JP2002257268A - 真空配管装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 例えば真空容器１と真空ポンプ２を真空配管
３で繋ぐ場合に、真空配管内の負圧によって真空配管３
が収縮することを回避し、真空容器１と真空ポンプ２が
互いに引張り合うことがないようにする。 【解決手段】 真空配管３を二重構造とし、内側の配管
３ａと外側の配管３ｂとの間の空間部３ｃに正圧を供給
する。この構造により、真空配管３内の負圧による収縮
力と正圧による真空配管３の伸張力とをつり合わせて、
真空配管３の収縮を回避する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空環境間を柔軟
に屈曲可能な真空配管で繋ぐ真空配管装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】真空機器において、真空環境間を繋ぐ場
合、例えば金属や樹脂を液圧成形や溶接加工などでベロ
ーズ構造とした柔軟に屈曲可能な真空配管が用いられ
る。このような真空配管は主に１００〔Ｐａ〕より高真
空の真空機器に適用され、例えば真空容器と真空発生源
である真空ポンプとを繋ぐ場合に多く用いられている。

【０００３】真空ポンプには色々な種類があるが、一般
には機構の往復運動や回転運動により大気を吸引するよ
うにしたものが多く、振動や騒音を発生するため、真空
容器に直接剛体管で繋ぐと振動や騒音が真空容器に伝わ
り機器の動作に悪影響を与えるので、これを回避するた
めに上記のような柔軟に屈曲可能な真空配管が好適に用
いられる。またこの柔軟に屈曲可能な真空配管は、配管
のレイアウトも容易に変更、設定できるメリットがあ
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、この構成に
おいては、真空ポンプを駆動して真空ポンプ、真空配
管、真空容器の内部を真空状態にすると、真空配管は負
圧によって管路方向の収縮力を受けることになる。この
とき真空配管は柔軟な構造であるが故に、その収縮に伴
なう弾性力と上記収縮力がつり合う長さまで収縮する
か、あるいは真空配管の両端が固定的に保持されている
場合は真空配管の両端側が引張り合う状態となる。

【０００５】このような状態では真空配管の柔軟性は相
対的にかなり損なわれて真空ポンプの振動が真空容器に
伝わり易く、また構造的に真空容器と真空ポンプの間に
不要な力がかかってしまう問題点がある。そのため、真
空配管の一部をＵ字型に曲げておき、この部分で収縮変
化を吸収する配管構造も考えられるが、直管よりも管長
が長く必要で曲がり部も増える為、コンダクタンス（管
路抵抗）が大きくなり到達真空度の低下の原因になるな
どの問題点があり、実用性は低い。

【０００６】本発明はこのような問題点に鑑みてなされ
たもので、柔軟に屈曲可能な真空配管において、負圧に
よって生じる収縮を効果的に回避できる真空配管装置を
提供することを課題としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明は、真空環境間を柔軟に屈曲可能な真空配管
で繋ぐ真空配管装置において、真空配管を二重構造と
し、その内側の配管と外側の配管との間に正圧が供給さ
れる構造としたものである。

【０００８】この構造では、真空配管内の負圧による収
縮力に対し正圧による真空配管の伸長力をつり合わせる
ことで真空配管の収縮を効果的に回避でき、真空配管の
両端の位置や力を中立に、または適切な位置関係や力関
係に保持することが可能となる。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態について詳述する。先ず、本発明による真
空配管装置の概念を図１に模式的に示して説明する。

【００１０】この構成において１は真空容器、２は真空
発生源である真空ポンプで、この真空容器１と真空ポン
プ２とはベローズ状の柔軟な真空配管３で繋がってい
る。ここで真空容器１には車輪４が設けられており、こ
れによって真空容器１は床面に対し移動可能で、一方真
空ポンプ２は脚５によって床面に固定されているものと
する。

【００１１】この図１において（Ａ）は真空ポンプ２が
オフの状態で、この状態では真空容器１、真空ポンプ
２、真空配管３は何れも内部が大気圧である。そしてこ
の状態から真空ポンプ２を駆動すると、真空ポンプ２、
真空配管３、真空容器１の内部は真空状態となり、この
とき真空配管３は外気との圧力差即ち負圧によって真空
配管３の有効断面積と負圧との積に相当する管路方向の
収縮力を受けることになる。

【００１２】このため（Ｂ）に示す如く真空配管３は、
その収縮に伴なう弾性力と上記収縮力とがつり合う長さ
になるまで収縮し、これと共に真空容器１が移動する。
また、（Ｃ）に示すように真空容器１が脚６によって床
面に固定されている場合は、真空配管３の収縮力によっ
て真空容器１と真空ポンプ２が若干の歪を生じながら互
いに引張り合う状態となる。

【００１３】このような状態となると真空配管３の柔軟
性が損なわれて真空ポンプ２の振動や騒音が真空容器１
に伝わり易く、また構造的に真空容器１と真空ポンプ２
の間に不要な力がかかってしまう問題がある。そこでこ
れを回避するために本発明による真空配管装置では、
（Ｄ）に示すように、真空配管３を内側の配管３ａと外
側の配管３ｂとで構成した二重構造とし、ここで内側の
配管３ａと外側の配管３ｂとの間の空間部３ｃに正圧を
供給する。

【００１４】この構造では、真空配管３は内側の配管３
ａの内部の負圧によって内側の配管３ａの有効断面積と
負圧との積に相当する収縮力を受けることになるが、こ
れに対し内側の配管３ａと外側の配管３ｂとの間の空間
部３ｃに正圧を加え、その圧力と空間部３ｃの有効断面
積との積が、内側の配管３ａの有効断面積と負圧との積
に等価となるように正圧を調整すれば、真空配管３内の
負圧による収縮力と正圧による真空配管３の伸張力とが
つり合う状態となるので、真空配管３は収縮することが
なく、真空容器１と真空ポンプ２が互いに引張り合う状
態となることもない。以上が本発明による真空配管装置
の基本的な概念である。

【００１５】次に、本発明による真空配管装置の具体的
な適用例について説明する。

【００１６】図２は光ディスクの原盤の作製に用いる電
子ビーム照射装置を示しており、即ちこの装置は、電子
銃２６から出射される電子ビームｂをディスク原盤１１
に照射して信号の記録（信号パターンの記録ピットの形
成）を行なうものである。

【００１７】ここで電子ビームの照射には真空環境が必
要であるが、特にこの装置では電子ビームを照射する部
分のみを真空状態とし、それ以外の部分は大気中に置く
部分真空方式が採用されている。

【００１８】先ず、この装置において原盤１１を支持す
る支持機構部１２について説明する。この支持機構部１
２は、装置の基台上に固定されるベース１３と、このベ
ース１３上に備えられた直線案内機構１４と、この直線
案内機構１４により直線移動可能に支持され、原盤１が
載置される回転テーブル１５とにより構成されている。

【００１９】直線案内機構１４は、ベース１３上に水平
に配置されたガイドレール１６と、このガイドレール１
６の左右両端部をベース１３に支持するスタンド１７
ａ，１７ｂと、ガイドレール１６に沿って移動可能に支
持された移動テーブル１８とから構成されており、この
移動テーブル１８はその左右の脚部１８ａ，１８ｂに設
けられた例えば静圧空気式の軸受１９によってガイドレ
ール１６に対し低摩擦力で移動可能に支持されている。

【００２０】回転テーブル１５は直線案内機構１４の移
動テーブル１８上に取り付けられており、例えば静圧空
気式の回転軸受により低摩擦で回転可能に支持されてい
る。原盤１１はこの回転テーブル１５上に水平に載置さ
れた状態で吸着固定されるようになっており、この原盤
１１を回転テーブル１５上で吸着する手段としては、真
空吸着方式あるいは静電吸着方式が好適に用いられる。

【００２１】この回転テーブル１５はその下に配置され
た電磁駆動型のスピンドルモーター２０によって回転駆
動されるようになっている。さらに回転テーブル１５の
下には回転検出用のエンコーダーが配置されており、こ
のエンコーダーと制御回路によって回転テーブル１５の
回転駆動が制御される。

【００２２】また移動テーブル１８とベース１３の間に
は電磁駆動型のリニアモーター２１が構成されており、
このリニアモーター２１の駆動によって移動テーブル１
８がガイドレール１６に沿って水平方向即ち原盤１１の
径方向に移動されるようになっている。さらに、図には
表われていないが、直線案内機構１４には移動テーブル
１８の移動位置を検出するリニアスケールと、このリニ
アスケールの値を制御回路によってフィードバックして
位置決め制御を行なう駆動制御機構が設けられている。

【００２３】このように構成される原盤の支持機構部１
２に対しその上方には、原盤１１上を部分的に真空状態
にして電子ビームを照射する電子ビーム照射手段２３が
固定的に配置されている。２４は原盤１１の上方で懸架
支持されている真空容器で、この真空容器２４の内部に
電子ビームコラム２５が配置され、この電子ビームコラ
ム２５の上流の電子ビーム励起源である電子銃２６から
電子ビームｂが出射される。

【００２４】電子ビームコラム２５が内蔵される真空容
器２４には真空ポンプによりなる排気手段が連結されて
おり、この排気手段によって真空容器２４の内部を吸引
することで電子ビームコラム２５内が電子ビームの照射
に支障のない程度の真空度（１×１０^-4〔Ｐａ〕程度）
に保たれるようになっている。

【００２５】この真空容器２４の下端部の電子ビーム出
口には伸縮連結機構２７を介して静圧浮上パッド２８が
取り付けられており、この静圧浮上パッド２８が原盤１
１に対し５μｍ程度の僅かな隙間をもって非接触で吸着
し、その状態で電子銃２６から出射された電子ビームｂ
が静圧浮上パッド２８の中心部の電子ビーム通路を通っ
て原盤１１に照射される。

【００２６】図３に静圧浮上パッド２８の詳細な構造を
示す。この静電浮上パッド２８は、その中心部に電子ビ
ームｂが通る電子ビーム通路２９を有する例えば金属製
のブロック３０により構成される。このブロック３０は
ベローズ状の伸縮連結機構２７によって真空容器２４の
下端の固定部２４ａに気密的に連結されており、この伸
縮連結機構２７の伸縮によりブロック３０は原盤１１に
厚さムラや回転ぶれ等があってもそれに追従して確実に
吸着できるようになっている。

【００２７】そしてこのブロック３０を原盤１１に吸着
する手段としてブロック３０には、原盤１１との対向面
に開口する第１の吸引溝３１及び第２の吸引溝３２が電
子ビーム通路２９を中心とする同心円状に形成されてい
る。

【００２８】この第１の吸引溝３１と第２の吸引溝３２
には夫々排気管３３と３４を介して排気手段が連結され
ており、この排気手段によって第１の吸引溝３１と第２
の吸引溝３２から排気即ち気体の吸引が行なわれる如く
なされている。

【００２９】この排気手段としては真空ポンプが用いら
れ、この場合、電子ビーム通路２９に近い吸引溝ほど高
い真空度に排気できる真空ポンプを連結する。即ち、電
子ビーム通路２９に近い第１の吸引溝３１には例えば１
×１０^-1〔Ｐａ〕程度の真空度が得られる真空ポンプを
連結し、これより外側の第２の吸引溝３２には５×１０
³ 〔Ｐａ〕程度の真空度が得られる真空ポンプを連結す
る。

【００３０】さらにブロック３０には、第２の吸引溝３
２の外側において原盤１との対向面に露出する通気体３
５が埋め込まれている。この通気体３５は通気性を有す
る多孔質の金属を材料として電子ビーム通路２９を中心
とするリング状に形成されており、この通気体３５の裏
側においてブロック３０の内部には気体の流路３６が形
成されている。

【００３１】この流路３６には給気管３７を介して給気
手段が連結されており、この給気手段から流路３６に例
えば５×１０⁵ 〔Ｐａ〕程度の圧縮気体（正圧）が供給
され、これが通気体３５から噴出されるようになってい
る。

【００３２】このように構成される静圧浮上パッド２８
を原盤１１の上に載せた状態で各排気手段及び給気手段
を作動させると、通気体３５から噴出される気体によっ
て静圧浮上パッド２８が原盤１１から僅かに浮き上が
り、同時に第１及び第２の吸引溝３１及び３２から気体
が吸引されて溝内が負圧となることによって静圧浮上パ
ッド２８が原盤１１に吸い付くように作用し、このため
静圧浮上パッド２８は原盤１１に対し５μｍ程度の隙間
ｄを保ちながら非接触で吸着される状態となるので、原
盤１１の回転には支障がない。

【００３３】このとき通気体３５から噴出される気体
は、その周囲に形成されている第１及び第２の吸引溝３
１及び３２で吸引されることにより電子ビーム通路２９
に至ることが回避され、この場合、通気体３５からの気
体は先ず第２の吸引溝３２で吸引され、さらに第１の吸
引溝３１で吸引されることになり、ここで第１の吸引溝
３１での吸引力は第２の吸引溝３２より強くなっている
ため、静圧浮上パッド２８の中心部にいくほど真空度を
高くでき、これによって真空容器２４の内部即ち電子ビ
ームコラム２５内を電子ビームの照射に支障のない程度
の真空度（１×１０^-4〔Ｐａ〕程度）に保つことができ
るものである。

【００３４】そしてこの静圧浮上パッド２８によって原
盤１１上の一部分を真空にした状態で原盤１１に電子ビ
ームｂが照射され、同時に支持機構部１２のモーター１
９の駆動により原盤１１が回転されると共にモーター２
１の駆動によって原盤１１が径方向に移動されることで
所定のトラックに記録が行なわれる。

【００３５】このように構成される電子ビーム照射装置
において、静圧浮上パッド２８と真空容器２４とを連結
する伸縮連結機構２７の部分に本発明による真空配管装
置が適用されている。

【００３６】即ちここで伸縮連結機構２７は内側のベロ
ーズ４０ａと外側のベローズ４０ｂとで構成される二重
構造を有している。これらのベローズ４０ａ，４０ｂは
何れも金属または樹脂製の柔軟に屈曲可能なベローズで
あり、夫々上端部が真空容器２４側の固定部２４ａに、
下端部が静圧浮上パッド２８側の固定部２８ａに気密的
に連結固定されている。

【００３７】そしてこの伸縮連結機構２７における内側
のベローズ４０ａと外側のベローズ４０ｂとの間の空間
部４０ｃに、給気手段から圧縮気体即ち正圧が供給され
るようになっている。

【００３８】この伸縮連結機構２７においては、内側の
ベローズ４０ａの内部が負圧状態になるので、内側のベ
ローズ４０ａの有効断面積と負圧との積に相当する力で
伸縮連結機構２７が収縮力を受け、静圧浮上パッド２８
が真空容器２４側に引き上げられようとする。ここで静
圧浮上パッド２８と原盤１１は前述した如く微小の隙間
でつり合っており、隙間を広げようとすると吸い付こう
とする力が発生するので原盤１１を引き上げようとす
る。

【００３９】そこで内側のベローズ４０ａと外側のベロ
ーズ４０ｂとの間の空間部４０ｃに給気手段から正圧を
供給し、内側のベローズ４０ａの有効断面積と負圧との
積による収縮力と、内側のベローズ４０ａと外側のベロ
ーズ４０ｂとの間の空間部４０ｃの有効断面積と正圧と
の積がほぼ等価となるように正圧を与えると、収縮力と
伸張力がほぼつり合って中立となり、静圧浮上パッド２
８や原盤１１を引き上げる力がキャンセルされ、静圧浮
上パッド２８は無負荷で安定して一定の隙間を保ちなが
ら原盤１１の微小な変動に追従できるようになり、より
高精度な記録が可能となる。

【００４０】さらにこの伸縮連結機構２７においては、
ベローズの状態に応じて正圧の供給を制御する制御手段
としてレベリングバルブ４２が設けられている。ここで
は機械式のレベリングバルブが用いられており、即ちこ
のレベリングバルブ４２は、正圧の供給路の中途部に介
在して真空容器２４の固定部２４ａに固定されるバルブ
本体４３と、このバルブ本体４３の下部に上下方向に回
動可能に取り付けられるレバー４４とで構成され、この
レバー４４の回動によってバルブ本体４３において正圧
の供給が制御されるものである。

【００４１】このレバー４４の先端は静圧浮上パッド２
８側の固定部２８ａから水平方向に延びる延長部４５に
当接されており、伸縮連結機構２７のベローズの伸縮に
伴なって延長部４５が上下することによりレバー４４が
回動されて正圧が調整される。即ちこの場合、伸縮連結
機構２７のベローズが伸びすぎれば正圧を弱め、縮みす
ぎれば正圧を強めるように働くので、真空容器２４が大
気圧から真空に遷移する間、あるいはその逆の場合でも
真空容器２４内の負圧の変化に応じてレベリングバルブ
４２が正圧を調整して適切な力関係を維持し安定して動
作させることができる。

【００４２】尚、ここではレベリングバルブ４２として
機械式のレベリングバルブを示しているが、変位計測手
段または力計測手段と圧力調整手段とを組み合わせた制
御手段によって実現できるものを総称してレベリングバ
ルブとする。例えば、電気マイクロメーターの出力信号
がある目標値（例えば０Ｖ）になる位置をベローズの中
立位置にセットしておき、電空比例バルブの電圧をフィ
ードバック制御して正圧を調整するようにしてもよい
し、その他にも同等の機能を満たす手段は数多く考えら
れる。以上が本発明を部分真空方式の電子ビーム照射装
置に適用した場合の実施例である。

【００４３】続いて、本発明をターボ分子ポンプに適用
した例を図４及び図５に示す。ここで図４に模式的に示
した真空容器５０は図には現われていないが装置本体で
支えられており、この真空容器５０にダンパー配管５１
を介して真空発生源であるターボ分子ポンプ５２が吊り
下げられている。ターボ分子ポンプ５２は途中の配管で
のロスをなくすためこのように真空容器５０に連結され
ることが多い。

【００４４】ダンパー配管５１はターボ分子ポンプ５２
の振動を減衰し真空容器５０に伝えないようにするため
のものであり、一般にはゴム製のダンパーが用いられ
る。しかし、ゴム製のダンパーでは、負圧により収縮さ
れて柔軟性が損なわれ充分な振動減衰機能を期待でき
ず、ターボ分子ポンプの駆動停止による伸縮の繰り返し
によってひび割れなどの劣化や真空中への大気の放出な
どが生じるおそれがあり、寿命が短い。

【００４５】そこで図５に示す如く本例では、このダン
パー配管５１の部分に本発明による真空配管装置が適用
されている。即ちここでダンパー配管５１は、内側のベ
ローズ５３ａと外側のベローズ５３ｂとで構成される二
重構造を有している。これらのベローズ５３ａ，５３ｂ
は何れも金属または樹脂製の柔軟に屈曲可能なベローズ
が用いられ、夫々上端部が真空容器５０側の固定部５０
ａに、下端部がターボ分子ポンプ５２側の固定部５２ａ
に気密的に連結固定されている。

【００４６】そしてこのダンパー配管５１における内側
のベローズ５３ａと外側のベローズ５３ｂとの間の空間
部５３ｃに、給気手段から圧縮気体即ち正圧が供給され
るようになっており、これによってこのダンパー配管５
１においては、負圧による収縮力に対し正圧による伸縮
力がつり合って中立状態が保たれるので、ダンパー配管
５１が収縮することはない。従って、ダンパー配管５１
の柔軟性が損なわれることもないので、充分な振動減衰
効果が得られるものである。

【００４７】また、図示はしないが、このダンパー配管
５１において正圧の供給を制御する制御手段としてレベ
リングバルブを設ければ、ベローズの必要以上の伸縮を
制限できるので柔軟性が劣化することも少なく長寿命化
を図ることができる。

【００４８】図６は二重構造のダンパー配管５１の外側
のベローズ５３ｂを防振ゴムなどの弾性材で構成した例
である。このような構成とすることにより、ダンパー配
管５１で伝わる振動が弾性材で効果的に吸収されるの
で、より確かな振動減衰効果を得ることができる。尚、
この例では外側のベローズ５３ｂを弾性材としてある
が、内側のベローズ５３ａを弾性材としてもよく、また
両方のベローズ５３ａと５３ｂを弾性材とする構成も可
能である。

【００４９】さらに図７に本発明を空気ばね式除振装置
に適用した場合の実施例を示す。図において６０は真空
容器であって、この真空容器６０は床面に固定される基
台６１に複数の空気ばね６２及び６３を介して支持され
ており、床面から真空容器６０に伝わる振動がこの空気
ばね６２及び６３によって減衰（除振）される構造とな
っている。６４は真空容器６０を真空にするための真空
ポンプであり、これは床面に固定されている。

【００５０】そしてこの真空ポンプ６４と真空容器６０
とを繋ぐ真空配管として一つの空気ばね６２に本発明に
よる真空配管装置が適用されている。即ちこの空気ばね
６２は、内側のベローズ６５ａと外側のベローズ６５ｂ
とで構成される二重構造を有し、この内側のベローズ６
５ａと外側のベローズ６５ｂとの間の空間部６５ｃに給
気手段から正圧が供給されるようになっている。

【００５１】この空気ばね６２においては、真空容器６
０と真空ポンプ６４とを繋ぐ内側のベローズ６５ａの内
部が負圧となることによって空気ばね６２は収縮しよう
とするが、ここで内側のベローズ６５ａと外側のベロー
ズ６５ｂとの間の空間部６５ｃに正圧が供給されること
で負圧による収縮力と正圧による伸張力とがつり合う状
態となって空気ばね６２は収縮することなく中立状態に
保たれる。

【００５２】またこの空気ばね６２に正圧を供給する供
給路の中途部には、正圧の制御手段としてレベリングバ
ルブ６６が設けられており、真空容器６０が一定の高さ
以下になるとこのレベリングバルブ６６が作動して正圧
を強め、また真空容器６０が一定の高さ以上となると正
圧を弱めるように働いて空気ばね６２を伸縮させること
で真空容器６０を一定の高さに保持する構成となってい
る。

【００５３】さらにこの空気ばね式除振装置において
は、他の空気ばね６３にも給気手段から正圧が供給され
るようになっており、この正圧の供給路の中途部にもレ
ベリングバルブ６７が設けられ、真空容器６０を一定の
高さに保持する構成となっている。このように各空気ば
ね６２及び６３に供給される正圧をレベリングバルブ６
６及び６７で制御する構成により、真空容器６０を常に
水平状態に維持することが可能である。

【００５４】以上の如く本発明を適用した空気ばね式除
振装置においては、床面から真空容器６０に伝わる振動
を空気ばね６２及び６３で減衰すると共に、真空ポンプ
６４から真空容器６０に伝わる振動を二重配管構造の空
気ばね６２によって効果的に減衰でき、即ち床振動と真
空ポンプの振動を同時に減衰させることができるもので
ある。

【００５５】以上、本発明による真空配管装置を各種装
置に適用した実施例について説明したが、本発明はこれ
らの実施例に限ることなく他にも種々の装置に有効に適
用できるものである。

【００５６】

【発明の効果】以上の説明で明らかな如く本発明の真空
配管装置では、真空配管を二重構造とし、その内側の配
管と外側の配管との間に正圧が供給される構造としたこ
とにより、負圧による収縮力と正圧による伸張力とをつ
り合わせることで真空配管の収縮を効果的に回避でき、
真空配管の両端の位置や力を中立に、または適切な位置
関係や力関係に保持することが可能となる。従って本発
明によれば、真空配管の柔軟性が損なわれることはない
ので、真空配管における振動減衰効果を良好に維持する
ことができる。

【００５７】さらに本発明では、真空配管の状態に応じ
て正圧の供給を制御する制御手段を設けることにより、
真空配管を最適の状態に安定して保持することができ
る。さらに本発明においては、真空配管の内側の配管と
外側の配管の少なくとも一方側の配管を弾性材で構成す
ることにより、真空配管で伝わる振動をより効果的に減
衰させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による真空配管装置の構成を説明する模
式図である。

【図２】本発明による真空配管装置が適用される電子ビ
ーム照射装置の構造図である。

【図３】同、要部の縦断面図である。

【図４】本発明による真空配管装置が適用されるターボ
分子ポンプの側面図である。

【図５】同、要部の一部縦断面にした側面図である。

【図６】同、他の構成例を示す一部縦断面にした側面図
である。

【図７】本発明による真空配管装置が適用される空気ば
ね式除振装置の構造図である。

【符号の説明】

１‥‥真空容器、２‥‥真空ポンプ、３‥‥真空配管、
３ａ‥‥内側の配管、３ｂ‥‥外側の配管、３ｃ‥‥内
側の配管と外側の配管との間の空間部、２４‥‥真空容
器、２７‥‥伸縮連結機構、２８‥‥静圧浮上パッド、
４０ａ‥‥内側のベローズ、４０ｂ‥‥外側のベロー
ズ、４０ｃ‥‥内側のベローズと外側のベローズとの間
の空間部、４２‥‥レベリングバルブ（正圧の制御手
段）、５０‥‥真空容器、５１‥‥ダンパー配管、５２
‥‥ターボ分子ポンプ、５３ａ‥‥内側のベローズ、５
３ｂ‥‥外側のベローズ、５３ｃ‥‥内側のベローズと
外側のベローズとの間の空間部、６２‥‥空気ばね、６
５ａ‥‥内側のベローズ、６５ｂ‥‥外側のベローズ、
６５ｃ‥‥内側のベローズと外側のベローズとの間の空
間部

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空環境間を柔軟に屈曲可能な真空配管
   で繋ぐ真空配管装置において、上記真空配管を二重構造
   とし、その内側の配管と外側の配管との間に正圧が供給
   される構造としたことを特徴とする真空配管装置。
2. 【請求項２】 上記真空配管の状態に応じて上記正圧の
   供給を制御する制御手段を備えたことを特徴とする請求
   項１に記載の真空配管装置。
3. 【請求項３】 上記真空配管の内側の配管と外側の配管
   の少なくとも一方側の配管を弾性材で構成したことを特
   徴とする請求項１に記載の真空配管装置。