JP2000504668A - 不透明石英ガラス製品および製造方法 - Google Patents

不透明石英ガラス製品および製造方法

Info

Publication number
JP2000504668A
JP2000504668A JP9529093A JP52909397A JP2000504668A JP 2000504668 A JP2000504668 A JP 2000504668A JP 9529093 A JP9529093 A JP 9529093A JP 52909397 A JP52909397 A JP 52909397A JP 2000504668 A JP2000504668 A JP 2000504668A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
quartz glass
opaque
products
silica particles
additive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9529093A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4118952B2 (ja
JP2000504668A5 (ja
Inventor
セイス,イアン,ジョージ
ウェルズ,ピーター,ジョン
Original Assignee
ティーエスエル グループ パブリック リミティド カンパニー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ティーエスエル グループ パブリック リミティド カンパニー filed Critical ティーエスエル グループ パブリック リミティド カンパニー
Publication of JP2000504668A publication Critical patent/JP2000504668A/ja
Publication of JP2000504668A5 publication Critical patent/JP2000504668A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4118952B2 publication Critical patent/JP4118952B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/09Other methods of shaping glass by fusing powdered glass in a shaping mould
    • C03B19/095Other methods of shaping glass by fusing powdered glass in a shaping mould by centrifuging, e.g. arc discharge in rotating mould
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B3/00Charging the melting furnaces
    • C03B3/02Charging the melting furnaces combined with preheating, premelting or pretreating the glass-making ingredients, pellets or cullet
    • C03B3/026Charging the melting furnaces combined with preheating, premelting or pretreating the glass-making ingredients, pellets or cullet by charging the ingredients into a flame, through a burner or equivalent heating means used to heat the melting furnace
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C11/00Multi-cellular glass ; Porous or hollow glass or glass particles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/06Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00Glass compositions
    • C03C2201/80Glass compositions containing bubbles or microbubbles, e.g. opaque quartz glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2203/00Production processes
    • C03C2203/10Melting processes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S65/00Glass manufacturing
    • Y10S65/08Quartz

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】 シリカ粒子の融解によって製造される不透明性を高められた石英ガラス製品が開示され、不透明性は融解工程の間の有機ケイ素添加剤の反応によって高められる。有機ケイ素添加剤の存在下でのシリカ粒子の融解によって、石英ガラス製品の不透明性を高める方法も開示する。

Description

【発明の詳細な説明】 不透明石英ガラス製品および製造方法 微小電子部品の製造で重要な様々な高温プロセスを受け入れるように、半導体 産業では融解石英製品を広く使用する。科学技術が進歩して欠陥のレベルが低く なるにつれて、特に使用温度で潜在的に移動性である金属種、特にアルカリ金属 および銅に関して、特別な純度の融解石英ガラスへの要求が生じてきた。そのよ うな融解石英製品は高度に精製された石英粒子を融解し、気泡のない透明な高純 度の石英ガラス製品とすることにより達成され、その結果それらは可視線および 赤外線の両方に対し非常に高い透過率を示す。 この透明性は半導体プロセスで使用される多くの融解石英部品にとって不利と ならない一方で、同じぐらい純粋であるが赤外線に対して実質的に不透明である 石英ガラス製品への要求がある。そのような不透明ガラスは、炉の高温領域から 他の部分への赤外線の透過を制限し、これによって高温領域の温度を均一にする のを促進する一方で、より繊細な部分、例えば装置の取り外し可能なジョイント のシールへの熱の透過を制限するために、熱遮断板、ペデスタル、フランジなど の製造に必要とされる。 その固有の純度を維持しながら、ガラス状のシリカの透過率を減少させる従来 の方法は、電磁波を反射および拡散する微小気泡を取り入れることである。多数 の小さな気泡を持つことは有益であり、結果として得られた不透明ガラスが比較 的高い密度、好ましくは1.9g/ccより高い密度(比較として、融解石英は 2.21g/cc)であり、および独立した気孔を持つことが望ましい。なぜな ら、これはそのような物品の溶接を促進し、最大の清潔さの達成を 補助し、製品がほとんどの気体に対して不浸透性であることを確実にし、および 火炎磨き仕上げなとでの寸法変化を最小化するからである。従って石英ガラス製 造者は、十分に境界のはっきりした寸法分布の高濃度の微小気泡を取り入れてい て、気泡の大きさが好ましくは小さくて大きな気泡のない高純度のガラス製品を 、許容できる費用で生成させる問題に直面している。 この問題に対する我々の解決策は、微小の気泡を保持するように選択された条 件下で融解または焼結させる非結晶またはゾルゲルシリカ粉末を使用する、(例 えば、Shinetsu参照文献1、2および3)、Tosoh社(参照文献4 )、およびNitto Chemical Industry(参照文献5)。 これらの方法は焼結条件の注意深い制御が必要だが、これはまさに本来比較的不 十分な熱伝導体である大きな物品に対しては簡単ではない。この技術のバリエー ションは、Shinetsu社(参照文献6)によって報告されるように炭素ま たは黒鉛粒子をシリカゾルに組み込むことを必要とする。 大きい表面積の合成シリカ粉末に基づくそのような方法は、本質的に高い費用 の不透明ガラス製品をもたらし、大きなインゴット、フランジおよび他の部品の ためのより現実的な経路は、高純度石英結晶粒子を原料として使用することであ ろう。そのような高純度の原料は既に存在し、半導体産業で使用される融解石英 装置の大部分を構成する透明融解石英部品の製造に使用されている。融解石英粉 末のスリップキャスティングによる特定部品の製造はよく知られており、焼結条 件に依存して、不透明であり制御された多孔性の物品(Georgia Ins titute of Technology、参照文献7および8)、または透 明で実質的に気泡がない物品(Sherwood Refractories、 参照文献9) でよい物品を作るのに長年使用されている。そのような方法は最初に粒子を融解 し、続いて細かい粉末に粉砕、この細かい粉末をキャリアー媒体中に懸濁液させ 、キャスティングし、そして焼結することを必要とし、そしてそれらは厳重に用 心しないで最終形状に近い製品の可能性を提供する一方で、これらの方法は高純 度原材料の望ましくない汚染を引き起こす。とは言えそれらは、本発明の出願人 によって「Slipcast Vitreosil(商標)」として販売される 一連の非透過性の不透明ガラス状シリカ製品の基礎を形成する。 不透明融解石英のインゴットまたは他の大きい若しくはより小さい付形物から 、機械加工またはさもなければ成形することができる小さいまたは大きい物品を 必要とする多くの応用がまだある。求められているのは、インゴットまたは他の 製品を作るが、融解操作の間に微小気泡の発生によって必要な不透明性を生み出 せる汚染しない適切なドーパントを取り入れることによって必要とされる不透明 性を達成するために、上記の高純度結晶性または非結晶性原料を融解する手段で ある。 この目的を達成する1つの提案された方法は、加熱するとガスを発生すること ができる不透明性誘発添加剤と原材料を混合し、混合物を火炎融解(flame fusion)にかけることである。日本石英ガラス社は、そのような添加剤 としての粉末窒化ケイ素の使用を提案した(参照文献10)。この方法がうまく いくためには、非常に微細な粉末の形で、制御された粒度かつ特別に高純度の窒 化ケイ素を得ることが必要であろう。そのような粉末は高価であり、特定のドー パント粉末に依存する必要性は、この方法を使用して製品ガラスで達成すること ができる気泡の寸法/度数の範囲をやはり制限する。 発明者らは、粒子または粉末状の石英原料を融解して純度を失わずに、不透明 石英ガラスにすることができ、実際いくらかの純度の向上さえ達成できる、不透 明性を誘発する添加剤の別のクラスを発見した。添加剤および処理条件のふさわ しい選択によって、気泡の度数および寸法分布を制御することも可能である。 これらの結果は、結晶性または非結晶性であることができる原料(例えば融解 石英)を、原料中に微細な固体としてまたは液体として取り入れることができる ふさわしい有機ケイ素化合物と混合することによって達成される。有機ケイ素化 合物を微細粉末として使用する場合、これは乾燥した粉末として、またはふさわ しいキャリアー液体の乳濁液若しくは懸濁液として加えることができる。液体の 有機ケイ素化合物を使用する場合、それはふさわしい溶媒の溶液として適用する こと、ふさわしいキャリアー液体の懸濁液として適用すること、または希釈しな いで原材料(例えは石英粉末)に添加することができる。 細かい粉末として利用できる固体の有機ケイ素添加剤の例は、0.5〜12ミ クロンの範囲の寸法の非融解粒子として東芝シリコーン社が販売する一連のTo spearl(商標)製品を含み、純粋なシリコーンであるそれらは、酸素中で 加熱したときまたは高温で融解石英と接触させたとき、一般に水、一酸化炭素お よび/または二酸化炭素を発生させる。 そのような液体添加剤を使用すると均一な混合物を得ることがより容易なので 、液体添加剤が好ましかろう。多くのシリコーン液体が、添加剤として使用する のにふさわしいと期待される。典型的に要求されるのは、十分に低い蒸気圧の液 体であり、原料の融解の間の蒸発による移動が過剰でないものである。ふさわし い流体は、トリメチルシロキシ基を末端基とする通常のシリコーンオイル、典型 的にはポリジメチルシロキサンであって、幅広い範囲の分子量および蒸気圧で入 手でき、水の乳濁液としても入手できる。試験して申し分ないことが分かった1 つの例は、GE Siliconesが販売するシリコーンオイル2128であ る。 従って、石英粉末と反応しないシリコーンオイルを使用することが可能であり 、高沸点のシリコーンオイルを使用することが好ましいが、融解工程の間にガス の微小気泡を理想的に発生させる高温度の熱分解の前に起こるいかなる蒸発によ っても添加剤の効力は減少しよう。 添加剤の好ましいクラスは、シリカ表面と反応を起こして、それによって原料 粒子に付着性の表面被膜を形成することができる液体を含むことを発明者らは発 見した。このように、原料粒子を融解温度にする加熱の間有意の蒸発が起こらず 、添加剤が融解工程の間に熱分解して水、一酸化炭素および/または二酸化炭素 を含む気体種を生じるまで、薄い樹脂状の層として各原料粒子の表面に保持され るのを確実にすることが可能である。これらは融解石英ガラスの全体にわたり均 一に分配された、制御された寸法の微小気泡を発生させる。本発明の範囲に含ま れるいくらかの添加剤は、熱分解の間に他のガス(例えば、窒素含有種)も放出 する。 このように、幅広い種類の有機ケイ素化合物が添加剤として使用することがで きる一方で、好ましいクラスは石英粒子の表面に適用することができ、反応して 表面に接着して結合するようになる液体有機ケイ素化合物を含む。 多数の有機シランカップリング剤が存在し、様々な基材に結合することができ 、これらの多くが本発明で実施するのに使用できる。シリカ表面に結合すること ができる薬剤は一般に、加水分解法によってそうする。例えば、典型的な化合物 R123 SiXはシリ カ表面の≡Si−OHと反応させて結合R123 Si−O−Si≡を形成さ せることができ、ここでXは加水分解できる置換基である。 そのような化学物質は、例えば、ガラスの撥水層を形成するため、粉末のさら さらした流れを補助するためなどに広く使用され、最も一般的な置換基Xはアル コキシ、アシルオキシ、アミン、水素または塩素である。置換基は脱離する(ア ルコール、アンモニア、水素などとして)。クロロシランは、扱いにくいことが あるHClを発生させるので、一般に塩素を含まないカップリング剤が好ましい 。 より一般的に、本発明で使用できる有機ケイ素化合物のいくらかの有力なタイ プを、それぞれのタイプの例と共に以下に示す。シランカップリング剤 アシルオキシシラン アセトオキシプロピルトリメトキ シシラン アルカノールアミン (2−ヒドロキシエチル)−3− アミノプロピルートリエトキシシ ラン アルコキシシラン トリメチルメトキシシラン アミン N−メチルアミノプロピルトリメ トキシシラン 芳香族炭化水素 フェニルトリエトキシシラン クロロアルキル 3−クロロプロピルトリメトキシ シラン クロロメチル芳香族炭化水素 1−トリメトキシシリル−2(p ,m−クロロメチル)−フェニル エタン クロロシラン (3−フェニルプロピル)ジメチ ルクロロシラン エポキシ 3−グリシドキシプロピルトリメ トキシシラン 水 素 ポリメチル水素シロキサン イソシアネート 3−イソシアネートプロピルトリ エトキシシラン メルカプト 3−メルカプトプロピルトリメト キシシラン メタクリレート 3−メタクリロキシプロピルトリ メトキシシラン シラノール シラノールを末端基とするポリジ メチルシロキサン シラザン ヘキサメチルジシラザン スチリル 3−(N−スチリルメチル−2− アミノ−エチルアミノ)プロピル トリメトキシシランヒドロクロリ ド ビニル ビニルトリアセトオキシシラン 置換および/または重合によってこの有力なカップリング剤の範囲は更に広げ ることができる。従って、本発明の方法で使用するために利用できる化合物の範 囲は幅広く、分子量およびガス形成能力の選択は幅広い。 選択される化合物に依存して、原材料への適用の様式も選択される。例えば、 それをまとめて混合することができ(例えば粉末に噴霧して次にタンブルして均 一化を促進することにより)、それを溶液(例えば水溶液またはアルコール溶液 )から適用することができ 、または他の手段によって適用できる。比較的大きい分子量で、まとめて混合す るのにふさわしい薬剤を使用することは、これが被覆後に溶媒を除去する必要を なくすので最も便利であることを我々は発見した。この技術を、ポリメチル水素 シロキサン、例えばDow CorningからのDC1107を使用する以下 の例で示す。これはガラス、紙などを被覆して撥水性を提供するために供給され る純粋な液体であり、粉末および粒状物質を撥水性にするためおよび流動特性を 改良するための処理剤としても使用される。しかしながら本発明は、そのような 化合物の使用に限定されず、幅広い別の有機ケイ素添加剤も使用可能である。 いくつかの目的のためには、ふさわしい高純度超微細粉末の形で、所定量の第 二の添加剤、例えばシリカ、炭化ケイ素、窒化ケイ素、または炭素を加えること が有利なことがある。あるいは、平均粒度を低下させることによって(例えばボ ールミルにより、好ましくは高純度石英ボールを用いて)、原材料の表面積を増 加させることによって(例えば、高温処理、および/または酸エッチングで)、 または表面積が大きい微細シリカの添加によって、不透明度を高めることが好ま しいことがある。従って、Degussa AGからのAerosil(商標) のようなヒュームドシリカを融解前に混入してもよく、と言うのは、これはいか なる過剰の液体添加剤とも一緒になり、融解製品の不透明性を更に改良するから である。原料と添加剤の混合物を加熱して、融解の前にカップリング剤の硬化お よび架橋を果たすことも有利なことがある。 本発明に従って被覆された石英結晶粉末および融解石英またはガラス状ケイ素 粒子は、不透明ガラス状ケイ素、または透明若しくは不透明融解石英物品の融解 に既に採用されているような任意のふさわしい従来技術の方法によって、融解し て不透明ガラス製品にする ことができる。これらの方法は火炎融解、および電気的に加熱される融解方法を 含む。一般に選択は利用できるプラント、要求される純度および特に許容できる 水(OH)成分に依存する。 大気圧に近い(またはそれより高い)圧力で操作する融解方法の使用が好まし く、または、もし大気圧より低圧の工程操作を使用する場合、気泡を高温(例え はガラスの軟化点より高い)で大気圧に近い(またはそれより高い)圧力と平衡 させることが好ましく、なぜならばそうしないと、微小気泡が大気圧よりも実質 的に低い圧力で平衡する場合、製品ガラスの気泡の寸法の分布および密度は最適 から外れるからである。 今日まで、不透明ガラス状シリカ製品の透過率を測定または報告する標準的な 方法はまったく提出されておらず、既に報告された数値はしばしば、例えば切削 または研削により得られた、中間的な表面仕上げの物品にあてはまる。このよう な表面はかなりの反射損失を招き、したがっておそらく従来の研究者によって報 告された透過率の数値はガラスの内部透過率を本当に表示してはいない。 発明者らは、透過率を測定する2つの別の技術を開発した。これらの第1のも のでは、約1mmの厚さのウエハーとして試料を用意し、通常の手段で磨いて光 学ガラスについて言えば透明性に相当するであろう表面仕上げにする。磨きに続 いて超音波浴で洗浄し、その後試料の赤外線透過率を測定する。 この方法は、より便利である第2の方法に匹敵する透過率をもたらす。この第 2の方法では、試料のウエハーを切断および研磨して用意し、超音波浴で完全に 洗浄して、その後屈折率整合流体(index−matching fluid )(例えばシネオール)と共に融解石英光学平板の間に差し込む。この方法は明 らかに、独立した気孔の不透明ガラス状シリカに適しているだけだが、、これら は本発明の好ましい製品である。 両方の測定方法とも、表面反射を無視する以前の測定方法を使用して得られた 透過率よりもかなり大きい透過率を与える。しかしながら、我々の結果はより再 現性があり、従って従来の方法で得られた透過率よりも適切であると考える。 従って以下で報告される透過率データは、上記の2番目の方法を使用して得た 内部透過率の数字である。 本発明の好ましい製品は高純度でかつ高密度のものであり、従ってそれらは、 融解石英物品に特有なたいていの特性、すなわち低い膨張係数、良い耐熱衝撃性 、および高温に対する耐性を示す。独立した微小気泡の均一な分布は、本発明の 製品から作られる物品が1mm以下の厚さでもほとんどのガスに対して不透過性 であり、例えば酸エッチングまたは超音波洗浄で容易に洗浄でき、また例えば溶 接で他の部品と組み合わされることを意味する。 例1 火炎融解、反応性液体ドーパント 化学分析を表1に示す50kgの石英結晶粒子Aを、Dow Corning のDC1107であるポリメチル水素シロキサン250g(すなわち0.5重量 %)と混ぜて、ポリプロピレン容器内で1時間タンブルして均一な混合物にした 。 製品はさらさらした粉末であって、加圧ジルコン耐火性ブロックで作られたタ ンク内において、石英ガラスで作った酸素−水素バーナーの中心を通して3kg /hで供給して1960℃で融解した。冷却すると、製品は不透明な白いガラス ブロックとなった。その特性を表1に挙げる。 融解製品の純度は原料石英粒子の特定の純度から期待されるものとほぼ一致し ており(表1を参照)、ドーピング工程に起因する汚 染物質はほとんどない。 900nmおよび2400nm(1000℃での黒体輻射体の放射のピーク) での赤外線透過率を、赤外線分光計を使用して、1mmの厚さに研磨したガラス ブロックから切り取り、超音波洗浄をした試験片を使用して測定した。内部透過 率(反射損失を考慮している)は900nmで16%、2400nmで7%であ り、ガラスはこれらの波長で実質的に不透明であることが示された。 例2 火炎融解、反応性液体ドーパント、高純度結晶 原料を、0.5重量%のDC1107でドープされた高純度低アルカリ石英結 晶粒子Bで置き換えたことを除いて、例1の条件を繰り返した。結果として得ら れた不透明石英ガラスの特性は表1に示すとおりである。 製品の純度は、再び高純度原料の純度とほぼ一致している。内部透過率を例1 のように測定すると、900nmで10%、2400nmで5%であり、ガラス がこれらの波長で実質的に不透明であることを示した。 例3 電気加熱融解、固体シリコーン添加剤 石英結晶粒子C(分析を表1に示す)20kg、を東芝シリコーン社のTos pearl 145A(商標)である平均粒度4ミクロンのポリメチルシルセス オキサン球体微細粉末0.6g(すなわち30重量ppm)と混ぜて、シリカガ ラス容器内でタンブルして混合物を均一にした。 製品はさらさらした粉末であり、それを長さ900mm、内径140mmの小 さな回転炉に装填して、炉の軸線上にある直径20mmの黒鉛電極によって加熱 した。炉の回転に基づく遠心作用によって、粉末を炉壁に留めた。炉を50kW で2分間、続いて30kWで15分間加熱して、その後冷却させた。 製品は内径50mm、肉厚10mmの不透明融解石英チューブであった。その 他の特性は表1に要約する。添加剤のレベルを増加させることによって、かさ密 度の少しの減少を犠牲にして透過率を減少させることが可能であった。 例4 電気加熱融解、非反応性液体シリコーン添加剤 添加剤をGE SiliconesのSM2128であるシリコーン乳濁液5 0g(すなわち0.25%)に置き換えることを除いて、例3の条件を繰り返し た。製品は、内径40mm、肉厚10mmの不透明融解石英チューブであった。 他の特性は表1に示す。 これらの例は、電気融解製品および火炎融解製品の両方に適応できる本発明の 能力を説明する。原理的に両方の熱源が使用でき、それぞれが、当該技術で知ら れている様々な構成で、例えば、るつぼまたはタンクでの、連続の引き抜き等を 使用しまたは使用せずの、フリービルドアップで、使用できる。必要ならば、ア ークまたはプラズマ法を使用することができる。製品が低ヒドロキシル(OH) 含有量であることが必要な場合は、明らかに電気融解法が好ましい。 更に、上記の例は、ブロック、インゴットまたはチューブ状の不透明ガラスの 製造を説明している。そのような製品は当該技術の既知の方法で、棒およびチュ ーブ、板、フランジおよび他の製品を含む一連の所望の物品にすることができる 。あるいは、他の融解法の使用によって、本発明は棒、チューブ、例えば中空の 形である成形インゴット、板製品、並びに必要ならば他の成形品、およびそれら から作られる物品の連続的な火炎融解または電気融解に適用することもできる。 本発明の方法は、半導体産業に関わらない他の応用においても有用であること が分かっている。例えば、照明または加熱の用途での エンベロープとして使用する場合、この技術を使用して、化粧または他の目的で 融解石英または融解シリカチューブに不透明性を提供することができる。処理を しなければ透明か、半透明(および例えば銀−灰色)のチューブを、その中に収 容される加熱金属フィラメントからの直接の輻射線を拡散させることができる白 い不透明製品にすることが可能である。 更に、添加剤の量が多い場合、かなり減少したかさ密度、および制御された気 泡量のチューブ状製品を製造することが可能である。これは管理された様式にお いてチューブの強度を減少させ、脆性を増加させる。そのようなチューブは、鋳 物産業において円筒状の砂−樹脂コアに取って代わる簡単に取り除けるコアチュ ーブとして価値があることが判明した。このように、本発明の方法で製造される 減少したかさ密度、および増加した脆性を持つガラス状シリカチューブは、鋳鉄 製品、例えば内燃機関用の中空カムシャフトの製造にコアチューブとして使用す ることができる。鋳物を冷却した後、シリカのコアチューブを押して、または穴 開けして取り除くことができ、ガラス強度の減少の結果として機械的な除去は非 常に容易にされる。 参考文献 1.Manufacture of Foamed Opaque Quartz Glass 藤ノ木他 信越石英(株) 特開平07 69661号公報 2.Manufacture of Opaque Quartz Glass with High-Density Fin e Pores 佐藤竜弘他 信越石英(株) 特開平07 69674号公報 3.Manufacture of Opaque Quartz Glass with Good Heat-Shieid ing Property 藤ノ木他 信越石英(株) 特開平07 61839号公報 4.High-Purity,Opaque Quartz Glass,Method for Producing S ame and Use Thereof Kamo,Kenji. Tosoh Corporation,Japan EP 0647600 1994 5.High-Purity Opaque Quartz Glass and its Production 折居晃一 日東化学工業(株) 特開平06 24771号公報 6.Manufacture of Powder Materials for Manufacture of Heat -Resistant Quartz Glass 山崎康裕 信越石英(株) 特開平05 193977 号公報 7.Slip Casting of Fused Silica, J.D.Fleming, Ceramic Bull 40(12)1961,pp 748-750 8.Slip-Cast Fused Silica Walton J.D.and Poulos N.E. Special Report No.43,1964 Engineering Experimental Station Georgia Institute of Technology Atlanta Georgia 9.Process for Making Transparent Silica Glass Loxley,T.A.et al Sherwood Refractories Inc 米国特許3,837,825 号明細書 1974 10.Manufacture of Opaque Quartz Glass Using Silicon Nitride asaFoaming Agent 佐々木正人他 日本石英ガラス 特開平04 65328号公報
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,S Z,UG),UA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD ,RU,TJ,TM),AL,AM,AT,AU,AZ ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN, CU,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB,G E,HU,IL,IS,JP,KE,KG,KP,KR ,KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV, MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,P L,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK ,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,US,UZ, VN,YU (72)発明者 ウェルズ,ピーター,ジョン イギリス国,タイン アンド ウェア エ ヌイー9 7ビーエル,ゲートシェッド, リンデン ウェイ 2

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.シリカ粒子の融解によって製造される不透明石英ガラス製品であって、融 解工程の間の有機ケイ素添加剤の反応によって製品の不透明性が高められている 不透明石英ガラス製品。 2.上記添加剤が、室温で液体の有機ケイ素化合物である請求項1の不透明石 英ガラス製品。 3.上記有機ケイ素化合物が、上記シリカ粒子の表面に化学的に結合した層を 形成している請求項2の不透明石英ガラス製品。 4.上記添加剤が、上記シリカ粒子と均一に混合された超微細粉末である請求 項1の不透明石英ガラス製品。 5.上記シリカ粒子が石英結晶粒子から得られる請求項1〜4のいずれか1つ の不透明石英ガラス製品。 6.上記シリカ粒子が非結晶シリカ粒子である請求項1〜4のいずれか1つの 不透明石英ガラス製品。 7.超微細無機粉末の形で第二の添加剤を取り込むことによって不透明性を更 に高められた請求項1〜6のいずれか1つの不透明石英ガラス製品。 8.上記超微細無機粉末が非結晶シリカ粉末である請求項7の不透明石英ガラ ス製品。 9.実質的に前記の例のいずれか1つで先に説明されたように製造された不透 明石英製品。 10.不透明性を高める添加剤の存在下でシリカ粒子を融解して石英ガラス製 品の不透明性を向上させる方法であって、上記添加剤が有機ケイ素化合物である 石英ガラス製品の不透明性向上方法。 11.上記添加剤が、室温で液体の有機ケイ素化合物である請求項10の方法 。 12.上記有機ケイ素化合物が、上記シリカ粒子の表面に化学的に結合した層 を形成する請求項11の方法。 13.融解される上記シリカ粒子を、石英結晶粒子から得る請求項10〜12 のいずれか1つの方法。 14.超微細無機粉末の形の第二の添加剤を取り入れて、不透明性を更に高め る請求項10〜13のいずれか1つの方法。 15.上記超微細無機粉末が非結晶シリカ粉末である請求項14の方法。 16.請求項1〜9のいずれかの石英ガラス製品から作られた、または請求項 10〜15のいずれか1つの方法で作られたインゴット、板、ディスク、棒、チ ューブ、るつぼ、フランジまたは他の二次加工品。
JP52909397A 1996-02-15 1997-02-13 不透明石英ガラス製品および製造方法 Expired - Lifetime JP4118952B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB9603128.1 1996-02-15
GBGB9603128.1A GB9603128D0 (en) 1996-02-15 1996-02-15 Improved vitreous silica product and method of manufacture
PCT/GB1997/000398 WO1997030000A1 (en) 1996-02-15 1997-02-13 Opaque quartz glass product and method of manufacture

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2000504668A true JP2000504668A (ja) 2000-04-18
JP2000504668A5 JP2000504668A5 (ja) 2004-11-18
JP4118952B2 JP4118952B2 (ja) 2008-07-16

Family

ID=10788758

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP52909397A Expired - Lifetime JP4118952B2 (ja) 1996-02-15 1997-02-13 不透明石英ガラス製品および製造方法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5985779A (ja)
EP (1) EP0880479B1 (ja)
JP (1) JP4118952B2 (ja)
AU (1) AU1800797A (ja)
DE (1) DE69703091T2 (ja)
GB (1) GB9603128D0 (ja)
TW (1) TW420654B (ja)
WO (1) WO1997030000A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015151320A (ja) * 2014-02-17 2015-08-24 東ソー株式会社 不透明石英ガラスおよびその製造方法

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5900381A (en) * 1997-08-26 1999-05-04 General Electric Company Opaque silica composition
GB9722020D0 (en) * 1997-10-17 1997-12-17 Tsl Group Plc Production of quartz glass articles having high surface purity
DE19936478A1 (de) * 1999-08-03 2001-02-15 Degussa Sinterwerkstoffe
GB0605461D0 (en) * 2006-03-17 2006-04-26 Saint Gobain Quartz Plc Manufacture of large articles in synthetic vitreous silica
DE102006052512A1 (de) * 2006-11-06 2008-05-08 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung von opakem Quarzglas, nach dem Verfahren erhaltenes Halbzeug sowie daraus hergestelltes Bauteil
GB2478307A (en) 2010-03-02 2011-09-07 Heraeus Quartz Uk Ltd Manufacture of silica glass
WO2012137714A1 (ja) 2011-04-04 2012-10-11 ローム株式会社 半導体装置および半導体装置の製造方法
GB201106015D0 (en) 2011-04-08 2011-05-25 Heraeus Quartz Uk Ltd Production of silica soot bodies
GB2514118B (en) 2013-05-13 2015-11-11 Heraeus Quartz Uk Ltd Froth floatation separation and analysis
CN105210173A (zh) * 2013-05-23 2015-12-30 应用材料公司 用于半导体处理腔室的经涂布的衬里组件
US9957431B2 (en) * 2013-11-11 2018-05-01 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Composite material, heat-absorbing component, and method for producing the composite material
CN106082603A (zh) * 2016-06-20 2016-11-09 湖北菲利华石英玻璃股份有限公司 一种不透明石英玻璃锭的制造方法
RU2643532C1 (ru) * 2017-01-09 2018-02-02 Автономная некоммерческая организация высшего образования "Белгородский университет кооперации, экономики и права" Способ получения блочного пеностекла
CN111233309B (zh) * 2020-04-02 2022-02-22 湖北菲利华石英玻璃股份有限公司 一种高质量不透明石英玻璃锭的生产方法
CN114644441B (zh) * 2022-04-27 2023-05-26 中建材衢州金格兰石英有限公司 一种不透明石英粉的混料方法及其混料装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0465328A (ja) * 1990-07-06 1992-03-02 Nippon Sekiei Glass Kk 不透明石英ガラスの製造法
JPH05254882A (ja) * 1992-03-12 1993-10-05 Nippon Sekiei Glass Kk 不透明石英ガラス
EP0647600A1 (en) * 1993-10-08 1995-04-12 Tosoh Corporation High-purity, opaque quartz glass, method for producing same and use thereof
JPH07267724A (ja) * 1993-11-12 1995-10-17 Heraeus Quarzglas Gmbh 高含量の二酸化珪素を有する造形物およびその製造法
JPH07300341A (ja) * 1994-04-28 1995-11-14 Shinetsu Quartz Prod Co Ltd 不透明石英ガラスおよびその製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01317155A (ja) * 1988-03-04 1989-12-21 Mitsubishi Kasei Corp セラミック成形体の製造法
EP0653613B1 (de) * 1993-11-12 1997-11-26 Xenotest Gesellschaft für die Herstellung von Materialprüfgeräten mbH UV-Sensor

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0465328A (ja) * 1990-07-06 1992-03-02 Nippon Sekiei Glass Kk 不透明石英ガラスの製造法
JPH05254882A (ja) * 1992-03-12 1993-10-05 Nippon Sekiei Glass Kk 不透明石英ガラス
EP0647600A1 (en) * 1993-10-08 1995-04-12 Tosoh Corporation High-purity, opaque quartz glass, method for producing same and use thereof
JPH07267724A (ja) * 1993-11-12 1995-10-17 Heraeus Quarzglas Gmbh 高含量の二酸化珪素を有する造形物およびその製造法
JPH07300341A (ja) * 1994-04-28 1995-11-14 Shinetsu Quartz Prod Co Ltd 不透明石英ガラスおよびその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015151320A (ja) * 2014-02-17 2015-08-24 東ソー株式会社 不透明石英ガラスおよびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW420654B (en) 2001-02-01
US5985779A (en) 1999-11-16
JP4118952B2 (ja) 2008-07-16
EP0880479B1 (en) 2000-09-13
DE69703091T2 (de) 2001-05-03
EP0880479A1 (en) 1998-12-02
DE69703091D1 (de) 2000-10-19
GB9603128D0 (en) 1996-04-17
WO1997030000A1 (en) 1997-08-21
AU1800797A (en) 1997-09-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4118952B2 (ja) 不透明石英ガラス製品および製造方法
CN1742120A (zh) 盛放硅的容器及其制造方法
JP2008510676A (ja) 石英ガラスの被覆部材および前記部材の製造方法
JP2008510676A5 (ja)
JP4038137B2 (ja) ケイ素−チタン−混合酸化物粉末を含有する分散液、その製造方法、それにより製造された成形体、その製造方法、ガラス成形品、その製造方法及びその使用
KR100219250B1 (ko) 합성 실리카 유리 분말
JP3578357B2 (ja) 耐熱性合成石英ガラスの製造方法
JP3092675B2 (ja) オキシナイトライドガラス及びその製造方法
JPS61295243A (ja) ガラス体の製造方法
US5130400A (en) Process for preparing spherical, monodispersed organopolysiloxanes or silicon oxycarbides
KR20090039668A (ko) 합성 유리질 실리카의 대형 제품 제조방법
KR100197471B1 (ko) 홍연석함유 석영유리, 그 제조방법 및 이로부터 제조된석영유리지그
JPH07121813B2 (ja) 平板状石英ガラスの製造方法
JP4191271B2 (ja) 透明部を有する不透明石英ガラス及びその製造方法
JPH05254882A (ja) 不透明石英ガラス
KR19980042540A (ko) 실리카겔, 합성석영유리분말 및 석영유리의 성형품
JP4035793B2 (ja) 透明部を有する不透明石英ガラスリングの製造方法
JP3966943B2 (ja) 不透明石英ガラス及びその製造方法
JPH10502324A (ja) 焼結石英ガラス製品及びその製造方法
EP0909743A1 (en) Opaque silica glass article having transparent portion and process for producing same
JP3121733B2 (ja) 高純度合成クリストバライト粉、その製造方法及びシリカガラス
JP2001511468A (ja) 半導体基板のための研磨剤
JPH0517172B2 (ja)
JPH04224135A (ja) 泡ガラスおよびその製造方法
JPS6346015B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040209

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040209

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070814

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20071113

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20071221

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080214

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080325

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080424

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110502

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110502

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120502

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130502

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term