JP2000243599A - 高電界小形定在波線形加速器 - Google Patents
高電界小形定在波線形加速器Info
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- 230000005684 electric field Effects 0.000 title claims abstract description 51
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 11
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 42
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 28
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 28
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 28
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 8
- 230000004323 axial length Effects 0.000 claims description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 abstract description 7
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
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Abstract
てX線の強度分布の均一性を得ることを特徴とする小形
定在波線形加速器を提供する。 【解決手段】 加速マイクロ波電界に強く影響を受ける
電子速度の比較的遅い最初の加速段階において、付加陽
極12、リエントラントキャビティ13、ビーム開口1
4、開口15、第1加速キャビティ16、キャビティ1
7のそれぞれの構造を軸対称に構成することによって、
電子の比較的高速でない領域で軸対称な加速電界が発生
するため、軸対称な電子分布が得られ、X線の強度分布
が均一になる。電圧を適切に設定することにより、電子
群の軸方向のバンチング幅が極めて小さくなり、X線の
エネルギースペクトラムの幅が小さくなり、特性改善が
得られる。ほとんど全ての集束された電子は第1加速器
16の中に注入されるので、電子のバックボンバードメ
ントによる電子銃の陰極の破壊を防止することができ
る。その結果、高電界小形定在波線形加速器の特性を大
幅に向上させることができる。
Description
高いエネルギーを有する荷電粒子を生成するのに適した
サイドカップル形定在波線形加速器に関する。
器の問題点を以下に説明する。図1に示されるサイドカ
ップル形定在波線形加速器では、シャントインピーダン
スが高い。したがって、加速器の小形化が可能になり、
しかも安定した作動が得られるなどの理由で、医療分野
や他の産業分野で広く利用されている。
速器の構造では、そのエネルギー変換効率が進行波加速
器に比べ格段に上がることにより、曲形マグネットが不
要になる。その結果加速器の長さを短くすることができ
るので、コンパクトになり、この形の加速器が医療用に
利用されている。このコンパクトな定在波加速器の構造
において、電子銃1の陰極2で発生する電子4は陰極2
と陽極7間に印加する直流電圧により加速され、第1の
キャビティ3の中に直接注入される。陰極2と陽極7間
の印可直流電圧(10KVから30KV)のために、こ
の注入された電子の速度は光速度の20〜30%程度に
なる。そのため注入された電子の30%程度集束され、
バンチされた電子群31になる。また集束され加速され
なかった電子の一部は陰極2に反射されたりまたはキャ
ビティ3の壁に当たり熱に変換される。その結果、注入
電子の軌道は第1キャビティ3内の加速マイクロ波電界
に強く依存することになる。よってこのマイクロ波電界
分布が軸非対称であると、電子ビームの分布が軸非対称
になる影響を受ける。
されるマイクロ波の電力はカップラキャビティ11内の
加速マイクロ波電界を生成する。この電界のマイクロ波
電力は、結合キャビティ6にπ/2モードで磁気的に結
合されている結合開口部5を通して加速キャビティ8に
伝送される。これらのキャビティに磁気的に効率よく結
合するために、この結合キャビティ6は、電子を効率良
く加速するためにビーム軸より離れた位置に設定されて
いる。この軸非対称な結合開口部5の特性により、合成
加速電界がビーム軸から離れる傾向がある。このオフセ
ットは、後段における光速度に非常に近い速度をもって
いる電子32の加速にはあまり影響を与えないので、そ
れ程重要な問題ではない。その理由は高速度電子の軸方
向の運動量が横方向の電場による運動量に比べて非常に
大きいからである。
る結合開口部5が軸に対して非対称な位置に設定されて
いるので、第1キャビティ3の中に最初に注入された比
較的速度の遅い電子の軌道は、第1キャビティ3内の軸
非対称分布の加速電界に大きく依存する。軸非対称な結
合開口部5で励起される軸対称なキャビティは、軸非対
称な電界を生成する傾向がある。その結果、磁気結合を
利用する定在波線形加速器に関しては第1キャビティ3
内で加速された電子は、軸非対称な電子分布になり、し
かも軸方向に広がったバンチング幅をもつ傾向がある。
この軸非対称な電子分布を有する電子群がタングステン
のような密度の高い重金属のターゲット9に衝突する
と、その結果軸非対称なX線が発生する。すなわちX線
の強度分布が軸非対称になる。また軸方向に広がったバ
ンチング幅をもつ加速電子は幅の広いX線のエネルギー
スペクトラムを生成する。
電子は、マイクロ波の加速電界の位相により、加速また
は減速されると同時に電子の進行方向に対し反対方向に
加速されることである。このマイクロ波の加速電界の位
相関係により、この注入された電子の約3分2が所定の
方向に充分加速されないことになる。充分加速されない
電子の一部は、しばしば電子銃の方向に逆加速される。
いわゆるバックボンバードメントにより電子銃の陰極を
破壊する重大な問題が生ずる。
在波線形加速器における課題は、 1)比較的高速でない領域で軸非対称な加速電界による
軸非対称な電子分布を避けて、対称な電子分布を得るこ
と 2)電子群の軸方向のバンチング幅を少なくして、電子
ビームのエネルギースペクトラムを改善すること 3)電子のバックボンバードメントによる電子銃の陰極
の破壊を防止することである。
に、本発明による高電界小形定在波線形加速器を実施例
と対比して説明すると、高電界小形定在波線形加速器に
おいて陰極2と付加陽極12間に直流電圧を印加して電
子を励起する手段と、電子銃1と第1加速キャビティ1
6の間に軸対称に配置するリエントラントキャビティ1
3の中に励起電子を注入する手段と、電界または磁界の
軸対称的に配置する開口15を通してマイクロ波電界に
よって電子を変調する手段と、軸対称なビーム開口14
を伝送する間に、電子を集束する手段と、ビーム開口1
4を通して集束された遅い電子を、第1加速キャビティ
16の高いマイクロ波加速電界により加速する手段と、
マイクロ波電力と電気的に結合する円盤状のキャビティ
17を通して第2加速キャビティ18に電気的に結合す
る手段と、これらの構造の構成と電圧設定条件、すなわ
ち適切な電子銃電圧(約10〜30KV)と励起マイク
ロ波の波長によって定まるビーム開口14の軸方向の長
さである適切なドリフトスペース移動距離と変調電力
(約5KW)の選定により、ほとんど全ての電子が第1
加速器16の中において捕獲され、加速され、さらに第
2加速キャビティ18により光速度に近い速度に加速す
る手段とで実施する。
速段階で加速マイクロ波電界に強く影響を受けることか
ら、付加陽極12、リエントラントキャビティ13、ビ
ーム開口14、開口15、第1加速キャビティ16、キ
ャビティ17のそれぞれの構造を軸対称に構成すること
によって、軸対称な電子ビーム分布を作る。これにより
加速電子ビーム分布が軸対称になり、X線の強度分布が
均一になる。前述の電圧設定条件により、ほとんど全て
の集束された電子は第1加速器16の中に注入されかつ
加速されるので、電子のバックボンバードメントによる
電子銃の破壊を回避することができ、同時にエネルギー
スペクトラムを飛躍的に改善できる。このように高電界
の構造改善により本発明の小形定在波線形加速器の特性
は大幅に向上する。
がビーム開口14を通して伝送される間に、電子は最初
に集束され、適切な電子銃電圧(約10〜30KV)と
励起マイクロ波の波長によって定まるビーム開口14部
の軸方向の長さであるドリフトスペースと変調電力(約
5KW)を選択することにより、ほとんど全ての最初に
集束された電子は第1加速キャビティ16の中に注入さ
れる。ビーム開口14を通して注入されるより遅い集束
電子は、第1加速キャビティ16における高い加速マイ
クロ波電界で軸対称的に加速される。
維持し、前段加速は、第1加速キャビティ16と第2加
速キャビティ18間の電気的開口結合にて得られる軸対
称な加速電界により行われる。この予め加速された電子
は、加速電界の存在しない場所のキャビティ17の中の
移動でさらに集束される。その間に、軸の周りの電子分
布は、100万ボルト以上に到達し、第2加速キャビテ
ィ18の中では横方向の運動量は充分高くなる。そして
残りの第2加速キャビティ18の有する非対称的な加速
電界によって、軸非対称になる影響を受けない。
加速段階で加速マイクロ波電界に強く影響を受ける。そ
してこの初期の加速段階を受け持つ付加陽極12、リエ
ントラントキャビティ13、ビーム開口14、開口1
5、第1加速キャビティ16、キャビティ17のそれぞ
れぞれの構造を軸対称な構造に構成することにより、軸
対称な加速電磁界を生成して、その結果軸対称な電子ビ
ーム分布を創出する。これにより加速電子ビーム分布が
軸対称になり、X線の強度分布の均一性が得られる。ま
たバックボンバードメントによる電子銃の破壊を回避す
ることもできる。この高電界の構造改善により本発明の
小形定在波線形加速器の特性は大幅に向上する。
る装置の実施の形態を説明する。前述した高電界小形定
在波線形加速器のこの3つの問題を解決するための本発
明の高電界小形定在波線形加速器の構造は図1に示され
る。陰極2上の励起された電子は、陰極2と付加陽極1
2間に印加する直流電圧により加速される。この励起さ
れた電子は、新設した付加陽極12を通過し、さらに従
来の陽極7のあった位置と前述の付加陽極12との間に
形成される小さいキャビティ13の中に注入される。こ
の小さいキャビティ13はリエントラントキャビティと
呼び、この小さいリエントランキャビティ13の直径は
第2加速キャビティ18の直径より小さい。
と第1加速キャビティー16との間に軸対称に配置さ
れ、リエントラントキャビティ13と第1加速キャビテ
ィ16は開口15を通して加速マイクロ波にπモードで
結合されている。この小さいリエントラントキャビティ
13と第1加速キャビティ16の間に配置する軸対称の
開口15を通してπモードで結合励起されるマイクロ波
電界により、電子の速度は変調される。
は、電子銃1と第1加速キャビティ16との間に軸対称
的に配置されている。この小さいリエントラントキャビ
ティ13へのマイクロ波電力の供給は、軸対称の磁気結
合用開口15を通して行われる。この結果、励起された
電子がビーム開口14を通して伝送される間に、この励
起された電子は強く集束され、第1加速キャビティ16
に注入される。この時の電子群33、34は極めて良く
集束され、この電子群33、34、35のバンチング幅
は、図4に示す集束電子群31、32の幅に比べて極め
て小さくなる。このようにバンチング効果がよく現れ
る。この集束された電子群が後段の加速キャビティ8で
さらに効率よく加速され、ターゲット9に衝突するの
で、X線のエネルギースペクトラム幅はよりシャープに
なる。
励起マイクロ波の波長によって定まるビーム開口14部
の軸方向の長さであるドリフトスペースと、変調電力
(約5KW)を選択することにより、ほとんど全ての電
子は第1加速器16の中に捕獲され、同時に加速され
る。第1加速キャビティ16は、マイクロ波の電力が電
気的に結合されている円盤状の結合キャビティ17を通
して第2加速キャビティ18と電気的に結合されてい
る。この電気的結合を利用する利点は、図2A,図2B
に示すような軸非対称の結合開口の代わりに、結合開口
が図3A,図3Bに示されるように軸対称的であること
である。
れるより遅い集束電子は第1加速キャビティ16におけ
る高い加速マイクロ波電界により軸対称的に加速され
る。この加速された電子は、加速電界の存在しない場所
の結合キャビティ17の中の移動でさらに集束される。
さらにこの加速電子は、後段の第2加速キャビティ18
でさらに加速される。その間電子のバンチング効果が作
用し、集束電子35はさらにバンチングされる。その結
果電子のエネルギーが100万ボルト以上に到達する。
量は充分に高くなるので、加速電子は、残りの加速キャ
ビティの有する非対称的な加速電界によって著しく影響
されなくなる。電子の軌道が電子速度の比較的遅い最初
の加速段階で加速マイクロ波電界に強く影響を受けるこ
とから、本発明は、付加陽極12、リエントラントキャ
ビティ13、ビーム開口14、開口15、第1加速キャ
ビティ16、キャビティ17のそれぞれぞれの構造を軸
対称な構造に構成することにより、軸対称な電子ビーム
分布とより集束された電子群を作り出す。なお20,2
1は加速キャビティ間を仕切るディスクである。
になりX線の強度分布が均一になること、バンチング効
果で得たより集束された電子の衝突で発生するX線のエ
ネルギースペクトラムがシャープになること、さらに電
子のバックボンバードメントによる電子銃の破壊を回避
することができる。その結果高電界の構造改善により本
発明の小形定在波線形加速器の特性は大幅に向上する。
供することができる。 1)加速電子は軸対称な電荷分布を維持し、前段加速
は、第1加速キャビティ16と第2加速キャビティ18
間の電気的開口結合によって得られる軸対称な加速電界
によって遂行される。 2)電気的と磁気的の両結合を有する定在波線形加速器
は、電磁界の両方の強さを有効に利用して結合できるの
で、一つの構造内で構成する効率の高いビーム対称性の
良いコンパクトな構造になる。 3)生成する電子は第1加速キャビティ16に入る前に
小さいリエントラントキャビティ13内であらかじめ集
束される。リエントラントキャビティ13中の電子群
は、第1加速キャビティ16と小さいリエントラントキ
ャビティ13間にある非常に小さい開口14を通して磁
気的または電気的に軸対称的に励起され、その結果比較
的低速状態にある電子群はよく集束される。 4)単一断面定在波構造内でπ/2モードと0モードま
たはπモードのような異なる動作モードを利用する定在
波線形加速器となる。
おいて 1)付加陽極12、リエントラントキャビティ13、ビ
ーム開口14、開口15、第1加速キャビティ16、キ
ャビティ17のそれぞれぞれの構造を軸対称に構成する
ことにより、電子の比較的高速でない領域で軸対称な加
速電界が発生するので、軸対称な電子分布が得られ、X
線の強度分布が均一になる。 2)前述の電圧設定条件により、電子群の軸方向のバン
チング幅が極めて小さくなり、X線のエネルギースペク
トラムの幅が小さくなり、特性改善が得られる。 3)前述の電圧設定条件により、ほとんど全ての集束さ
れた電子は第1加速器16の中に注入されるので、電子
のバックボンバードメントによる電子銃の陰極の破壊を
防止することができ、小形定在波線形加速器の特性が大
幅に向上する効果が得られる。
定在波線形加速器の実施例を示す断面図である。
軸対称な結合開口部を示す斜視図である。
軸非対称な結合開口部と結合開口部を示す斜視図であ
る。
る。
21)
に、本発明による高電界小形定在波線形加速器を実施例
と対比して説明すると、高電界小形定在波線形加速器に
おいて陰極2と付加陽極12間に直流電圧を印加して電
子を励起する手段と、電子銃1と第1加速キャビティ1
6の間に軸対称に配置するリエントラントキャビティ1
3の中に励起電子を注入する手段と、電界または磁界の
軸対称的に配置する開口15を通してマイクロ波電界に
よって電子を変調する手段と、軸対称なビーム開口14
を伝送する間に、電子を集束する手段と、ビーム開口1
4を通して集束された遅い電子を、第1加速キャビティ
16の高いマイクロ波加速電界により加速する手段と、
マイクロ波電力と電気的に結合する円盤状のキャビティ
17を通して第2加速キャビティ18に電気的に結合す
る手段と、適切な電子銃電圧(約10〜30KV)と励
起マイクロ波の波長によって定まるビーム開口14の軸
方向の長さである適切なドリフトスペース移動距離と変
調電力(約5KW)の選定により、ほとんど全ての電子
が第1加速器16の中において捕獲され、加速され、さ
らに第2加速キャビティ18により光速度に近い速度に
加速する手段とで実施する。
Claims (3)
- 【請求項1】 高電界小形定在波線形加速器において、
陰極と付加陽極の間に直流電圧を印加して電子を励起す
る励起手段と、電子銃と第1加速キャビティの間に軸対
称に配置するリエントラントキャビティの中に前記励起
電子を注入する注入手段と、電界または磁界の軸対称的
に配置する開口を通して加速マイクロ波電界によって電
子を変調する変調手段と、軸対称なビーム開口を伝送す
る間に、電子を集束する集束手段と、前記ビーム開口を
通して集束された遅い電子を、前記第1加速キャビティ
の高いマイクロ波加速電界により加速する加速手段と、
マイクロ波電力と電気的に結合する円盤状のキャビティ
を通して加速キャビティに電気的に結合する結合手段
と、これらの構造の構成と電圧設定条件、すなわち適切
な電子銃電圧と励起マイクロ波の波長によって定まるビ
ーム開口部の軸方向の長さであるドリフトスペースと変
調電力の選択により、ほとんど全ての集束された電子が
第1加速器の中に注入されるように構成したことを特徴
とする高電界小形定在波線形加速器。 - 【請求項2】 請求項1記載の高電界小形定在波線形加
速器において、ビーム開口部の軸方向の長さのドリフト
スペースを前記励起マイクロ波の波長によつて定まり、
電子銃の電圧は約10〜30KVであり、変調電力は約
5KWとし、ほとんど全ての集束された電子が第1加速
器の中に注入される高電界小形定在波線形加速器。 - 【請求項3】 前記加速器は、加速マイクロ波電界に強
く影響を受ける電子速度の比較的遅い最初の加速段階
で、付加陽極、リエントラントキャビティ、ビーム開
口、開口、第1加速キャビティ、キャビティのそれぞれ
ぞれの構造が軸対称な構造を構成することにより、軸対
称な電子ビーム分布を作る手段を含み、前記加速電子ビ
ーム分布の軸対称性により、X線の強度分布の均一性を
得ることを特徴とする請求項1または2記載の高電界小
形定在波線形加速器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4082699A JP3010169B1 (ja) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | 高電界小形定在波線形加速器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4082699A JP3010169B1 (ja) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | 高電界小形定在波線形加速器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP3010169B1 JP3010169B1 (ja) | 2000-02-14 |
| JP2000243599A true JP2000243599A (ja) | 2000-09-08 |
Family
ID=12591478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4082699A Expired - Fee Related JP3010169B1 (ja) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | 高電界小形定在波線形加速器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3010169B1 (ja) |
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