographic Society of Japan, Corona Co., Ltd.), page 354, chemistry of photography (Akira Sasai, Photo Industry Publishing Co., Ltd.), pages 168-169, or The Theory of Photographic Process (TH.
And the residue of an organic compound known as an inhibitor (or an antifoggant) in a conventional silver halide photographic light-sensitive material as described in pages 396 to 399 of James Mill, Inc. Is the solubility product of the silver salt of the compound in water at 25 ° C. (pK
sp) is a residue of 10 or more organic compounds.
【0024】以下に、本発明の式(1)、式(2)、式
(3)の各々においてX1、X2、X 3で表される含窒素
複素環を有する写真用抑制剤の残基を具体化した式
(4)〜(15)および(17)〜(21)を示す。The formulas (1), (2), and (3) of the present invention will be described below.
X in each of (3)1, XTwo, X ThreeNitrogen-containing represented by
Formula embodying the residue of a photographic inhibitor having a heterocycle
(4) to (15) and (17) to (21) are shown.
【0025】[0025]
【化13】 Embedded image
【0026】式(4)〜(10)において、R21、
R22、R23は各々水素原子、アルキル基またはアリール
基を表し、M1は水素原子、アルカリ金属原子、アンモ
ニウム基または有機アミン残基を表す。式(6)、
(8)、(9)において、Y1は−N(R24)−、−O
−または−S−を表し、R24は水素原子またはアルキル
基を表す。式(10)においてY10-は対アニオンを表
す。In the formulas (4) to (10), R 21 ,
R 22 and R 23 each represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and M 1 represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, an ammonium group or an organic amine residue. Equation (6),
In (8) and (9), Y 1 represents —N (R 24 ) —, —O
— Or —S—, and R 24 represents a hydrogen atom or an alkyl group. In the formula (10), Y 10- represents a counter anion.
【0027】[0027]
【化14】 Embedded image
【0028】式(11)〜(14)において、R25は水
素原子、アルキル基またはアリール基を表し、R26、R
27は各々水素原子、アルキル基、アリール基またはニト
ロ基を表し、R26とR27が結合して5員または6員の環
を形成しても良い。Y2は−N(R28)−、−CH(R
28)−、−O−または−S−を表し、R28は水素原子、
アルキル基またはアリール基を表し、M2は上記M1と同
義の基を表す。[0028] In formula (11) ~ (14), R 25 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, R 26, R
27 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a nitro group, and R 26 and R 27 may combine to form a 5- or 6-membered ring; Y 2 is —N (R 28 ) —, —CH (R
28 )-, -O- or -S-, wherein R 28 is a hydrogen atom,
It represents an alkyl group or an aryl group, M 2 represents the M 1 group having the same meaning as.
【0029】[0029]
【化15】 Embedded image
【0030】式(15)においてR29は水素原子、アル
キル基、アリール基または式(16)の基を表し、
R30、R31は各々水素原子、アルキル基、アリール基ま
たはニトロ基を表し、R30とR31が結合して5員または
6員の環を形成しても良い。In the formula (15), R 29 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a group of the formula (16),
R 30 and R 31 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a nitro group, and R 30 and R 31 may combine to form a 5- or 6-membered ring.
【0031】[0031]
【化16】 Embedded image
【0032】式(17)〜(19)においてR33、
R34、R35、R36は各々水素原子、アルキル基、アリー
ル基、アルキルチオ基、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、R37−NH−(R37は水素原子、アルキル基、アリ
ール基を表す)または−SM3(M3は上記M1と同義の
基を表す)を表す。In the formulas (17) to (19), R 33 ,
R 34, R 35, R 36 are each a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkylthio group, a hydroxyl group, an alkoxy group, R 37 -NH- (R 37 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group) or - And SM 3 (M 3 represents a group having the same meaning as M 1 ).
【0033】[0033]
【化17】 Embedded image
【0034】式(20)においてR38、R39は、各々水
素原子、アルキル基またはアリール基を表し、M4は上
記M1と同義の基を表す。In the formula (20), R 38 and R 39 each represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and M 4 represents a group having the same meaning as M 1 .
【0035】[0035]
【化18】 Embedded image
【0036】式(21)においてR40、R41は各々水素
原子、アルキル基またはアリール基を表し、R40とR41
は結合して5員または6員の環を形成しても良い。Y3
は=C(R42)−または=N−を表し、R42は水素原
子、アルキル基またはアリール基を表す。M5は上記M1
と同義の基を表す。In the formula (21), R 40 and R 41 each represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and R 40 and R 41
May combine to form a 5- or 6-membered ring. Y 3
Represents = C (R 42 )-or NN-, and R 42 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. M 5 is the above-mentioned M 1
Represents the same group as
【0037】上記式(4)〜(15)および(17)〜
(21)において、X1、X2、X3で表される含窒素複
素環を有する写真用抑制剤の残基は、−SM基(Mは水
素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基または有機
アミン残基を表す)を有する含窒素複素環残基が好まし
く、式(5)または(11)で表される含窒素複素環を
有する写真用残基が特に好ましい。The above formulas (4) to (15) and (17) to
In (21), the residue of the photographic inhibitor having a nitrogen-containing heterocyclic ring represented by X 1 , X 2 or X 3 is a —SM group (M is a hydrogen atom, an alkali metal atom, an ammonium group or an organic amine). A nitrogen-containing heterocyclic residue having a nitrogen-containing heterocyclic ring represented by the formula (5) or (11) is particularly preferable.
【0038】以下に、本発明の式(1)、式(2)、式
(3)の各々においてX1、X2、X 3で表される含窒素
複素環を有する写真用抑制剤の残基の具体例を示す。The formulas (1), (2), and (3) of the present invention will be described below.
X in each of (3)1, XTwo, X ThreeNitrogen-containing represented by
Specific examples of the residue of a photographic inhibitor having a heterocyclic ring are shown below.
【0039】[0039]
【化19】 Embedded image
【0040】[0040]
【化20】 Embedded image
【0041】[0041]
【化21】 Embedded image
【0042】式中、*−は、写真用抑制剤残基が他の基
と結合する位置を示す。式(1)において、Jで表され
る2価の結合基の具体例としては、例えば以下のものが
挙げられるが、この限りではない。In the formula, *-indicates the position where the photographic inhibitor residue is bonded to another group. In the formula (1), specific examples of the divalent linking group represented by J include, but are not limited to, the following.
【0043】[0043]
【化22】 Embedded image
【0044】式中Rは、水素原子、アルキル基またはア
リール基を表す。更に、Jで表される2価の結合基とし
て、下記式(22)で表されるものが挙げられる。In the formula, R represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. Furthermore, examples of the divalent linking group represented by J include those represented by the following formula (22).
【0045】[0045]
【化23】 Embedded image
【0046】式中、J2およびJ3はそれぞれ2価の結合
基を表し、この2価の結合基としては、例えば、−NH
CO−、−CONH−、−CO−、−COO−、−OC
O−、−SCO−、−COS−、−O−、−S−、−S
O−、−SO2−等がある。X4、X5はそれぞれ2価の
炭化水素基を表し、2価の炭化水素基としては例えば、
アルキレン基(例えば、メチレン基、プロピレン基
等)、アリーレン基(例えば、フェニレン基等)、アラ
ルキレン基(例えば、フェニルメチレン基等)、アルキ
レンアリーレン基(例えば、メチレンフェニレン基等)
またはアリーレンアルキレン基(例えば、フェニレンメ
チレン基等)が挙げられる。p1、q1、p2、q2はそれ
ぞれ0またはlを表す。次に、本発明の式(1)のJで
表される2価の結合基の具体例を示す。In the formula, J 2 and J 3 each represent a divalent linking group. Examples of the divalent linking group include —NH
CO-, -CONH-, -CO-, -COO-, -OC
O-, -SCO-, -COS-, -O-, -S-, -S
O -, -, and the like - SO 2. X 4 and X 5 each represent a divalent hydrocarbon group, and examples of the divalent hydrocarbon group include:
Alkylene group (eg, methylene group, propylene group, etc.), arylene group (eg, phenylene group, etc.), aralkylene group (eg, phenylmethylene group, etc.), alkylene arylene group (eg, methylene phenylene group, etc.)
Alternatively, an arylenealkylene group (for example, a phenylenemethylene group or the like) can be given. p 1 , q 1 , p 2 and q 2 each represent 0 or l. Next, specific examples of the divalent linking group represented by J in the formula (1) of the present invention are shown.
【0047】[0047]
【化24】 Embedded image
【0048】式中、*−は、X1で表される写真用抑制
剤残基に、**−は、B1で表されるバラスト基に結合
する位置を示す。In the formula, *-indicates a position bonding to a photographic inhibitor residue represented by X 1 and **-indicates a position bonding to a ballast group represented by B 1 .
【0049】本発明の式(1)のB1で表されるバラス
ト基としては、熱現像する間、本発明の式(1)で表さ
れる化合物およびその銀塩(銀錯体)の拡散性を低下ま
たは耐拡散化される分子の大きさおよび形状を具えてい
る有機バラスト基であり、一般的な有機バラスト基とし
ては、X1で表される写真用抑制剤残基に直接または
(J)nで表される2価の結合基を介して結合している
長鎖アルキル基ならびにこの抑制剤残基の炭素環核等に
直接または間接に融合しているベンゼン系およびナフタ
レン系の芳香族基が含まれる。The ballast group represented by B 1 in the formula (1) of the present invention includes a compound represented by the formula (1) of the present invention and its diffusibility during thermal development. an organic ballast group which comprises a molecular size and shape that is reduced or nondiffusible the, common organic ballast groups directly photographic inhibitor residue represented by X 1 or (J ) A long-chain alkyl group bonded via a divalent linking group represented by n, and a benzene- or naphthalene-based aromatic directly or indirectly fused to the carbon ring nucleus or the like of the inhibitor residue Groups are included.
【0050】有効なバラスト基としては、一般的に少な
くとも8個の炭素原子を有するものであり、より好まし
くは、8〜40個の炭素原子を有する置換または非置換
のアルキル基である。また、スルホ基、カルボキシ基等
の親水性基で置換された基を有し、かつ8〜30個の炭
素原子を有する置換または非置換のアルキル基を有する
基を有する基も最も有効なバラスト基である。以下にバ
ラスト基の好ましい具体例を示す。Useful ballast groups are generally those having at least 8 carbon atoms, more preferably substituted or unsubstituted alkyl groups having 8 to 40 carbon atoms. Also, a group having a group substituted with a hydrophilic group such as a sulfo group or a carboxy group and a group having a substituted or unsubstituted alkyl group having 8 to 30 carbon atoms is the most effective ballast group. It is. Preferred specific examples of the ballast group are shown below.
【0051】[0051]
【化25】 Embedded image
【0052】[0052]
【化26】 Embedded image
【0053】式中、**−は、X1で表される写真用抑
制剤残基に直接または(J)nで表される2価の結合基
を介して結合する位置を示す。次に本発明の式(1)で
表される化合物の具体例を挙げるが、この限りではな
い。In the formula, **-indicates a position at which the compound binds to the photographic inhibitor residue represented by X 1 directly or via a divalent binding group represented by (J) n. Next, specific examples of the compound represented by the formula (1) of the present invention will be described, but are not limited thereto.
【0054】[0054]
【表1】 [Table 1]
【0055】式(2)のQは、エチレン性不飽和基また
はエチレン性不飽和基を含有する基を表すが、好ましく
は下記式(23)で表される。Q in the formula (2) represents an ethylenically unsaturated group or a group containing an ethylenically unsaturated group, and is preferably represented by the following formula (23).
【0056】[0056]
【化27】 Embedded image
【0057】式中、R43は水素原子、カルボキシ基また
はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基等)を表
し、このアルキル基は置換基を有していてもよく、置換
基としては、ハロゲン原子、カルボキシル基等が挙げら
れる。R43で表されるカルボキシル基および置換基のカ
ルボキシル基は塩を形成してもよい。J2、J3、X4、
X5、p1、q1、p2、q2はそれぞれ式(22)と同義
の基を表す。以下に、式(2)のQで表される基の具体
例を示す。In the formula, R 43 represents a hydrogen atom, a carboxy group or an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, etc.), and this alkyl group may have a substituent. Atom, carboxyl group and the like. The carboxyl group represented by R 43 and the carboxyl group of the substituent may form a salt. J 2 , J 3 , X 4 ,
X 5 , p 1 , q 1 , p 2 , and q 2 each represent a group having the same meaning as in formula (22). Hereinafter, specific examples of the group represented by Q in the formula (2) will be shown.
【0058】[0058]
【化28】 Embedded image
【0059】式中、*−は、X2で表される写真用抑制
剤残基に結合する位置を示す。式(2)の単量体単位を
有するポリマーの分子量は重量平均分子量で2000〜1000
00であることが好ましい。次に本発明の式(2)で表さ
れる単量体から誘導される繰り返し単位を有するポリマ
ー化合物の具体例を挙げるが、この限りではない。In the formula, *-indicates the position of the bond to the photographic inhibitor residue represented by X 2 . The molecular weight of the polymer having the monomer unit of the formula (2) is from 2000 to 1000 in weight average molecular weight.
It is preferably 00. Next, specific examples of the polymer compound having a repeating unit derived from the monomer represented by the formula (2) of the present invention are shown, but are not limited thereto.
【0060】[0060]
【表2】 [Table 2]
【0061】式(3)におけるA1で表される水溶性基
とは現像液中でアニオン化が可能な基を表し、具体的に
はスルホンアミド基、スルファモイル基、フェノール性
水酸基、カルボキシル基、スルホ基、およびそれらの塩
が挙げられる。好ましくはカルボキシル基、スルホ基で
ある。以下に、式(3)のA1で表される基の具体例を
示す。The water-soluble group represented by A 1 in the formula (3) represents a group capable of being anionized in a developer, and specifically includes a sulfonamide group, a sulfamoyl group, a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, Sulfo groups, and salts thereof. Preferred are a carboxyl group and a sulfo group. Hereinafter, specific examples of the group represented by A 1 in the formula (3) are shown.
【0062】[0062]
【化29】 Embedded image
【0063】式中、**−は、X3で表される写真用抑
制剤残基に結合する位置を示す。次に本発明の式(3)
で表される化合物の具体例を挙げるが、この限りではな
い。In the formula, **-indicates the position of the bond to the photographic inhibitor residue represented by X 3 . Next, the formula (3) of the present invention is used.
Specific examples of the compound represented by are shown below, but are not limited thereto.
【0064】[0064]
【表3】 [Table 3]
【0065】式(1)〜(3)の化合物は2種以上併用
してもよく、またその使用量は、感光材料1m2当た
り、0.01〜100ミリモルの範囲で使用されるのが
好ましい。Two or more compounds of formulas (1) to (3) may be used in combination, and the amount of the compounds used is preferably in the range of 0.01 to 100 mmol per 1 m 2 of the photographic material. .
【0066】本発明の式(1)〜式(3)で表される化合物
は、支持体に対して画像形成層側のバインダー層、即ち
画像形成層あるいはこの層側の他のバインダー層のどの
層に添加してもよいが、画像形成層あるいはそれに隣接
するバインダー層に添加することが好ましい。The compounds represented by the formulas (1) to (3) of the present invention can be used in any of a binder layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, the image forming layer or another binder layer on this layer side. It may be added to the layer, but is preferably added to the image forming layer or the binder layer adjacent thereto.
【0067】本発明の式(1)〜式(3)で表される化
合物は、水または適当な有機溶媒、例えばアルコール類
(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化ア
ルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケト
ン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
メチルセルソルブなどに溶解して用いることができる。The compounds represented by the formulas (1) to (3) of the present invention can be prepared from water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol) and ketones (acetone, methyl ethyl ketone). ), Dimethylformamide, dimethylsulfoxide,
It can be used by dissolving it in methylcellosolve or the like.
【0068】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、上記化合物の粉末を水等の
適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、あるいは超
音波によって分散し用いることができる。Further, by a well-known emulsification and dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone is used for dissolution, and An emulsified dispersion can be prepared and used. Alternatively, the powder of the above compound can be dispersed in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method and used.
【0069】本発明で用いられる式(A)、式(B)、
式(C)で表される置換アルケン誘導体、置換イソオキ
サゾール誘導体、および特定のアセタール化合物につい
て詳細に説明する。これらの化合物は硬調化剤として用
いられる。Formulas (A) and (B) used in the present invention
The substituted alkene derivative represented by the formula (C), the substituted isoxazole derivative, and the specific acetal compound will be described in detail. These compounds are used as contrast agents.
【0070】[0070]
【化30】 Embedded image
【0071】式(A)においてR1,R2,R3は、それぞ
れ独立に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性
基を表す。式(A)においてR1とZ、R2とR3、R1とR
2、あるいはR3とZは、互いに結合して環状構造を形成
していてもよい。式(B)においてR4は、置換基を表
す。式(C)においてX,Yはそれぞれ独立に水素原子ま
たは置換基を表し、A,Bはそれぞれ独立に、アルコキ
シ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、アリールオ
キシ基、アリールチオ基、アニリノ基、ヘテロ環オキシ
基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環アミノ基を表す。
式(C)においてXとY、あるいはAとBは、互いに結合
して環状構造を形成していてもよい。In the formula (A), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group. In the formula (A), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1 and R
2 or R 3 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure. In the formula (B), R 4 represents a substituent. In the formula (C), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic ring. Represents an oxy group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic amino group.
In the formula (C), X and Y or A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure.
【0072】式(A)においてR1,R2,R3が置換基を
表す時、置換基の例としては、例えばハロゲン原子(フ
ッ素原子、クロル原子、臭素原子、または沃素原子)、
アルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メ
チン基等を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基、ヘテロ環基(N−置換の含窒素ヘテロ環基を含
む)、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えば
ピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボ
キシ基またはその塩、イミノ基、N原子で置換したイミ
ノ基、チオカルボニル基、スルホニルカルバモイル基、
アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル
基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、
シアノ基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基またはそ
の塩、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピ
レンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリール
オキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アル
コキシもしくはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、
カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ
基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)アミノ
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、
チオウレイド基、イソチオウレイド基、イミド基、(ア
ルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ
基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオ
セミカルバジド基、ヒドラジノ基、4級のアンモニオ
基、オキサモイルアミノ基、(アルキルもしくはアリー
ル)スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、アシル
スルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、
(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、アシ
ルチオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、
(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基
またはその塩、スルファモイル基、アシルスルファモイ
ル基、スルホニルスルファモイル基またはその塩、ホス
ホリル基、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を
含む基、シリル基、スタニル基等が挙げられる。When R 1 , R 2 and R 3 in the formula (A) represent a substituent, examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, a chloro atom, a bromine atom or an iodine atom),
Alkyl groups (including aralkyl groups, cycloalkyl groups, active methine groups, etc.), alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups (including N-substituted nitrogen-containing heterocyclic groups), and quaternized nitrogen A heterocyclic group containing an atom (eg, a pyridinio group), an acyl group, an alkoxycarbonyl group,
An aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a carboxy group or a salt thereof, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a thiocarbonyl group, a sulfonylcarbamoyl group,
Acyl carbamoyl group, sulfamoyl carbamoyl group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group,
A cyano group, a thiocarbamoyl group, a hydroxy group or a salt thereof, an alkoxy group (including a group having a repeating ethyleneoxy or propyleneoxy group unit), an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) Carbonyloxy group,
A carbamoyloxy group, a sulfonyloxy group, an amino group, an (alkyl, aryl, or heterocycle) amino group, an acylamino group, a sulfonamide group, a ureido group,
Thioureido group, isothioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonium group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl ) Sulfonylureido, acylureido, acylsulfamoylamino, nitro, mercapto,
(Alkyl, aryl, or heterocycle) thio, acylthio, (alkyl or aryl) sulfonyl,
(Alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or salt thereof, sulfamoyl group, acylsulfamoyl group, sulfonylsulfamoyl group or salt thereof, phosphoryl group, group having a phosphoric acid amide or phosphate ester structure, silyl group, And a stannyl group.
【0073】これら置換基は、これら置換基でさらに置
換されていてもよい。These substituents may be further substituted with these substituents.
【0074】式(A)においてZで表される電子吸引性基
とは、ハメットの置換基定数σpが正の値を取りうる置
換基のことであり、具体的には、シアノ基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモ
イル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオカ
ルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、ニトロ基、ハロゲン原子、
パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルカンアミド
基、スルホンアミド基、アシル基、ホルミル基、ホスホ
リル基、カルボキシ基、スルホ基(またはその塩)、ヘ
テロ環基、アルケニル基、アルキニル基、アシルオキシ
基、アシルチオ基、スルホニルオキシ基、またはこれら
電子吸引性基で置換されたアリール基等である。ここに
ヘテロ環基とは、芳香族もしくは非芳香族の、飽和もし
くは不飽和のヘテロ環基で、例えばピリジル基、キノリ
ル基、キノキサリニル基、ピラジニル基、ベンゾトリア
ゾリル基、イミダゾリル基、ベンツイミダゾリル基、ヒ
ダントイン−1−イル基、ウラゾール−1−イル基、ス
クシンイミド基、フタルイミド基等がその例として挙げ
られる。式(A)においてZで表される電子吸引性基は、
さらに任意の置換基を有していてもよい。The electron-withdrawing group represented by Z in the formula (A) is a substituent whose Hammett's substituent constant σp can take a positive value, specifically, a cyano group, an alkoxycarbonyl Group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, imino group, imino group substituted with an N atom, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, halogen atom,
Perfluoroalkyl group, perfluoroalkaneamide group, sulfonamide group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, carboxy group, sulfo group (or salt thereof), heterocyclic group, alkenyl group, alkynyl group, acyloxy group, acylthio group , A sulfonyloxy group, or an aryl group substituted with these electron-withdrawing groups. Here, the heterocyclic group is an aromatic or non-aromatic, saturated or unsaturated heterocyclic group, for example, a pyridyl group, a quinolyl group, a quinoxalinyl group, a pyrazinyl group, a benzotriazolyl group, an imidazolyl group, a benzimidazolyl group. Groups, hydantoin-1-yl group, urazol-1-yl group, succinimide group, phthalimide group and the like. In the formula (A), the electron-withdrawing group represented by Z is
Further, it may have an optional substituent.
【0075】式(A)においてZで表される電子吸引性基
として好ましくは、総炭素数0〜30の以下の基、即
ち、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、カルバモイル基、チオカルボニル基、
イミノ基、N原子で置換したイミノ基、スルファモイル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ニ
トロ基、パーフルオロアルキル基、アシル基、ホルミル
基、ホスホリル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ま
たは任意の電子吸引性基で置換されたフェニル基等であ
り、さらに好ましくは、シアノ基、アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、チオカルボニル基、イミノ基、
N原子で置換したイミノ基、スルファモイル基、アルキ
ルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、ホ
ルミル基、ホスホリル基、トリフルオロメチル基、また
は任意の電子吸引性基で置換されたフェニル基等であ
り、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、イミノ基、N原子で置換したイミ
ノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
アシル基、またはホルミル基である。In the formula (A), the electron-withdrawing group represented by Z is preferably a group having a total number of carbon atoms of 0 to 30, that is, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, Carbonyl group,
Imino group, imino group substituted with N atom, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, perfluoroalkyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, acyloxy group, acylthio group, or any electron withdrawing And a phenyl group substituted with a functional group, more preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a thiocarbonyl group, an imino group,
An imino group substituted with an N atom, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acyl group, a formyl group, a phosphoryl group, a trifluoromethyl group, or a phenyl group substituted with any electron-withdrawing group; Particularly preferably, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imino group, an imino group substituted by an N atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group,
An acyl group or a formyl group.
【0076】式(A)においてR1で表される置換基とし
て好ましくは、総炭素数0〜30の基で、具体的には上
述の式(A)のZで表される電子吸引性基と同義の基、お
よびアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミ
ノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、ウレイド
基、アシルアミノ基、シリル基、または置換もしくは無
置換のアリール基であり、さらに好ましくは上述の式
(A)のZで表される電子吸引性基と同義の基、水素原
子、置換もしくは無置換のアリール基、アルケニル基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシ基、シリ
ル基、またはアシルアミノ基であり、より好ましくは電
子吸引性基、アリール基、アルケニル基、またはアシル
アミノ基である。In the formula (A), the substituent represented by R 1 is preferably a group having a total carbon number of 0 to 30, specifically, an electron-withdrawing group represented by Z in the above formula (A). As well as alkyl, alkenyl, alkoxy, aryloxy, heterocyclic oxy, alkylthio, arylthio, heterocyclic thio, amino, alkylamino, arylamino, heterocyclic amino , A ureido group, an acylamino group, a silyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group, more preferably
A group having the same meaning as the electron-withdrawing group represented by Z in (A), a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted aryl group, an alkenyl group,
An alkylthio group, an arylthio group, an alkoxy group, a silyl group, or an acylamino group, more preferably an electron-withdrawing group, an aryl group, an alkenyl group, or an acylamino group.
【0077】R1が電子吸引性基を表す時、その好まし
い範囲はZで表される電子吸引性基の好ましい範囲と同
じである。When R 1 represents an electron-withdrawing group, its preferred range is the same as the preferred range of the electron-withdrawing group represented by Z.
【0078】式(A)においてR2およびR3で表される置
換基として好ましくは、上述の式(A)のZで表される電
子吸引性基と同義の基、アルキル基、ヒドロキシ基(ま
たはその塩)、メルカプト基(またはその塩)、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、
アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、ア
シルアミノ基、置換もしくは無置換のフェニル基等であ
る。R2およびR3はさらに好ましくは、どちらか一方が
水素原子で、他方が置換基を表す時である。その置換基
として好ましくは、アルキル基、ヒドロキシ基(または
その塩)、メルカプト基(またはその塩)、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、ア
ルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、アシ
ルアミノ基(特にパーフルオロアルカンアミド基)、スル
ホンアミド基、置換もしくは無置換のフェニル基、また
はヘテロ環基等であり、さらに好ましくはヒドロキシ基
(またはその塩)、メルカプト基(またはその塩)、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ
基、またはヘテロ環基であり、特に好ましくはヒドロキ
シ基(またはその塩)、アルコキシ基、またはヘテロ環基
である。In the formula (A), the substituent represented by R 2 and R 3 is preferably a group having the same meaning as the electron-withdrawing group represented by Z in the above formula (A), an alkyl group, a hydroxy group ( Or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group,
Examples include an alkylamino group, an anilino group, a heterocyclic amino group, an acylamino group, and a substituted or unsubstituted phenyl group. R 2 and R 3 are more preferably when one of them is a hydrogen atom and the other represents a substituent. Preferably as the substituent, an alkyl group, a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group Group, an alkylamino group, an anilino group, a heterocyclic amino group, an acylamino group (particularly a perfluoroalkaneamide group), a sulfonamide group, a substituted or unsubstituted phenyl group, or a heterocyclic group, and more preferably a hydroxy group
(Or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, or a heterocyclic group, and particularly preferably. It is a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group, or a heterocyclic group.
【0079】式(A)においてZとR1、あるいはまたR2
とR3とが環状構造を形成する場合もまた好ましい。こ
の場合に形成される環状構造は、非芳香族の炭素環もし
くは非芳香族のヘテロ環であり、好ましくは5員〜7員
の環状構造で、置換基を含めたその総炭素数は1〜4
0、さらには3〜35が好ましい。In the formula (A), Z and R 1 , or R 2
It is also preferred that and R 3 form a cyclic structure. The cyclic structure formed in this case is a non-aromatic carbocyclic or non-aromatic heterocyclic ring, preferably a 5- to 7-membered cyclic structure having a total carbon number including a substituent of 1 to 7. 4
0, more preferably 3 to 35.
【0080】式(A)で表される化合物の中で、より好ま
しいものの1つは、Zがシアノ基、ホルミル基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、イミノ基、またはカルバ
モイル基を表し、R1が電子吸引性基を表し、R2または
R3のどちらか一方が水素原子で、他方がヒドロキシ基
(またはその塩)、メルカプト基(またはその塩)、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ
基、またはヘテロ環基を表す化合物である。[0080] Among the compounds represented by formula (A), more One of preferred, Z is a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an imino group or a carbamoyl group,, R 1 is Represents an electron-withdrawing group, one of R 2 and R 3 is a hydrogen atom and the other is a hydroxy group
(Or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, or a heterocyclic group.
【0081】さらにまた式(A)で表される化合物の中で
より好ましいものの1つは、ZとR 1とが連結して非芳
香族の5員〜7員の環状構造を形成していて、R2また
はR3のどちらか一方が水素原子で、他方がヒドロキシ
基(またはその塩)、メルカプト基(またはその塩)、アル
コキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ
基、またはヘテロ環基を表す化合物である。Further, among the compounds represented by the formula (A),
One of the more preferred is that Z and R 1And connected
Forming a 5- to 7-membered aromatic ring structure,TwoAlso
Is RThreeIs a hydrogen atom and the other is hydroxy
Group (or its salt), mercapto group (or its salt),
Coxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group,
Kirthio, arylthio, heterocyclic thio, amino
Or a compound that represents a heterocyclic group.
【0082】ここでZとR1とが形成する非芳香族の5
員〜7員の環状構造とは具体的に、インダン−1,3−
ジオン環、ピロリジン−2,4−ジオン環、ピラゾリジ
ン−3,5−ジオン環、オキサゾリジン−2,4−ジオ
ン環、5−ピラゾロン環、イミダゾリジン−2,4−ジ
オン環、チアゾリジン−2,4−ジオン環、オキソラン
−2,4−ジオン環、チオラン−2,4−ジオン環、
1,3−ジオキサン−4,6−ジオン環、シクロヘキサ
ン−1,3−ジオン環、1,2,3,4−テトラヒドロ
キノリン−2,4−ジオン環、シクロペンタン−1,3
−ジオン環、イソオキサゾリジン−3,5−ジオン環、
バルビツール酸環、2,3−ジヒドロベンゾフラン−3
−オン環、ピラゾロトリアゾール環(例えば7H−ピラ
ゾロ[1,5−b][1,2,4]トリアゾール,7H
−ピラゾロ[5,1−c][1,2,4]トリアゾー
ル,7H−ピラゾロ[1,5−a]ベンズイミダゾール
等)、ピロロトリアゾール環(例えば5H−ピロロ
[1,2−b][1,2,4]トリアゾール,5H−ピ
ロロ[2,1−c][1,2,4]トリアゾール等)、
2−シクロペンテン−1,4−ジオン環、2,3−ジヒ
ドロベンゾチオフェン−3−オン−1,1−ジオキシド
環、クロマン−2,4−ジオン環、2−オキサゾリン−
5−オン環、2−イミダゾリン−5−オン環、2−チア
ゾリン−5−オン環、1−ピロリン−4−オン環、5−
オキソチアゾリジン−2−チオン環、4−オキソチアゾ
リジン−2−チオン環、ピロロピリミジノン環、1,3
−ジチオラン環等が挙げられ、中でもインダン−1,3
−ジオン環、ピロリジン−2,4−ジオン環、ピラゾリ
ジン−3,5−ジオン環、5−ピラゾロン環、バルビツ
ール酸環、2−オキサゾリン−5−オン環等が好まし
い。Here, the non-aromatic 5 formed by Z and R 1
The 7-membered to 7-membered cyclic structure is specifically indane-1,3-
Dione ring, pyrrolidine-2,4-dione ring, pyrazolidine-3,5-dione ring, oxazolidine-2,4-dione ring, 5-pyrazolone ring, imidazolidine-2,4-dione ring, thiazolidine-2,4 A dione ring, an oxolane-2,4-dione ring, a thiolane-2,4-dione ring,
1,3-dioxane-4,6-dione ring, cyclohexane-1,3-dione ring, 1,2,3,4-tetrahydroquinoline-2,4-dione ring, cyclopentane-1,3
A dione ring, an isoxazolidine-3,5-dione ring,
Barbituric acid ring, 2,3-dihydrobenzofuran-3
-One ring, pyrazolotriazole ring (for example, 7H-pyrazolo [1,5-b] [1,2,4] triazole, 7H
-Pyrazolo [5,1-c] [1,2,4] triazole, 7H-pyrazolo [1,5-a] benzimidazole and the like, pyrrolotriazole ring (for example, 5H-pyrrolo [1,2-b] [1 , 2,4] triazole, 5H-pyrrolo [2,1-c] [1,2,4] triazole and the like),
2-cyclopentene-1,4-dione ring, 2,3-dihydrobenzothiophen-3-one-1,1-dioxide ring, chroman-2,4-dione ring, 2-oxazoline-
5-one ring, 2-imidazolin-5-one ring, 2-thiazolin-5-one ring, 1-pyrrolin-4-one ring, 5-
Oxothiazolidine-2-thione ring, 4-oxothiazolidine-2-thione ring, pyrrolopyrimidinone ring, 1,3
-Dithiolane ring and the like, in particular indane-1,3
-A dione ring, a pyrrolidine-2,4-dione ring, a pyrazolidine-3,5-dione ring, a 5-pyrazolone ring, a barbituric acid ring, a 2-oxazolin-5-one ring and the like are preferable.
【0083】式(B)においてR4で表される置換基の例
としては、式(A)のR1〜R3の置換基について説明した
ものと同じものが挙げられる。Examples of the substituent represented by R 4 in the formula (B) are the same as those described for the substituents R 1 to R 3 in the formula (A).
【0084】式(B)においてR4で表される置換基は、
好ましくは電子吸引性基またはアリール基である。R4
が電子吸引性基を表す時、好ましくは、総炭素数0〜3
0の以下の基、即ち、シアノ基、ニトロ基、アシル基、
ホルミル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホ
ニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、パーフル
オロアルキル基、ホスホリル基、イミノ基、スルホンア
ミド基、またはヘテロ環基であり、さらにシアノ基、ア
シル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、カルバ
モイル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、スルホンアミド基、ヘテロ環基
が好ましい。In the formula (B), the substituent represented by R 4 is
Preferably, it is an electron-withdrawing group or an aryl group. R 4
When represents an electron-withdrawing group, the total carbon number is preferably 0 to 3
The following groups of 0: a cyano group, a nitro group, an acyl group,
A formyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a perfluoroalkyl group, a phosphoryl group, an imino group, a sulfonamide group, or a heterocyclic group; Group, acyl group, formyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group,
An arylsulfonyl group, a sulfonamide group and a heterocyclic group are preferred.
【0085】R4がアリール基を表す時、好ましくは総
炭素数0〜30の、置換もしくは無置換のフェニル基で
あり、置換基としては、式(A)のR1,R2,R3が置換
基を表す時にその置換基として説明したものと同じもの
が挙げられるが、電子吸引性基が好ましい。When R 4 represents an aryl group, it is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group having a total of 0 to 30 carbon atoms, and the substituent is represented by R 1 , R 2 , R 3 of the formula (A). When represents a substituent, the same as those described as the substituent can be mentioned, but an electron-withdrawing group is preferable.
【0086】式(C)においてX,Yで表される置換基と
しては、式(A)のR1〜R3の置換基について説明したも
のと同じものが挙げられる。X,Yで表される置換基
は、好ましくは総炭素数1〜50の、より好ましくは総
炭素数1〜35の基であり、シアノ基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオカルボ
ニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、ニトロ基、パーフルオロアルキル
基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、アシルアミ
ノ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ヘテロ環基、ア
ルキルチオ基、アルコキシ基、またはアリール基等が好
ましい。より好ましくはシアノ基、ニトロ基、アルコキ
シカルボニル基、カルバモイル基、アシル基、ホルミル
基、アシルチオ基、アシルアミノ基、チオカルボニル
基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ
基、ホスホリル基、トリフルオロメチル基、ヘテロ環
基、または置換されたフェニル基等であり、特に好まし
くはシアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
シル基、アシルチオ基、アシルアミノ基、チオカルボニ
ル基、ホルミル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ
基、ヘテロ環基、または任意の電子吸引性基で置換され
たフェニル基等である。The substituents represented by X and Y in the formula (C) are the same as those described for the substituents R 1 to R 3 in the formula (A). The substituent represented by X or Y is preferably a group having 1 to 50 total carbon atoms, more preferably a group having 1 to 35 total carbon atoms, and is a cyano group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, Imino group, imino group substituted with N atom, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, perfluoroalkyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, acylamino group, acyloxy group, acylthio Preferred are a group, a heterocyclic group, an alkylthio group, an alkoxy group, an aryl group, and the like. More preferably substituted with a cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, acyl group, formyl group, acylthio group, acylamino group, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, imino group, N atom Imino group, a phosphoryl group, a trifluoromethyl group, a heterocyclic group, or a substituted phenyl group, and particularly preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acyl group, Examples include an acylthio group, an acylamino group, a thiocarbonyl group, a formyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a heterocyclic group, and a phenyl group substituted with any electron-withdrawing group.
【0087】XとYが、互いに結合して非芳香族の炭素
環、または非芳香族のヘテロ環を形成している場合もま
た好ましい。この時、形成される環は5員〜7員環が好
ましく、具体的には式(A)のZとR1とが互いに結合し
て形成しうる非芳香族の5員〜7員環の例と同じものが
挙げられ、その好ましい範囲もまた同じである。これら
の環はさらに置換基を有していても良く、その総炭素数
は1〜40、さらには1〜35が好ましい。It is also preferable that X and Y combine with each other to form a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. At this time, the ring formed is preferably a 5- to 7-membered ring, and specifically, a non-aromatic 5- to 7-membered ring which can be formed by bonding Z and R 1 of the formula (A) to each other. The same examples are given, and their preferred ranges are also the same. These rings may further have a substituent, and the total carbon number is preferably 1 to 40, more preferably 1 to 35.
【0088】式(C)においてA,Bで表される基は、さ
らに置換基を有していてもよく、好ましくは総炭素数1
〜40の、より好ましくは総炭素数1〜30の基であ
る。The groups represented by A and B in the formula (C) may further have a substituent, and preferably have a total carbon number of 1
To 40, more preferably a group having 1 to 30 carbon atoms in total.
【0089】式(C)においてA,Bは、これらが互いに
結合して環状構造を形成している場合がより好ましい。
この時形成される環状構造は5員〜7員環の非芳香族の
ヘテロ環が好ましく、その総炭素数は1〜40、さらに
は3〜30が好ましい。この場合に、A,Bが連結した
例(−A−B−)を挙げれば、例えば−O−(CH2)2−
O−,−O−(CH2)3−O−,−S−(CH2)2−S
−,−S−(CH2)3−S−,−S−ph−S−,−N
(CH3)−(CH2)2−O−,−N(CH3)−(CH
2)2−S−,−O−(CH2)2−S−,−O−(C
H2)3−S−,−N(CH3)−ph−O−,−N(C
H3)−ph−S−,−N(ph)−(CH2)2−S−
等である。In formula (C), A and B more preferably combine with each other to form a cyclic structure.
The cyclic structure formed at this time is preferably a 5- to 7-membered non-aromatic hetero ring, and preferably has a total carbon number of 1 to 40, and more preferably 3 to 30. In this case, A, by way of example in which B is linked (-A-B-), for example -O- (CH 2) 2 -
O -, - O- (CH 2 ) 3 -O -, - S- (CH 2) 2 -S
-, - S- (CH 2) 3 -S -, - S-ph-S -, - N
(CH 3) - (CH 2 ) 2 -O -, - N (CH 3) - (CH
2) 2 -S -, - O- (CH 2) 2 -S -, - O- (C
H 2 ) 3 -S-, -N (CH 3 ) -ph-O-, -N (C
H 3) -ph-S -, - N (ph) - (CH 2) 2 -S-
And so on.
【0090】本発明の式(A)、式(B)、式(C)で表され
る化合物は、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基
が組み込まれていてもよい。カプラー等の不動性写真用
添加剤において常用されているバラスト基またはポリマ
ーが組み込まれているものでもよく、またカチオン性基
(具体的には、4級のアンモニオ基を含む基、または4
級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基等)、エチ
レンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単
位を含む基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)
チオ基、あるいは塩基により解離しうる解離性基(カル
ボキシ基、スルホ基、アシルスルファモイル基、カルバ
モイルスルファモイル基等)が含まれていてもよい。こ
れらの基の例としては、例えば特開昭63−29751
号、米国特許第4,385,108号、同4,459,
347号、特開昭59−195233号、同59−20
0231号、同59−201045号、同59−201
046号、同59−201047号、同59−2010
48号、同59−201049号、特開昭61−170
733号、同61−270744号、同62−948
号、同63−234244号、同63−234245
号、同63−234246号、特開平2−285344
号、特開平1−100530号、特開平7−23447
1号、特開平5−333466号、特開平6−1903
2号、特開平6−19031号、特開平5−45761
号、米国特許4994365号、米国特許498860
4号、特開平3−259240号、特開平7−5610
号、特開平7−244348号、独国特許400603
2号等に記載の化合物が挙げられる。The compounds represented by the formulas (A), (B) and (C) of the present invention may have incorporated therein an adsorptive group that adsorbs to silver halide. A ballast group or a polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers may be incorporated, and a cationic group (specifically, a group containing a quaternary ammonium group, or
A nitrogen-containing heterocyclic group containing a graded nitrogen atom, etc.), a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group, (alkyl, aryl, or heterocycle)
It may contain a thio group or a dissociable group that can be dissociated by a base (carboxy group, sulfo group, acylsulfamoyl group, carbamoylsulfamoyl group, etc.). Examples of these groups include, for example, JP-A-63-29751.
Nos. 4,385,108 and 4,459,
347, JP-A-59-195233, and JP-A-59-20
Nos. 0231, 59-201045, 59-201
Nos. 046, 59-201047, 59-2010
No. 48, 59-201049, JP-A-61-170
No. 733, No. 61-270744, No. 62-948
Nos. 63-234244 and 63-234245
No. 63-234246, JP-A-2-285344
JP-A-1-100530, JP-A-7-23447
No. 1, JP-A-5-333466, JP-A-6-1903
No. 2, JP-A-6-19031, JP-A-5-45761
No. 4,994,365, U.S. Pat.
4, JP-A-3-259240, JP-A-7-5610
, JP-A-7-244348, German Patent 400603
Compounds described in No. 2 and the like can be mentioned.
【0091】次に本発明の式(A) 、式(B)、式(C)で
表される化合物の具体例を以下に示す。ただし、本発明
は以下の化合物に限定されるものではない。Next, specific examples of the compounds represented by the formulas (A), (B) and (C) of the present invention are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
【0092】[0092]
【化31】 Embedded image
【0093】[0093]
【化32】 Embedded image
【0094】[0094]
【化33】 Embedded image
【0095】[0095]
【化34】 Embedded image
【0096】本発明では、硬調化剤として式(D)また
は式(E)で表される化合物が最も好ましく用いられる。In the present invention, the compound represented by the formula (D) or (E) is most preferably used as a high contrast agent.
【0097】[0097]
【化35】 Embedded image
【0098】式(D)または式(E)においてZ11およびZ
1 2は、各々これらを含んで5員〜7員の環構造を形成
しうる非金属原子団を表し、Y11およびY12は各々−C
(=O)−基または−SO2−基を表し、X11およびX12
は各々ヒドロキシ基(もしくはその塩)、アルコキシ基、
アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、メルカプト基
(もしくはその塩)、アルキルチオ基、アリールチオ基、
ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリー
ルアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基、スル
ホンアミド基、またはヘテロ環基を表す。Y13は水素原
子または置換基を表す。In the formula (D) or (E), Z 11 and Z
1 2 each represents a nonmetallic atomic group capable to form a ring structure of 5-membered to 7-membered containing these, Y 11 and Y 12 each -C
(= O) — or —SO 2 —, X 11 and X 12
Is a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group,
Aryloxy group, heterocyclic oxy group, mercapto group
(Or a salt thereof), an alkylthio group, an arylthio group,
Represents a heterocyclic thio group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an acylamino group, a sulfonamide group, or a heterocyclic group. Y 13 represents a hydrogen atom or a substituent.
【0099】式(D)および(E)で表される化合物に
ついてさらに詳しく説明する。式(D)においてZ
11は、−Y11−C(=CH−X11)−C(=O)−と共に5
員〜7員の環構造を形成しうる非金属原子団を表す。Z
11は好ましくは炭素原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原
子、および水素原子から選ばれる原子団で、これらの中
から選ばれる数個の原子が、互いに単結合ないしは2重
結合によって連結されて−Y11−C(=CH−X11)−C
(=O)−と共に5員〜7員の環構造を形成する。Z11は
任意の置換基を有していてもよく、またZ11自体が芳香
族もしくは非芳香族の炭素環、あるいは芳香族もしくは
非芳香族のヘテロ環の一部であってもよく、この場合Z
11が−Y1 1−C(=CH−X11)−C(=O)−と共に形
成する5員〜7員の環構造は、縮環構造を形成すること
になる。The compounds represented by formulas (D) and (E) will be described in more detail. In the formula (D), Z
11, -Y 11 -C (= CH- X 11) -C (= O) - with 5
Represents a non-metallic atomic group capable of forming a 7- to 7-membered ring structure. Z
11 is preferably an atomic group selected from a carbon atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and a hydrogen atom, and several atoms selected from these are connected to each other by a single bond or a double bond; Y 11 -C (= CH-X 11 ) -C
(= O)-forms a 5- to 7-membered ring structure. Z 11 may have an optional substituent, and Z 11 itself may be an aromatic or non-aromatic carbon ring, or a part of an aromatic or non-aromatic hetero ring. Case Z
11 -Y 1 1 -C (= CH- X 11) -C (= O) - ring a 5- to 7-membered forming together will form a condensed ring structure.
【0100】式(E)においてZ12は、−Y12−C(=
CH−X12)−C(Y13)=N−と共に5員〜7員の環構
造を形成しうる非金属原子団を表す。Z12は好ましく
は、炭素原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、および
水素原子から選ばれる原子団で、これらの中から選ばれ
る数個の原子が互いに単結合ないしは2重結合によって
連結されて−Y12−C(=CH−X12)−C(Y13)=N−
と共に5員〜7員の環構造を形成する。Z12は任意の置
換基を有していてもよく、またZ12自体が芳香族もしく
は非芳香族の炭素環、あるいは芳香族もしくは非芳香族
のヘテロ環の一部であってもよく、この場合Z12が−Y
12−C(=CH−X12)−C(Y13)=N−と共に形成する
5員〜7員の環構造は、縮環構造を形成することにな
る。In the formula (E), Z 12 is -Y 12 -C (=
Represents a CH-X 12) -C (Y 13) = non-metallic atomic group capable to form a 5-membered to 7-membered ring structure with N-. Z 12 is preferably an atomic group selected from a carbon atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and a hydrogen atom, and several atoms selected from these are connected to each other by a single bond or a double bond. -Y 12 -C (= CH-X 12) -C (Y 13) = N-
Together form a 5- to 7-membered ring structure. Z 12 may have an optional substituent, and Z 12 itself may be an aromatic or non-aromatic carbon ring, or a part of an aromatic or non-aromatic hetero ring. If Z 12 is -Y
Ring structures 12 -C (= CH-X 12 ) -C (Y 13) = 5 -membered to 7-membered formed together with N- will form a condensed ring structure.
【0101】式(D)においてZ11は好ましくは5員も
しくは6員の環状構造を形成しうる原子団であり、その
具体的な例としては窒素原子、炭素原子、硫黄原子もし
くは酸素原子から選ばれる原子団、例えば、−N−N
−,−O−N−,−N−C,−O−C−,−C−C−,
−C=C−,−S−C−,−C=C−N−,−C=C−
O−,−N−C−N−,−N=C−N−,−C−C−C
−,−C=C−C−,−O−C−O−等が、さらに水素
原子もしくは置換基を有している場合が挙げられる。Z
11はより好ましくは−N−N−,−N−C−,−O−C
−,−C−C−,−C=C−,−S−C−,−N−C−
N−,−C=C−N−等の原子団が、さらに水素原子も
しくは置換基を有している場合であり、特に好ましくは
−N−N−,−N−C−,−C=C−等の原子団が、さ
らに水素原子もしくは置換基を有している場合である。In the formula (D), Z 11 is preferably an atomic group capable of forming a 5- or 6-membered cyclic structure, and specific examples thereof include a nitrogen atom, a carbon atom, a sulfur atom and an oxygen atom. Atomic group, for example, -N-N
-, -ON-, -NC, -OC-, -CC-,
-C = C-, -S-C-, -C = C-N-, -C = C-
O-, -N-C-N-, -N = C-N-, -C-C-C
-, -C = CC-, -OCO- and the like further have a hydrogen atom or a substituent. Z
11 is more preferably -NN-, -NC-, -OC.
-, -CC-, -C = C-, -S-C-, -NC-
This is the case where the atomic group such as N-, -C = C-N- further has a hydrogen atom or a substituent, and particularly preferably -N-N-, -NC-, -C = C -, Etc., further have a hydrogen atom or a substituent.
【0102】Z11がこれ自体、芳香族もしくは非芳香族
の炭素環、あるいは芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環
の一部となって、Z11が−Y11−C(=CH−X11)−C
(=O)−と共に形成する5員〜7員の環構造に対して縮
環構造を形成する場合もまた好ましい。この場合の芳香
族もしくは非芳香族の炭素環、あるいは芳香族もしくは
非芳香族のヘテロ環の例としては、例えばベンゼン環、
ナフタレン環、ピリジン環、シクロヘキサン環、ピペリ
ジン環、ピラゾリジン環、ピロリジン環、1,2−ピペ
ラジン環、1,4−ピペラジン環、オキサン環、オキソ
ラン環、チアン環、チオラン環等が挙げられる。中でも
ベンゼン環、ピペリジン環、1,2−ピペラジン環が好
ましく、ベンゼン環が最も好ましい。Z 11 itself becomes a part of an aromatic or non-aromatic carbon ring or an aromatic or non-aromatic hetero ring, and Z 11 is represented by —Y 11 —C (= CH—X 11 ) -C
It is also preferable to form a condensed ring structure with a 5- to 7-membered ring structure formed together with (= O)-. Examples of the aromatic or non-aromatic carbon ring in this case, or an aromatic or non-aromatic hetero ring, for example, a benzene ring,
Examples include a naphthalene ring, a pyridine ring, a cyclohexane ring, a piperidine ring, a pyrazolidine ring, a pyrrolidine ring, a 1,2-piperazine ring, a 1,4-piperazine ring, an oxane ring, an oxolane ring, a thiane ring, and a thiolane ring. Among them, a benzene ring, a piperidine ring and a 1,2-piperazine ring are preferred, and a benzene ring is most preferred.
【0103】式(E)においてZ12は好ましくは、5員
もしくは6員の環状構造を形成しうる原子団であり、そ
の具体的な例としては窒素原子、炭素原子、硫黄原子も
しくは酸素原子から選ばれる原子団、例えば−N−,−
O−,−S−,−C−,−C=C−,−C−C−,−N
−C−,−N=C−,−O−C−,−S−C−等の原子
団が、可能な場合はさらに水素原子もしくは置換基を有
している場合である。In the formula (E), Z 12 is preferably an atomic group capable of forming a 5- or 6-membered cyclic structure, and specific examples thereof include a nitrogen atom, a carbon atom, a sulfur atom and an oxygen atom. The selected atomic group, for example, -N-,-
O-, -S-, -C-, -C = C-, -CC-, -N
The atomic groups such as -C-, -N = C-, -OC-, -S-C- and the like have a hydrogen atom or a substituent when possible.
【0104】Z12がこれ自体、芳香族もしくは非芳香族
の炭素環、あるいは芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環
の一部となって、−Y12−C(=CH−X12)−C(Y13)
=N−と共に形成する5員〜7員の環構造に対して縮環
構造を形成する場合もまた好ましい。この場合の芳香族
もしくは非芳香族の炭素環、あるいは芳香族もしくは非
芳香族のヘテロ環の例としては、例えばベンゼン環、ナ
フタレン環、ピロール環、ピリジン環、シクロヘキサン
環、ピペリジン環、ピラゾリジン環、ピロリジン環、
1,2−ピペラジン環、1,4−ピペラジン環、オキサ
ン環、オキソラン環、チアン環、チオラン環等が挙げら
れるが、ベンゼン環がより好ましい。Z 12 itself forms part of an aromatic or non-aromatic carbocyclic ring or an aromatic or non-aromatic heterocyclic ring, and forms —Y 12 —C (= CH—X 12 ) —C (Y 13 )
It is also preferable to form a condensed ring structure with respect to a 5- to 7-membered ring structure formed together with = N-. Examples of the aromatic or non-aromatic carbon ring in this case, or an aromatic or non-aromatic hetero ring, for example, benzene ring, naphthalene ring, pyrrole ring, pyridine ring, cyclohexane ring, piperidine ring, pyrazolidine ring, A pyrrolidine ring,
Examples thereof include a 1,2-piperazine ring, a 1,4-piperazine ring, an oxane ring, an oxolane ring, a thiane ring, and a thiolane ring, and a benzene ring is more preferable.
【0105】式(E)においてZ12はより好ましくは−
N−,−O−,−S−,−C−,−C=C−等の原子団
が、可能な場合はさらに水素原子もしくは置換基を有し
ている場合であり、特に好ましくは−N−,−O−等の
原子団が、可能な場合はさらに水素原子もしくは置換基
を有している場合である。In the formula (E), Z 12 is more preferably-
An atomic group such as N-, -O-, -S-, -C-, -C = C- has a hydrogen atom or a substituent when possible, and particularly preferably -N. When possible, the atomic group such as-, -O- has a hydrogen atom or a substituent.
【0106】式(E)においてY13で表される置換基の
例としては、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シ
アノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、(ア
ルキル、アリール、もしくはヘテロ環)アミノ基、アシ
ルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレ
イド基、イミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
(アルキル、アリール、もしくはヘテロ環)チオ基等が
挙げられ、これら置換基は任意の置換基で置換されてい
てもよい。Examples of the substituent represented by Y 13 in the formula (E) include an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, and an amino group. Group, (alkyl, aryl or heterocycle) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, imide group, alkoxy group, aryloxy group,
(Alkyl, aryl, or heterocycle) thio group and the like, and these substituents may be substituted with any substituent.
【0107】式(E)においてY13は好ましくは水素原
子、アルキル基、アリール基(特にフェニル基、ナフチ
ル基)、ヘテロ環基、シアノ基、アシル基、アルコキシ
カルボニル基、カルバモイル基、(アルキル、アリー
ル、もしくはヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、ス
ルホンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、または(アルキル、アリール、
もしくはヘテロ環)チオ基等であり、さらに好ましくは
アルキル基、フェニル基、アミノ基、アニリノ基、アシ
ルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルバ
モイル基で、これらの基の、総炭素数は1〜30が好ま
しく、さらには1〜21が好ましい。In the formula (E), Y 13 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group (particularly a phenyl group or a naphthyl group), a heterocyclic group, a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an (alkyl, (Aryl or heterocycle) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, imide group, alkoxy group, aryloxy group, or (alkyl, aryl,
Or heterocycle) thio group, and more preferably an alkyl group, a phenyl group, an amino group, an anilino group, an acylamino group, an alkoxy group, an aryloxy group, or a carbamoyl group. 30 is preferable, and 1 to 21 is more preferable.
【0108】式(D)または式(E)においてX11およ
びX12がヘテロ環基を表す時、窒素原子で連結する含窒
素ヘテロ環基で、芳香族または非芳香族の、飽和もしく
は不飽和の、単環もしくは縮合環の、置換もしくは無置
換の含窒素ヘテロ環基で、例えばN−メチルヒダントイ
ル基、スクシンイミド基、フタルイミド基、N,N’−
ジメチルウラゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾトリア
ゾリル基、インダゾリル基、モルホリノ基、4,4−ジ
メチル−2,5−ジオキソ−オキサゾリル基等が挙げら
れる。When X 11 and X 12 in formula (D) or (E) represent a heterocyclic group, they are nitrogen-containing heterocyclic groups linked by a nitrogen atom, and are aromatic or non-aromatic, saturated or unsaturated. A monocyclic or condensed, substituted or unsubstituted nitrogen-containing heterocyclic group such as N-methylhydantoyl, succinimide, phthalimido, N, N′-
Examples include a dimethylurazolyl group, an imidazolyl group, a benzotriazolyl group, an indazolyl group, a morpholino group, and a 4,4-dimethyl-2,5-dioxo-oxazolyl group.
【0109】X11およびX12がヒドロキシ基(もしくは
その塩)、メルカプト基(もしくはその塩)を表す時、こ
こで塩とはアルカリ金属(ナトリウム、カリウム、リチ
ウム)もしくはアルカリ土類金属(マグネシウム、カル
シウム)の塩、銀塩、亜鉛塩あるいはまた4級アンモニ
ウム塩(テトラエチルアンモニウム塩、ジメチルセチル
ベンジルアンモニウム塩等)、4級ホスホニウム塩等を
表す。When X 11 and X 12 represent a hydroxy group (or a salt thereof) or a mercapto group (or a salt thereof), the salt means an alkali metal (sodium, potassium, lithium) or an alkaline earth metal (magnesium, And quaternary ammonium salts (tetraethylammonium salt, dimethylcetylbenzylammonium salt, etc.) and quaternary phosphonium salts.
【0110】式(D)または式(E)においてX11およ
びX12は、好ましくはヒドロキシ基(もしくはその塩)、
アルコキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルアミノ基、メ
ルカプト基(もしくはその塩)、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、スルホンアミド基、またはヘテロ環基であり、さら
に好ましくはヒドロキシ基(もしくはその塩)、アルコキ
シ基、メルカプト基(もしくはその塩)、アルキルチオ
基、またはヘテロ環基であり、特に好ましくはヒドロキ
シ基(もしくはその塩)、メルカプト基(もしくはその
塩)、アルコキシ基、またはヘテロ環基であり、最も好
ましくはヒドロキシ基(もしくはその塩)、またはアルコ
キシ基である。X11およびX12がアルコキシ基を表す
時、その総炭素数は1〜20が好ましく、さらに1〜1
2が好ましく、特に好ましくは1〜5である。X11およ
びX12がヘテロ環基を表す時、その総炭素数は2〜20
が好ましく、さらに2〜16が好ましい。In the formula (D) or the formula (E), X 11 and X 12 are preferably a hydroxy group (or a salt thereof),
An alkoxy group, a heterocyclic oxy group, an acylamino group, a mercapto group (or a salt thereof), an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, an alkylamino group, a sulfonamide group, or a heterocyclic group, more preferably Is a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group, a mercapto group (or a salt thereof), an alkylthio group, or a heterocyclic group, particularly preferably a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), and an alkoxy group. Or a heterocyclic group, most preferably a hydroxy group (or a salt thereof), or an alkoxy group. When X 11 and X 12 represent an alkoxy group, the total carbon number is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 1
2 is preferable, and particularly preferably 1 to 5. When X 11 and X 12 represent a heterocyclic group, the total number of carbon atoms is 2 to 20.
Is preferable, and 2-16 are more preferable.
【0111】式(D)および式(E)においてY11およ
びY1 2は、−C(=O)−基または−SO2−基を表す
が、好ましくは−C(=O)−基である。In the formulas (D) and (E), Y 11 and Y 12 represent a —C (= O) — group or a —SO 2 — group, preferably a —C (= O) — group. is there.
【0112】式(D)で表される化合物はその総炭素数が
6以上であることが好ましく、また式(E)で表される
化合物はその総炭素数が12以上であることが好まし
い。総炭素数の上限には特に制約はないが、式(D)で
表される化合物は40以下が好ましく、32以下がさら
に好ましい。式(E)で表される化合物は40以下が好
ましく、32以下がさらに好ましい。The compound represented by the formula (D) preferably has a total carbon number of 6 or more, and the compound represented by the formula (E) preferably has a total carbon number of 12 or more. The upper limit of the total carbon number is not particularly limited, but the compound represented by the formula (D) is preferably 40 or less, more preferably 32 or less. The compound represented by the formula (E) is preferably at most 40, more preferably at most 32.
【0113】式(D)においてZ11は、その置換基を含
めて総炭素数2以上であることが好ましく、さらに3以
上であることがより好ましい。式(E)においてZ
12は、その置換基を含めて、これとY13との総炭素数の
和が7以上であることが好ましい。式(D)においてZ
11は、その置換基を含めて、総炭素数3以上で40以下
であることがさらに好ましく、6以上で30以下である
ことが特に好ましい。式(E)においてZ12は、その置
換基を含めて、これとY1 3との総炭素数の和が7以上
で40以下であることがさらに好ましく、さらには7以
上で30以下であることが特に好ましい。In the formula (D), Z 11 , including its substituents, preferably has at least 2 carbon atoms, and more preferably at least 3 carbon atoms. In the formula (E), Z
In the case of 12 , it is preferable that the sum of the total number of carbon atoms of this and Y 13 including its substituents is 7 or more. In the formula (D), Z
11 has a total carbon number of 3 or more and 40 or less including its substituents, and particularly preferably 6 or more and 30 or less. In formula (E), Z 12 , including its substituents, preferably has a sum of the total number of carbon atoms of Y 13 with Y 13 of 7 or more and 40 or less, and more preferably 7 or more and 30 or less. Is particularly preferred.
【0114】式(D)および式(E)で表される化合物
は、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が組み込
まれていてもよい。カプラ−等の不動性写真用添加剤に
おいて常用されているバラスト基またはポリマ−が組み
込まれているものでもよく、またカチオン性基(具体的
には、4級のアンモニオ基を含む基、または4級化され
た窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基等)、エチレンオキ
シ基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む
基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、
あるいは塩基により解離しうる解離性基(カルボキシ
基、スルホ基、アシルスルファモイル基、カルバモイル
スルファモイル基等)が含まれていてもよい。特に吸着
性の基、バラスト基、エチレンオキシ基もしくはプロピ
レンオキシ基の繰り返し単位を含む基、あるいは(アル
キル,アリール,またはヘテロ環)チオ基が含まれてい
るものは、本発明の好ましい例の1つである。これらの
基の例としては、例えば特開昭63−29751号、米
国特許第4,385,108号、同4,459,347
号、特開昭59−195233号、同59−20023
1号、同59−201045号、同59−201046
号、同59−201047号、同59−201048
号、同59−201049号、特開昭61−17073
3号、同61−270744号、同62−948号、同
63−234244号、同63−234245号、同6
3−234246号、特開平2−285344号、特開
平1−100530号、特開平7−234471号、特
開平5−333466号、特開平6−19032号、特
開平6−19031号、特開平5−45761号、米国
特許4994365号、米国特許4988604号、特
開平3−259240号、特開平7−5610号、特開
平7−244348号、独国特許4006032号等に
記載の化合物が挙げられる。The compounds represented by the formulas (D) and (E) may have incorporated therein an adsorptive group that adsorbs to silver halide. Ballast groups or polymers commonly used in immobile photographic additives such as couplers may be incorporated, and cationic groups (specifically, groups containing a quaternary ammonium group, or A nitrogen-containing heterocyclic group containing a graded nitrogen atom), a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group, an (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group,
Alternatively, it may contain a dissociable group (such as a carboxy group, a sulfo group, an acylsulfamoyl group, or a carbamoylsulfamoyl group) that can be dissociated by a base. Particularly, a group containing an adsorptive group, a ballast group, a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group, or a group containing an (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group is one of preferred examples of the present invention. One. Examples of these groups include, for example, JP-A-63-29751, U.S. Pat. Nos. 4,385,108 and 4,459,347.
And JP-A-59-195233 and JP-A-59-20023.
No. 1, No. 59-201045, No. 59-201046
Nos. 59-201047 and 59-201048
No. 59-201049, JP-A-61-17073.
Nos. 3, 61-270744, 62-948, 63-234244, 63-234245, and 6
JP-A-3-234246, JP-A-2-285344, JP-A-1-100530, JP-A-7-234471, JP-A-5-333466, JP-A-6-19032, JP-A-6-19031, JP-A-5 No. 4,576,361, U.S. Pat. No. 4,994,365, U.S. Pat. No. 4,988,604, JP-A-3-259240, JP-A-7-5610, JP-A-7-244348, and German Patent 4006032.
【0115】次に式(D)および式(E)で表される化
合物の具体例を以下に示す。ただし、本発明は以下の化
合物に限定されるものではない。Next, specific examples of the compounds represented by the formulas (D) and (E) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
【0116】[0116]
【表4】 [Table 4]
【0117】[0117]
【表5】 [Table 5]
【0118】本発明の式(A)〜式(E)で表される化
合物は、公知の方法により容易に合成することができ
る。例えば、米国特許5545515号、米国特許56
35339号、米国特許5654130号、国際特許W
O−97/34196号、あるいは特願平9−3541
07号、特願平9−309813号、特願平9−272
002号に記載の方法を参考に合成することができる。The compounds represented by the formulas (A) to (E) of the present invention can be easily synthesized by known methods. For example, US Pat. No. 5,545,515, US Pat.
No. 35339, US Pat. No. 5,654,130, International Patent W
O-97 / 34196 or Japanese Patent Application No. 9-3541
07, Japanese Patent Application No. 9-309813, Japanese Patent Application No. 9-272
The compound can be synthesized with reference to the method described in No. 002.
【0119】本発明の式(A)〜式(E)で表される化
合物は、水または適当な有機溶媒、例えばアルコール類
(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化ア
ルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケト
ン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
メチルセルソルブなどに溶解して用いることができる。The compounds represented by the formulas (A) to (E) of the present invention can be prepared from water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol) and ketones (acetone, methyl ethyl ketone). ), Dimethylformamide, dimethylsulfoxide,
It can be used by dissolving it in methylcellosolve or the like.
【0120】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、上記化合物の粉末を水等の
適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、あるいは超
音波によって分散し用いることができる。Further, by a well-known emulsification and dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone is used for dissolution and mechanical dissolution. An emulsified dispersion can be prepared and used. Alternatively, the powder of the above compound can be dispersed in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method and used.
【0121】本発明の式(A)〜式(E)で表される化
合物は、支持体に対して画像形成層側の層、即ち画像形
成層あるいは他のどの層に添加してもよいが、画像形成
層あるいはそれに隣接する層に添加することが好まし
い。The compounds represented by the formulas (A) to (E) of the present invention may be added to the layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, to the image forming layer or any other layer. Is preferably added to the image forming layer or a layer adjacent thereto.
【0122】本発明の式(A)〜式(E)で表される化
合物の添加量は、銀1モルに対し1×10-6〜1モルが
好ましく、1×10-5〜5×10-1モルがより好まし
く、2×10-5〜2×10-1モルが最も好ましい。本発
明の式(A)〜式(E)で表される化合物は、1種のみ用い
ても、2種以上を併用しても良い。The addition amount of the compounds represented by the formulas (A) to (E) of the present invention is preferably 1 × 10 −6 to 1 mol per 1 mol of silver, and 1 × 10 −5 to 5 × 10 -1 mol is more preferred, and 2 × 10 -5 to 2 × 10 -1 mol is most preferred. The compounds represented by the formulas (A) to (E) of the present invention may be used alone or in combination of two or more.
【0123】本発明では、硬調化促進剤として下記式
(H)で表されるヒドラジン誘導体が好ましく用いられ
る。In the present invention, a hydrazine derivative represented by the following formula (H) is preferably used as a high contrast promoting agent.
【0124】[0124]
【化36】 Embedded image
【0125】式中、R12は脂肪族基、芳香族基、または
ヘテロ環基を表し、R11は水素原子またはブロック基を
表し、G1は−CO−,−COCO−,−C(=S)
−,−SO2−,−SO−,−PO(R13)−基(R13は
R11に定義した基と同じ範囲内より選ばれ、R11と異な
っていてもよい。),またはイミノメチレン基を表す。
A11、A12はともに水素原子、あるいは一方が水素原子
で他方が置換もしくは無置換の、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、またはアシル基を表す。m
1は0または1であり、m1が0の時、R11は脂肪族基、
芳香族基、またはヘテロ環基を表す。In the formula, R 12 represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group, R 11 represents a hydrogen atom or a block group, and G 1 represents —CO—, —COCO—, —C (= S)
-, - SO 2 -, - SO -, - PO (R 13) - group (. R 13 is selected from the same range as the groups defined in R 11, may be different from R 11), or imino Represents a methylene group.
A 11 and A 12 each represent a hydrogen atom, or an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, or an acyl group, one of which is a hydrogen atom and the other is substituted or unsubstituted. m
1 is 0 or 1, and when m 1 is 0, R 11 is an aliphatic group,
Represents an aromatic group or a heterocyclic group.
【0126】次に下記式(H)によって表わされるヒドラ
ジン誘導体について説明する。式(H)においてR12で
表わされる脂肪族基とは、好ましくは炭素数1〜30の
置換もしくは無置換の、直鎖、分岐または環状のアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基である。Next, the hydrazine derivative represented by the following formula (H) will be described. The aliphatic group represented by R 12 in the formula (H) is preferably a substituted or unsubstituted, linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group, or alkynyl group having 1 to 30 carbon atoms.
【0127】R12で表わされる芳香族基とは単環もしく
は縮合環のアリール基で、例えばベンゼン環、ナフタレ
ン環から誘導されるフェニル基、ナフチル基が挙げられ
る。R12で表わされるヘテロ環基とは、単環または縮合
環の、飽和もしくは不飽和の、芳香族または非芳香族の
ヘテロ環基で、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、イ
ミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、イソキノリ
ン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチ
アゾール環、チオフェン環、トリアジン環、モルホリン
環、ピペリジン環、ピペラジン環、ベンゾ[1,3]ジ
オキソール環等が挙げられる。R12は任意の置換基で置
換されていてもよい。The aromatic group represented by R 12 is a monocyclic or condensed-ring aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group derived from a benzene ring or a naphthalene ring. The heterocyclic group represented by R 12 is a monocyclic or condensed, saturated or unsaturated, aromatic or non-aromatic heterocyclic group, for example, a pyridine ring, a pyrimidine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, Examples include a quinoline ring, an isoquinoline ring, a benzimidazole ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, a thiophene ring, a triazine ring, a morpholine ring, a piperidine ring, a piperazine ring, and a benzo [1,3] dioxole ring. R 12 may be substituted with any substituent.
【0128】R12として好ましいものはアリール基、ア
ルキル基、または芳香族ヘテロ環基であり、さらに好ま
しくは、置換もしくは無置換のフェニル基、炭素数1〜
3の置換アルキル基、または芳香族ヘテロ環基である。R 12 is preferably an aryl group, an alkyl group or an aromatic heterocyclic group, more preferably a substituted or unsubstituted phenyl group, having 1 to 1 carbon atoms.
3 substituted alkyl groups or aromatic heterocyclic groups.
【0129】R12が炭素数1〜3の置換アルキル基を表
す時、R12はより好ましくは置換メチル基であり、さら
には二置換メチル基もしくは三置換メチル基が好まし
い。R 12が置換メチル基を表す時、好ましい具体例とし
ては、t−ブチル基、ジシアノメチル基、ジシアノフェ
ニルメチル基、トリフェニルメチル基(トリチル基)、ジ
フェニルメチル基、メトキシカルボニルジフェニルメチ
ル基、シアノジフェニルメチル基、メチルチオジフェニ
ルメチル基、シクロプロピルジフェニルメチル基などが
挙げられるが、中でもトリチル基が最も好ましい。R12Represents a substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
Then R12Is more preferably a substituted methyl group,
Is preferably a disubstituted or trisubstituted methyl group
No. R 12Is a preferred specific example when represents a substituted methyl group.
T-butyl group, dicyanomethyl group, dicyanofe
Nylmethyl group, triphenylmethyl group (trityl group),
Phenylmethyl group, methoxycarbonyldiphenylmethyl
Group, cyanodiphenylmethyl group, methylthiodiphenyl
Methyl group, cyclopropyldiphenylmethyl group, etc.
Among them, a trityl group is most preferable.
【0130】R12が芳香族ヘテロ環基を表す時、好まし
いヘテロ環としてピリジン環、キノリン環、ピリミジン
環、トリアジン環、ベンゾチアゾ−ル環、ベンズイミダ
ゾ−ル環、チオフェン環等が挙げられる。When R 12 represents an aromatic heterocyclic group, preferred hetero rings include a pyridine ring, a quinoline ring, a pyrimidine ring, a triazine ring, a benzothiazole ring, a benzimidazole ring, a thiophene ring and the like.
【0131】式(H)においてR12は、最も好ましくは置
換もしくは無置換のフェニル基である。In the formula (H), R 12 is most preferably a substituted or unsubstituted phenyl group.
【0132】式(H)においてR11は水素原子またはブ
ロック基を表すが、ブロック基とは具体的に脂肪族基
(具体的にはアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基)、芳香族基(単環もしくは縮合環のアリール基)、
ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、置換も
しくは無置換のアミノ基またはヒドラジノ基を表す。In the formula (H), R 11 represents a hydrogen atom or a block group, and the block group is specifically an aliphatic group (specifically, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group) or an aromatic group (a single group). Ring or fused ring aryl group),
Represents a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a substituted or unsubstituted amino group or a hydrazino group.
【0133】R11として好ましくは、アルキル基(炭素
数1〜10の置換もしくは無置換のアルキル基で、例え
ばメチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、ジフル
オロメチル基,2−カルボキシテトラフルオロエチル
基,ピリジニオメチル基、ジフルオロメトキシメチル
基、ジフルオロカルボキシメチル基、ヒドロキシメチル
基、メタンスルホンアミドメチル基、ベンゼンスルホン
アミドメチル基、トリフルオロスルホンアミドメチル
基、トリフルオロアセチルメチル基、ジメチルアミノメ
チル基、フェニルスルホニルメチル基、o−ヒドロキシ
ベンジル基、メトキシメチル基、フェノキシメチル基、
4−エチルフェノキシメチル基、フェニルチオメチル
基、t−ブチル基、ジシアノメチル基、ジフェニルメチ
ル基、トリフェニルメチル基、メトキシカルボニルジフ
ェニルメチル基、シアノジフェニルメチル基、メチルチ
オジフェニルメチル基等)、アルケニル基(炭素数1〜
10のアルケニル基で、例えばビニル基、2−エトキシ
カルボニルビニル基、2−トリフルオロ−2−メトキシ
カルボニルビニル基、2,2−ジシアノビニル基、2−
シアノ−2−メトキシカルボニルビニル基、2−シアノ
−2−エトキシカルボニルビニル基、2−アセチル−2
−エトキシカルボニルビニル基等)、アリール基(単環
もしくは縮合環のアリール基で、ベンゼン環を含むもの
が特に好ましく、例えばフェニル基、パ−フルオロフェ
ニル基、3,5−ジクロロフェニル基、2−メタンスル
ホンアミドフェニル基、2−カルバモイルフェニル基、
4,5−ジシアノフェニル基、2−ヒドロキシメチルフ
ェニル基、2,6−ジクロロ−4−シアノフェニル基、
2−クロロ−5−オクチルスルファモイルフェニル
基)、ヘテロ環基(少なくとも1つの窒素、酸素、およ
び硫黄原子を含む5〜6員の、飽和もしくは不飽和の、
単環もしくは縮合環のヘテロ環基で、例えばモルホリノ
基、ピペリジノ基(N−置換)、イミダゾリル基、インダ
ゾリル基(4−ニトロインダゾリル基)、ピラゾリル
基、トリアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、テトラゾ
リル基、ピリジル基、ピリジニオ基、キノリニオ基、キ
ノリル基、ヒダントイル基、イミダゾリジニル基等)、
アルコキシ基(炭素数1〜8のアルコキシ基が好まし
く、例えばメトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、ベ
ンジルオキシ基、t−ブトキシ基等)、アミノ基(無置
換アミノ基、および炭素数1〜10のアルキルアミノ
基、アリールアミノ基、または飽和もしくは不飽和のヘ
テロ環アミノ基(4級化された窒素原子を含む含窒素ヘ
テロ環アミノ基を含む)が好ましく、例えば2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−4−イルアミノ基、
プロピルアミノ基、2−ヒドロキシエチルアミノ基、3
−ヒドロキシプロピルアミノ基、アニリノ基,o−ヒド
ロキシアニリノ基、5−ベンゾトリアゾリルアミノ基、
N−ベンジル−3−ピリジニオアミノ基等)である。R
11で表される基は任意の置換基で置換されていてもよ
い。R 11 is preferably an alkyl group (a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a 2-carboxytetrafluoroethyl group). , Pyridiniomethyl, difluoromethoxymethyl, difluorocarboxymethyl, hydroxymethyl, methanesulfonamidomethyl, benzenesulfonamidomethyl, trifluorosulfonamidomethyl, trifluoroacetylmethyl, dimethylaminomethyl, phenylsulfonyl Methyl group, o-hydroxybenzyl group, methoxymethyl group, phenoxymethyl group,
4-ethylphenoxymethyl group, phenylthiomethyl group, t-butyl group, dicyanomethyl group, diphenylmethyl group, triphenylmethyl group, methoxycarbonyldiphenylmethyl group, cyanodiphenylmethyl group, methylthiodiphenylmethyl group, etc.), alkenyl group (C 1-
10 alkenyl groups such as vinyl, 2-ethoxycarbonylvinyl, 2-trifluoro-2-methoxycarbonylvinyl, 2,2-dicyanovinyl, 2-
Cyano-2-methoxycarbonylvinyl group, 2-cyano-2-ethoxycarbonylvinyl group, 2-acetyl-2
-Ethoxycarbonylvinyl group, etc.) and aryl groups (monocyclic or condensed-ring aryl groups containing a benzene ring are particularly preferred; for example, phenyl, perfluorophenyl, 3,5-dichlorophenyl, 2-methane) Sulfonamidophenyl group, 2-carbamoylphenyl group,
4,5-dicyanophenyl group, 2-hydroxymethylphenyl group, 2,6-dichloro-4-cyanophenyl group,
2-chloro-5-octylsulfamoylphenyl group), heterocyclic group (5-6 membered saturated or unsaturated, containing at least one nitrogen, oxygen and sulfur atom)
Monocyclic or condensed ring heterocyclic groups such as morpholino, piperidino (N-substituted), imidazolyl, indazolyl (4-nitroindazolyl), pyrazolyl, triazolyl, benzimidazolyl, tetrazolyl, Pyridyl group, pyridinio group, quinolinio group, quinolyl group, hydantoyl group, imidazolidinyl group, etc.),
An alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, for example, a methoxy group, a 2-hydroxyethoxy group, a benzyloxy group, a t-butoxy group, etc.), an amino group (an unsubstituted amino group, and a 1 to 10 carbon atoms) Preferred are an alkylamino group, an arylamino group, or a saturated or unsaturated heterocyclic amino group (including a nitrogen-containing heterocyclic amino group containing a quaternized nitrogen atom), for example, 2,2,2.
6,6-tetramethylpiperidin-4-ylamino group,
Propylamino group, 2-hydroxyethylamino group, 3
-Hydroxypropylamino group, anilino group, o-hydroxyanilino group, 5-benzotriazolylamino group,
N-benzyl-3-pyridinioamino group and the like). R
The group represented by 11 may be substituted with any substituent.
【0134】R11で表わされる基のうち好ましいもの
は、R12がフェニル基ないしは芳香族ヘテロ環基を表
し、かつG1が−CO−基の場合には、水素原子、アル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ま
たはヘテロ環基であり、さらに好ましくは水素原子、ア
ルキル基、アリール基であり、最も好ましくは水素原子
またはアルキル基である。ここでR11がアルキル基を表
す時、その置換基としてはハロゲン原子、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、ヒドロキシ基、スルホンアミド基、アミノ基、アシ
ルアミノ基、カルボキシ基が特に好ましい。Among the groups represented by R 11 , preferred are a hydrogen atom, an alkyl group and an alkenyl group when R 12 represents a phenyl group or an aromatic heterocyclic group and G 1 is a —CO— group. , An alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and most preferably a hydrogen atom or an alkyl group. Here, when R 11 represents an alkyl group, the substituent is preferably a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a hydroxy group, a sulfonamide group, an amino group, an acylamino group, or a carboxy group. .
【0135】R12が置換メチル基を表し、かつG1が−
CO−基の場合には、R11は好ましくは水素原子、アル
キル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミ
ノ基(無置換アミノ基、アルキルアミノ基、アリールア
ミノ基、ヘテロ環アミノ基)であり、さらに好ましくは
水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アル
コキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテ
ロ環アミノ基である。G 1が−COCO−基の場合に
は、R12に関わらず、R11はアルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミノ基が好ましく、特に置換アミノ基、詳し
くはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、または飽和
もしくは不飽和のヘテロ環アミノ基が好ましい。R12Represents a substituted methyl group, and G1But-
In the case of a CO- group, R11Is preferably a hydrogen atom,
Kill group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group,
Group (unsubstituted amino group, alkylamino group, aryl group
Amino group, heterocyclic amino group), more preferably
Hydrogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, al
Coxy group, alkylamino group, arylamino group, hete
It is a ro-ring amino group. G 1Is a -COCO- group
Is R12Regardless of R11Is an alkoxy group, arylo
Xyl groups and amino groups are preferred, particularly substituted amino groups.
Or alkylamino, arylamino, or saturated
Alternatively, an unsaturated heterocyclic amino group is preferable.
【0136】またG1が−SO2−基の場合には、R12に
関わらず、R11はアルキル基、アリール基または置換ア
ミノ基が好ましい。When G 1 is a —SO 2 — group, R 11 is preferably an alkyl group, an aryl group or a substituted amino group, regardless of R 12 .
【0137】式(H)においてG1は好ましくは−CO
−基または−COCO−基であり、特に好ましくは−C
O−基である。In the formula (H), G 1 is preferably -CO
Or a -COCO- group, particularly preferably -C
O-group.
【0138】式(H)においてA11、A12は水素原子、
炭素数20以下のアルキルまたはアリールスルホニル基
(好ましくはフェニルスルホニル基、またはハメットの
置換基定数の和が−0.5以上となるように置換された
フェニルスルホニル基)、炭素数20以下のアシル基
(好ましくはベンゾイル基、またはハメットの置換基定
数の和が−0.5以上となるように置換されたベンゾイ
ル基、あるいは直鎖、分岐、もしくは環状の置換または
無置換の脂肪族アシル基)である。A11、A12としては
水素原子が最も好ましい。In the formula (H), A 11 and A 12 represent a hydrogen atom,
An alkyl or arylsulfonyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a phenylsulfonyl group or a phenylsulfonyl group substituted so that the sum of Hammett's substituent constants becomes -0.5 or more), an acyl group having 20 or less carbon atoms (Preferably a benzoyl group, or a benzoyl group substituted so that the sum of Hammett's substituent constants becomes -0.5 or more, or a linear, branched, or cyclic substituted or unsubstituted aliphatic acyl group) is there. A 11 and A 12 are most preferably hydrogen atoms.
【0139】式(H)においてm1は1または0を表す
が、m1が0の時、R11は脂肪族基、芳香族基、または
ヘテロ環基を表す。m1が0の時、R11は特に好ましく
はフェニル基、炭素数1〜3の置換アルキル基、または
アルケニル基であり、これらのうちフェニル基および炭
素数1〜3の置換アルキル基については、その好ましい
範囲は先に説明したR12の好ましい範囲と同じである。
R11がアルケニル基の時、好ましくはR11はビニル基で
あり、以下の置換基、即ち、シアノ基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、ニトロ基、トリフルオロメチル
基、カルバモイル基等から選ばれる置換基を、1つない
しは2つ有するビニル基が特に好ましい。具体的には、
2,2−ジシアノビニル基、2−シアノ−2−メトキシ
カルボニルビニル基、2−シアノー2−エトキシカルボ
ニルビニル基、2−アセチル−2−エトキシカルボニル
ビニル基等が挙げられる。m1は好ましくは1である。In the formula (H), m 1 represents 1 or 0. When m 1 is 0, R 11 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. When m 1 is 0, R 11 is particularly preferably a phenyl group, a substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or an alkenyl group. Of these, for the phenyl group and the substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, its preferred range is the same as the preferable ranges of R 12 described above.
When R 11 is an alkenyl group, preferably R 11 is a vinyl group, and is a substituent selected from the following substituents: a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a carbamoyl group and the like. Vinyl groups having one or two groups are particularly preferred. In particular,
Examples thereof include a 2,2-dicyanovinyl group, a 2-cyano-2-methoxycarbonylvinyl group, a 2-cyano-2-ethoxycarbonylvinyl group, and a 2-acetyl-2-ethoxycarbonylvinyl group. m 1 is preferably 1.
【0140】式(H)においてR11はG1−R11の部分
を残余分子から分裂させ、−G1−R 11部分の原子を含
む環式構造を生成させる環化反応を生起するようなもの
であってもよく、また式(H)で表されるヒドラジン誘
導体には、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が
組み込まれていてもよい。式(H)のR11またはR12に
はその中に、カプラ−等の不動性写真用添加剤において
常用されているバラスト基またはポリマ−が組み込まれ
ているものでもよく、また式(H)のR11またはR
12は、置換基としてヒドラジノ基を複数個含んでいても
よく、この時式(H)で表される化合物は、ヒドラジノ
基に関しての多量体を表す。さらに式(H)のR11また
はR12は、その中にカチオン性基(具体的には、4級の
アンモニオ基を含む基、または4級化された窒素原子を
含む含窒素ヘテロ環基等)、エチレンオキシ基もしくは
プロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、(アルキ
ル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、あるいは塩基
により解離しうる解離性基(カルボキシ基、スルホ基、
アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモイル
基等)が含まれていてもよい。これらの例としては、例
えば特開昭63−29751号、米国特許第4,38
5,108号、同4,459,347号、特開昭59−
195233号、同59−200231号、同59−2
01045号、同59−201046号、同59−20
1047号、同59−201048号、同59−201
049号、特開昭61−170733号、同61−27
0744号、同62−948号、同63−234244
号、同63−234245号、同63−234246
号、特開平2−285344号、特開平1−10053
0号、特開昭64−86134号、特開平4−16938号、特開平5
−197091号、WO95−32452号、WO95−32
453号、特開平9-235264号、特開平9-235265号、特開
平9-235266号、特開平9-235267号、特開平9-179229号、
特開平7−234471号、特開平5−333466
号、特開平6−19032号、特開平6−19031
号、特開平5−45761号、米国特許4994365
号、米国特許4988604号、特開平3−25924
0号、特開平7−5610号、特開平7−244348
号、独国特許4006032号等に記載の化合物が挙げ
られる。In the formula (H), R11Is G1-R11Part of
From the residual molecule, and -G1-R 11Including partial atoms
That cause a cyclization reaction that produces a cyclic structure
And a hydrazine derivative represented by the formula (H).
The conductor has an adsorptive group that adsorbs to silver halide.
It may be incorporated. R of formula (H)11Or R12To
Is used in immobile photographic additives such as couplers.
Incorporates commonly used ballast groups or polymers
And R in formula (H)11Or R
12May have a plurality of hydrazino groups as substituents.
Often, the compound represented by the formula (H) is hydrazino
Represents a multimer for the group. Further, R of the formula (H)11Also
Is R12Has a cationic group (specifically, a quaternary
A group containing an ammonium group or a quaternized nitrogen atom
Including nitrogen-containing heterocyclic group), ethyleneoxy group or
Groups containing repeating units of a propyleneoxy group, (alkyl
, Aryl, or heterocycle) thio group or base
Dissociable groups (carboxy group, sulfo group,
Acylsulfamoyl group, carbamoylsulfamoyl
And the like) may be contained. These examples include
For example, JP-A-63-29751, U.S. Pat.
Nos. 5,108 and 4,459,347;
Nos. 195233, 59-200231 and 59-2
No. 01045, No. 59-201046, No. 59-20
No. 1047, No. 59-201048, No. 59-201
No. 049, JP-A-61-170733 and 61-27.
Nos. 0744, 62-948 and 63-234244
No. 63-234245, No. 63-234246
JP-A-2-285344, JP-A-1-005305
No. 0, JP-A-64-86134, JP-A-4-16938, JP-A-5
-199701, WO95-32452, WO95-32
No. 453, JP-A-9-235264, JP-A-9-235265, JP
Hei 9-235266, JP Hei 9-235267, JP Hei 9-179229,
JP-A-7-234471, JP-A-5-333466
JP-A-6-19032, JP-A-6-19031
JP-A-5-45761, U.S. Pat. No. 4,994,365.
No. 4,988,604, JP-A-3-25924.
No. 0, JP-A-7-5610, JP-A-7-244348
And compounds described in German Patent 4006032 and the like.
Can be
【0141】次に式(H)で示される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物に限定され
るものではない。Next, specific examples of the compound represented by the formula (H) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
【0142】[0142]
【表6】 [Table 6]
【0143】[0143]
【表7】 [Table 7]
【0144】[0144]
【表8】 [Table 8]
【0145】[0145]
【表9】 [Table 9]
【0146】本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、
1種のみ用いても、2種以上を併用しても良い。また上
記のものの他に、下記のヒドラジン誘導体も好ましく用
いられる。(場合によっては組み合わせて用いることも
できる。)本発明に用いられるヒドラジン誘導体はま
た、下記の特許に記載された種々の方法により、合成す
ることができる。The hydrazine derivative used in the present invention is
One type may be used alone, or two or more types may be used in combination. In addition to the above, the following hydrazine derivatives are also preferably used. (In some cases, they can be used in combination.) The hydrazine derivative used in the present invention can also be synthesized by various methods described in the following patents.
【0147】即ち、特開平10−10672号、特開平
10−161270号、特開平10−62898号、特
開平9−304870号、特開平9−304872号、
特開平9−304871号、特開平10−31282
号、米国特許5496695号、欧州特許741320
A号に記載のすべてのヒドラジン誘導体。That is, JP-A-10-10672, JP-A-10-161270, JP-A-10-62898, JP-A-9-304870, JP-A-9-304872,
JP-A-9-304871, JP-A-10-31282
No. 5,496,695, European Patent 714320
All the hydrazine derivatives described in A.
【0148】本発明のヒドラジン誘導体は、水または適
当な有機溶媒、例えばアルコ−ル類(メタノ−ル、エタ
ノ−ル、プロパノ−ル、フッ素化アルコ−ル)、ケトン
類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなど
に溶解して用いることができる。The hydrazine derivative of the present invention may be prepared from water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), It can be used by dissolving it in dimethylformamide, dimethylsulfoxide, methylcellosolve and the like.
【0149】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレ−ト、トリクレジルフォスフェ
−ト、グリセリルトリアセテ−トあるいはジエチルフタ
レ−トなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、ヒドラジン誘導体の粉末を
水等の適当な溶媒中にボ−ルミル、コロイドミル、ある
いは超音波によって分散し用いることができる。Further, oils such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and co-solvents such as ethyl acetate and cyclohexanone are prepared by a well-known emulsification dispersion method. To dissolve and mechanically produce and use an emulsified dispersion. Alternatively, the hydrazine derivative powder can be dispersed in a suitable solvent such as water using a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method and used.
【0150】本発明のヒドラジン誘導体は、支持体に対
して画像形成層側の層、即ち画像形成層あるいはこの層
側の他のどの層に添加してもよいが、画像形成層あるい
はそれに隣接する層に添加することが好ましい。The hydrazine derivative of the present invention may be added to the layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, to the image forming layer or any other layer on the layer side. Preferably, it is added to the layer.
【0151】本発明のヒドラジン誘導体は銀1モルに対
し1×10-6〜1モルが好ましく、1×10-5〜5×1
0-1モルがより好ましく、2×10-5〜2×10-1モル
が最も好ましい。The hydrazine derivative of the present invention is preferably from 1 × 10 −6 to 1 mol, and more preferably from 1 × 10 −5 to 5 × 1 per mol of silver.
0 -1 mol is more preferred, and 2 × 10 -5 to 2 × 10 -1 mol is most preferred.
【0152】また、本発明は超硬調画像形成のために、
前記ヒドラジン誘導体以外に硬調化促進剤を併用するこ
とができる。例えば、米国特許第5,545,505号に記載の
アミン化合物、具体的にはAM-1〜AM-5、同5,545,50
7号に記載のヒドロキサム酸類、具体的にはHA-1〜H
A-11、同5,558,983号に記載のヒドラジン化合物、具体
的にはCA-1〜CA-6、日本特許特願平8-132836号に記
載のオニュ−ム塩類、具体的にはA-1〜A-42、B-1〜
B-27、C-1〜C-14などを用いることができる。Further, the present invention provides a method for forming a super-high contrast image.
In addition to the hydrazine derivative, a contrast enhancement agent can be used in combination. For example, the amine compounds described in U.S. Patent No. 5,545,505, specifically AM-1 to AM-5,
No. 7 hydroxamic acids, specifically HA-1 to H
A-11, hydrazine compounds described in US Pat. No. 5,558,983, specifically CA-1 to CA-6, onium salts described in Japanese Patent Application No. 8-132836, specifically A-1 to A-42, B-1 ~
B-27, C-1 to C-14 and the like can be used.
【0153】前記の硬調化剤、およびこれらの硬調化促
進剤の合成方法、添加方法、添加量等は、それぞれの前
記引用特許に記載されているように行うことができる。The method for synthesizing, adding, and adding amounts of the above-mentioned high contrast agents and these high contrast accelerators can be carried out as described in each of the cited patents.
【0154】本発明には五酸化二リンが水和してできる
酸またはその塩を硬調化剤(造核剤)と併用して用いる
ことが好ましい。五酸化二リンが水和してできる酸また
はその塩としては、メタリン酸(塩)、ピロリン酸
(塩)、オルトリン酸(塩)、三リン酸(塩)、四リン
酸(塩)、ヘキサメタリン酸(塩)などである。特に好
ましく用いられる五酸化二リンが水和してできる酸また
はその塩としてはオルトリン酸(塩)、ヘキサメタリン
酸(塩)であり、具体的な塩としてはオルトリン酸ナト
リウム、オルトリン酸二水素ナトリウム、ヘキサメタリ
ン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸アンモニウムなどが
ある。In the present invention, it is preferable to use an acid formed by hydration of diphosphorus pentoxide or a salt thereof in combination with a high contrast agent (nucleating agent). Acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include metaphosphoric acid (salt), pyrophosphoric acid (salt), orthophosphoric acid (salt), triphosphoric acid (salt), tetraphosphoric acid (salt), hexametaline Acids (salts); Particularly preferred acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include orthophosphoric acid (salt) and hexametaphosphoric acid (salt). Specific salts include sodium orthophosphate, sodium dihydrogen orthophosphate, Examples include sodium hexametaphosphate and ammonium hexametaphosphate.
【0155】本発明に好ましく用いることができる五酸
化二リンが水和してできる酸またはその塩は、少量で所
望の効果を発現するという点から画像形成層あるいはそ
れに隣接するバインダー層に添加する。The acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide, which can be preferably used in the present invention, is added to the image forming layer or the binder layer adjacent thereto in that the desired effect is exhibited in a small amount. .
【0156】本発明に用いる五酸化二リンが水和してで
きる酸またはその塩の使用量(感光材料1m2当たりの塗
布量)としては感度やカブリなどの性能に合わせて所望
の量でよいが、0.1〜500mg/m2が好ましく、0.5〜100
mg/m2がより好ましい。The amount of the acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide used in the present invention (the coating amount per 1 m 2 of the light-sensitive material) may be a desired amount in accordance with the performance such as sensitivity and fog. However, 0.1 to 500 mg / m 2 is preferable, and 0.5 to 100
mg / m 2 is more preferred.
【0157】本発明の熱現像感光材料には有機銀塩のた
めの還元剤を含む。有機銀塩のための還元剤は、銀イオ
ンを金属銀に還元する任意の物質、好ましくは有機物質
であってよい。フェニドン、ハイドロキノンおよびカテ
コールなどの従来の写真現像剤は有用であるが、ヒンダ
ードフェノール還元剤が好ましい。還元剤は、画像形成
層を有する面の銀1モルに対して5〜50モル%含まれるこ
とが好ましく、10〜40モル%で含まれることがさらに好
ましい。還元剤の添加層は画像形成層を有する面のいか
なる層でも良い。画像形成層以外の層に添加する場合は
銀1モルに対して10〜50モル%と多めに使用することが好
ましい。また、還元剤は現像時のみ有効に機能を持つよ
うに誘導化されたいわゆるプレカーサーであってもよ
い。The photothermographic material of the present invention contains a reducing agent for an organic silver salt. The reducing agent for the organic silver salt may be any substance that reduces silver ions to metallic silver, preferably an organic substance. Conventional photographic developers such as phenidone, hydroquinone and catechol are useful, but hindered phenol reducing agents are preferred. The reducing agent is preferably contained in an amount of 5 to 50 mol%, more preferably 10 to 40 mol%, per 1 mol of silver on the surface having the image forming layer. The layer to which the reducing agent is added may be any layer on the side having the image forming layer. When it is added to a layer other than the image forming layer, it is preferable to use a relatively large amount of 10 to 50 mol% with respect to 1 mol of silver. Further, the reducing agent may be a so-called precursor which is derivatized so as to have a function effectively only during development.
【0158】有機銀塩を利用した熱現像感光材料におい
ては広範囲の還元剤が特開昭46-6074号、同47-1238号、
同47-33621号、同49-46427号、同49-115540号、同50-14
334号、同50-36110号、同50-147711号、同51-32632号、
同51-1023721号、同51-32324号、同51-51933号、同52-8
4727号、同55-108654号、同56-146133号、同57-82828
号、同57-82829号、特開平6-3793号、米国特許3,667,95
86号、同3,679,426号、同3,751,252号、同3,751,255
号、同3,761,270号、同3,782,949号、同3,839,048号、
同3,928,686号、同5,464,738号、独国特許2321328号、
欧州特許692732号などに開示されている。例えば、フェ
ニルアミドオキシム、2-チエニルアミドオキシムおよび
p-フェノキシフェニルアミドオキシムなどのアミドオキ
シム;例えば4-ヒドロキシ-3,5-ジメトキシベンズアル
デヒドアジンなどのアジン;2,2'-ビス(ヒドロキシメチ
ル)プロピオニル-β-フェニルヒドラジンとアスコルビ
ン酸との組合せのような脂肪族カルボン酸アリールヒド
ラジドとアスコルビン酸との組合せ;ポリヒドロキシベ
ンゼンと、ヒドロキシルアミン、レダクトンおよび/ま
たはヒドラジンの組合せ(例えばハイドロキノンと、ビ
ス(エトキシエチル)ヒドロキシルアミン、ピペリジノヘ
キソースレダクトンまたはホルミル-4-メチルフェニル
ヒドラジンの組合せなど);フェニルヒドロキサム酸、p
-ヒドロキシフェニルヒドロキサム酸およびβ-アリニン
ヒドロキサム酸などのヒドロキサム酸;アジンとスルホ
ンアミドフェノールとの組合せ(例えば、フェノチアジ
ンと2,6-ジクロロ-4-ベンゼンスルホンアミドフェノー
ルなど);エチル-α-シアノ-2-メチルフェニルアセテー
ト、エチル-α-シアノフェニルアセテートなどのα-シ
アノフェニル酢酸誘導体;2,2'-ジヒドロキシ-1,1'-ビ
ナフチル、6,6'-ジブロモ-2,2'-ジヒドロキシ-1,1'-ビ
ナフチルおよびビス(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)メタン
に例示されるようなビス-β-ナフトール;ビス-β-ナフ
トールと1,3-ジヒドロキシベンゼン誘導体(例えば、2,4
-ジヒドロキシベンゾフェノンまたは2',4'-ジヒドロキ
シアセトフェノンなど)の組合せ;3-メチル-1-フェニル
-5-ピラゾロンなどの、5-ピラゾロン;ジメチルアミノ
ヘキソースレダクトン、アンヒドロジヒドロアミノヘキ
ソースレダクトンおよびアンヒドロジヒドロピペリドン
ヘキソースレダクトンに例示されるようなレダクトン;
2,6-ジクロロ-4-ベンゼンスルホンアミドフェノールお
よびp-ベンゼンスルホンアミドフェノールなどのスルホ
ンアミドフェノール還元剤;2-フェニルインダン-1,3-
ジオンなど; 2,2-ジメチル-7-t-ブチル-6-ヒドロキシ
クロマンなどのクロマン;2,6-ジメトキシ-3,5-ジカル
ボエトキシ-1,4-ジヒドロピリジンなどの1,4-ジヒドロ
ピリジン;ビスフェノール(例えば、ビス(2-ヒドロキシ
-3-t-ブチル-5-メチルフェニル)メタン、2,2-ビス(4-ヒ
ドロキシ-3-メチルフェニル)プロパン、4,4-エチリデン
-ビス(2-t-ブチル-6-メチルフェノール) 、1,1-ビス(2-
ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチル
ヘキサンおよび2,2-ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフ
ェニル)プロパンなど);アスコルビン酸誘導体(例え
ば、パルミチン酸1-アスコルビル、ステアリン酸アスコ
ルビルなど);ならびにベンジルおよびビアセチルなど
のアルデヒドおよびケトン;3-ピラゾリドンおよびある
種のインダン-1,3-ジオン;クロマノール(トコフェロー
ルなど)などがある。In photothermographic materials utilizing organic silver salts, a wide range of reducing agents are disclosed in JP-A-46-6074 and JP-A-47-1238.
47-33621, 49-46427, 49-115540, 50-14
No. 334, No. 50-36110, No. 50-147711, No. 51-32632,
No. 51-1023721, No. 51-32324, No. 51-51933, No. 52-8
4727, 55-108654, 56-146133, 57-82828
No. 57-82829, JP-A-6-3793, U.S. Pat.
No. 86, No. 3,679,426, No. 3,751,252, No. 3,751,255
Nos. 3,761,270, 3,782,949, 3,839,048,
3,928,686, 5,464,738, German patent 2321328,
It is disclosed in European Patent No. 692732 and the like. For example, phenylamide oxime, 2-thienylamide oxime and
Amide oximes such as p-phenoxyphenylamide oxime; azines such as 4-hydroxy-3,5-dimethoxybenzaldehyde azine; combinations of 2,2′-bis (hydroxymethyl) propionyl-β-phenylhydrazine with ascorbic acid A combination of such an aliphatic carboxylic acid aryl hydrazide and ascorbic acid; a combination of polyhydroxybenzene and hydroxylamine, reductone and / or hydrazine (eg, hydroquinone and bis (ethoxyethyl) hydroxylamine, piperidinohexose reductone Or a combination of formyl-4-methylphenylhydrazine, etc.); phenylhydroxamic acid, p
Hydroxamic acids such as -hydroxyphenylhydroxamic acid and β-alinine hydroxamic acid; combinations of azines with sulfonamidophenols (eg, phenothiazine and 2,6-dichloro-4-benzenesulfonamidophenol); ethyl-α-cyano Α-cyanophenylacetic acid derivatives such as 2-methylphenylacetate and ethyl-α-cyanophenylacetate; 2,2′-dihydroxy-1,1′-binaphthyl, 6,6′-dibromo-2,2′-dihydroxy Bis-β-naphthol as exemplified by -1,1′-binaphthyl and bis (2-hydroxy-1-naphthyl) methane; bis-β-naphthol and 1,3-dihydroxybenzene derivatives (eg, 2,4
-Dihydroxybenzophenone or 2 ', 4'-dihydroxyacetophenone); 3-methyl-1-phenyl
5-pyrazolone, such as -5-pyrazolone; reductones as exemplified by dimethylaminohexose reductone, anhydrodihydroaminohexose reductone and anhydrodihydropiperidone hexose reductone;
Sulfonamidophenol reducing agents such as 2,6-dichloro-4-benzenesulfonamidophenol and p-benzenesulfonamidophenol; 2-phenylindane-1,3-
A dione or the like; a chroman such as 2,2-dimethyl-7-t-butyl-6-hydroxychroman; a 1,4-dihydropyridine such as 2,6-dimethoxy-3,5-dicarboethoxy-1,4-dihydropyridine; Bisphenols (e.g., bis (2-hydroxy
-3-t-butyl-5-methylphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 4,4-ethylidene
-Bis (2-t-butyl-6-methylphenol), 1,1-bis (2-
Hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane and 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane, etc.); ascorbic acid derivatives (for example, 1-palmitic acid) And aldehydes and ketones such as benzyl and biacetyl; 3-pyrazolidones and certain indan-1,3-diones; chromanols (such as tocopherols).
【0159】本発明の還元剤は、溶液、粉末、固体微粒
子分散物などいかなる方法で添加してもよい。固体微粒
子分散は公知の微細化手段(例えば、ボールミル、振動
ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミ
ル、ローラーミルなど)で行われる。また、固体微粒子
分散する際に分散助剤を用いてもよい。The reducing agent of the present invention may be added by any method such as a solution, a powder, and a dispersion of solid fine particles. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.
【0160】次に本発明に用いられる感光性ハロゲン化
銀について詳細に説明する。本発明に用いられる感光性
ハロゲン化銀は、ハロゲン組成として特に制限はなく、
塩化銀、塩臭化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀
を用いることができる。粒子内におけるハロゲン組成の
分布は均一であってもよく、ハロゲン組成がステップ状
に変化したものでもよく、あるいは連続的に変化したも
のでもよい。また、コア/シェル構造を有するハロゲン
化銀粒子を好ましく用いることができる。構造としては
好ましくは2〜5重構造、より好ましくは2〜4重構造
のコア/シェル粒子を用いることができる。また塩化銀
または塩臭化銀粒子の表面に臭化銀を局在させる技術も
好ましく用いることができる。Next, the photosensitive silver halide used in the present invention will be described in detail. The photosensitive silver halide used in the present invention is not particularly limited as a halogen composition,
Silver chloride, silver chlorobromide, silver bromide, silver iodobromide, silver iodochlorobromide can be used. The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may be changed stepwise, or may be changed continuously. Further, silver halide grains having a core / shell structure can be preferably used. As the structure, core / shell particles having preferably a 2- to 5-layer structure, more preferably a 2- to 4-layer structure, can be used. A technique for localizing silver bromide on the surface of silver chloride or silver chlorobromide grains can also be preferably used.
【0161】本発明における感光性ハロゲン化銀の形成
方法は当業界ではよく知られており、例えばリサーチデ
ィスクロージャー1978年6月の第17029号、および米国特
許第3,700,458号に記載されている方法を用いることが
できる。本発明で用いることのできる具体的な方法とし
ては、調製された有機銀塩中にハロゲン含有化合物を添
加することにより有機銀塩の銀の一部を感光性ハロゲン
化銀に変換する方法、ゼラチンあるいは他のポリマー溶
液の中に銀供給化合物およびハロゲン供給化合物を添加
することにより感光性ハロゲン化銀粒子を調製し有機銀
塩と混合する方法を用いることができる。本発明におい
て好ましくは後者の方法を用いることができる。感光性
ハロゲン化銀の粒子サイズは、画像形成後の白濁を低く
抑える目的のために小さいことが好ましく具体的には0.
20μm以下、より好ましくは0.01μm以上0.15μm以下、
更に好ましくは0.02μm以上0.12μm以下がよい。ここ
でいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子が立方体ある
いは八面体のいわゆる正常晶である場合にはハロゲン化
銀粒子の稜の長さをいう。また、ハロゲン化銀粒子が平
板状粒子である場合には主表面の投影面積と同面積の円
像に換算したときの直径をいう。その他正常晶でない場
合、例えば球状粒子、棒状粒子等の場合には、ハロゲン
化銀粒子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。The method of forming the photosensitive silver halide in the present invention is well known in the art, and uses, for example, the methods described in Research Disclosure No. 17029, June 1978, and US Pat. No. 3,700,458. be able to. Specific methods that can be used in the present invention include a method of converting a part of the silver of the organic silver salt to a photosensitive silver halide by adding a halogen-containing compound to the prepared organic silver salt, gelatin. Alternatively, a method in which a silver supply compound and a halogen supply compound are added to another polymer solution to prepare photosensitive silver halide grains and mixed with an organic silver salt can be used. In the present invention, the latter method can be preferably used. The particle size of the photosensitive silver halide is preferably small for the purpose of suppressing the white turbidity after image formation to be low.
20 μm or less, more preferably 0.01 μm or more and 0.15 μm or less,
More preferably, the thickness is 0.02 μm or more and 0.12 μm or less. Here, the grain size means the length of the edge of the silver halide grain when the silver halide grain is a cubic or octahedral so-called normal crystal. In the case where the silver halide grains are tabular grains, the diameter refers to the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface. In the case of other than normal crystals, for example, in the case of spherical grains, rod-shaped grains, etc., it refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of silver halide grains.
【0162】ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、
八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ
状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特
に立方体状粒子、平板状粒子が好ましい。平板状ハロゲ
ン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は好ましく
は100:1〜2:1、より好ましくは50:1〜3:1がよい。更
に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ま
しく用いることができる。感光性ハロゲン化銀粒子の外
表面の面指数(ミラー指数)については特に制限はない
が、分光増感色素が吸着した場合の分光増感効率が高い
[100]面の占める割合が高いことが好ましい。その割合
としては50%以上が好ましく、65%以上がより好ましく、
80%以上が更に好ましい。ミラー指数[100]面の比率は増
感色素の吸着における[111]面と[100]面との吸着依存性
を利用したT.Tani;J.Imaging Sci.,29、165(1985年)に記
載の方法により求めることができる。The shape of the silver halide grains is cubic,
Octahedral, tabular particles, spherical particles, rod-like particles, potato-like particles and the like can be mentioned. In the present invention, cubic particles and tabular particles are particularly preferable. When tabular silver halide grains are used, the average aspect ratio is preferably 100: 1 to 2: 1, more preferably 50: 1 to 3: 1. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (mirror index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grains is not particularly limited, but the spectral sensitizing efficiency when a spectral sensitizing dye is adsorbed is high.
The proportion occupied by the [100] plane is preferably high. The ratio is preferably 50% or more, more preferably 65% or more,
80% or more is more preferable. The Miller index [100] plane ratio was determined by T. Tani; J. Imaging Sci., 29, 165 (1985), which utilizes the adsorption dependence of [111] and [100] planes on the adsorption of sensitizing dyes. It can be determined by the method described.
【0163】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀粒
子は、周期律表の第VII族あるいは第VIII族(第7族〜
第10族)の金属または金属錯体を含有することが好ま
しい。周期律表の第VII族あるいは第VIII族の金属また
は金属錯体の中心金属として好ましくはロジウム、レニ
ウム、ルテニウム、オスミウム、イリジウムである。こ
れら金属錯体は1種類でもよいし、同種金属および異種
金属の錯体を2種以上併用してもよい。好ましい含有率
は銀1モルに対し10-9モルから10-2モルの範囲が好
ましく、10-8モルから10-4モルの範囲がより好まし
い。具体的な金属錯体の構造としては特開平7-225449号
等に記載された構造の金属錯体を用いることができる。The light-sensitive silver halide grains used in the present invention are selected from the group VII or VIII (groups 7 to 7) of the periodic table.
It preferably contains a metal of Group 10) or a metal complex. Rhodium, rhenium, ruthenium, osmium and iridium are preferred as the metal of Group VII or VIII of the periodic table or the central metal of the metal complex. One type of these metal complexes may be used, or two or more types of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is in the range of 10 -9 mol to 10 -2 mol, preferably 10 -8 mol to 10 -4 mol, per mol of silver. As a specific structure of the metal complex, a metal complex having a structure described in JP-A-7-225449 or the like can be used.
【0164】本発明に好ましく用いられるロジウム化合
物としては、水溶性ロジウム化合物を用いることができ
る。例えば、ハロゲン化ロジウム(III)化合物、また
はロジウム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オ
キザラト等を持つもの、例えば、ヘキサクロロロジウム
(III)錯塩、ペンタクロロアコロジウム(III)錯塩、
テトラクロロジアコロジウム(III)錯塩、ヘキサブロ
モロジウム(III)錯塩、ヘキサアンミンロジウム(II
I)錯塩、トリザラトロジウム(III)錯塩等が挙げられ
る。これらのロジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒
に溶解して用いられるが、ロジウム化合物の溶液を安定
化させるために一般によく行われる方法、すなわち、ハ
ロゲン化水素水溶液(例えば塩酸、臭酸、フッ化水素酸
等)、あるいはハロゲン化アルカリ(例えばKCl、NaC
l、KBr、NaBr等)を添加する方法を用いることができ
る。水溶性ロジウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製
時に、あらかじめロジウムをドープしてある別のハロゲ
ン化銀粒子を添加して溶解させることも可能である。As the rhodium compound preferably used in the present invention, a water-soluble rhodium compound can be used. For example, a rhodium (III) halide compound or a rhodium complex salt having a ligand such as halogen, amines, oxalate, etc., for example, hexachlororhodium (III) complex salt, pentachloroacolodium (III) complex salt,
Tetrachlorodiachodium (III) complex salt, hexabromorhodium (III) complex salt, hexaamminerhodium (II)
I) complex salts and trizalatrodium (III) complex salts. These rhodium compounds are used by dissolving them in water or a suitable solvent. A method generally used for stabilizing a solution of the rhodium compound, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (for example, hydrochloric acid, bromic acid, fluoride, etc.) Hydrogen acid, etc.) or alkali halides (eg KCl, NaC
l, KBr, NaBr, etc.) can be used. Instead of using water-soluble rhodium, it is also possible to add and dissolve other silver halide grains doped with rhodium during the preparation of silver halide.
【0165】これらのロジウム化合物の添加量はハロゲ
ン化銀1モル当たり1×10-8モル〜5×10-6モルの
範囲が好ましく、特に好ましくは5×10-8モル〜1×
10 -6モルである。The addition amount of these rhodium compounds is
1 × 10 per mole of silver halide-8Mol ~ 5 x 10-6Mole of
The range is preferably, particularly preferably 5 × 10-8Mol ~ 1x
10 -6Is a mole.
【0166】これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳
剤粒子の製造時および乳剤を塗布する前の各段階におい
て適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、
ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。These compounds can be appropriately added at the time of production of silver halide emulsion grains and at each stage before coating the emulsion.
It is preferably incorporated into silver halide grains.
【0167】本発明に好ましく用いられるレニウム、ル
テニウム、オスミウムは特開昭63-2042号、特開平1-2859
41号、同2-20852号、同2-20855号等に記載された水溶性錯
塩の形で添加される。特に好ましいものとして、以下の
式で示される六配位錯体が挙げられる。 [ML6]n- ここでMはRu、Re、またはOsを表し、Lは配位子
を表し、nは0、1、2、3または4を表す。Rhenium, ruthenium and osmium preferably used in the present invention are described in JP-A-63-2042 and JP-A-1-2859.
It is added in the form of a water-soluble complex salt described in JP-A Nos. 41, 2-20852, 2-20855 and the like. Particularly preferred is a six-coordinate complex represented by the following formula. [ML 6 ] n -where M represents Ru, Re, or Os, L represents a ligand, and n represents 0, 1, 2, 3, or 4.
【0168】この場合、対イオンは重要性を持たず、ア
ンモニウムもしくはアルカリ金属イオンが用いられる。In this case, the counter ion is not important, and an ammonium or alkali metal ion is used.
【0169】また好ましい配位子としてはハロゲン化物
配位子、シアン化物配位子、シアン酸化物配位子、ニト
ロシル配位子、チオニトロシル配位子等が挙げられる。
以下に本発明に用いられる具体的錯体の例を示すが、本
発明はこれに限定されるものではない。Preferred ligands include halide ligands, cyanide ligands, cyanide ligands, nitrosyl ligands, thionitrosyl ligands and the like.
Examples of specific complexes used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
【0170】 [ReCl6]3- [ReBr6]3- [ReCl5(NO)]2- [Re(NS)Br5]2- [Re(NO)(CN)5]2- [Re(O)2(CN)4]3- [RuCl6]3- [RuCl4(H2O)2]- [RuCl5(H2O)]2- [RuCl5(NO)]2- [RuBr5(NS)]2- [Ru(CO)3Cl3]2- [Ru(CO)Cl5]2- [Ru(CO)Br5]2- [OsCl6]3- [OsCl5(NO)]2- [Os(NO)(CN)5]2- [Os(NS)Br5]2- [Os(O)2(CN)4]4- [ReCl 6 ] 3- [ReBr 6 ] 3- [ReCl 5 (NO)] 2- [Re (NS) Br 5 ] 2- [Re (NO) (CN) 5 ] 2- [Re (O ) 2 (CN) 4 ] 3- [RuCl 6 ] 3- [RuCl 4 (H 2 O) 2 ] - [RuCl 5 (H 2 O)] 2- [RuCl 5 (NO)] 2- [RuBr 5 ( NS)] 2- [Ru (CO) 3 Cl 3 ] 2- [Ru (CO) Cl 5 ] 2- [Ru (CO) Br 5 ] 2- [OsCl 6 ] 3- [OsCl 5 (NO)] 2 - [Os (NO) (CN) 5 ] 2- [Os (NS) Br 5 ] 2- [Os (O) 2 (CN) 4 ] 4-
【0171】これらの化合物の添加量はハロゲン化銀1
モル当たり1×10-9モル〜1×10-5モルの範囲が好
ましく、特に好ましくは1×10-8モル〜1×10-6モ
ルである。The addition amount of these compounds is as follows.
It is preferably in the range of 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −5 mol per mol, particularly preferably 1 × 10 −8 mol to 1 × 10 −6 mol.
【0172】これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳
剤粒子の製造時および乳剤を塗布する前の各段階におい
て適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、
ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。These compounds can be appropriately added at the time of production of silver halide emulsion grains and at each stage before coating the emulsion.
It is preferably incorporated into silver halide grains.
【0173】これらの化合物をハロゲン化銀の粒子形成
中に添加してハロゲン化銀粒子中に組み込むには、金属
錯体の粉末もしくはNaCl、KClと一緒に溶解した水溶液
を、粒子形成中の水溶性塩または水溶性ハライド溶液中
に添加しておく方法、あるいは銀塩とハライド溶液が同
時に混合されるとき第3の溶液として添加し、3液同時
混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、あるい
は粒子形成中に必要量の金属錯体の水溶液を反応容器に
投入する方法などがある。特に粉末もしくはNaCl、KCl
と一緒に溶解した水溶液を、水溶性ハライド溶液に添加
する方法が好ましい。To add these compounds into silver halide grains by adding them during silver halide grain formation, a powder of a metal complex or an aqueous solution dissolved together with NaCl and KCl is added to the aqueous solution during grain formation. A method in which silver halide grains are added to a salt or a water-soluble halide solution, or as a third solution when a silver salt and a halide solution are mixed at the same time, and a three-liquid simultaneous mixing method is used, Alternatively, there is a method in which a required amount of an aqueous solution of a metal complex is charged into a reaction vessel during particle formation. Especially powder or NaCl, KCl
Is preferable to add an aqueous solution dissolved together with the above to a water-soluble halide solution.
【0174】粒子表面に添加するには、粒子形成直後ま
たは物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時に
必要量の金属錯体の水溶液を反応容器に投入することも
できる。In order to add the metal complex to the particle surface, a required amount of an aqueous solution of a metal complex may be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particle, during or at the end of physical ripening, or at the time of chemical ripening.
【0175】本発明に好ましく用いられるイリジウム化
合物としては種々のものを使用できるが、例えばヘキサ
クロロイリジウム、ヘキサアンミンイリジウム、トリオ
キザラトイリジウム、ヘキサシアノイリジウム、ペンタ
クロロニトロシルイリジウム等が挙げられる。これらの
イリジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒に溶解して
用いられるが、イリジウム化合物の溶液を安定化させる
ために一般によく行われる方法、すなわち、ハロゲン化
水素水溶液(例えば塩酸、臭酸、フッ酸等)、あるいは
ハロゲン化アルカリ(例えばKCl、NaCl、KBr、NaBr等)
を添加する方法を用いることができる。水溶性イリジウ
ムを用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめ
イリジウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添
加して溶解させることも可能である。As the iridium compound preferably used in the present invention, various compounds can be used. Examples thereof include hexachloroiridium, hexaammineiridium, trioxalatoiridium, hexacyanoiridium, and pentachloronitrosyliridium. These iridium compounds are used after being dissolved in water or a suitable solvent. However, a method generally used for stabilizing a solution of the iridium compound, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid) is used. Etc.) or alkali halides (eg KCl, NaCl, KBr, NaBr, etc.)
Can be used. Instead of using water-soluble iridium, it is also possible to add and dissolve another iridium-doped silver halide grain during silver halide preparation.
【0176】さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒
子に、コバルト、鉄、ニッケル、クロム、パラジウム、
白金、金、タリウム、銅、鉛、等の金属原子を含有して
もよい。コバルト、鉄、クロム、さらにルテニウムの化
合物については六シアノ金属錯体を好ましく用いること
ができる。具体例としては、フェリシアン酸イオン、フ
ェロシアン酸イオン、ヘキサシアノコバルト酸イオン、
ヘキサシアノクロム酸イオン、ヘキサシアノルテニウム
酸イオンなどが挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。ハロゲン化銀中の金属錯体は均一に含有させ
ても、コア部に高濃度に含有させてもよく、あるいはシ
ェル部に高濃度に含有させてもよく特に制限はない。The silver halide grains used in the present invention may further include cobalt, iron, nickel, chromium, palladium,
It may contain metal atoms such as platinum, gold, thallium, copper and lead. For compounds of cobalt, iron, chromium and ruthenium, hexacyano metal complexes can be preferably used. Specific examples include ferricyanate ion, ferrocyanate ion, hexacyanocobaltate ion,
Examples include, but are not limited to, hexacyanochromate ions, hexacyanoruthenate ions, and the like. The metal complex in the silver halide may be contained uniformly, may be contained in the core portion at a high concentration, or may be contained in the shell portion at a high concentration, and there is no particular limitation.
【0177】上記金属はハロゲン化銀1モル当たり1×
10-9〜1×10-4モルが好ましい。また、上記金属を
含有させるには単塩、複塩、または錯塩の形の金属塩に
して粒子調製時に添加することができる。The above metal is contained in an amount of 1 × per mole of silver halide.
It is preferably from 10 -9 to 1 × 10 -4 mol. Further, in order to contain the above-mentioned metal, a metal salt in the form of a single salt, a double salt or a complex salt can be added at the time of preparing particles.
【0178】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが本発明においては脱塩
してもしなくてもよい。The photosensitive silver halide grains can be desalted by washing with water by a method known in the art, such as a noodle method or flocculation method, but in the present invention, it may or may not be desalted. .
【0179】本発明のハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ることが好ましい。化学増感の方法としては、硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、貴金属増感法などの
知られている方法を用いることができ、単独または組み
合わせて用いられる。組み合わせて使用する場合には、
例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増
感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感
法、硫黄増感法とセレン増感法とテルル増感法と金増感
法などが好ましい。The silver halide emulsion of the present invention is preferably subjected to chemical sensitization. As the method of chemical sensitization, known methods such as a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method, a tellurium sensitization method, and a noble metal sensitization method can be used, and these are used alone or in combination. When used in combination,
For example, sulfur sensitization and gold sensitization, sulfur sensitization and selenium sensitization and gold sensitization, sulfur sensitization and tellurium sensitization and gold sensitization, and sulfur sensitization and selenium sensitization Method, tellurium sensitization method, gold sensitization method and the like are preferable.
【0180】本発明に用いられる硫黄増感は、通常、硫
黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤を一定時
間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公
知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、例え
ばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニン
類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、チ
オ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加量
は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン化銀粒子の大き
さなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲン化銀1
モル当たり10 -7〜10-2モルであり、より好ましくは
10-5〜10-3モルである。The sulfur sensitization used in the present invention is usually carried out by
Add a yellow sensitizer and keep the emulsion at a high temperature of 40 ° C or more.
It is performed by stirring for a while. Public sulfur sensitizer
Known compounds can be used, for example, in gelatin
In addition to the sulfur compounds contained in, various sulfur compounds, such as
Thiosulfate, thioureas, thiazoles, rhodanine
Can be used. Preferred sulfur compounds are
Osulfates and thiourea compounds. Amount of sulfur sensitizer added
Indicates the pH, temperature, and size of silver halide grains during chemical ripening
Changes under various conditions, such as silver halide.
10 per mole -7-10-2Mole, more preferably
10-Five-10-3Is a mole.
【0181】本発明に用いられるセレン増感剤として
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち、通常、不安定型および/または非不安定型セレン化
合物を添加して40℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌
することにより行われる。不安定型セレン化合物として
は特公昭44-15748号、同43-13489号、特開平4-25832号、同
4-109240号、同4-324855号等に記載の化合物を用いるこ
とができる。特に特開平4-324855号中の式(VIII) およ
び(IX)で示される化合物を用いることが好ましい。As the selenium sensitizer used in the present invention, known selenium compounds can be used. That is, it is usually carried out by adding an unstable and / or non-unstable selenium compound and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain time. As unstable selenium compounds, JP-B-44-15748, JP-B-43-13489, JP-A-4-25832,
The compounds described in JP-A Nos. 4-109240 and 4-324855 can be used. In particular, it is preferable to use the compounds represented by formulas (VIII) and (IX) in JP-A-4-324855.
【0182】本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロ
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成させる化合物である。ハロゲン化
銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特開平5-3132
84号に記載の方法で試験することができる。テルル増感
剤としては例えばジアシルテルリド類、ビス(オキシカ
ルボニル)テルリド類、ビス(カルバモイル)テルリド
類、ジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)ジテ
ルリド類、ビス(カルバモイル)ジテルリド類、P=Te結合
を有する化合物、テルロカルボン酸塩類、Te−オルガ
ニルテルロカルボン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリド
類、テルリド類、テルロール類、テルロアセタール類、
テルロスルホナート類、P-Te結合を有する化合物、含T
eヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機テルル化
合物、コロイド状テルルなどを用いることができる。具
体的には、米国特許第1,623,499号、同第3,320,069号、同
第3,772,031号、英国特許第235,211号、同第1,121,496号、
同第1,295,462号、同第1,396,696号、カナダ特許第800,9
58号、特開平4-204640号、特願平3-53693号、同3-131598
号、同4-129787号、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサ
イアティー・ケミカル・コミュニケーション(J.Chem.S
oc.Chem.Commun.) 635(1980),ibid 1102(1979),ibid 6
45(1979)、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティ
ー・パーキン・トランザクション(J.Chem.Soc.Perkin.
Trans.) 1,2191(1980)、S.パタイ(S.Patai)編、ザ・ケ
ミストリー・オブ・オーガニック・セレニウム・アンド
・テルリウム・カンパウンズ(The Chemistry of Organ
ic Serenium and Tellunium Compounds),Vol.1(1986)、
同 Vol.2(1987)に記載の化合物を用いることができる。
特に特開平5-313284号中の式(II),(III),(IV)で示さ
れる化合物が好ましい。The tellurium sensitizer used in the present invention is a compound that forms silver telluride which is presumed to be a sensitizing nucleus on the surface or inside of silver halide grains. The formation rate of silver telluride in a silver halide emulsion is described in JP-A-5-3132.
It can be tested by the method described in No. 84. Examples of tellurium sensitizers include diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) tellurides, bis (carbamoyl) tellurides, diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) ditellurides, bis (carbamoyl) ditellurides, P = Te Compounds having a bond, tellurocarboxylates, Te-organyltellurocarboxylates, di (poly) tellurides, tellurides, tellurols, telluroacetals,
Tellurosulfonates, compounds having a P-Te bond, containing T
e Heterocycles, tellurocarbonyl compounds, inorganic tellurium compounds, colloidal tellurium, and the like can be used. Specifically, U.S. Patent Nos. 1,623,499, 3,320,069, 3,772,031, UK Patent 235,211 and 1,121,496,
No. 1,295,462, No. 1,396,696, Canadian Patent 800,9
No. 58, JP-A-4-204640, JP-A-3-53693, JP-A-3-31598
No. 4-129787, Journal of Chemical Society Chemical Communication (J. Chem.S.
oc.Chem.Commun.) 635 (1980), ibid 1102 (1979), ibid 6
45 (1979), Journal of Chemical Society Perkin Transaction (J. Chem. Soc. Perkin.
Trans.) 1,2191 (1980), edited by S. Patai, The Chemistry of Organ, Selenium and Tellurium Campounds
ic Serenium and Tellunium Compounds), Vol. 1 (1986),
The compounds described in Vol. 2 (1987) can be used.
Particularly, compounds represented by formulas (II), (III) and (IV) in JP-A-5-313284 are preferred.
【0183】本発明で用いられるセレンおよびテルル増
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当
たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3モ
ル程度を用いる。本発明における化学増感の条件として
は特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとし
ては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度として
は40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。[0183] The amount of the selenium and tellurium sensitizers used in the present invention, the silver halide grains to be used, but the chemical ripening condition and the like and, generally, per mol of silver halide 10 -8 to 10 -2 mol, Preferably about 10 -7 to 10 -3 mol is used. The conditions of the chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, preferably 7 to 10, and the temperature is 40 to 95 ° C, preferably 45 to 45 ° C. 85 ° C.
【0184】本発明に用いられる貴金属増感剤として
は、金、白金、パラジウム、イリジウム等が挙げられる
が、特に金増感が好ましい。本発明に用いられる金増感
剤としては具体的には、塩化金酸、カリウムクロロオー
レート、カリウムオーリチオシアネート、硫化金などが
挙げられ、ハロゲン化銀1モル当たり10-7〜10-2モ
ル程度を用いることができる。The noble metal sensitizer used in the present invention includes gold, platinum, palladium, iridium and the like, and gold sensitization is particularly preferable. Specific examples of the gold sensitizer used in the present invention include chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, and gold sulfide, and 10 -7 to 10 -2 mol per mol of silver halide. Degrees can be used.
【0185】本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロ
ゲン化銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカド
ミウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させ
てもよい。In the silver halide emulsion used in the present invention, a cadmium salt, a sulfite, a lead salt, a thallium salt and the like may coexist in the process of forming silver halide grains or physical ripening.
【0186】本発明においては、還元増感を用いること
ができる。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコ
ルビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一ス
ズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導
体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等
を用いることができる。また、乳剤のpHを7以上またはp
Agを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感す
ることができる。また、粒子形成中に銀イオンのシング
ルアディション部分を導入することにより還元増感する
ことができる。In the present invention, reduction sensitization can be used. As specific compounds of the reduction sensitization method, in addition to ascorbic acid and thiourea dioxide, for example, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds and the like can be used. . Also, when the pH of the emulsion is 7 or more or p
Reduction sensitization can be achieved by aging while keeping Ag at 8.3 or less. Further, reduction sensitization can be achieved by introducing a single addition portion of silver ion during grain formation.
【0187】本発明のハロゲン化銀乳剤は、欧州公開特
許EP293,917号に示される方法により、チオスルホン酸
化合物を添加してもよい。To the silver halide emulsion of the present invention, a thiosulfonic acid compound may be added according to the method described in EP 293,917.
【0188】本発明に用いられる感光材料中のハロゲン
化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上(例えば、
平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるも
の、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの)
併用してもよい。The silver halide emulsion in the light-sensitive material used in the present invention may be only one kind or two or more kinds (for example,
Those with different average grain sizes, different halogen compositions, different crystal habits, different chemical sensitization conditions)
You may use together.
【0189】本発明の感光性ハロゲン化銀の使用量とし
ては有機銀塩1モルに対して感光性ハロゲン化銀0.01モ
ル以上0.5モル以下が好ましく、0.02モル以上0.3モル以
下がより好ましく、0.03モル以上0.25モル以下が特に好
ましい。別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩
の混合方法および混合条件については、それぞれ調製終
了したハロゲン化銀粒子と有機銀塩を高速撹拌機やボー
ルミル、サンドミル、コロイドミル、振動ミル、ホモジ
ナイザー等で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調製
中のいずれかのタイミングで調製終了した感光性ハロゲ
ン化銀を混合して有機銀塩を調製する方法等があるが、
本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限は
ない。The amount of the photosensitive silver halide used in the present invention is preferably 0.01 mol to 0.5 mol, more preferably 0.02 mol to 0.3 mol, and more preferably 0.03 mol to 1 mol of the organic silver salt. It is particularly preferably at least 0.25 mol and not more than 0.25 mol. Regarding the mixing method and mixing conditions of the separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the prepared silver halide particles and the organic silver salt were mixed with a high-speed stirrer, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc. And the like, or a method of preparing an organic silver salt by mixing photosensitive silver halide prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt, and the like,
There is no particular limitation as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited.
【0190】本発明に還元可能な銀塩として用いること
のできる有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、
露光された光触媒(感光性ハロゲン化銀の潜像など)お
よび還元剤の存在下で、80℃あるいはそれ以上に加熱さ
れた場合に銀画像を形成する銀塩である。有機銀塩は銀
イオンを還元できる源を含む任意の有機物質であってよ
い。有機酸の銀塩、特に(炭素数が10〜30、好ましくは1
5〜28の)長鎖脂肪カルボン酸の銀塩が好ましい。配位子
が4.0〜10.0の範囲の錯安定度定数を有する有機または
無機銀塩の錯体も好ましい。銀供給物質は、好ましくは
画像形成層の約5〜70重量%を構成することができる。好
ましい有機銀塩はカルボキシル基を有する有機化合物の
銀塩を含む。これらの例は、脂肪族カルボン酸の銀塩お
よび芳香族カルボン酸の銀塩を含むがこれらに限定され
ることはない。脂肪族カルボン酸の銀塩の好ましい例と
しては、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸
銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリ
スチン酸銀、パルミチン酸銀、マレイン酸銀、フマル酸
銀、酒石酸銀、リノール酸銀、酪酸銀および樟脳酸銀、
これらの混合物などを含む。The organic silver salt which can be used as the reducible silver salt in the present invention is relatively stable to light,
A silver salt that forms a silver image when heated to 80 ° C. or higher in the presence of an exposed photocatalyst (such as a latent image of a photosensitive silver halide) and a reducing agent. The organic silver salt can be any organic substance including a source capable of reducing silver ions. Silver salts of organic acids, especially (C 10-30, preferably 1
Silver salts of long chain fatty carboxylic acids (5-28) are preferred. Complexes of organic or inorganic silver salts wherein the ligand has a complex stability constant in the range of 4.0 to 10.0 are also preferred. The silver donor material can preferably make up about 5-70% by weight of the imaging layer. Preferred organic silver salts include silver salts of organic compounds having a carboxyl group. Examples of these include, but are not limited to, silver salts of aliphatic carboxylic acids and silver salts of aromatic carboxylic acids. Preferred examples of the silver salt of the aliphatic carboxylic acid include silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, silver maleate, and silver maleate. Silver acid, silver tartrate, silver linoleate, silver butyrate and silver camphorate,
And mixtures thereof.
【0191】メルカプト基またはチオン基を含む化合物
の銀塩およびこれらの誘導体を使用することもできる。
これらの化合物の好ましい例としては、3-メルカプト-4
-フェニル-1,2,4-トリアゾールの銀塩、2-メルカプトベ
ンズイミダゾールの銀塩、2-メルカプト-5-アミノチア
ジアゾールの銀塩、2-(エチルグリコールアミド)ベン
ゾチアゾールの銀塩、S-アルキルチオグリコール酸(こ
こでアルキル基の炭素数は12〜22である)の銀塩などの
チオグリコール酸の銀塩、ジチオ酢酸の銀塩などのジチ
オカルボン酸の銀塩、チオアミドの銀塩、5-カルボキシ
ル-1-メチル-2-フェニル-4-チオピリジンの銀塩、メル
カプトトリアジンの銀塩、2-メルカプトベンズオキサゾ
ールの銀塩、米国特許第4,123,274号に記載の銀塩、例
えば3-アミノ-5-ベンジルチオ-1,2,4-チアゾールの銀塩
などの1,2,4-メルカプトチアゾール誘導体の銀塩、米国
特許第3,301,678号に記載の3-(3-カルボキシエチル)-4-
メチル-4-チアゾリン-2-チオンの銀塩などのチオン化合
物の銀塩を含む。さらに、イミノ基を含む化合物も使用
することができる。これらの化合物の好ましい例として
は、ベンゾトリアゾールの銀塩およびそれらの誘導体、
例えばメチルベンゾトリアゾール銀などのベンゾトリア
ゾールの銀塩、5-クロロベンゾトリアゾール銀などのハ
ロゲン置換ベンゾトリアゾールの銀塩、米国特許第4,22
0,709号に記載のような1,2,4-トリアゾールまたは1-H-
テトラゾールの銀塩、イミダゾールおよびイミダゾール
誘導体の銀塩などを含む。例えば、米国特許第4,761,36
1号および同第4,775,613号に記載のような種々の銀アセ
チリド化合物をも使用することもできる。Silver salts of compounds containing a mercapto group or a thione group and derivatives thereof can also be used.
Preferred examples of these compounds include 3-mercapto-4
-Phenyl-1,2,4-triazole silver salt, 2-mercaptobenzimidazole silver salt, 2-mercapto-5-aminothiadiazole silver salt, 2- (ethylglycolamide) benzothiazole silver salt, S- Silver salts of thioglycolic acid such as silver salts of alkylthioglycolic acid (where the alkyl group has 12 to 22 carbon atoms), silver salts of dithiocarboxylic acids such as silver salts of dithioacetic acid, silver salts of thioamides, 5 Silver salt of -carboxyl-1-methyl-2-phenyl-4-thiopyridine, silver salt of mercaptotriazine, silver salt of 2-mercaptobenzoxazole, silver salt described in U.S. Pat.No. 4,123,274, for example, 3-amino-5 Silver salts of 1,2,4-mercaptothiazole derivatives such as -benzylthio-1,2,4-thiazole silver salt, 3- (3-carboxyethyl) -4- described in U.S. Pat.No. 3,301,678
Includes silver salts of thione compounds such as silver salt of methyl-4-thiazoline-2-thione. Further, compounds containing an imino group can also be used. Preferred examples of these compounds include silver salts of benzotriazole and derivatives thereof,
For example, silver salts of benzotriazole such as silver methylbenzotriazole, silver salts of halogen-substituted benzotriazole such as silver 5-chlorobenzotriazole, U.S. Pat.
0,709, 1,2,4-triazole or 1-H-
Includes silver salts of tetrazole, silver salts of imidazole and imidazole derivatives, and the like. For example, U.S. Pat.
Various silver acetylide compounds as described in No. 1 and 4,775,613 can also be used.
【0192】本発明に用いることができる有機銀塩の形
状としては特に制限はないが、短軸と長軸を有する針状
結晶が好ましい。本発明においては短軸0.01μm以上0.2
0μm以下、長軸0.10μm以上5.0μm以下が好ましく、短
軸0.01μm以上0.15μm以下、長軸0.10μm以上4.0μm以
下がより好ましい。有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散
であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれ
の長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の百
分率が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、
更に好ましくは50%以下である。有機銀塩の形状の測定
方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より
求めることができる。単分散性を測定する別の方法とし
て、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方
法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動
係数)が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、
更に好ましくは50%以下である。測定方法としては例え
ば液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その
散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求め
ることにより得られた粒子サイズ(体積加重平均直径)か
ら求めることができる。The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, but a needle crystal having a short axis and a long axis is preferable. In the present invention, the minor axis is 0.01 μm or more and 0.2 μm or more.
0 μm or less, major axis of 0.10 μm or more and 5.0 μm or less, minor axis of 0.01 μm or more and 0.15 μm or less, and major axis of 0.10 μm or more and 4.0 μm or less are more preferred. The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodisperse and the minor axis, the percentage of the value obtained by dividing the standard deviation of the length of each major axis by each minor axis, major axis is preferably 100% or less, more preferably 80% or less,
More preferably, it is 50% or less. The shape of the organic silver salt can be measured from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method of measuring the monodispersity, there is a method of determining the standard deviation of the volume-weighted average diameter of the organic silver salt, the percentage of the value divided by the volume-weighted average diameter (coefficient of variation) is preferably 100% or less, more Preferably 80% or less,
More preferably, it is 50% or less. As a measuring method, for example, the particle size (volume weighted average diameter) obtained by irradiating a laser beam to an organic silver salt dispersed in a liquid and obtaining an autocorrelation function with respect to a time change of fluctuation of the scattered light is obtained. Can be.
【0193】本発明に用いることのできる有機銀塩は、
好ましくは脱塩をすることができる。脱塩を行う方法と
しては特に制限はなく公知の方法を用いることができる
が、遠心濾過、吸引濾過、限外濾過、凝集法によるフロ
ック形成水洗等の公知の濾過方法を好ましく用いること
ができる。The organic silver salt which can be used in the present invention includes:
Preferably, desalting can be performed. The desalting method is not particularly limited, and a known method can be used. A known filtration method such as centrifugal filtration, suction filtration, ultrafiltration, or floc-forming water washing by a coagulation method can be preferably used.
【0194】本発明では、高S/Nで、粒子サイズが小さ
く、凝集のない有機銀塩固体分散物を得る目的で、画像
形成媒体である有機銀塩を含み、かつ感光性銀塩を実質
的に含まない水分散液を高速流に変換した後、圧力降下
させる分散法を用いることが好ましい。In the present invention, in order to obtain an organic silver salt solid dispersion having a high S / N, a small particle size and no aggregation, an organic silver salt which is an image forming medium and a photosensitive silver salt are substantially contained. It is preferable to use a dispersion method in which a water dispersion liquid which is not included in the liquid is converted into a high-speed flow and then the pressure is reduced.
【0195】そして、このような工程を経た後に、感光
性銀塩水溶液と混合して感光性画像形成媒体塗布液を製
造する。このような塗布液を用いて熱現像感光材料を作
製するとヘイズが低く、低カブリで高感度の熱現像感光
材料が得られる。これに対し、高圧、高速流に変換して
分散する時に、感光性銀塩を共存させると、カブリが上
昇し、感度が著しく低下しやすくなる。また、分散媒と
して水ではなく、有機溶剤を用いると、ヘイズが高くな
り、カブリが上昇し、感度が低下しやすくなる。一方、
感光性銀塩水溶液を混合する方法にかえて、分散液中の
有機銀塩の一部を感光性銀塩に変換するコンバージョン
法を用いると感度が低下しやすくなる。After passing through these steps, the mixture is mixed with an aqueous solution of a photosensitive silver salt to prepare a coating solution for a photosensitive image forming medium. When a photothermographic material is prepared using such a coating solution, a haze is low, and a low-fogging, high-sensitivity photothermographic material can be obtained. On the other hand, when the photosensitive silver salt is coexistent when the light is converted into a high-pressure and high-speed flow and dispersed, the fog increases and the sensitivity is liable to decrease remarkably. When an organic solvent is used instead of water as a dispersion medium, haze increases, fog increases, and sensitivity tends to decrease. on the other hand,
When a conversion method for converting a part of the organic silver salt in the dispersion liquid into the photosensitive silver salt is used instead of the method of mixing the aqueous solution of the photosensitive silver salt, the sensitivity tends to be lowered.
【0196】上記において、高圧、高速化に変換して分
散される水分散液は、実質的に感光性銀塩を含まないも
のであり、その含有量は非感光性の有機銀塩に対して0.
1モル%以下であり、積極的な感光性銀塩の添加は行わな
いものである。In the above, the aqueous dispersion which is dispersed after being converted to a high-pressure and high-speed liquid contains substantially no photosensitive silver salt, and its content is relative to that of the non-photosensitive organic silver salt. 0.
The content is 1 mol% or less, and the photosensitive silver salt is not positively added.
【0197】本発明において、上記のような分散法を実
施するのに用いられる固体分散装置およびその技術につ
いては、例えば『分散系レオロジーと分散化技術』(梶
内俊夫、薄井洋基 著、1991、信山社出版(株)、p357
〜p403)、『化学工学の進歩第24集』(社団法人 化学
工学会東海支部 編、1990、槙書店、p184〜p185)、
等に詳しいが、本発明での分散法は、少なくとも有機銀
塩を含む水分散物を高圧ポンプ等で加圧して配管内に送
入した後、配管内に設けられた細いスリットを通過さ
せ、この後に分散液に急激な圧力低下を生じさせること
により微細な分散を行う方法である。In the present invention, for the solid dispersion apparatus used to carry out the dispersion method as described above and the technology thereof, see, for example, “Dispersion Rheology and Dispersion Technology” (Toshio Kajiuchi, Hiroki Usui, 1991, Shinzansha Publishing Co., Ltd., p357
-P403), "The 24th Progress of Chemical Engineering", edited by The Society of Chemical Engineers, Tokai Branch, 1990, Maki Shoten, p184-p185),
Although detailed in the dispersing method of the present invention, the aqueous dispersion containing at least an organic silver salt is pressurized by a high-pressure pump or the like and sent into a pipe, and then passed through a narrow slit provided in the pipe, Thereafter, the dispersion is finely dispersed by causing an abrupt pressure drop in the dispersion.
【0198】本発明が関連する高圧ホモジナイザーにつ
いては、一般には、(a)分散質が狭間隙を高圧、高速で
通過する際に生じる『剪断力』、(b)分散質が高圧下か
ら常圧に解放される際に生じる『キャビテーション
力』、等の分散力によって微細な粒子への分散が行われ
ると考えられている。この種の分散装置としては、古く
はゴーリンホモジナイザーが挙げられるが、この装置で
は高圧で送られた被分散液が円柱面上の狭い間隙で、高
速流に変換され、その勢いで周囲の壁面に衝突し、その
衝撃力で乳化・分散が行われる。使用圧力は一般には10
0〜600kg/cm2、流速は数m〜30m/秒の範囲であり、分散
効率を上げるために高流速部を鋸刃状にして衝突回数を
増やすなどの工夫を施したものも考案されている。これ
に対して、近年更に高圧、高流速での分散が可能となる
装置が開発されてきており、その代表例としてはマイク
ロフルイダイザー(マイクロフルイデックス・インター
ナショナル・コーポレーション社)、ナノマイザー(特
殊機化工業(株))などが挙げられる。The high-pressure homogenizer to which the present invention relates generally includes (a) “shearing force” generated when a dispersoid passes through a narrow gap at a high pressure and at a high speed, and (b) a dispersoid is generated under a high pressure and a normal pressure. It is considered that the particles are dispersed into fine particles by a dispersing force such as "cavitation force" generated when the particles are released. As an example of this type of dispersing apparatus, a Gaulin homogenizer is mentioned in the past.In this apparatus, the liquid to be dispersed sent at a high pressure is converted into a high-speed flow through a narrow gap on a cylindrical surface, and the force is applied to the surrounding wall by the force. The particles collide and are emulsified and dispersed by the impact force. Working pressure is generally 10
0~600kg / cm 2, the flow rate is in the range of a few M~30m / sec, be devised that the high flow rate portion was devised such increasing the number collisions in the saw-toothed in order to increase the dispersion efficiency I have. On the other hand, in recent years, apparatuses capable of dispersing at higher pressure and higher flow rate have been developed, and typical examples thereof include a microfluidizer (Microfluidex International Corporation) and a nanomizer (specialized machine). Industrial Co., Ltd.).
【0199】本発明に適した分散装置としては、マイク
ロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーシ
ョン社製マイクロフルイダイザーM−110S−EH
(G10Zインターラクションチャンバー付き)、M−
110Y(H10Zインターラクションチャンバー付
き)、M−140K(G10Zインターラクションチャ
ンバー付き)、HC−5000(L30ZまたはH23
0Zインターラクションチャンバー付き),HC−80
00(E230ZまたはL30Zインターラクションチ
ャンバー付き)等が挙げられる。As a dispersing apparatus suitable for the present invention, a microfluidizer M-110S-EH manufactured by Microfluidics International Corporation is used.
(G 1 0Z with interaction chamber), M-
110Y (with H10Z interaction chamber), M-140K (G 1 0Z with interaction chamber), HC-5000 (L30Z or H23
With 0Z interaction chamber), HC-80
00 (with an E230Z or L30Z interaction chamber) and the like.
【0200】これらの装置を用い、少なくとも有機銀塩
を含む水分散液を高圧ポンプ等で加圧して配管内に送入
した後、配管内に設けられた細いスリットを通過させる
ことにより所望の圧力を印加し、この後に配管内の圧力
を大気圧に急速に戻す等の方法で分散液に急激な圧力降
下を生じさせることにより本発明に最適な有機銀塩分散
物を得ることが可能である。Using these devices, an aqueous dispersion containing at least an organic silver salt is pressurized by a high-pressure pump or the like and fed into a pipe, and then passed through a narrow slit provided in the pipe to obtain a desired pressure. Is applied, and thereafter, the pressure in the pipe is rapidly returned to the atmospheric pressure, for example, by causing a rapid pressure drop in the dispersion liquid, thereby making it possible to obtain an optimal organic silver salt dispersion for the present invention. .
【0201】本発明の有機銀塩分散においては、流速、
圧力降下時の差圧と処理回数の調節によって所望の粒子
サイズに分散することが可能であるが、写真特性と粒子
サイズの点から、流速が200m/秒〜600m/秒、圧力降下時
の差圧が900〜3000kg/cm2の範囲が好ましく、流速が300
m/秒〜600m/秒、圧力降下時の差圧が1500〜3000kg/cm2
の範囲であることが更に好ましい。分散処理回数は必要
に応じて選択でき、通常は1回〜10回の処理回数が選ば
れるが、生産性の点からは1回〜3回程度の処理回数が選
ばれる。高圧下でこのような水分散液を高温にすること
は、分散性、写真特性の点から好ましくなく、90℃を越
えるような高温では粒子サイズが大きくなりやすくなる
と共に、カブリが高くなる傾向がある。従って、本発明
では前記の高圧、高流速に変換する前の工程もしくは、
圧力降下させた後の工程、あるいはこれらの両工程に冷
却工程を含み、このような水分散の温度が冷却工程によ
り5〜90℃の範囲に保たれていることが好ましく、更に
好ましくは5〜80℃の範囲、特に5〜65℃の範囲に保たれ
ていることが好ましい。特に、1500〜3000kg/cm2の範囲
の高圧の分散時には前記の冷却工程を設置することが有
効である。冷却器は、その所要熱交換量に応じて、二重
管や二重管にスタチックミキサーを使用したもの、多管
式熱交換器、蛇管式熱交換器等を適宜選択することがで
きる。また、熱交換の効率を上げるために、使用圧力を
考慮して、管の太さ、肉厚や材質など好適なものを選べ
ばよい。冷却器に使用する冷媒は、熱交換量から、20℃
の井水や冷凍機で処理した5〜10℃の冷水、また必要に
応じて-30℃のエチレングリコール/水等の冷媒を使用す
ることもできる。In the organic silver salt dispersion of the present invention, the flow rate,
It is possible to disperse to the desired particle size by adjusting the pressure difference during pressure drop and the number of treatments.However, from the viewpoint of photographic characteristics and particle size, the flow rate is 200 m / sec to 600 m / sec, is preferably in the range pressure is 900~3000kg / cm 2, flow rate 300
m / sec ~600M / sec, the pressure difference at the pressure drop 1500~3000kg / cm 2
More preferably, it is within the range. The number of times of the dispersion processing can be selected as needed, and usually 1 to 10 times is selected, but from the viewpoint of productivity, about 1 to 3 times is selected. It is not preferable to raise the temperature of such an aqueous dispersion under high pressure from the viewpoint of dispersibility and photographic characteristics.At a temperature higher than 90 ° C., the particle size tends to increase, and the fog tends to increase. is there. Therefore, in the present invention, the high pressure, the step before converting to a high flow rate, or
The step after the pressure is reduced, or both of these steps include a cooling step, and the temperature of such aqueous dispersion is preferably kept in the range of 5 to 90 ° C. by the cooling step, and more preferably 5 to 90 ° C. It is preferred that the temperature be kept in the range of 80 ° C, particularly in the range of 5 to 65 ° C. In particular, it is effective to provide the above cooling step at the time of high-pressure dispersion in the range of 1500 to 3000 kg / cm 2 . As the cooler, a double tube, a double tube using a static mixer, a multi-tube heat exchanger, a coiled tube heat exchanger, or the like can be appropriately selected according to the required heat exchange amount. Further, in order to increase the efficiency of heat exchange, it is sufficient to select a suitable one such as a pipe thickness, a wall thickness and a material in consideration of a working pressure. The refrigerant used for the cooler is 20 ° C based on the heat exchange amount.
Well water or cold water of 5 to 10 ° C treated by a refrigerator, or, if necessary, a refrigerant such as ethylene glycol / water at -30 ° C can also be used.
【0202】本発明の分散操作では、水性溶媒可溶な分
散剤(分散助剤)の存在下で有機銀塩を分散することが
好ましい。分散助剤としては、例えば、ポリアクリル
酸、アクリル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、マレ
イン酸モノエステル共重合体、アクリロメチルプロパン
スルホン酸共重合体などの合成アニオンポリマー、カル
ボキシメチルデンプン、カルボキシメチルセルロースな
どの半合成アニオンポリマー、アルギン酸、ペクチン酸
などのアニオン性ポリマー、特開平7-350753号に記載の
化合物、あるいは公知のアニオン性、ノニオン性、カチ
オン性界面活性剤やその他のポリビニルアルコール、ポ
リビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒ
ドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチ
ルセルロース等の公知のポリマー、あるいはゼラチン等
の自然界に存在する高分子化合物を適宜選択して用いる
ことができるが、ポリビニルアルコール類、水溶性のセ
ルロース誘導体が特に好ましい。In the dispersion operation of the present invention, it is preferable to disperse the organic silver salt in the presence of an aqueous solvent-soluble dispersant (dispersion aid). Examples of the dispersing agent include polyacrylic acid, a copolymer of acrylic acid, a maleic acid copolymer, a maleic acid monoester copolymer, a synthetic anionic polymer such as an acrylomethylpropanesulfonic acid copolymer, and carboxymethyl. Starch, semi-synthetic anionic polymers such as carboxymethyl cellulose, alginic acid, anionic polymers such as pectic acid, the compounds described in JP-A-7-350753, or known anionic, nonionic, cationic surfactants and other polyvinyl Known polymers such as alcohol, polyvinylpyrrolidone, carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, and hydroxypropylmethylcellulose, and naturally occurring polymer compounds such as gelatin can be appropriately selected and used. Lumpur acids, particularly preferred water-soluble cellulose derivatives.
【0203】分散助剤は、分散前に有機銀塩の粉末また
はウェットケーキ状態の有機銀塩と混合し、スラリーと
して分散機に送り込むのは一般的な方法であるが、予め
有機銀塩と混ぜ合わせた状態で熱処理や溶媒による処理
を施して有機銀塩粉末またはウェットケーキとしても良
い。分散前後または分散中に適当なpH調整剤によりpHコ
ントロールしても良い。It is a general method that the dispersing aid is mixed with an organic silver salt powder or an organic silver salt in a wet cake state before dispersion and then sent as a slurry to a dispersing machine. Heat treatment or treatment with a solvent may be performed in the combined state to form an organic silver salt powder or a wet cake. The pH may be controlled by a suitable pH adjuster before, during or after dispersion.
【0204】機械的に分散する以外にも、pHコントロー
ルすることで溶媒中に粗分散し、その後、分散助剤の存
在下でpHを変化させて微粒子化させても良い。このと
き、粗分散に用いる溶媒として有機溶媒を使用しても良
く、通常有機溶媒は微粒子化終了後除去される。In addition to the mechanical dispersion, the dispersion may be roughly dispersed in a solvent by controlling the pH, and then the pH may be changed in the presence of a dispersing aid to form fine particles. At this time, an organic solvent may be used as a solvent used for the coarse dispersion, and the organic solvent is usually removed after the completion of the fine particle formation.
【0205】調製された分散物は、保存時の微粒子の沈
降を抑える目的で撹拌しながら保存したり、親水性コロ
イドにより粘性の高い状態(例えば、ゼラチンを使用し
ゼリー状にした状態)で保存したりすることもできる。
また、保存時の雑菌などの繁殖を防止する目的で防腐剤
を添加することもできる。The prepared dispersion may be stored with stirring for the purpose of suppressing sedimentation of fine particles during storage, or stored in a highly viscous state with a hydrophilic colloid (for example, in a jelly state using gelatin). You can also.
Further, a preservative can be added for the purpose of preventing the propagation of various bacteria during storage.
【0206】本発明の有機銀塩は所望の量で使用できる
が、感材1m2当たりの塗布量で示して、銀量として0.1
〜5g/m2が好ましく、さらに好ましくは1〜3g/m2であ
る。[0206] While the organic silver salt according to the invention can be used in a desired amount, show a coating amount per photographic material 1 m 2, 0.1 as silver
55 g / m 2 is preferred, and more preferably 1-3 g / m 2 .
【0207】画像を向上させる「色調剤」として知られ
る添加剤を含むと光学濃度が高くなることがある。ま
た、色調剤は黒色銀画像を形成させる上でも有利になる
ことがある。色調剤は画像形成層を有する面に銀1モル
当たりの0.1〜50%(モル)の量含まれることが好まし
く、0.5〜20%(モル)含まれることがさらに好ましい。
また、色調剤は現像時のみ有効に機能を持つように誘導
化されたいわゆるプレカーサーであってもよい。When an additive known as a “toning agent” for improving an image is contained, the optical density may be increased. Toning agents may also be advantageous in forming black silver images. The toning agent is preferably contained in an amount of 0.1 to 50% (mole) per mole of silver on the surface having the image forming layer, and more preferably 0.5 to 20% (mole).
Further, the color tone agent may be a so-called precursor which is derivatized so as to have a function effectively only during development.
【0208】有機銀塩を利用した熱現像感光材料におい
ては広範囲の色調剤が特開昭46-6077号、同47-10282
号、同49-5019号、同49-5020号、同49-91215号、同49-9
1215号、同50-2524号、同50-32927号、同50-67132号、
同50-67641号、同50-114217号、同51-3223号、同51-279
23号、同52-14788号、同52-99813号、同53-1020号、同5
3-76020号、同54-156524号、同54-156525号、同61-1836
42号、特開平4-56848号、特公昭49-10727号、同54-2033
3号、米国特許3,080,254号、同3,446,648号、同3,782,9
41号、同4,123,282号、同4,510,236号、英国特許138079
5号、ベルギー特許841910号などに開示されている。色
調剤の例は、フタルイミドおよびN-ヒドロキシフタルイ
ミド;スクシンイミド、ピラゾリン-5-オン、ならびに
キナゾリノン、3-フェニル-2-ピラゾリン-5-オン、1-フ
ェニルウラゾール、キナゾリンおよび2,4-チアゾリジン
ジオンのような環状イミド;ナフタルイミド(例えば、N
-ヒドロキシ-1,8-ナフタルイミド);コバルト錯体(例え
ば、コバルトヘキサミントリフルオロアセテート);3-
メルカプト-1,2,4-トリアゾール、2,4-ジメルカプトピ
リミジン、3-メルカプト-4,5-ジフェニル-1,2,4-トリア
ゾールおよび2,5-ジメルカプト-1,3,4-チアジアゾール
に例示されるメルカプタン;N-(アミノメチル)アリール
ジカルボキシイミド、(例えば、(N,N-ジメチルアミノメ
チル)フタルイミドおよびN,N-(ジメチルアミノメチル)-
ナフタレン-2,3-ジカルボキシイミド);ならびにブロッ
ク化ピラゾール、イソチウロニウム誘導体およびある種
の光退色剤(例えば、N,N'-ヘキサメチレンビス(1-カル
バモイル-3,5-ジメチルピラゾール)、1,8-(3,6-ジアザ
オクタン)ビス(イソチウロニウムトリフルオロアセテー
ト)および2-トリブロモメチルスルホニル)-(ベンゾチア
ゾール));ならびに3-エチル-5[(3-エチル-2-ベンゾチ
アゾリニリデン)-1-メチルエチリデン]-2-チオ-2,4-オ
キサゾリジンジオン;フタラジノン、フタラジノン誘導
体もしくは金属塩、または4-(1-ナフチル)フタラジノ
ン、6-クロロフタラジノン、5,7-ジメトキシフタラジノ
ンおよび2,3-ジヒドロ-1,4-フタラジンジオンなどの誘
導体;フタラジノンとフタル酸誘導体(例えば、フタル
酸、4-メチルフタル酸、4-ニトロフタル酸およびテトラ
クロロ無水フタル酸など)との組合せ;フタラジン、フ
タラジン誘導体(例えば、4-(1-ナフチル)フタラジン、6
-クロロフタラジン、5,7-ジメトキシフタラジン、iso-
プロピルフタラジン、6-iso-ブチルフタラジン、6-tert
-ブチルフタラジン、5,7-ジメチルフタラジン、および
2,3-ジヒドロフタラジンなどの誘導体)もしくは金属
塩、;フタラジンおよびその誘導体とフタル酸誘導体
(例えば、フタル酸、4-メチルフタル酸、4-ニトロフタ
ル酸およびテトラクロロ無水フタル酸など)との組合
せ;キナゾリンジオン、ベンズオキサジンまたはナフト
オキサジン誘導体;色調調節剤としてだけでなくその場
でハロゲン化銀生成のためのハライドイオンの源として
も機能するロジウム錯体、例えばヘキサクロロロジウム
(III)酸アンモニウム、臭化ロジウム、硝酸ロジウムお
よびヘキサクロロロジウム(III)酸カリウムなど;無機
過酸化物および過硫酸塩、例えば、過酸化二硫化アンモ
ニウムおよび過酸化水素;1,3-ベンズオキサジン-2,4-
ジオン、8-メチル-1,3-ベンズオキサジン-2,4-ジオン
および6-ニトロ-1,3-ベンズオキサジン-2,4-ジオンなど
のベンズオキサジン-2,4-ジオン;ピリミジンおよび不
斉-トリアジン(例えば、2,4-ジヒドロキシピリミジン、
2-ヒドロキシ-4-アミノピリミジンなど)、アザウラシ
ル、およびテトラアザペンタレン誘導体(例えば、3,6-
ジメルカプト-1,4-ジフェニル-1H,4H-2,3a,5,6a-テトラ
アザペンタレン、および1,4-ジ(o-クロロフェニル)-3,6
-ジメルカプト-1H,4H-2,3a,5,6a-テトラアザペンタレ
ン)などがある。In a photothermographic material using an organic silver salt, a wide range of color toning agents are disclosed in JP-A-46-6077 and JP-A-47-10282.
Nos. 49-5019, 49-5020, 49-91215, 49-9
No. 1215, No. 50-2524, No. 50-32927, No. 50-67132,
No. 50-67641, No. 50-114217, No. 51-3223, No. 51-279
No. 23, No. 52-14788, No. 52-99813, No. 53-1020, No. 5
3-76020, 54-156524, 54-156525, 61-1836
No. 42, JP-A-4-56848, JP-B-49-10727, 54-2033
No. 3, U.S. Pat.Nos. 3,080,254, 3,446,648, 3,782,9
No. 41, No. 4,123,282, No. 4,510,236, British Patent 138079
No. 5, Belgian Patent No. 841910 and the like. Examples of toning agents are phthalimide and N-hydroxyphthalimide; succinimide, pyrazolin-5-one and quinazolinone, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline and 2,4-thiazolidinedione Cyclic imides such as; naphthalimides (eg, N
-Hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complexes (eg, cobalt hexamine trifluoroacetate); 3-
Mercapto-1,2,4-triazole, 2,4-dimercaptopyrimidine, 3-mercapto-4,5-diphenyl-1,2,4-triazole and 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole Illustrative mercaptans; N- (aminomethyl) aryldicarboximides, such as (N, N-dimethylaminomethyl) phthalimide and N, N- (dimethylaminomethyl)-
Naphthalene-2,3-dicarboximide); and blocked pyrazoles, isothiuronium derivatives and certain photobleaching agents (eg, N, N′-hexamethylenebis (1-carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), 1 , 8- (3,6-diazaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate) and 2-tribromomethylsulfonyl)-(benzothiazole)); and 3-ethyl-5 [(3-ethyl-2-benzothia) Zolinylidene) -1-methylethylidene] -2-thio-2,4-oxazolidinedione; phthalazinone, phthalazinone derivative or metal salt, or 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7- Derivatives such as dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione; phthalazinone and phthalic acid derivatives (for example, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic acid) Combination of anhydride such as phthalic acid); phthalazine, phthalazine derivatives (e.g., 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6
-Chlorophthalazine, 5,7-dimethoxyphthalazine, iso-
Propylphthalazine, 6-iso-butylphthalazine, 6-tert
-Butylphthalazine, 5,7-dimethylphthalazine, and
Derivatives such as 2,3-dihydrophthalazine) or metal salts; phthalazine and its derivatives and phthalic acid derivatives
(Eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride, etc.); quinazolinedione, benzoxazine or naphthoxazine derivatives; silver halide in situ as well as color tone modifier Rhodium complex that also functions as a source of halide ions for formation, such as hexachlororhodium
(III) ammonium, rhodium bromide, rhodium nitrate and potassium hexachlororhodate (III) and the like; inorganic peroxides and persulfates, such as ammonium disulfide and hydrogen peroxide; 1,3-benzoxazine- 2,4-
Benzoxazine-2,4-diones such as dione, 8-methyl-1,3-benzoxazine-2,4-dione and 6-nitro-1,3-benzoxazine-2,4-dione; pyrimidine and asymmetric -Triazines (e.g., 2,4-dihydroxypyrimidine,
2-hydroxy-4-aminopyrimidine, etc.), azauracil, and tetraazapentalene derivatives (e.g., 3,6-
Dimercapto-1,4-diphenyl-1H, 4H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene, and 1,4-di (o-chlorophenyl) -3,6
-Dimercapto-1H, 4H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene).
【0209】本発明の色調剤は、溶液、粉末、固体微粒
子分散物などいかなる方法で添加してもよい。固体微粒
子分散は公知の微細化手段(例えば、ボールミル、振動
ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミ
ル、ローラーミルなど)で行われる。また、固体微粒子
分散する際に分散助剤を用いてもよい。The color tone agent of the present invention may be added by any method such as a solution, a powder, and a dispersion of solid fine particles. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.
【0210】本発明における画像形成層(感光性層、乳
剤層)のバインダーとしては、よく知られている天然ま
たは合成樹脂、例えば、ゼラチン、ポリビニルアセター
ル、ポリビニルクロリド、ポリビニルアセテート、セル
ロースアセテート、ポリオレフィン、ポリエステル、ポ
リスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート
などから任意のものを選択することができる。当然なが
ら、コポリマーおよびターポリマーも含まれる。好まし
いポリマーは、ポリビニルブチラール、ブチルエチルセ
ルロース、メタクリレートコポリマー、無水マレイン酸
エステルコポリマー、ポリスチレンおよびブタジエン-
スチレンコポリマーである。必要に応じて、これらのポ
リマーを2種またはそれ以上組合せて使用することがで
きる。そのようなポリマーは、成分をその中に保持する
のに十分な量で使用される。すなわち、バインダーとし
て機能するのに効果的な範囲で使用される。効果的な範
囲は、当業者が適切に決定することができる。少なくと
も有機銀塩を保持する場合の目安として、バインダー対
有機銀塩の割合は、15:1〜1:2、特に8:1〜1:1の範
囲が好ましい。As the binder for the image forming layer (photosensitive layer, emulsion layer) in the present invention, well-known natural or synthetic resins such as gelatin, polyvinyl acetal, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, cellulose acetate, polyolefin, Any material can be selected from polyester, polystyrene, polyacrylonitrile, polycarbonate and the like. Of course, copolymers and terpolymers are also included. Preferred polymers are polyvinyl butyral, butyl ethyl cellulose, methacrylate copolymer, maleic anhydride copolymer, polystyrene and butadiene-
It is a styrene copolymer. If necessary, two or more of these polymers can be used in combination. Such a polymer is used in an amount sufficient to hold the components therein. That is, it is used in a range effective to function as a binder. The effective range can be appropriately determined by those skilled in the art. As a guide when at least the organic silver salt is retained, the ratio of the binder to the organic silver salt is preferably 15: 1 to 1: 2, particularly preferably 8: 1 to 1: 1.
【0211】本発明の画像形成層のうち少なくとも1層
は以下に述べるポリマーラテックスを全バインダーの50
wt%以上として用いた画像形成層であることが好まし
い。(以降この画像形成層を「本発明の画像形成層」、
バインダーに用いるポリマーラテックスを「本発明のポ
リマーラテックス」と表す。)また、ポリマーラテック
スは画像形成層だけではなく、保護層やバック層に用い
てもよく、特に寸法変化が問題となる印刷用途に本発明
の熱現像感光材料を用いる場合には、保護層やバック層
にもポリマーラテックスを用いる必要がある。ただしこ
こで言う「ポリマーラテックス」とは水不溶な疎水性ポ
リマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散した
ものである。分散状態としてはポリマーが分散媒中に乳
化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散さ
れたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な
構造を持ち分子鎖自身が分子状分散したものなどいずれ
でもよい。なお本発明のポリマーラテックスについては
「合成樹脂エマルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子
刊行会発行(1978))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝
明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会
発行(1993))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、
高分子刊行会発行(1970))」などに記載されている。分
散粒子の平均粒径は1〜50000nm、より好ましくは5〜100
0nm程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関し
ては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分
散の粒径分布を持つものでもよい。At least one of the image forming layers of the present invention comprises the polymer latex described below in 50% of the total binder.
The image forming layer is preferably used in an amount of not less than wt%. (Hereinafter, this image forming layer is referred to as "the image forming layer of the present invention",
The polymer latex used for the binder is referred to as “the polymer latex of the present invention”. In addition, the polymer latex may be used not only for the image forming layer, but also for the protective layer and the back layer. It is necessary to use a polymer latex also for the back layer. However, the "polymer latex" referred to here is a water-insoluble hydrophobic polymer dispersed as fine particles in a water-soluble dispersion medium. The dispersion state is such that the polymer is emulsified in a dispersion medium, emulsion-polymerized, micelle-dispersed, or partially dispersed in polymer molecules and molecular chains themselves are molecularly dispersed. Any of them may be used. Regarding the polymer latex of the present invention, `` synthetic resin emulsion (Taira Okuda, edited by Hiroshi Inagaki, published by Polymer Publishing Association (1978)) '', `` application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Yasuo Kataoka, Soichi Suzuki, edited by Keiji Kasahara, Published by Kobunshi Kankokai (1993)), `` Chemistry of Synthetic Latex (Souichi Muroi,
Published by Kobunshi Kankokai (1970)). The average particle size of the dispersed particles is 1 to 50,000 nm, more preferably 5 to 100.
A range of about 0 nm is preferable. There is no particular limitation on the particle size distribution of the dispersed particles, and those having a wide particle size distribution or those having a monodispersed particle size distribution may be used.
【0212】本発明に用いられるポリマーラテックスと
しては通常の均一構造のポリマーラテックス以外、いわ
ゆるコア/シェル型のラテックスでもよい。この場合コ
アとシェルはガラス転移温度を変えると好ましい場合が
ある。The polymer latex used in the present invention may be a so-called core / shell type latex other than a polymer latex having a normal uniform structure. In this case, it may be preferable to change the glass transition temperature of the core and the shell.
【0213】本発明に用いられるバインダーに用いるポ
リマーラテックスのポリマーのガラス転移温度(Tg)
は保護層、バック層と画像形成層とでは好ましい範囲が
異なる。画像形成層にあっては熱現像時に写真有用素材
の拡散を促すため、40℃以下であり、さらには-30〜40
℃が好ましい。保護層やバック層に用いる場合には種々
の機器と接触するために25〜70℃のガラス転移温度が好
ましい。The glass transition temperature (Tg) of the polymer of the polymer latex used for the binder used in the present invention
The preferred ranges differ between the protective layer, the back layer and the image forming layer. In the image forming layer, the temperature is 40 ° C. or less to promote the diffusion of useful photographic materials during thermal development.
C is preferred. When used for the protective layer or the back layer, a glass transition temperature of 25 to 70 ° C. is preferable for contacting various devices.
【0214】本発明に用いられるポリマーラテックスの
最低造膜温度(MFT)は-30℃〜90℃、より好ましくは0℃
〜70℃程度が好ましい。最低造膜温度をコントロールす
るために造膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は可塑剤
ともよばれポリマーラテックスの最低造膜温度を低下さ
せる有機化合物(通常有機溶剤)で、例えば前述の「合成
ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(197
0))」に記載されている。The minimum film forming temperature (MFT) of the polymer latex used in the present invention is -30 ° C to 90 ° C, more preferably 0 ° C.
About 70 ° C. is preferable. A film-forming auxiliary may be added to control the minimum film-forming temperature. The film-forming assistant is also called a plasticizer and is an organic compound (usually an organic solvent) that lowers the minimum film-forming temperature of the polymer latex.
0)) ".
【0215】本発明に用いられるポリマーラテックスに
用いられるポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニ
ル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系
樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレ
フィン樹脂、またはこれらの共重合体などがある。ポリ
マーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマー
でも、また架橋されたポリマーでも良い。またポリマー
としては単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマ
ーでも良いし、2種以上のモノマーが重合したコポリマ
ーでも良い。コポリマーの場合はランダムコポリマーで
もブロックコポリマーでも良い。ポリマーの分子量は数
平均分子量で5000〜1000000、好ましくは10000〜100000
程度が好ましい。分子量が小さすぎるものは画像形成層
の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは製膜性が
悪く好ましくない。The polymer type used in the polymer latex used in the present invention includes acrylic resin, vinyl acetate resin, polyester resin, polyurethane resin, rubber resin, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, polyolefin resin, or a copolymer thereof. There are coalescence. The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer. The polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized, or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The polymer has a number average molecular weight of 5000 to 100000, preferably 10,000 to 100,000.
The degree is preferred. If the molecular weight is too small, the mechanical strength of the image forming layer is insufficient, and if it is too large, the film-forming property is poor, which is not preferable.
【0216】本発明の熱現像感光材料の画像形成層のバ
インダーとして用いられるポリマーラテックスの具体例
としては以下のようなものがある。メチルメタクリレー
ト/エチルアクリレート/メタクリル酸コポリマーのラ
テックス、メチルメタクリレート/2エチルヘキシルア
クリレート/スチレン/アクリル酸コポリマーのラテッ
クス、スチレン/ブタジエン/アクリル酸コポリマーの
ラテックス、スチレン/ブタジエン/ジビニルベンゼン
/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタク
リレート/塩化ビニル/アクリル酸コポリマーのラテッ
クス、塩化ビニリデン/エチルアクリレート/アクリロ
ニトリル/メタクリル酸コポリマーのラテックスなど。
また、このようなポリマーは市販もされていて、以下の
ようなポリマーが利用できる。例えばアクリル樹脂の例
として、セビアンA-4635,46583、4601(以上ダイセル化
学工業(株)製)、Nipol Lx811、814、821、820、857
(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリエステル樹脂とし
ては、FINETEX ES650、611、675、850(以上大日本イン
キ化学(株)製)、WD-size、WMS(以上イーストマンケミ
カル製)など、ポリウレタン樹脂としてはHYDRAN AP10、
20、30、40(以上大日本インキ化学(株)製)など、ゴム
系樹脂としてはLACSTAR 7310K、3307B、4700H、7132C
(以上大日本インキ化学(株)製)、 Nipol Lx416、41
0、438C、2507(以上日本ゼオン(株)製)など、塩化ビ
ニル樹脂としてはG351、G576(以上日本ゼオン(株)製)
など、塩化ビニリデン樹脂としてはL502、L513(以上旭
化成工業(株)製)、アロンD7020、D504、D5071(以上三
井東圧(株)製)など、オレフィン樹脂としてはケミパー
ルS120、SA100(以上三井石油化学(株)製)などを挙げ
ることができる。これらのポリマーは単独で用いてもよ
いし、必要に応じて2種以上ブレンドして用いても良
い。Specific examples of the polymer latex used as a binder for the image forming layer of the photothermographic material of the present invention include the following. Latex of methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, latex of methyl methacrylate / 2 ethylhexyl acrylate / styrene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / divinylbenzene / methacrylic acid copolymer, Latex of methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic acid copolymer, latex of vinylidene chloride / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid copolymer and the like.
Such polymers are also commercially available, and the following polymers can be used. For example, as examples of acrylic resin, Sebian A-4635,46583,4601 (all manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811,814,821,820,857
(Nippon Zeon Co., Ltd.) and other polyester resins, such as FINETEX ES650, 611, 675, 850 (Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.), WD-size, WMS (Eastman Chemical Co., Ltd.), etc. HYDRAN AP10 as polyurethane resin,
LACSTAR 7310K, 3307B, 4700H, 7132C as rubber resins such as 20, 30, 40 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
(Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.), Nipol Lx416, 41
G351 and G576 (both manufactured by Zeon Corporation) as vinyl chloride resins, such as 0, 438C and 2507 (both manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.)
Examples of vinylidene chloride resins include L502 and L513 (all manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.), Aron D7020, D504, and D5071 (all manufactured by Mitsui Toatsu Co., Ltd.). Chemical Co., Ltd.). These polymers may be used alone or as a blend of two or more as necessary.
【0217】本発明の画像形成層は全バインダーの50重
量%以上として上記ポリマーラテックスを用いることが
好ましいが、70重量%以上として上記ポリマーラテック
スを用いることがより好ましい。In the image forming layer of the present invention, the polymer latex is preferably used in an amount of 50% by weight or more of the total binder, and more preferably 70% by weight or more.
【0218】本発明の画像形成層には必要に応じて全バ
インダーの50重量%以下の範囲でゼラチン、ポリビニル
アルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加し
ても良い。これらの親水性ポリマーの添加量は画像形成
層の全バインダーの30重量%以下、さらには15重量%以下
が好ましい。In the image forming layer of the present invention, if necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose or the like is added in an amount of 50% by weight or less of the whole binder. May be. The amount of the hydrophilic polymer to be added is preferably 30% by weight or less, more preferably 15% by weight or less of the total binder in the image forming layer.
【0219】本発明の画像形成層は水系の塗布液を塗布
後乾燥して調製することが好ましい。ただし、ここで言
う「水系」とは塗布液の溶媒(分散媒)の60重量%以上が
水であることをいう。塗布液の水以外の成分はメチルア
ルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコー
ル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ジメチルホ
ルムアミド、酢酸エチルなどの水混和性の有機溶媒を用
いることができる。具体的な溶媒組成の例としては、水
のほか、以下のようなものがある。水/メタノール=90
/10、水/メタノール=70/30、水/エタノール=90/1
0、水/イソプロパノール=90/10、水/ジメチルホルム
アミド=95/5、水/メタノール/ジメチルホルムアミド
=80/15/5、水/メタノール/ジメチルホルムアミド=9
0/5/5。(ただし数字は重量%を表す。)The image forming layer of the present invention is preferably prepared by applying an aqueous coating solution and then drying it. However, the term “aqueous” as used herein means that 60% by weight or more of the solvent (dispersion medium) of the coating liquid is water. As components other than water of the coating solution, water-miscible organic solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate can be used. Specific examples of the solvent composition include the following in addition to water. Water / methanol = 90
/ 10, water / methanol = 70/30, water / ethanol = 90/1
0, water / isopropanol = 90/10, water / dimethylformamide = 95/5, water / methanol / dimethylformamide
= 80/15/5, water / methanol / dimethylformamide = 9
0/5/5. (However, the numbers represent% by weight.)
【0220】本発明の画像形成層の全バインダー量は0.
2〜30g/m2、より好ましくは1〜15g/m2の範囲が好まし
い。本発明の画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布
性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。The total amount of the binder in the image forming layer of the present invention is 0.1.
The range is preferably 2 to 30 g / m 2 , more preferably 1 to 15 g / m 2 . A crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like may be added to the image forming layer of the invention.
【0221】本発明の熱現像感光材料の熱現像処理前の
膜面pHは3以上7以下であることが好ましい。膜面p
Hの調節は、公知の酸、アルカリ溶液を用いることがで
きるが、フタル酸誘導体(例えば、フタル酸、4-メチル
フタル酸、4-ニトロフタル酸およびテトラクロロ無水フ
タル酸など)などの有機酸や、硫酸、リン酸などの不揮
発性の酸の添加量を調整すること、あるいはアンモニア
などの揮発性の塩基を用いることなどで行うことが好ま
しい。The surface pH of the photothermographic material of the present invention before the heat development processing is preferably 3 or more and 7 or less. Membrane surface p
For the adjustment of H, known acids and alkali solutions can be used, but phthalic acid derivatives (e.g., phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and organic acids such as tetrachlorophthalic anhydride, and the like) It is preferable to adjust the addition amount of a non-volatile acid such as sulfuric acid or phosphoric acid, or to use a volatile base such as ammonia.
【0222】特にアンモニアは揮発しやすく、塗布する
工程や熱現像される前に除去できることから低膜面pH
を達成する上で好ましい。In particular, ammonia is easily volatilized and can be removed before the coating step or thermal development.
It is preferable in achieving.
【0223】なお、本発明の膜面pHの測定は熱現像処
理前の熱現像感光材料2.5cm ×2.5cmを舟形に折り、そ
の画像形成層側に300μlの蒸留水を滴下し、30分静置し
た後に、その滴下液をpH BOY-P2(新電元工業(株)
製、半導体方式のpH計)にて1分間測定することで行
った。In the measurement of the film surface pH of the present invention, the photothermographic material 2.5 cm × 2.5 cm before the heat development was folded into a boat shape, 300 μl of distilled water was dropped on the image forming layer side, and the solution was allowed to stand for 30 minutes. After dropping, add the dropping solution to pH BOY-P2 (Shindengen Kogyo Co., Ltd.)
And a semiconductor type pH meter) for 1 minute.
【0224】本発明における増感色素としてはハロゲン
化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀
粒子を分光増感できるもので有ればいかなるものでも良
い。増感色素としては、シアニン色素、メロシアニン色
素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロ
シアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色
素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソ
ノール色素等を用いることができる。本発明に使用され
る有用な増感色素は例えばRESEARCH DISCLOSURE Item17
643IV-A項(1978年12月p.23)、同Item1831X項(1979年8月
p.437)に記載もしくは引用された文献に記載されてい
る。特に各種レーザーイメージャー、スキャナー、イメ
ージセッターや製版カメラの光源の分光特性に適した分
光感度を有する増感色素を有利に選択することができ
る。As the sensitizing dye in the present invention, any dye can be used as long as it can spectrally sensitize silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on silver halide grains. As the sensitizing dye, a cyanine dye, a merocyanine dye, a complex cyanine dye, a complex merocyanine dye, a holopolar cyanine dye, a styryl dye, a hemicyanine dye, an oxonol dye, a hemioxonol dye, and the like can be used. Useful sensitizing dyes for use in the present invention include, for example, RESEARCH DISCLOSURE Item 17
Item 643IV-A (p.23, December 1978), Item 1831X (August 1979)
p.437) or in the literature cited. In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the light source of various laser imagers, scanners, imagesetters and plate making cameras can be advantageously selected.
【0225】赤色光への分光増感の例としては、He-Ne
レーザー、赤色半導体レーザーやLEDなどのいわゆる赤
色光源に対しては、特開昭54-18726号に記載のI-1から
I-38の化合物、特開平6-75322号に記載のI-1からI-3
5の化合物および特開平7-287338号に記載のI-1からI-
34の化合物、特公昭55-39818号に記載の色素1から20、
特開昭62-284343号に記載のI-1からI-37の化合物およ
び特開平7-287338号に記載のI-1からI-34の化合物な
どが有利に選択される。As an example of spectral sensitization to red light, He-Ne
For a so-called red light source such as a laser, a red semiconductor laser or an LED, a compound of I-1 to I-38 described in JP-A-54-18726, and a compound of I-1 described in JP-A-6-75322. I-3
5 and the compounds I-1 to I- described in JP-A-7-287338.
34 compounds, dyes 1 to 20 described in JP-B-55-39818,
The compounds I-1 to I-37 described in JP-A-62-284343 and the compounds I-1 to I-34 described in JP-A-7-287338 are advantageously selected.
【0226】750〜1400nmの波長領域の半導体レーザー
光源に対しては、シアニン、メロシアニン、スチリル、
ヘミシアニン、オキソノール、ヘミオキソノールおよび
キサンテン色素を含む種々の既知の色素により、スペク
トル的に有利に増感させることができる。有用なシアニ
ン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾリン核、ピ
ロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール
核、セレナゾール核およびイミダゾール核などの塩基性
核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニン染
料で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒ
ダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン
核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリ
ノン核、マロノニトリル核およびピラゾロン核などの酸
性核も含む。上記のシアニンおよびメロシアニン色素に
おいて、イミノ基またはカルボキシル基を有するものが
特に効果的である。例えば、米国特許3,761,279号、同
3,719,495号、同3,877,943号、英国特許1,466,201号、
同1,469,117号、同1,422,057号、特公平3-10391号、同6
-52387号、特開平5-341432号、同6-194781号、同6-3011
41号に記載されたような既知の色素から適当に選択して
よい。For a semiconductor laser light source in the wavelength region of 750 to 1400 nm, cyanine, merocyanine, styryl,
A variety of known dyes, including hemicyanine, oxonol, hemioxonol and xanthene dyes, can be spectrally sensitized favorably. Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having a basic nucleus, such as a thiazoline nucleus, an oxazoline nucleus, a pyrroline nucleus, a pyridine nucleus, an oxazole nucleus, a thiazole nucleus, a selenazole nucleus and an imidazole nucleus. Preferred useful merocyanine dyes include, in addition to the above basic nuclei, acidic nuclei such as thiohydantoin nucleus, rhodanine nucleus, oxazolidinedione nucleus, thiazolinedione nucleus, barbituric acid nucleus, thiazolinone nucleus, malononitrile nucleus and pyrazolone nucleus. Including. Among the above-mentioned cyanine and merocyanine dyes, those having an imino group or a carboxyl group are particularly effective. For example, U.S. Pat.
3,719,495, 3,877,943, British Patent 1,466,201,
No. 1,469,117, No. 1,422,057, No. 3-10391, No. 6
-52387, JP-A-5-341432, JP-A-6-94781, JP-A-6-3011
The dye may be appropriately selected from known dyes as described in No. 41.
【0227】本発明に用いられる色素の構造として特に
好ましいものは、チオエーテル結合含有置換基を有する
シアニン色素(例としては特開昭62-58239号、同3-13863
8号、同3-138642号、同4-255840号、同5-72659号、同5-
72661号、同6-222491号、同2-230506号、同6-258757
号、同6-317868号、同6-324425号、特表平7-500926号、
米国特許5,541,054号に記載された色素)、カルボン酸基
を有する色素(例としては特開平3-163440号、同6-30114
1号、米国特許5,441,899号に記載された色素)、メロシ
アニン色素、多核メロシアニン色素や多核シアニン色素
(特開昭47-6329号、同49-105524号、同51-127719号、同
52-80829号、同54-61517号、同59-214846号、同60-6750
号、同63-159841号、特開平6-35109号、同6-59381号、
同7-146537号、同7-146537号、特表平55-50111号、英国
特許1,467,638号、米国特許5,281,515号に記載された色
素)が挙げられる。Particularly preferred as the structure of the dye used in the present invention is a cyanine dye having a thioether bond-containing substituent (for example, see JP-A-62-58239 and JP-A-3-13863).
No.8, No.3-138642, No.4-255840, No.5-72659, No.5-
No. 72661, No. 6-222491, No. 2-230506, No. 6-258757
No., 6-317868, 6-324425, Tokuyohei 7-500926,
Dyes described in U.S. Pat.No. 5,541,054), dyes having a carboxylic acid group (for example, JP-A-3-163440, JP-A-6-30114)
No. 1, U.S. Pat.No. 5,441,899), merocyanine dyes, polynuclear merocyanine dyes and polynuclear cyanine dyes
(JP 47-6329, JP 49-105524, JP 51-127719, JP
52-80829, 54-61517, 59-214846, 60-6750
No. 63-159841, JP-A-6-35109, JP-A-6-59381,
And the dyes described in JP-A-7-146537, JP-A-7-146537, JP-T-55-50111, British Patent 1,467,638, and US Patent 5,281,515.
【0228】また、J-bandを形成する色素として米国特
許5,510,236号、同3,871,887号の実施例5記載の色素、
特開平2-96131号、特開昭59-48753号が開示されてお
り、本発明に好ましく用いることができる。Further, dyes described in Example 5 of US Pat. Nos. 5,510,236 and 3,871,887 as dyes forming a J-band,
JP-A-2-96131 and JP-A-59-48753 are disclosed and can be preferably used in the present invention.
【0229】これらの増感色素は単独に用いてもよく、
2種以上組合せて用いてもよい。増感色素の組合せは特
に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色素と
ともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは
可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を
示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色素、強
色増感を示す色素の組合せおよび強色増感を示す物質は
Research Disclosure176巻17643(1978年12月発行)第23
頁IVのJ項、あるいは特公昭49-25500号、同43-4933号、
特開昭59-19032号、同59-192242号等に記載されてい
る。These sensitizing dyes may be used alone.
Two or more kinds may be used in combination. Combinations of sensitizing dyes are often used, especially for supersensitization. In addition to the sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization. Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization and substances exhibiting supersensitization are
Research Disclosure Volume 176, 17643 (Issued December 1978) No. 23
Section IV on page IV, or JP-B-49-25500, 43-43933,
These are described in JP-A-59-19032 and JP-A-59-192242.
【0230】増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加させ
るには、それらを直接乳剤中に分散してもよいし、ある
いは水、メタノール、エタノール、プロパノール、アセ
トン、メチルセルソルブ、2,2,3,3-テトラフルオロプロ
パノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、3-メトキシ
-1-プロパノール、3-メトキシ-1-ブタノール、1-メトキ
シ-2-プロパノール、N,N-ジメチルホルムアミド等の溶
媒の単独もしくは混合溶媒に溶解して乳剤に添加しても
よい。The sensitizing dyes may be added to the silver halide emulsion by dispersing them directly in the emulsion or by adding water, methanol, ethanol, propanol, acetone, methylcellosolve, 2,2, 3,3-tetrafluoropropanol, 2,2,2-trifluoroethanol, 3-methoxy
It may be added to the emulsion by dissolving it in a solvent such as 1-propanol, 3-methoxy-1-butanol, 1-methoxy-2-propanol, N, N-dimethylformamide, alone or in a mixed solvent.
【0231】また、米国特許3,469,987号明細書等に開
示されているように、色素を揮発性の有機溶剤に溶解
し、この溶液を水または親水性コロイド中に分散し、こ
の分散物を乳剤中へ添加する方法、特公昭44-23389号、
同44-27555号、同57-22091号等に開示されているよう
に、色素を酸に溶解し、この溶液を乳剤中に添加した
り、酸または塩基を共存させて水溶液として乳剤中へ添
加する方法、米国特許3,822,135号、同4,006,025号明細
書等に開示されているように界面活性剤を共存させて水
溶液あるいはコロイド分散物としたものを乳剤中に添加
する方法、特開昭53-102733号、同58-105141号に開示さ
れているように親水性コロイド中に色素を直接分散さ
せ、その分散物を乳剤中に添加する方法、特開昭51-746
24号に開示されているように、レッドシフトさせる化合
物を用いて色素を溶解し、この溶液を乳剤中へ添加する
方法を用いることもできる。また、溶解に超音波を用い
ることもできる。As disclosed in US Pat. No. 3,469,987, a dye is dissolved in a volatile organic solvent, and this solution is dispersed in water or a hydrophilic colloid. To Japanese Patent Publication No. 44-23389,
As disclosed in JP-A-44-27555 and JP-A-57-22091, the dye is dissolved in an acid and this solution is added to the emulsion, or an acid or base is added to the emulsion as an aqueous solution in the presence of an acid or base. A method of adding an aqueous solution or a colloidal dispersion in the presence of a surfactant to an emulsion, as disclosed in U.S. Patent Nos. 3,822,135 and 4,006,025, JP-A-53-102733. JP-A-51-746, a method in which a dye is directly dispersed in a hydrophilic colloid and the dispersion is added to an emulsion as disclosed in JP-A-58-105141.
As disclosed in Japanese Patent No. 24, a method in which a dye is dissolved using a compound that causes a red shift, and this solution is added to an emulsion can also be used. Also, ultrasonic waves can be used for dissolution.
【0232】本発明に用いる増感色素を本発明のハロゲ
ン化銀乳剤中に添加する時期は、これまで有用であるこ
とが認められている乳剤調製のいかなる工程中であって
もよい。例えば米国特許2,735,766号、同3,628,960号、
同4,183,756号、同4,225,666号、特開昭58-184142号、
同60-196749号等の明細書に開示されているように、ハ
ロゲン化銀の粒子形成工程または/および脱塩前の時
期、脱塩工程中および/または脱塩後から化学熟成の開
始前までの時期、特開昭58-113920号等の明細書に開示
されているように、化学熟成の直前または工程中の時
期、化学熟成後、塗布までの時期の乳剤が塗布される前
ならばいかなる時期、工程において添加されてもよい。
また、米国特許4,225,666号、特開昭58-7629号等の明
細書に開示されているように、同一化合物を単独で、ま
たは異種構造の化合物と組み合わせて、例えば粒子形成
工程中と化学熟成工程中または化学熟成完了後とに分け
たり、化学熟成の前または工程中と完了後とに分けるな
どして分割して添加してもよく、分割して添加する化合
物および化合物の組み合わせの種類を変えて添加しても
よい。The sensitizing dye to be used in the present invention may be added to the silver halide emulsion of the present invention at any time during the preparation of the emulsion which has been found to be useful. For example, U.S. Patents 2,735,766 and 3,628,960,
No. 4,183,756, No. 4,225,666, JP-A-58-184142,
As disclosed in the specification of JP-A-60-196749 and the like, the timing before silver halide grain forming step and / or desalting, during and / or after desalting and before the start of chemical ripening. As disclosed in the specification such as JP-A-58-113920, any time immediately before chemical ripening or during the process, after chemical ripening, and before coating the emulsion before coating It may be added at the time and in the process.
Also, as disclosed in the specification of U.S. Pat. No. 4,225,666, JP-A-58-7629, etc., the same compound may be used alone or in combination with a compound having a different structure, for example, during the particle forming step. The compound may be added separately during the ripening step or after the completion of the chemical ripening, or may be added separately before or during the chemical ripening or after the completion of the chemical ripening. May be added.
【0233】本発明における増感色素の使用量としては
感度やカブリなどの性能に合わせて所望の量でよいが、
感光性層のハロゲン化銀1モル当たり10-6〜1モルが好ま
しく、10-4〜10-1モルがさらに好ましい。The amount of the sensitizing dye used in the present invention may be a desired amount in accordance with the performance such as sensitivity and fog.
The amount is preferably from 10 -6 to 1 mol, more preferably from 10 -4 to 10 -1 mol, per mol of silver halide in the photosensitive layer.
【0234】本発明には現像を抑制あるいは促進させ現
像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現
像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を本発明の抑制
剤と併用させることができる。In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound are used for controlling development by suppressing or accelerating development, improving spectral sensitization efficiency, and improving storage stability before and after development. Can be used in combination with the above inhibitor.
【0235】本発明にメルカプト化合物を使用する場
合、いかなる構造のものでも良いが、Ar-SM0、Ar-S-S-A
rで表されるものが好ましい。式中、M0は水素原子また
はアルカリ金属原子であり、Arは1個以上の窒素、イオ
ウ、酸素、セレニウムもしくはテルリウム原子を有する
芳香環基または縮合芳香環基である。好ましくは、これ
らの基中の複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフスイ
ミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベ
ンズオキサゾール、ナフスオキサゾール、ベンゾセレナ
ゾール、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾ
ール、ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、テ
トラゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピ
ラジン、ピリジン、プリン、キノリンまたはキナゾリノ
ンである。この複素芳香環は、例えば、ハロゲン(例え
ば、BrおよびCl)、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、
アルキル(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1〜4
個の炭素原子を有するもの)、アルコキシ(例えば、1個
以上の炭素原子、好ましくは1〜4個の炭素原子を有す
るもの)およびアリール(置換基を有していてもよい)
からなる置換基群から選択されるものを有してもよい。
メルカプト置換複素芳香族化合物をとしては、2-メルカ
プトベンズイミダゾール、2-メルカプトベンズオキサゾ
ール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプト-5
-メチルベンズイミダゾール、6-エトキシ-2-メルカプト
ベンゾチアゾール、2,2'-ジチオビス-ベンゾチアゾー
ル、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、4,5-ジフェニ
ル-2-イミダゾールチオール、2-メルカプトイミダゾー
ル、1-エチル-2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メ
ルカプトキノリン、8-メルカプトプリン、2-メルカプト
-4(3H)-キナゾリノン、7-トリフルオロメチル-4-キノリ
ンチオール、2,3,5,6-テトラクロロ-4-ピリジンチオー
ル、4-アミノ-6-ヒドロキシ-2-メルカプトピリミジンモ
ノヒドレート、2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チアジア
ゾール、3-アミノ-5-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、
4-ヒドキロシ-2-メルカプトピリミジン、2-メルカプト
ピリミジン、4,6-ジアミノ-2-メルカプトピリミジン、2
-メルカプト-4-メチルピリミジンヒドロクロリド、3-メ
ルカプト-5-フェニル-1,2,4-トリアゾール、1-フェニル
-5-メルカプトテトラゾール、3-(5-メルカプトテトラゾ
ール)-ベンゼンスルフォン酸ナトリウム、N-メチル-N'-
[3-(5-メルカプトテトラゾリル)フェニル]ウレア、2-メ
ルカプト-4-フェニルオキサゾールなどが挙げられる
が、本発明はこれらに限定されない。When a mercapto compound is used in the present invention, it may have any structure, but may be any of Ar-SM 0 , Ar-SSA
Those represented by r are preferred. In the formula, M 0 is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic ring group or a condensed aromatic ring group having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atoms. Preferably, the heteroaromatic ring in these groups is benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotellurazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, thiadiazole, tetrazole, Triazine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, pyridine, purine, quinoline or quinazolinone. The heteroaromatic ring includes, for example, halogens (e.g., Br and Cl), hydroxy, amino, carboxy,
Alkyl (e.g. one or more carbon atoms, preferably 1-4
Having one carbon atom), alkoxy (eg, having one or more carbon atoms, preferably 1-4 carbon atoms) and aryl (optionally having substituents)
And a substituent selected from the group consisting of:
As mercapto-substituted heteroaromatic compounds, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-5
-Methylbenzimidazole, 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole, 2,2'-dithiobis-benzothiazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 4,5-diphenyl-2-imidazolethiol, 2- Mercaptoimidazole, 1-ethyl-2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptoquinoline, 8-mercaptopurine, 2-mercapto
-4 (3H) -quinazolinone, 7-trifluoromethyl-4-quinolinethiol, 2,3,5,6-tetrachloro-4-pyridinethiol, 4-amino-6-hydroxy-2-mercaptopyrimidine monohydrate , 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazole,
4-Hydrocyr-2-mercaptopyrimidine, 2-mercaptopyrimidine, 4,6-diamino-2-mercaptopyrimidine, 2
-Mercapto-4-methylpyrimidine hydrochloride, 3-mercapto-5-phenyl-1,2,4-triazole, 1-phenyl
-5-mercaptotetrazole, 3- (5-mercaptotetrazole) -sodium benzenesulfonate, N-methyl-N'-
Examples include [3- (5-mercaptotetrazolyl) phenyl] urea, 2-mercapto-4-phenyloxazole, and the like, but the present invention is not limited thereto.
【0236】これらのメルカプト化合物の添加量として
は乳剤層(画像形成層)中に銀1モル当たり0.0001〜1
モルの範囲が好ましく、さらに好ましくは、銀の1モル
当たり0.001〜0.3モルの量である。The addition amount of these mercapto compounds is 0.0001 to 1 per mol of silver in the emulsion layer (image forming layer).
A molar range is preferred, more preferably an amount of 0.001 to 0.3 mole per mole of silver.
【0237】本発明における画像形成層(感光性層)に
は、可塑剤および潤滑剤として多価アルコール(例え
ば、米国特許第2,960,404号に記載された種類のグリセ
リンおよびジオール)、米国特許第2,588,765号および同
第3,121,060号に記載の脂肪酸またはエステル、英国特
許第955,061号に記載のシリコーン樹脂などを用いるこ
とができる。In the image forming layer (photosensitive layer) in the present invention, a polyhydric alcohol (for example, glycerin and diol of the type described in US Pat. No. 2,960,404) as a plasticizer and a lubricant, and US Pat. No. 2,588,765 are used. And fatty acids or esters described in US Pat. No. 3,121,060, and silicone resins described in UK Patent No. 955,061 can be used.
【0238】本発明における熱現像感光材料は画像形成
層の付着防止などの目的で表面保護層を設けることがで
きる。The photothermographic material according to the invention may be provided with a surface protective layer for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer.
【0239】本発明の表面保護層のバインダーとしては
いかなるポリマーでもよいが、カルボン酸残基を有する
ポリマーを100mg/m2以上5g/m2以下含むことが好まし
い。ここでいうカルボキシル残基を有するポリマーとし
ては天然高分子(ゼラチン、アルギン酸など)、変性天然
高分子(カルボキシメチルセルロース、フタル化ゼラチ
ンなど)、合成高分子(ポリメタクリレート、ポリアクリ
レート、ポリアルキルメタクリレート/アクリレート共
重合体、ポリスチレン/ポリメタクリレート共重合体な
ど)などが挙げられる。このようなポリマーのカルボキ
シ残基の含有量としてはポリマー100g当たり10mmol以上
1.4mol以下であることが好ましい。また、カルボン酸残
基はアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、有
機カチオンなどと塩を形成してもよい。The binder for the surface protective layer of the present invention may be any polymer, but preferably contains a polymer having a carboxylic acid residue in an amount of 100 mg / m 2 to 5 g / m 2 . Examples of the polymer having a carboxyl residue include natural polymers (gelatin, alginic acid, etc.), modified natural polymers (carboxymethylcellulose, phthalated gelatin, etc.), and synthetic polymers (polymethacrylate, polyacrylate, polyalkylmethacrylate / acrylate). Copolymer, polystyrene / polymethacrylate copolymer, etc.). The carboxy residue content of such a polymer should be 10 mmol or more per 100 g of the polymer.
It is preferably at most 1.4 mol. Further, the carboxylic acid residue may form a salt with an alkali metal ion, an alkaline earth metal ion, an organic cation, or the like.
【0240】本発明の表面保護層としては、いかなる付
着防止材料を使用してもよい。付着防止材料の例として
は、ワックス、シリカ粒子、スチレン含有エラストマー
性ブロックコポリマー(例えば、スチレン-ブタジエン-
スチレン、スチレン-イソプレン-スチレン)、酢酸セル
ロース、セルロースアセテートブチレート、セルロース
プロピオネートやこれらの混合物などがある。また、表
面保護層には架橋のための架橋剤、塗布性改良のための
界面活性剤などを添加してもよい。As the surface protective layer of the present invention, any anti-adhesion material may be used. Examples of anti-adhesion materials include waxes, silica particles, styrene-containing elastomeric block copolymers (e.g., styrene-butadiene-
Styrene, styrene-isoprene-styrene), cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose propionate, and mixtures thereof. Further, a crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like may be added to the surface protective layer.
【0241】本発明における画像形成層もしくは画像形
成層の保護層には、米国特許第3,253,921号、同第2,27
4,782号、同第2,527,583号および同第2,956,879号に記
載されているような光吸収物質およびフィルター染料を
使用することができる。また、例えば米国特許第3,282,
699号に記載のように染料を媒染することができる。フ
ィルター染料の使用量としては露光波長での吸光度が0.
1〜3が好ましく、0.2〜1.5が特に好ましい。In the image forming layer or the protective layer of the image forming layer in the invention, US Pat. Nos. 3,253,921 and 2,27
Light absorbing substances and filter dyes as described in 4,782, 2,527,583 and 2,956,879 can be used. Also, for example, U.S. Pat.
The dye can be mordanted as described in US Pat. As the amount of filter dye used, the absorbance at the exposure wavelength is 0.
1-3 are preferable, and 0.2-1.5 are particularly preferable.
【0242】本発明の感光性層には色調改良、イラジエ
ーション防止の観点から各種染料や顔料を用いることが
できる。本発明の感光性層に用いる染料および顔料はい
かなるものでもよいが、例えばカラーインデックス記載
の顔料や染料があり、具体的にはピラゾロアゾール染
料、アントラキノン染料、アゾ染料、アゾメチン染料、
オキソノール染料、カルボシアニン染料、スチリル染
料、トリフェニルメタン染料、インドアニリン染料、イ
ンドフェノール染料、フタロシアニンをはじめとする有
機顔料、無機顔料などが挙げられる。本発明に用いられ
る好ましい染料としてはアントラキノン染料(例えば特
開平5-341441号記載の化合物1〜9、特開平5-165147号記
載の化合物3-6〜18および3-23〜38など)、アゾメチン染
料(特開平5-341441号記載の化合物17〜47など)、インド
アニリン染料(例えば特開平5-289227号記載の化合物11
〜19、特開平5-341441号記載の化合物47、特開平5-1651
47号記載の化合物2-10〜11など)およびアゾ染料(特開平
5-341441号記載の化合物10〜16)が挙げられる。これら
の染料の添加法としては、溶液、乳化物、固体微粒子分
散物、高分子媒染剤に媒染された状態などいかなる方法
でも良い。これらの化合物の使用量は目的の吸収量によ
って決められるが、一般的に感材1m2当たり1μg以上1g
以下の範囲で用いることが好ましい。In the photosensitive layer of the present invention, various dyes and pigments can be used from the viewpoint of improving color tone and preventing irradiation. Dyes and pigments used in the photosensitive layer of the present invention may be any, for example, there are pigments and dyes described in the color index, specifically pyrazoloazole dye, anthraquinone dye, azo dye, azomethine dye,
Oxonol dyes, carbocyanine dyes, styryl dyes, triphenylmethane dyes, indoaniline dyes, indophenol dyes, organic pigments including phthalocyanine, and inorganic pigments. Preferred dyes used in the present invention include anthraquinone dyes (e.g., compounds 1 to 9 described in JP-A-5-341441, compounds 3-6 to 18 and 3-23 to 38 described in JP-A-5-165147), azomethine Dyes (e.g., compounds 17 to 47 described in JP-A-5-341441) and indoaniline dyes (e.g., compound 11 described in JP-A-5-289227).
To 19, compound 47 described in JP-A-5-341441, JP-A-5-1651
No. 47, compounds 2-10 to 11) and azo dyes (JP-A No.
Compounds 10 to 16) described in 5-341441 are exemplified. As a method for adding these dyes, any method such as a solution, an emulsion, a solid fine particle dispersion, and a state in which the dye is mordanted with a polymer mordant may be used. The amount of these compounds is determined by absorption of the purpose, generally the photosensitive material 1 m 2 per 1μg least 1g
It is preferable to use in the following range.
【0243】本発明における熱現像感光材料は、支持体
の一方の側に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤を含む
感光性層(画像形成層)を有し、他方の側にバック層を
有する、いわゆる片面感光材料であることが好ましい。The photothermographic material of the present invention has at least one light-sensitive layer (image forming layer) containing a silver halide emulsion on one side of a support, and has a back layer on the other side. It is preferably a so-called one-sided photosensitive material.
【0244】本発明においてバック層は、所望の範囲で
の最大吸収が約0.3以上2.0以下であることが好ましい。
所望の範囲が750〜1400nmである場合には、750〜360nm
においての光学濃度が0.005以上0.5未満であることが好
ましく、さらに好ましくは0.001以上0.3未満の光学濃度
を有するハレーション防止層であることが好ましい。所
望の範囲が750nm以下である場合には、画像形成前の所
望範囲の最大吸収が0.3以上2.0以下であり、さらに画像
形成後の360〜750nmの光学濃度が0.005以上0.3未満にな
るようなハレーション防止層であることが好ましい。画
像形成後の光学濃度を上記の範囲に下げる方法としては
特に制限はないが、例えばベルギー特許第733,706号に
記載されたように染料による濃度を加熱による消色で低
下させる方法、特開昭54-17833号に記載の光照射による
消色で濃度を低下させる方法等が挙げられる。In the present invention, the back layer preferably has a maximum absorption in a desired range of about 0.3 or more and 2.0 or less.
750-360nm if the desired range is 750-1400nm
Is preferably 0.005 or more and less than 0.5, more preferably an antihalation layer having an optical density of 0.001 or more and less than 0.3. When the desired range is 750 nm or less, the halation is such that the maximum absorption in the desired range before image formation is 0.3 or more and 2.0 or less, and the optical density at 360-750 nm after image formation is 0.005 or more and less than 0.3. Preferably, it is a prevention layer. The method for lowering the optical density after image formation to the above range is not particularly limited. For example, as described in Belgian Patent No. 733,706, a method in which the density of a dye is reduced by decolorization by heating, And a method of decreasing the density by decoloring by light irradiation described in JP-A-17833.
【0245】本発明でハレーション防止染料を使用する
場合、こうした染料は所望の範囲で目的の吸収を有し、
処理後に可視領域での吸収が充分少なく、上記バック層
の好ましい吸光度スペクトルの形状が得られればいかな
る化合物でも良い。例えば以下に挙げるものが開示され
ているが本発明はこれに限定されるものではない。単独
の染料としては特開昭59-56458号、特開平2-216140号、
同7-13295号、同7-11432号、米国特許5,380,635号記
載、特開平2-68539号公報第13頁左下欄1行目から同第14
頁左下欄9行目、同3-24539号公報第14頁左下欄から同第
16頁右下欄記載の化合物があり、処理で消色する染料と
しては特開昭52-139136号、同53-132334号、同56-50148
0号、同57-16060号、同57-68831号、同57-101835号、同
59-182436号、特開平7-36145号、同7-199409号、特公昭
48-33692号、同50-16648号、特公平2-41734号、米国特
許4,088,497号、同4,283,487号、同4,548,896号、同5,1
87,049号がある。When antihalation dyes are used in the present invention, such dyes have the desired absorption in the desired range,
Any compound may be used as long as it has a sufficiently low absorption in the visible region after the treatment and a preferable absorbance spectrum of the back layer is obtained. For example, the following are disclosed, but the present invention is not limited thereto. As a single dye, JP-A-59-56458, JP-A-2-216140,
No. 7-13295, No. 7-11432, U.S. Pat.No.5,380,635, JP-A-2-688539, page 13, lower left column, line 1 to line 14,
The lower left column of the page, line 9, from the lower left column of page 14 of JP-A-3-24539
There are compounds described in the lower right column of page 16, and as dyes which can be decolorized by treatment, JP-A Nos. 52-139136, 53-132334, 56-50148.
No. 0, No. 57-16060, No. 57-68831, No. 57-101835, No.
No. 59-182436, JP-A-7-36145, 7-199409
No. 48-33692, No. 50-16648, Japanese Patent Publication No. 2-41734, U.S. Pat.Nos. 4,088,497, 4,283,487, 4,548,896, 5,1
There is 87,049.
【0246】本発明においてバック層の好適なバインダ
ーは透明または半透明で、一般に無色であり、天然ポリ
マー合成樹脂やポリマーおよびコポリマー、その他フィ
ルムを形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴ
ム、ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロ
ース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブ
チレート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプ
ン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル酸)、ポ
リ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コポリ(スチレ
ン-無水マレイン酸)、コポリ(スチレン-アクリロニトリ
ル)、コポリ(スチレン-ブタジエン)、ポリ(ビニルアセ
タール)類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)およびポリ
(ビニルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタ
ン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ
(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニル
アセテート)、セルロースエステル類、ポリ(アミド)類
がある。バインダーは水または有機溶媒またはエマルジ
ョンから被覆形成してもよい。In the present invention, a suitable binder for the back layer is transparent or translucent, generally colorless, and includes natural polymer synthetic resins, polymers and copolymers, and other film-forming media such as: gelatin, gum arabic, and poly (vinyl). (Alcohol), hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinyl pyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid), copoly (Styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), poly (vinylacetal) s (e.g., poly (vinylformal) and poly (vinylformal))
(Vinyl butyral)), poly (ester) s, poly (urethanes), phenoxy resin, poly (vinylidene chloride), poly (vinylidene chloride)
(Epoxides), poly (carbonates), poly (vinyl acetate), cellulose esters, and poly (amides). The binder may be coated from water or an organic solvent or emulsion.
【0247】本発明において片面感光材料は、搬送性改
良のために感光性乳剤層(画像形成層)の表面保護層お
よび/またはバック層またはバック層の表面保護層にマ
ット剤を添加しても良い。マット剤は、一般に水に不溶
性の有機または無機化合物の微粒子である。マット剤と
しては任意のものを使用でき、例えば米国特許第1,939,
213号、同2,701,245号、同2,322,037号、同3,262,782
号、同3,539,344号、同3,767,448号等の各明細書に記載
の有機マット剤、同1,260,772号、同2,192,241号、同3,
257,206号、同3,370,951号、同3,523,022号、同3,769,0
20号等の各明細書に記載の無機マット剤など当業界で良
く知られたものを用いることができる。例えば具体的に
はマット剤として用いることのできる有機化合物の例と
しては、水分散性ビニル重合体の例としてポリメチルア
クリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロ
ニトリル、アクリロニトリル-α-メチルスチレン共重合
体、ポリスチレン、スチレン-ジビニルベンゼン共重合
体、ポリビニルアセテート、ポリエチレンカーボネー
ト、ポリテトラフルオロエチレンなど、セルロース誘導
体の例としてはメチルセルロース、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネートなど、澱粉誘
導体の例としてカルボキシ澱粉、カルボキシニトロフェ
ニル澱粉、尿素-ホルムアルデヒド-澱粉反応物など、公
知の硬化剤で硬化したゼラチンおよびコアセルベート硬
化して微少カプセル中空粒体とした硬化ゼラチンなど好
ましく用いることができる。無機化合物の例としては二
酸化珪素、二酸化チタン、二酸化マグネシウム、酸化ア
ルミニウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、公知の方
法で減感した塩化銀、同じく臭化銀、ガラス、珪藻土な
どを好ましく用いることができる。上記のマット剤は必
要に応じて異なる種類の物質を混合して用いることがで
きる。マット剤の大きさ、形状に特に限定はなく、任意
の粒径のものを用いることができる。本発明の実施に際
しては0.1μm〜30μmの粒径のものを用いるのが好まし
い。また、マット剤の粒径分布は狭くても広くても良
い。一方、マット剤は感材のヘイズ、表面光沢に大きく
影響することから、マット剤作製時あるいは複数のマッ
ト剤の混合により、粒径、形状および粒径分布を必要に
応じた状態にすることが好ましい。In the present invention, the single-sided photosensitive material may be prepared by adding a matting agent to the surface protective layer of the photosensitive emulsion layer (image forming layer) and / or the back layer or the surface protective layer of the back layer in order to improve the transportability. good. The matting agent is generally fine particles of an organic or inorganic compound insoluble in water. Any matting agent can be used, for example, U.S. Pat.
No. 213, No. 2,701,245, No. 2,322,037, No. 3,262,782
Nos. 3,539,344, 3,767,448, etc., the organic matting agents described in each specification, 1,260,772, 2,192,241, 3,3
257,206, 3,370,951, 3,523,022, 3,769,0
Those well known in the art, such as an inorganic matting agent described in each specification such as No. 20, can be used. For example, specifically, examples of organic compounds that can be used as a matting agent include, as examples of water-dispersible vinyl polymers, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, acrylonitrile-α-methylstyrene copolymer, and polystyrene. , Styrene-divinylbenzene copolymer, polyvinyl acetate, polyethylene carbonate, polytetrafluoroethylene, etc., examples of cellulose derivatives such as methylcellulose, cellulose acetate, cellulose acetate propionate, etc., and starch derivatives such as carboxy starch, carboxynitrophenyl Gelatin hardened with a known hardener such as starch, urea-formaldehyde-starch reactant, and hardened gelatin formed into microcapsule hollow granules by coacervate hardening are preferably used. Can be. As examples of the inorganic compound, silicon dioxide, titanium dioxide, magnesium dioxide, aluminum oxide, barium sulfate, calcium carbonate, silver chloride desensitized by a known method, silver bromide, glass, and diatomaceous earth can be preferably used. The above matting agents can be used by mixing different types of substances as necessary. The size and shape of the matting agent are not particularly limited, and those having an arbitrary particle size can be used. In practicing the present invention, it is preferable to use one having a particle size of 0.1 μm to 30 μm. Further, the particle size distribution of the matting agent may be narrow or wide. On the other hand, since the matting agent greatly affects the haze and surface gloss of the light-sensitive material, the particle size, shape, and particle size distribution can be changed as necessary during the preparation of the matting agent or by mixing a plurality of matting agents. preferable.
【0248】本発明においてバック層にマット剤を添加
するのは好ましい態様であり、バック層のマット度とし
てはベック平滑度が1200秒以下10秒以上が好ましく、さ
らに好ましくは700秒以下50秒以上である。In the present invention, it is a preferred embodiment to add a matting agent to the back layer. The matting degree of the back layer is preferably a Beck smoothness of 1200 seconds or less and 10 seconds or more, more preferably 700 seconds or less and 50 seconds or more. It is.
【0249】本発明において、マット剤は感光材料の最
外表面層もしくは最外表面層として機能する層、あるい
は外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわ
ゆる保護層として作用する層に含有されることが好まし
い。また、乳剤面保護層のマット度は星屑故障が生じな
ければいかようでも良いが、ベック平滑度が500秒以上1
0,000秒以下が好ましく、特に500秒以上2,000秒以下が
好ましい。In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer of the light-sensitive material, a layer functioning as the outermost surface layer, or a layer close to the outer surface. Preferably, it is contained. The matte degree of the emulsion surface protective layer may be any value as long as no stardust failure occurs, but the Beck smoothness is 500 seconds or more.
It is preferably at most 000 seconds, particularly preferably at least 500 seconds and at most 2,000 seconds.
【0250】本発明の熱現像写真用乳剤は、支持体上に
一またはそれ以上の層を構成する。一層の構成は有機銀
塩、ハロゲン化銀、現像剤およびバインダー、ならびに
色調剤、被覆助剤および他の補助剤などの所望による追
加の材料を含まなければならない。二層の構成は、第1
乳剤層(通常は支持体に隣接した層)中に有機銀塩および
ハロゲン化銀を含み、第2層または両層中にいくつかの
他の成分を含まなければならない。しかし、全ての成分
を含む単一乳剤層および保護トップコートを含んでなる
二層の構成も考えられる。多色感光性熱現像写真材料の
構成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよ
く、また、米国特許第4,708,928号に記載されているよ
うに単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。多染料
多色感光性熱現像写真材料の場合、各乳剤層は、一般
に、米国特許第4,460,681号に記載されているように、
各乳剤層(感光性層)の間に官能性もしくは非官能性の
バリアー層を使用することにより、互いに区別されて保
持される。The heat-developable photographic emulsion of the present invention comprises one or more layers on a support. One layer must contain additional optional materials such as organic silver salts, silver halides, developers and binders, and toning agents, coating aids and other auxiliaries. The two-layer configuration is the first
It must contain the organic silver salt and silver halide in the emulsion layer (usually the layer adjacent to the support) and some other components in the second or both layers. However, a two-layer construction comprising a single emulsion layer containing all components and a protective topcoat is also contemplated. The construction of a multicolor photothermographic material may include a combination of these two layers for each color, and may include all components in a single layer as described in U.S. Pat.No. 4,708,928. Is also good. In the case of a multi-dye, multi-color photosensitive heat-developable photographic material, each emulsion layer is generally, as described in U.S. Pat.
By using a functional or non-functional barrier layer between each emulsion layer (photosensitive layer), it is kept distinct from each other.
【0251】米国特許第4,460,681号および同第4,374,9
21号に示されるような裏面抵抗性加熱層(backside resi
stive heating layer)を感光性熱現像写真画像系に使用
することもできる。US Pat. Nos. 4,460,681 and 4,374,9
Backside resistive heating layer as shown in No. 21
stive heating layer) can also be used in a photosensitive heat developed photographic image system.
【0252】本発明の画像形成層(感光性層)、保護
層、バック層など各層には硬膜剤を用いても良い。硬膜
剤の例としては、米国特許4,281,060号、特開平6-20819
3号などに記載されているポリイソシアネート類、米国
特許4,791,042号などに記載されているエポキシ化合物
類、特開昭62-89048号などに記載されているビニルスル
ホン系化合物類などが用いられる。A hardener may be used for each layer such as the image forming layer (photosensitive layer), the protective layer and the back layer of the present invention. Examples of hardeners include U.S. Pat.No. 4,281,060 and JP-A-6-20819.
For example, polyisocyanates described in No. 3, etc., epoxy compounds described in US Pat. No. 4,791,042, vinyl sulfone compounds described in JP-A-62-89048 and the like are used.
【0253】本発明には塗布性、帯電改良などを目的と
して界面活性剤を用いても良い。界面活性剤の例として
は、ノニオン系、アニオン系、カチオン系、フッ素系な
どいかなるものも適宜用いられる。具体的には、特開昭
62-170950号、米国特許5,380,644号などに記載のフッ素
系高分子界面活性剤、特開昭60-244945号、特開昭63-18
8135号などに記載のフッ素系界面活性剤、米国特許3,88
5,965号などに記載のポリシロキサン系界面活性剤、特
開平6-301140号などに記載のポリアルキレンオキサイド
やアニオン系界面活性剤などが挙げられる。In the present invention, a surfactant may be used for the purpose of improving coating properties and charging. As the surfactant, any surfactant such as nonionic, anionic, cationic, and fluorine can be used as appropriate. Specifically,
No. 62-170950, Fluoropolymer surfactants described in U.S. Pat.No.5,380,644, JP-A-60-244945, JP-A-63-18
8135 No. fluorinated surfactants described in U.S. Pat.
Examples thereof include polysiloxane surfactants described in JP-A-5,965 and the like, polyalkylene oxides and anionic surfactants described in JP-A-6-301140 and the like.
【0254】本発明における熱現像用写真乳剤は、一般
的には種々の支持体上に被覆させることができる。典型
的な支持体は、ポリエステルフィルム、下塗りポリエス
テルフィルム、ポリ(エチレンテレフタレート)フィル
ム、ポリエチレンナフタレートフィルム、硝酸セルロー
スフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリ(ビニ
ルアセタール)フィルム、ポリカーボネートフィルムお
よび関連するまたは樹脂状の材料、ならびにガラス、
紙、金属などを含む。可撓性基材、特に、バライタおよ
び/または部分的にアセチル化されたα-オレフィンポ
リマー、特にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン
−ブテンコポリマーなどの炭素数2〜10のα-オレフィン
のポリマーによりコートされた紙支持体が、典型的に用
いられる。このような支持体は透明であっても不透明で
あってもよいが、透明であることが好ましい。これらの
うちでも75〜200μm程度の2軸延伸したポリエチレンテ
レフタレート(PET)が特に好ましい。The photographic emulsion for heat development in the present invention can be generally coated on various supports. Typical supports include polyester films, primed polyester films, poly (ethylene terephthalate) films, polyethylene naphthalate films, cellulose nitrate films, cellulose ester films, poly (vinyl acetal) films, polycarbonate films and related or resinous Materials, as well as glass,
Including paper, metal, etc. Flexible substrates, particularly coated with baryta and / or partially acetylated α-olefin polymers, especially polymers of C 2-10 α-olefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-butene copolymers A paper support is typically used. Such a support may be transparent or opaque, but is preferably transparent. Among them, biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) of about 75 to 200 μm is particularly preferred.
【0255】一方、プラスチックフィルムを80℃以上の
処理の熱現像機に通すと一般にフィルムの寸法が伸縮す
る。処理後の材料を印刷製版用途として使用する場合、
この伸縮は精密多色印刷を行う時に重大な問題となる。
よって、本発明では二軸延伸時にフィルム中に残存する
内部歪みを緩和させ、熱現像中に発生する熱収縮歪みを
なくす工夫をした、寸法変化の小さいフィルムを用いる
ことが好ましい。例えば、熱現像用写真乳剤を塗布する
前に100℃〜210℃の範囲で熱処理したポリエチレンテレ
フタレートなどが好ましく用いられる。ガラス転移温度
の高いものも好ましく、ポリエーテルエチルケトン、ポ
リスチレン、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォ
ン、ポリアリレート、ポリカーボネート等が使用でき
る。On the other hand, when a plastic film is passed through a heat developing machine at a temperature of 80 ° C. or more, the dimensions of the film generally expand and contract. If the processed material is used for printing plate making,
This expansion and contraction is a serious problem when performing precision multicolor printing.
Therefore, in the present invention, it is preferable to use a film having a small dimensional change, which is designed to reduce internal strain remaining in the film at the time of biaxial stretching and eliminate thermal shrinkage distortion generated during thermal development. For example, polyethylene terephthalate, which is heat-treated at 100 to 210 ° C. before coating the photographic emulsion for thermal development, is preferably used. Those having a high glass transition temperature are also preferable, and polyether ethyl ketone, polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polycarbonate and the like can be used.
【0256】本発明における熱現像感光材料は、帯電防
止のため、例えば、可溶性塩(例えば塩化物、硝酸塩な
ど)、蒸着金属層、米国特許第2,861,056号および同第3,
206,312号に記載のようなイオン性ポリマーまたは米国
特許第3,428,451号に記載のような不溶性無機塩、特開
昭60-252349号、同57-104931号に記載されている酸化ス
ズ微粒子などを含む層を有してもよい。The photothermographic material of the present invention may be, for example, a soluble salt (for example, chloride or nitrate), a vapor-deposited metal layer, US Pat. No. 2,861,056 and US Pat.
No. 206,312 or a layer containing an insoluble inorganic salt as described in U.S. Pat. May be provided.
【0257】本発明における熱現像感光材料を用いてカ
ラー画像を得る方法としては特開平7-13295号10頁左欄4
3行目から11左欄40行目に記載の方法がある。また、カ
ラー染料画像の安定剤としては英国特許第1,326,889
号、米国特許第3,432,300号、同第3,698,909号、同第3,
574,627号、同第3,573,050号、同第3,764,337号および
同第4,042,394号に例示されている。A method for obtaining a color image using the photothermographic material of the present invention is described in JP-A-7-13295, page 10, left column 4
There is a method described from the third line to the 11th left column, 40th line. Further, as a stabilizer for color dye images, UK Patent No. 1,326,889
No. 3,432,300, U.S. Pat.No. 3,698,909, U.S. Pat.
Nos. 574,627, 3,573,050, 3,764,337 and 4,042,394.
【0258】本発明における熱現像写真乳剤は、浸漬コ
ーティング、エアナイフコーティング、フローコーティ
ングまたは、米国特許第2,681,294号に記載の種類のホ
ッパーを用いる押出コーティングを含む種々のコーティ
ング操作により被覆することができる。所望により、米
国特許第2,761,791号および英国特許第837,095号に記載
の方法により2層またはそれ以上の層を同時に被覆する
ことができる。The photothermographic emulsion of the present invention can be coated by various coating operations including dip coating, air knife coating, flow coating or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. If desired, two or more layers can be coated simultaneously by the methods described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095.
【0259】本発明における熱現像感光材料の中に追加
の層、例えば移動染料画像を受容するための染料受容
層、反射印刷が望まれる場合の不透明化層、保護トップ
コート層および光熱写真技術において既知のプライマー
層などを含むことができる。本発明の感光材料はその感
材一枚のみで画像形成できることが好ましく、受像層等
の画像形成に必要な機能性層が別の感材とならないこと
が好ましい。In the photothermographic material of the present invention, additional layers, such as a dye-receiving layer for receiving a moving dye image, an opaque layer if reflective printing is desired, a protective topcoat layer and photothermographic techniques It may include a known primer layer and the like. The light-sensitive material of the present invention is preferably capable of forming an image with only one light-sensitive material, and it is preferable that a functional layer necessary for image formation such as an image receiving layer does not become another light-sensitive material.
【0260】本発明において、像様露光に用いられる露
光装置は露光時間が10-7秒未満の露光が可能な装置で
あればいずれでもよいが、一般的にはレーザーダイオー
ド Laser Diode(LD)、発光ダイオード Light Emi
tting Diode(LED)を光源に使用した露光装置が好
ましく用いられる。特に、LDは高出力、高解像度の点
でより好ましい。これらの光源は目的波長範囲の電磁波
スペクトルの光を発生することができるものであればい
ずれでもよい。例えばLDであれば、色素レーザー、ガ
スレーザー、固体レーザー、半導体レーザーなどを用い
ることができる。In the present invention, the exposure apparatus used for imagewise exposure may be any apparatus capable of performing exposure with an exposure time of less than 10 −7 seconds, but is generally a laser diode (LD), Light Emitting Diode Light Emi
An exposure apparatus using a tting diode (LED) as a light source is preferably used. In particular, LD is more preferable in terms of high output and high resolution. Any of these light sources may be used as long as it can generate light of an electromagnetic wave spectrum in a target wavelength range. For example, in the case of LD, a dye laser, a gas laser, a solid laser, a semiconductor laser, or the like can be used.
【0261】本発明の露光は光源の光ビームをオーバー
ラップさせて露光し、オーバーラップとは副走査ピッチ
幅がビーム径より小さいことをいう。オーバーラップと
は例えば、ビーム径をビーム強度の半値幅(FWHM)
で表わしたときFWHM/副走査ピッチ幅 (オーバー
ラップ係数)で定量的に表現することができる。本発明
ではこのオーバラップ係数が0.2以上(好ましくは1
以下)であることが好ましい。The exposure of the present invention is performed by overlapping the light beams of the light source with each other. The term "overlap" means that the sub-scanning pitch is smaller than the beam diameter. The overlap means, for example, that the beam diameter is equal to the full width at half maximum of the beam intensity (FWHM).
Can be quantitatively expressed by FWHM / sub-scanning pitch width (overlap coefficient). In the present invention, this overlap coefficient is 0.2 or more (preferably 1).
The following is preferred.
【0262】本発明に使用する露光装置の光源の走査方
式は特に限定はなく、円筒外面走査方式、円筒内面走査
方式、平面走査方式などを用いることができる。また、
光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネル
でもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネル
が好ましく用いられる。The scanning method of the light source of the exposure apparatus used in the present invention is not particularly limited, and a cylinder outer surface scanning method, a cylinder inner surface scanning method, a plane scanning method, or the like can be used. Also,
The channel of the light source may be a single channel or a multi-channel, but in the case of a cylindrical outer surface type, a multi-channel is preferably used.
【0263】本発明の熱現像感光材料は露光時のヘイズ
が低く、干渉縞が発生しやすい傾向にある。この干渉縞
発生防止技術としては、特開平5-113548号などに開示さ
れているレーザー光を感光材料に対して斜めに入光させ
る技術や、国際特許WO95/31754号などに開示されてい
るマルチモードレーザーを利用する方法が知られてお
り、これらの技術を用いることが好ましい。The photothermographic material of the present invention has a low haze at the time of exposure and tends to cause interference fringes. Examples of the interference fringe prevention technology include a technology disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 5-113548 and the like, in which a laser beam is obliquely incident on a photosensitive material, and a technology disclosed in International Patent WO95 / 31754 and the like. Methods using a mode laser are known, and it is preferable to use these techniques.
【0264】本発明の画像形成方法の加熱現像工程はい
かなる方法で現像されても良いが、通常イメージワイズ
に露光した感光材料を昇温して現像される。用いられる
熱現像機の好ましい態様としては、熱現像感光材料をヒ
ートローラーやヒートドラムなどの熱源に接触させるタ
イプとして特公平5-56499号、特許公報第684453号、特
開平9-292695号、特開平9-297385号および国際特許WO
95/30934号に記載の熱現像機、非接触型のタイプとして
特開平7-13294号、国際特許WO97/28489号、同97/2848
8号および同97/28487号に記載の熱現像機がある。特に
好ましい態様としては非接触型の熱現像機である。好ま
しい現像温度としては80〜250℃であり、さらに好まし
くは100〜140℃である。現像時間としては1〜180秒が好
ましく、10〜90秒がさらに好ましい。In the heat development step of the image forming method of the present invention, development may be performed by any method. Usually, development is performed by raising the temperature of a photosensitive material exposed imagewise. As a preferred embodiment of the thermal developing machine to be used, as a type in which the photothermographic material is brought into contact with a heat source such as a heat roller or a heat drum, Japanese Patent Publication No. 5-56499, Patent Publication No. 684453, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-292695, Kaihei 9-297385 and International Patent WO
No. 95/30934, as a non-contact type, JP-A-7-13294, International Patent WO 97/28489, and 97/2848
Nos. 8 and 97/28487. A particularly preferred embodiment is a non-contact type thermal developing machine. The preferred development temperature is 80 to 250 ° C, more preferably 100 to 140 ° C. The development time is preferably from 1 to 180 seconds, more preferably from 10 to 90 seconds.
【0265】本発明の熱現像感光材料の熱現像時の寸法
変化による処理ムラを防止する方法として、80℃以上11
5℃未満(好ましくは113℃以下)の温度で画像が出
ないようにして5秒以上加熱した後、110℃以上140℃以
下で熱現像して画像形成させる方法(いわゆる多段階加
熱方法)が有効である。As a method for preventing processing unevenness due to a dimensional change during thermal development of the photothermographic material of the present invention, a temperature of 80.degree.
A method of forming an image by heating at a temperature of less than 5 ° C. (preferably 113 ° C. or less) for 5 seconds or more so that an image is not formed, and then performing thermal development at 110 ° C. or more and 140 ° C. or less (a so-called multi-stage heating method) It is valid.
【0266】本発明の熱現像感光材料の熱現像処理に用
いられる熱現像機の一構成例を図1に示す。図1は熱現
像機の側面図を示したものである。図1の熱現像機は熱
現像感光材料10を平面状に矯正および予備加熱しなが
ら加熱部に搬入する搬入ローラー対11(下部ローラー
がヒートローラー)と熱現像後の熱現像後の熱現像感光
材料10を平面状に矯正しながら加熱部から搬出する搬
出ローラー対12を有する。熱現像感光材料10は搬入
ローラー対11から搬出ローラー対12へと搬送される
間に熱現像される。この熱現像中の熱現像感光材料10
を搬送する搬送手段は画像形成層を有する面が接触する
側に複数のローラー13が設置され、その反対側のバッ
ク面が接触する側には不織布(例えば芳香族ポリアミド
やテフロンから成る)等が貼り合わされた平滑面14が
設置される。熱現像感光材料10は画像形成層を有する
面に接触する複数のローラー13の駆動により、バック
面は平滑面14の上を滑って搬送される。加熱手段はロ
ーラー13の上部および平滑面14の下部に熱現像感光
材料10の両面から加熱されるように加熱ヒーター15
が設置される。この場合の加熱手段としては板状ヒータ
ー等が挙げられる。ローラー13と平滑面14とのクリ
アランスは平滑面の部材により異なるが、熱現像感光材
料10が搬送できるクリアランスに適宜調整される。好
ましくは0〜1mmである。FIG. 1 shows an example of the configuration of a heat developing machine used for the heat development of the photothermographic material of the present invention. FIG. 1 is a side view of the heat developing machine. The heat developing machine shown in FIG. 1 carries a pair of carry-in rollers 11 (a lower roller is a heat roller) for carrying the heat-developable photosensitive material 10 into a heating section while correcting and pre-heating the heat-developable photosensitive material 10 in a planar shape, and a photothermographic material after thermal development after thermal development. It has an unloading roller pair 12 that unloads the material 10 from the heating unit while correcting it into a planar shape. The photothermographic material 10 is thermally developed while being transported from the carry-in roller pair 11 to the carry-out roller pair 12. The photothermographic material 10 during this thermal development
A plurality of rollers 13 are installed on the side where the surface having the image forming layer comes into contact, and a non-woven fabric (for example, made of aromatic polyamide or Teflon) or the like is provided on the side where the back surface contacts the opposite side. The bonded smooth surface 14 is provided. The back surface of the photothermographic material 10 is conveyed by sliding on the smooth surface 14 by driving a plurality of rollers 13 that come into contact with the surface having the image forming layer. A heating means is provided on the upper portion of the roller 13 and the lower portion of the smooth surface 14 so as to be heated from both sides of the photothermographic material 10.
Is installed. As a heating means in this case, a plate heater or the like can be used. Although the clearance between the roller 13 and the smooth surface 14 varies depending on the member of the smooth surface, it is appropriately adjusted to a clearance that can transport the photothermographic material 10. Preferably it is 0 to 1 mm.
【0267】ローラー13の表面の材質および平滑面1
4の部材は、高温耐久性があり、熱現像感光材料10の
搬送に支障がなければ何でも良いが、ローラー表面の材
質はシリコーンゴム、平滑面の部材は芳香族ポリアミド
またはテフロン(PTFE)製の不織布が好ましい。加
熱手段としては複数のヒーターを用い、それぞれ加熱温
度を自由に設定することが好ましい。Material of Roller 13 Surface and Smooth Surface 1
The member 4 is durable at high temperature and may be anything as long as it does not hinder the conveyance of the photothermographic material 10, but the material of the roller surface is made of silicone rubber, and the member of the smooth surface is made of aromatic polyamide or Teflon (PTFE). Non-woven fabrics are preferred. It is preferable to use a plurality of heaters as the heating means and to set the heating temperature freely.
【0268】なお、加熱部は、搬入ローラー対11を有
する予備加熱部Aと加熱ヒーター15を備えた熱現像処
理部Bとで構成されるが、熱現像処理部Bの上流の予備
加熱部Aは、熱現像温度よりも低く(例えば10〜30
℃程度低く)、熱現像感光材料10の支持体のガラス転
移温度(Tg)よりも高い温度で、現像ムラが出ないよ
うに設定することが好ましい。The heating section is composed of a pre-heating section A having a carry-in roller pair 11 and a heat development section B having a heating heater 15. The pre-heating section A upstream of the heat development section B is provided. Is lower than the heat development temperature (for example, 10 to 30).
It is preferable that the temperature is set to be higher than the glass transition temperature (Tg) of the support of the photothermographic material 10 so that development unevenness does not occur.
【0269】また、熱現像処理部Bの下流にはガイド板
16が設置され、搬出ローラー対12とガイド板16と
を有する徐冷部Cが設置される。ガイド板は熱伝導率の
低い素材が好ましく、冷却は徐々に行うのが好ましい。Further, a guide plate 16 is provided downstream of the heat development processing section B, and a slow cooling section C having the carry-out roller pair 12 and the guide plate 16 is provided. The guide plate is preferably made of a material having low thermal conductivity, and is preferably cooled gradually.
【0270】以上、図示例に従って説明したが、これに
限らず、例えば特開平7-13294号に記載のものなど、本
発明に用いられる熱現像機は種々の構成のものであって
もよい。また、本発明において好ましく用いられる多段
加熱方法の場合は、加熱温度の異なる熱源を2個以上設
置し、連続的に異なる温度で加熱するようにすればよ
い。Although the above has been described with reference to the illustrated examples, the invention is not limited to this. For example, the thermal developing machine used in the present invention, such as that described in JP-A-7-13294, may have various structures. In the case of the multi-stage heating method preferably used in the present invention, two or more heat sources having different heating temperatures may be provided, and heating may be performed continuously at different temperatures.
【0271】[0271]
【実施例】以下に実施例をもって本発明の効果を説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例1 《ハロゲン化銀乳剤の調製》 (乳剤A)水700mlにフタル化ゼラチン11gおよび臭化カ
リウム30mg、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム10mgを
溶解して温度55℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀18.
6gを含む水溶液159mlと臭化カリウムを1モル/リット
ル、(NH4)2RhCl5(H2O)を5×10 -6モル/リットル、K3IrCl
6を2×10-5モル/リットルで含む水溶液をpAg7.7に保ち
ながらコントロールダブルジェット法で6分30秒間かけ
て添加した。ついで、硝酸銀55.5gを含む水溶液476mlと
臭化カリウムを1モル/リットル、K3IrCl6を2×10 -5モル
/リットルで含むハロゲン塩水溶液をpAg7.7に保ちなが
らコントロールダブルジェット法で28分30秒間かけて添
加した。その後pHを下げて凝集沈降させて脱塩処理を
し、化合物Aを0.17g、脱イオンゼラチン(カルシウム
含有量として20ppm以下)を23.7g加え、pH5.9、pAg8.0
に調整した。得られた粒子は平均粒子サイズ0.08μm、
投影面積変動係数9%、(100)面比率90%の立方体粒子であ
った。EXAMPLES The effects of the present invention will be described below with reference to examples.
However, the present invention is not limited to this. Example 1 << Preparation of silver halide emulsion >> (Emulsion A) 11 g of phthalated gelatin and
30 mg of lithium, 10 mg of sodium benzenethiosulfonate
After dissolving and adjusting the pH to 5.0 at a temperature of 55 ° C., silver nitrate 18.
1 mol / l of 159 ml of aqueous solution containing 6 g and potassium bromide
, (NHFour)TwoRhClFive(HTwoO) 5 × 10 -6Mol / l, KThreeIrCl
62 × 10-FiveAqueous solution containing mol / liter is maintained at pAg7.7
While taking control for 6 minutes 30 seconds by double jet method
Was added. Then, with 476 ml of an aqueous solution containing 55.5 g of silver nitrate
1 mol / l potassium bromide, KThreeIrCl62 × 10 -FiveMole
While maintaining the aqueous solution of the halogen salt in pAg7.7
28 minutes 30 seconds by control double jet method
Added. After that, the pH is lowered to cause coagulation and sedimentation,
And 0.17 g of compound A in deionized gelatin (calcium
23.7 g), pH 5.9, pAg 8.0
Was adjusted to The resulting particles have an average particle size of 0.08 μm,
Cubic particles with a projected area variation coefficient of 9% and a (100) face ratio of 90%
Was.
【0272】こうして得たハロゲン化銀粒子を60℃に昇
温して銀1モル当たりベンゼンチオスルホン酸ナトリウ
ム76μモルを添加し、3分後にチオ硫酸ナトリウム154μ
モルを添加して、100分熟成し、4-ヒドロキシ-6-メチル
-1,3,3a,7-テトラザインデンを5×10-4モル加えた後、4
0℃に降温させた。The silver halide grains thus obtained were heated to 60 ° C., and 76 μmol of sodium benzenethiosulfonate per mol of silver were added.
Add mol, ripen for 100 minutes, and add 4-hydroxy-6-methyl
After adding 5 × 10 -4 mol of -1,3,3a, 7-tetrazaindene, 4
The temperature was lowered to 0 ° C.
【0273】その後、40℃に温度を保ち、ハロゲン化銀
1モルに対して12.8×10-4モルの増感色素A、6.4×10-3
モルの化合物Bを攪拌しながら添加し、20分後に30℃に
急冷してハロゲン化銀乳剤Aの調製を終了した。Thereafter, the temperature was maintained at 40 ° C.
12.8 × 10 -4 mol of sensitizing dye A per mol, 6.4 × 10 -3
A mole of compound B was added with stirring, and after 20 minutes, the mixture was rapidly cooled to 30 ° C. to complete the preparation of silver halide emulsion A.
【0274】[0274]
【化37】 Embedded image
【0275】《有機酸銀分散物の調製》 <有機酸銀A>アラキン酸6.1g、ベヘン酸37.6g、蒸留
水700ml、tert-ブタノール70ml、1N-NaOH水溶液123mlを
混合し、75℃で1時間撹拌し反応させ、65℃に降温し
た。次いで、硝酸銀22gの水溶液112.5ml を45秒かけて
添加し、そのまま5分間放置し、30℃に降温した。その
後、吸引濾過で固形分を濾別し、固形分を濾水の伝導度
が30μS/cmになるまで水洗した。こうして得られた固形
分は、乾燥させないでウエットケーキとして取り扱い、
乾燥固形分100g相当のウエットケーキに対し、ポリビ
ニルアルコール(商品名:PVA-217)5gおよび水を添加
し、全体量を500gとしてからホモミキサーにて予備分
散した。<< Preparation of Organic Acid Silver Dispersion >><Organic acid silver A> 6.1 g of arachidic acid, 37.6 g of behenic acid, 700 ml of distilled water, 70 ml of tert-butanol, and 123 ml of a 1N aqueous solution of NaOH were mixed at 75 ° C. The mixture was stirred for an hour to react, and the temperature was lowered to 65 ° C. Then, 112.5 ml of an aqueous solution of 22 g of silver nitrate was added over 45 seconds, left as it was for 5 minutes, and cooled to 30 ° C. Thereafter, the solid content was separated by suction filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of the filtrate became 30 μS / cm. The solid content thus obtained is treated as a wet cake without drying,
To a wet cake having a dry solid content of 100 g, 5 g of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water were added to make the total amount 500 g, and the mixture was predispersed with a homomixer.
【0276】次に予備分散済みの原液を分散機(商品
名:マイクロフルイダイザーM−110S−EH、マイ
クロフルイデックス・インターナショナル・コーポレー
ション製、G10Zインタラクションチャンバー使用)
の圧力を1750kg/cm2に調節して、三回処理し、有機酸銀
分散物Aを得た。こうして得た有機酸銀分散物に含まれ
る有機酸銀粒子は平均短径0.04μm、平均長径0.8μm、
変動係数30%の針状粒子であった。粒子サイズの測定
は、Malvern Instruments Ltd.製MasterSizerXにて行っ
た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャ
ンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節すること
で所望の分散温度に設定した。こうして、ベヘン酸銀含
有率85モル%の有機酸銀Aを調製した。Next, the pre-dispersed stock solution is dispersed in a disperser (trade name: Microfluidizer M-110S-EH, manufactured by Microfluidics International Corporation, using G10Z interaction chamber).
The pressure was adjusted to 1750 kg / cm 2 , and the mixture was treated three times to obtain an organic acid silver dispersion A. The organic acid silver particles contained in the organic acid silver dispersion thus obtained have an average minor axis of 0.04 μm, an average major axis of 0.8 μm,
Needle-like particles having a coefficient of variation of 30%. The measurement of the particle size was performed by MasterSizerX manufactured by Malvern Instruments Ltd. In the cooling operation, a coiled heat exchanger was mounted before and after the interaction chamber, and the temperature of the refrigerant was adjusted to a desired dispersion temperature. Thus, organic acid silver A having a silver behenate content of 85 mol% was prepared.
【0277】《1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフ
ェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン(還元剤)の固体微
粒子分散物の調製》1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチ
ルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン20gに対してク
ラレ(株)製MPポリマーのMP-203を3.0gと水77mlを添加
してよく撹拌して、スラリーとして3時間放置した。そ
の後、0.5mmのジルコニアビーズを360g用意してスラリ
ーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラ
インダーミル:アイメックス(株)製)にて3時間分散し
還元剤固体微粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の
80wt%が0.3μm以上1.0μm以下であった。<< Preparation of Solid Fine Particle Dispersion of 1,1-Bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane (Reducing Agent) >> (Hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane 20g to Kuraray Co., Ltd.MP polymer MP-203 3.0g and water 77ml was added and stirred well, as a slurry Left for 3 hours. After that, 360 g of 0.5 mm zirconia beads are prepared, put into a vessel together with the slurry, and dispersed with a dispersing machine (1 / 4G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 3 hours to prepare a solid fine particle dispersion of a reducing agent. did. The particle size is
80 wt% was 0.3 μm or more and 1.0 μm or less.
【0278】《カブリ防止剤Xの固体微粒子分散物の調
製》カブリ防止剤X30gに対してヒドロキシプロピルメ
チルセルロース0.5g、化合物C0.5gと、水88.5gを添加
し良く撹拌してスラリーとして3時間放置した。その
後、還元剤固体微粒子分散物の調製と同様にしてカブリ
防止剤Xの固体微粒子分散物を調製した。粒子径は、粒
子の80wt%が0.3μm以上1.0μm以下であった。<< Preparation of solid fine particle dispersion of antifoggant X >> 0.5 g of hydroxypropylmethylcellulose, 0.5 g of compound C and 88.5 g of water were added to 30 g of antifoggant X, and the mixture was stirred well and left as a slurry for 3 hours. did. Thereafter, a solid fine particle dispersion of the antifoggant X was prepared in the same manner as in the preparation of the reducing agent solid fine particle dispersion. As for the particle diameter, 80 wt% of the particles were 0.3 μm or more and 1.0 μm or less.
【0279】《カブリ防止剤Zの固体微粒子分散物の調
製》カブリ防止剤Z2.5gに対してクラレ(株)製MPポリ
マーのMP-203を1gと水30mlを添加してよく撹拌して、
スラリーとして3時間放置した。その後、還元剤固体微
粒子分散物の調製と同様にして、カブリ防止剤Zの固体
微粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の80wt%が0.3
μm以上1.0μm以下であった。<Preparation of solid fine particle dispersion of antifoggant Z> To 2.5 g of antifoggant Z, 1 g of MP-203, an MP polymer manufactured by Kuraray Co., Ltd., and 30 ml of water were added, and the mixture was thoroughly stirred.
The slurry was left for 3 hours. Thereafter, a solid fine particle dispersion of the antifoggant Z was prepared in the same manner as in the preparation of the reducing agent solid fine particle dispersion. The particle size is 80 wt% of the particles 0.3
It was not less than μm and not more than 1.0 μm.
【0280】《本発明または比較の硬調化剤の固体微粒
子分散物の調製》表10に示す硬調化剤5gに対してポリ
ビニルアルコール(商品名:PVA-217)2.5g、化合物C0.5
gと、水92gを添加し良く撹拌してスラリーとして3時間
放置した。その後、還元剤固体微粒子分散物の調製と同
様にして硬調化剤の固体微粒子分散液を調製した。粒子
径は、粒子の80wt%が0.3μm以上1.0μm以下であった。<< Preparation of Solid Fine Particle Dispersion of the Present Invention or Comparative Toning Agent >> 2.5 g of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217), compound C0.5 per 5 g of the toning agent shown in Table 10
g and 92 g of water were added, stirred well, and left as a slurry for 3 hours. Thereafter, a solid fine particle dispersion of a high contrast agent was prepared in the same manner as in the preparation of the reducing agent solid fine particle dispersion. As for the particle diameter, 80 wt% of the particles were 0.3 μm or more and 1.0 μm or less.
【0281】《本発明の比較または抑制剤の固体微粒子
分散物の調製》表10に示す抑制剤5gに対してポリビニ
ルアルコール(商品名:PVA-217)2.5g、化合物C0.5g
と、水92gを添加し良く撹拌してスラリーとして3時間放
置した。その後、還元剤固体微粒子分散物の調製と同様
にして抑制剤の固体微粒子分散液を調製した。粒子径
は、粒子の80wt%が0.3μm以上1.0μm以下であった。<< Comparison of the Present Invention or Preparation of Solid Fine Particle Dispersion of Inhibitor >> 2.5 g of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and 0.5 g of compound C per 5 g of the inhibitor shown in Table 10
And 92 g of water were added, stirred well, and left as a slurry for 3 hours. Thereafter, a solid fine particle dispersion of the inhibitor was prepared in the same manner as the preparation of the reducing agent solid fine particle dispersion. As for the particle diameter, 80 wt% of the particles were 0.3 μm or more and 1.0 μm or less.
【0282】なお、例示化合物2−2の重量平均分子量
Mwは5000、例示化合物2−12のMwは1500
0、例示化合物2−20のMwは30000である。The weight average molecular weight Mw of Exemplified Compound 2-2 was 5000, and Mw of Exemplified Compound 2-12 was 1500.
0, Mw of Exemplified Compound 2-20 is 30,000.
【0283】《乳剤層塗布液の調製》上記で作成した有
機酸銀微結晶分散物の銀1モルに対して、以下のバイン
ダー、素材、およびハロゲン化銀乳剤Aを添加して、水
を加えて、乳剤層塗布液とした。<< Preparation of Emulsion Layer Coating Solution >> The following binder, material, and silver halide emulsion A were added to 1 mol of silver of the organic acid silver microcrystal dispersion prepared above, and water was added. Thus, an emulsion layer coating solution was obtained.
【0284】 バインダー;ラックスター3307B 固形分として 406g (大日本インキ化学工業(株)製;SBRラテックスでガラス転移温度17℃) 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン の固体微粒子分散物 固形分として 119g カブリ防止剤Xの固体微粒子分散物 固形分として 21.6g ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 0.44g ベンゾトリアゾール 1.25g ポリビニルアルコール(クラレ(株)製MP-203) 20g iso-プロピルフタラジン 0.10mol オルトりん酸二水素ナトリウム 0.13g カブリ防止剤Zの固体微粒子分散物 固形分として 9.38g 染料A 783nmの光学濃度が0.3になる塗布量 ハロゲン化銀乳剤A Ag量として0.05mol 本発明の硬調化剤または比較化合物(H)の固体微粒子分散物 表10に種類、量を記載 本発明の抑制剤または比較化合物(a)、(b)の固体微粒子分散物 表10に種類、量を記載Binder; Luckstar 3307B 406 g as solid content (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Incorporated; glass transition temperature of 17 ° C. with SBR latex) 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)- 3,5,5-Trimethylhexane solid fine particle dispersion 119 g as solid content Solid antifoggant X solid fine particle dispersion 21.6 g sodium benzenethiosulfonate 0.44 g benzotriazole 1.25 g polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) MP-203) 20g iso-propylphthalazine 0.10mol Sodium dihydrogen orthophosphate 0.13g Solid fine particle dispersion of antifoggant Z 9.38g as solid Content of Dye A 783nm Coating amount to give optical density of 0.3 Silver halide emulsion A 0.05 mol as Ag content Solid fine particle dispersion of contrast agent or comparative compound (H) of the present invention Kind and amount are described in Table 10 Inhibitor or comparative compound (a) of the present invention, ( Wherein the type, the amount solid fine particle dispersion Table 10)
【0285】[0285]
【化38】 Embedded image
【0286】《乳剤面保護層塗布液の調製》メチルメタ
クリレート/スチレン/2-エチルヘキシルアクリレート
/2-ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸=59
/9/26/5/1(wt%)のポリマーラテックス(共重合体で
ガラス転移温度54℃、固形分濃度として44%、造膜助剤
として化合物Dを15wt%)102gにH2O 3.75gを加え、カ
ルバナワックス(中京油脂(株)製、セロゾール524)3
0wt%溶液1.89g、化合物E 0.188g、化合物F 2.55g、マ
ット剤(ポリスチレン粒子、平均粒径7μm)0.56gおよ
びポリビニルアルコール(クラレ(株)製,PVA-235)0.4
gを加え、さらにH2Oを加えて150gとし、塗布液とした。
塗布液のpHは6.8であった。<< Preparation of Coating Solution for Emulsion Surface Protective Layer >> Methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 59
3.75 / 9/26/5/1 (wt%) polymer latex (glass transition temperature of 54 ° C, solid content concentration of 44%, compound D as film-forming aid 15 wt%) of 102 g of 3.75 H 2 O g, and add carbana wax (Cellosol 524, manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd.)
1.89 g of 0 wt% solution, 0.188 g of compound E, 2.55 g of compound F, 0.56 g of matting agent (polystyrene particles, average particle diameter 7 μm) and 0.4 of polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., PVA-235) 0.4
g, and further H 2 O was added to make 150 g, which was used as a coating solution.
The pH of the coating solution was 6.8.
【0287】[0287]
【化39】 Embedded image
【0288】《バック/下塗り層のついたPET支持体の
作成》 (1)支持体 テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従
い、IV(固有粘度)=0.66(フェノール/テトラクロル
エタン=6/4(重量比)中25℃で測定)のPETを得
た。これをペレット化した後、130℃で4時間乾燥し、3
00℃で溶融後T型ダイから押し出して急冷し、熱固定後
の膜厚が120μmになるような厚みの未延伸フイルムを
作成した。<< Preparation of PET Support with Back / Undercoat Layer >> (1) Support Using terephthalic acid and ethylene glycol, IV (intrinsic viscosity) = 0.66 (phenol / tetrachloroethane = 6 / 4 (measured at 25 ° C. in weight ratio). After pelletizing this, it was dried at 130 ° C for 4 hours,
After being melted at 00 ° C., the film was extruded from a T-die and quenched to prepare an unstretched film having a thickness of 120 μm after heat setting.
【0289】これを周速の異なるロールを用い、3.3倍
に縦延伸、ついでテンターで4.5倍に横延伸を実施し
た。このときの温度はそれぞれ、110℃、130℃であっ
た。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で
横方向に4%緩和した。この後、テンターのチャック部を
スリットした後、両端にナール加工を行い、4.8kg/cm2
で巻きとった。このようにして、幅2.4m、長さ3500m、
厚み120μmのロールを得た。This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls having different peripheral speeds, and then horizontally stretched 4.5 times using a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. After that, it was heat-set at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed 4% in the lateral direction at the same temperature. Then, after slitting the chuck part of the tenter, knurling is performed on both ends, and 4.8 kg / cm 2
Rolled up. In this way, width 2.4m, length 3500m,
A roll having a thickness of 120 μm was obtained.
【0290】 (2)下塗り層(a) ポリマーラテックス− コア部90wt%、シェル部10wt%のコアシェルタイプのラテックスで、 コア部;塩化ビニリデン/メチルアクリレート/メチルメタクリレート/アクリ ロニトリル/アクリル酸=93/3/3/0.9/0.1(重量%) シェル部;塩化ビニリデン/メチルアクリレート/メチルメタクリレート/アク リロニトリル/アクリル酸=88/3/3/3/3(重量%) 重量平均分子量38000 固形分量3.0g/m2 2,4-ジクロロ-6-ヒドロキシ-s-トリアジン 23mg/m2 マット剤(ポリスチレン、平均粒子径2.4μm) 1.5mg/m2 (2) Undercoat layer (a) Polymer latex-a core-shell type latex having a core of 90% by weight and a shell of 10% by weight. Core: vinylidene chloride / methyl acrylate / methyl methacrylate / acrylonitrile / acrylic acid = 93 / 3/3 / 0.9 / 0.1 (% by weight) Shell: vinylidene chloride / methyl acrylate / methyl methacrylate / acrylonitrile / acrylic acid = 88/3/3/3/3/3 (% by weight) Weight average molecular weight 38000 Solids 3.0g / m 2 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine 23 mg / m 2 Matting agent (polystyrene, average particle size 2.4 μm) 1.5 mg / m 2
【0291】 (3)下塗り層(b) アルカリ処理ゼラチン (Ca2+含量30ppm、ゼリー強度230g) 50mg/m2 (3) Undercoat layer (b) Alkali-treated gelatin (Ca 2+ content 30 ppm, jelly strength 230 g) 50 mg / m 2
【0292】 (4)導電層 ジュリマーET-410(日本純薬(株)製) 96mg/m2 アルカリ処理ゼラチン(分子量約10000、Ca2+含量30ppm) 42mg/m2 脱イオン処理ゼラチン(Ca2+含量0.6ppm) 8mg/m2 化合物A 0.2mg/m2 ポリオキシエチレンフェニルエーテル 10mg/m2 スミテックスレジンM-3 18mg/m2 (水溶性メラミン化合物 住友化学工業(株)製) 染料A 780nmの光学濃度が1.2になる塗布量 SnO2/Sb(9/1重量比、針状微粒子、長軸/短軸=20〜30;石原産業(株)製) 160mg/m2 マット剤(ポリメチルメタクリレート、平均粒子径5μm) 7mg/m2 (4) Conductive Layer Jurimar ET-410 (manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) 96 mg / m 2 alkali-treated gelatin (molecular weight: about 10,000, Ca 2+ content: 30 ppm) 42 mg / m 2 deionized gelatin (Ca 2 + content 0.6 ppm) 8 mg / m 2 compound A 0.2 mg / m 2 polyoxyethylene phenyl ether 10 mg / m 2 Sumitex resin M-3 18mg / m 2 (water-soluble melamine compound by Sumitomo chemical Co., Ltd.) dye A Coating amount SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, needle-like fine particles, major axis / minor axis = 20 to 30; manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 160 mg / m 2 matting agent (poly Methyl methacrylate, average particle size 5μm) 7mg / m 2
【0293】 (5)保護層 ポリマーラテックス− メチルメタクリレート/スチレン/2−エチルヘキシルアクリレート/ 2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸 =59/9/26/5/1(重量%の共重合体) 1000mg/m2 ポリスチレンスルホン酸塩(分子量1000〜5000) 2.6mg/m2 セロゾール524(中央油脂(株)製) 25mg/m2 スミテックスレジンM-3 218mg/m2 (水溶性メラミン化合物、住友化学工業(株)製)(5) Protective layer Polymer latex-methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 59/9/26/5/1 (weight% copolymer) 1000 mg / m ( 2) Polystyrene sulfonate (molecular weight: 1,000 to 5,000) 2.6 mg / m 2 Cellosol 524 (manufactured by Chuo Yushi Co., Ltd.) 25 mg / m 2 Sumitex Resin M-3 218 mg / m 2 (water-soluble melamine compound, Sumitomo Chemical ( Co., Ltd.)
【0294】支持体の片面に下塗り層(a)と下塗り層(b)
を順次塗布し、それぞれ180℃、4分間乾燥した。つい
で、下塗り層(a)と下塗り層(b)を塗布した反対側の面に
導電層と保護層を順次塗布し、それぞれ180℃、30秒間
乾燥してバック/下塗り層のついたPET支持体を作成し
た。The undercoat layer (a) and the undercoat layer (b) are formed on one side of the support.
Were sequentially applied and dried at 180 ° C. for 4 minutes. Then, a conductive layer and a protective layer are sequentially coated on the opposite side to which the undercoat layer (a) and the undercoat layer (b) have been applied, and dried at 180 ° C. for 30 seconds, respectively, for a PET support having a back / undercoat layer. It was created.
【0295】このようにして作成したバック/下塗り層
のついたPET支持体を150℃に設定した全長30mの熱処理
ゾーンに入れ、張力1.4kg/cm2、搬送速度20m/分で自重
搬送した。その後、40℃のゾーンに15秒間通し、10kg/c
m2の巻き取り張力で巻き取った。The PET support provided with the back / undercoat layer thus prepared was placed in a heat treatment zone having a total length of 30 m set at 150 ° C., and was transported under its own weight at a tension of 1.4 kg / cm 2 and a transfer speed of 20 m / min. After that, pass through the 40 ° C zone for 15 seconds, 10kg / c
The film was wound with a winding tension of m 2 .
【0296】[0296]
【化40】 Embedded image
【0297】《熱現像感光材料(サンプル)の調製》前
記下塗り層(a)と下塗り層(b)を塗布した側のPET支持体
の下塗り層の上に前記の乳剤層塗布液を塗布銀量1.7g/m
2になるように塗布し、さらにその上に、前記乳剤面保
護層塗布液をポリマーラテックスの固形分の塗布量が3.
0g/m2になるように乳剤塗布液と共に同時重層塗布し
た。得られた熱現像感光材料の膜面pHは5.1であっ
た。<< Preparation of Photothermographic Material (Sample) >> The above-mentioned emulsion layer coating solution was coated on the undercoat layer of the PET support on which the undercoat layer (a) and the undercoat layer (b) had been coated. 1.7g / m
2 , and further coated thereon the emulsion surface protective layer coating solution with a solid content of the polymer latex of 3.
Co-layer coating was carried out simultaneously with the emulsion coating solution so as to obtain 0 g / m 2 . The film surface pH of the resulting photothermographic material was 5.1.
【0298】《写真性能の評価》 (露光処理)得られた熱現像感光材料を、ビーム径(ビー
ム強度の1/2のFWHM)12.56μm、レーザー出力50m
W、出力波長783nmの半導体レーザーを搭載した単チャン
ネル円筒内面方式のレーザー露光装置を使用し、ミラー
の回転数を変化させることにより露光時間を、出力値を
変えることにより露光量を調整し、2×10-8秒で露光し
た。この時のオーバーラップ係数(FWHM/副走査の
ピッチ幅)は0.5であり、副走査のピッチは28μmであ
る。<< Evaluation of Photographic Performance >> (Exposure Processing) The obtained photothermographic material was subjected to a beam diameter (FWHM of 1/2 of beam intensity) of 12.56 μm and a laser output of 50 m.
W, using a single-channel cylindrical inner surface laser exposure device equipped with a semiconductor laser with an output wavelength of 783 nm, adjust the exposure time by changing the number of rotations of the mirror, adjust the exposure amount by changing the output value, 2 Exposure was performed in × 10 −8 seconds. At this time, the overlap coefficient (FWHM / the pitch width of the sub-scan) is 0.5, and the pitch of the sub-scan is 28 μm.
【0299】(熱現像処理)露光済みの熱現像感光材料
を図1の熱現像機を用いて、熱現像処理部のローラー表
面材質はシリコーンゴム、平滑面は芳香族ポリアミド不
織布にして予備加熱部90〜100℃で5秒、熱現像処
理部120℃で20秒間熱現像処理を行った。なお、幅
方向の温度精度は±1℃であった。(Thermal Development Processing) The exposed photothermographic material was heated using the thermal developing machine shown in FIG. 1 and the roller surface material of the thermal development processing section was made of silicone rubber, and the smooth surface was made of an aromatic polyamide nonwoven fabric. A heat development process was performed at 90 to 100 ° C. for 5 seconds and a heat development processing unit at 120 ° C. for 20 seconds. The temperature accuracy in the width direction was ± 1 ° C.
【0300】(写真性能の評価)得られた画像の評価をマ
クベスTD904濃度計(可視濃度)により行った。測定の結
果は、カブリ(Dmin)、階調(コントラスト)で評価し
た。コントラストは露光量の対数を横軸として、濃度0.
3と3.0の点を結ぶ直線の傾きで表した。(Evaluation of photographic performance) The obtained images were evaluated using a Macbeth TD904 densitometer (visible density). The measurement results were evaluated by fog (Dmin) and gradation (contrast). Contrast is expressed as the logarithm of the exposure amount on the horizontal axis, and the density is 0.
Expressed by the slope of the line connecting points 3 and 3.0.
【0301】(硬調化剤の固体微粒子分散物の経時安定
性の評価)硬調化剤の固体微粒子分散物を40℃で10日間
経時後、乳剤層塗布液に添加し、熱現像感光材料を作成
した。分散直後の硬調化剤の固体微粒子分散物を用いて
作成した熱現像感光材料と写真性能を比較した。(Evaluation of temporal stability of solid fine particle dispersion of high contrast agent) After the solid fine particle dispersion of the high contrast agent was aged at 40 ° C. for 10 days, it was added to the emulsion layer coating solution to prepare a photothermographic material. did. Photographic performance was compared with that of a photothermographic material prepared using a solid fine particle dispersion of a contrast agent immediately after dispersion.
【0302】実用的には、カブリ値は0.15以下、階
調は10以上である必要があり、さらにカブリ値は0.
13以下、階調は15以上であることが好ましい。Practically, the fog value must be 0.15 or less and the gradation must be 10 or more.
It is preferable that the gradation is 13 or less and the gradation is 15 or more.
【0303】結果を表10に示す。分散直後の硬調化剤
の分散物を用いたものをフレッシュとし、10日間経時
後のものを用いたものを10日経時として表示する。Table 10 shows the results. The one using the dispersion of the contrast agent immediately after the dispersion is indicated as fresh, and the one using the storage after 10 days are displayed as 10 days.
【0304】[0304]
【表10】 [Table 10]
【0305】(結果)本発明の化合物を組み合わせて使
用することにより、経時された硬調化剤の水分散物を用
いても超硬調でかつかぶりにくい熱現像感光材料が得ら
れる。(Results) By using the compounds of the present invention in combination, a photothermographic material which is super-hard and hard to fog can be obtained even with the use of aged aqueous dispersions of the toning agents.
【0306】実施例2 実施例1に記載の熱現像感光材料において、表11に示
すように抑制剤および硬調化剤を用い、乳剤面保護層塗
布液に添加される化合物Fを表11に示す量添加する
か、あるいはさらに乳剤面保護層塗布液にNaOHを表
11に示す量添加することにより膜面pHを変化させ、
実施例1と同様に評価した。結果を表11に示す。な
お、抑制剤の例示化合物2−1のMwは10000であ
る。Example 2 In the photothermographic material described in Example 1, Table 11 shows the compound F added to the coating solution for the emulsion surface protective layer using an inhibitor and a high contrast agent as shown in Table 11. The surface pH was changed by adding NaOH to the emulsion surface protective layer coating solution in the amount shown in Table 11, or
Evaluation was performed in the same manner as in Example 1. Table 11 shows the results. In addition, Mw of the exemplary compound 2-1 of the inhibitor is 10,000.
【0307】[0307]
【表11】 [Table 11]
【0308】(結果)特に、本発明の好ましい膜面pH
の範囲で本発明の化合物を組み合わせて使用することに
より、経時された硬調化剤の水分散物を用いても超硬調
でかつかぶりにくい熱現像感光材料が得られる。(Results) In particular, preferred film surface pH of the present invention
By using the compound of the present invention in combination within the range described above, a photothermographic material which is super-high contrast and hard to fog even when an aqueous dispersion of a contrast agent aged over time can be obtained.
【0309】[0309]
【発明の効果】本発明によれば、硬調感材としての性能
に優れ、経時させた硬調化剤の水分散物を用いても良好
な性能が得られる。According to the present invention, excellent performance as a high contrast sensitive material is obtained, and good performance can be obtained even when an aqueous dispersion of a high contrast agent aged is used.
【図1】熱現像機の一構成例を示す側面図である。FIG. 1 is a side view illustrating a configuration example of a heat developing machine.
10 熱現像感光材料 11 搬入ローラー対 12 搬出ローラー対 13 ローラー 14 平滑面 15 加熱ヒーター 16 ガイド板 A 予備加熱部 B 熱現像処理部 C 徐冷部 DESCRIPTION OF REFERENCE NUMERALS 10 photothermographic material 11 carry-in roller pair 12 carry-out roller pair 13 roller 14 smooth surface 15 heating heater 16 guide plate A preheating section B heat development processing section C slow cooling section
Claims (2)
(a)感光性ハロゲン化銀、(b)還元可能な銀塩、
(c)還元剤、(d)バインダー、ならびに(e)式
(A)、式(B)および式(C)で表される化合物から
選ばれる少なくとも1種の化合物を有する熱現像感光材
料であって、式(1)で表される化合物、式(2)で表
される単量体から誘導される繰り返し単位を有するポリ
マー、および式(3)で表される化合物から選ばれる少
なくとも1種の化合物を有することを特徴とする熱現像
感光材料。 【化1】 【化2】 【化3】 [式(A)においてR1、R2およびR3は、それぞれ独立
に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性基を表
す。式(A)において、R1とZ、R2とR3、R1とR2、
およびR3とZは、それぞれ互いに結合して環状構造を
形成していてもよい。式(B)において、R4は置換基を
表す。式(C)において、XおよびYはそれぞれ独立に水
素原子または置換基を表し、AおよびBは、それぞれ独
立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ
基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、
ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環ア
ミノ基を表す。式(C)において、XとY、およびAとB
は、それぞれ互いに結合して環状構造を形成していても
よい。] 【化4】 [式(1)において、X1は含窒素複素環を有する写真
用抑制剤の残基を表し、Jは2価の結合基を表し、B1
はバラスト基を表し、nは1以上の整数を表す。] 【化5】 [式(2)において、Qはエチレン性不飽和基、または
エチレン性不飽和基を有する基を表し、X2は含窒素複
素環を有する写真用抑制剤の残基を表す。] 【化6】 [式(3)において、A1は水溶性基を有する基を表
し、X3は含窒素複素環を有する写真用抑制剤の残基を
表す。]1. At least one surface of a support,
(A) a photosensitive silver halide, (b) a reducible silver salt,
A photothermographic material comprising (c) a reducing agent, (d) a binder, and (e) at least one compound selected from the compounds represented by formulas (A), (B) and (C). And at least one compound selected from a compound represented by the formula (1), a polymer having a repeating unit derived from a monomer represented by the formula (2), and a compound represented by the formula (3) A photothermographic material comprising a compound. Embedded image Embedded image Embedded image [In the formula (A), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group. In the formula (A), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1 and R 2 ,
And R 3 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure. In the formula (B), R 4 represents a substituent. In the formula (C), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group,
Represents a heterocyclic oxy group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic amino group. In the formula (C), X and Y, and A and B
May be bonded to each other to form a cyclic structure. ] [In the formula (1), X 1 represents a residue of a photographic inhibitor having a nitrogen-containing heterocyclic ring, J represents a divalent linking group, and B 1
Represents a ballast group, and n represents an integer of 1 or more. ] [In the formula (2), Q represents an ethylenically unsaturated group or a group having an ethylenically unsaturated group, and X 2 represents a residue of a photographic inhibitor having a nitrogen-containing heterocyclic ring. ] [In the formula (3), A 1 represents a group having a water-soluble group, and X 3 represents a residue of a photographic inhibitor having a nitrogen-containing heterocyclic ring. ]
の熱現像感光材料。2. The film surface pH is 3 or more and 7 or less.
Photothermographic material.
Priority Applications (1)
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| JP11021974A JP2000221633A (en) | 1999-01-29 | 1999-01-29 | Heat developable sensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP11021974A JP2000221633A (en) | 1999-01-29 | 1999-01-29 | Heat developable sensitive material |
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