JP2006013402A

JP2006013402A - 露光装置

Info

Publication number: JP2006013402A
Application number: JP2004192263A
Authority: JP
Inventors: Shinobu Kiritani; 忍桐谷
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2004-06-29
Filing date: 2004-06-29
Publication date: 2006-01-12
Also published as: US7312853B2; US20060033896A1

Abstract

【課題】露光用マスクの破壊防止と寿命の向上が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】加減圧手段５１により、微小開口パターンを有する露光用マスク１０９を加減圧により弾性変形させて被露光物１１０Ａに接触、又は剥離させると共に、制御手段２００により加減圧手段５１による加減圧動作を制御する。さらに、制御手段２００により、加減圧手段５１による加減圧動作を予め用意された制御データに基づいて制御することにより、急激な加圧や減圧による露光用マスク１０９への衝撃負荷を低減することができるようにする。
【選択図】図１

Description

本発明は、露光装置に関し、特に微小開口パターンを有する露光用マスクを弾性変形させ、被露光物に接触させた状態で露光を行うものに関する。

近年、半導体デバイスや光デバイスを製造するために用いられるリソグラフィー技術の進化・多様化が進み、新たな可能性を探るエマージングリソグラフィー技術として、様々な露光方法について提案がなされている中、光の回折限界を超えて微細な加工が可能となる近接場光を用いた露光方法が、提案されている。

そして、このような近接場光を用いた露光方法を採用した露光装置としては、微小開口パターンを有する露光用マスク（メンブレンマスク）を弾性体で構成し、該被露光物のレジスト面形状に対して倣うようにマスクを弾性変形させることにより、露光用マスク全面をレジスト面に密着させ、微小開口パターンから滲み出る近接場光（エバネッセント光）を用いて露光を行う構成のものが提案されている。

ここで、このような近接場光を用いた露光装置（エバネッセント光露光装置）は、露光用マスクを被露光物に密着・剥離する手段を備えており、このような手段としては高圧ガスと圧力調整弁と与圧容器で構成されたものや、ピストン駆動モータとピストンとシリンダと圧力調整容器で構成されたものがある（特許文献１及び特許文献２参照。）。

特開平１１−１４５０５１号公報特開平１１−２７１９６０号公報

ところで、このような従来の近接場光を用いた露光装置において、露光用マスクを被露光物に密着させる際、或いは露光用マスクを被露光物から剥離させる際、急激な加圧や減圧が行われると、露光用マスクに衝撃負荷が加わる場合がある。

そして、このように衝撃負荷が加わると、露光用マスクが壊れる、或いは露光用マスクの寿命が短くなる等の問題の他、露光用マスクが固有振動する、露光用マスクと被露光物との密着・剥離が円滑に行われず密着・剥離精度が低下する、多様な露光用マスクへの対応が困難となる可能性がある。

本発明は、微小開口パターンを有する露光用マスクを弾性変形させ、被露光物に接触させた状態で露光を行う露光装置において、前記露光用マスクを前記被露光物に接触、又は剥離させるよう該露光用マスクを加減圧により弾性変形させる加減圧手段と、前記加減圧手段による加減圧動作を制御する制御手段と、を備え、前記制御手段は、前記加減圧手段による加減圧動作を予め用意された制御データに基づいて制御することを特徴とするものである。

本発明のように、加減圧手段による加減圧動作を予め用意された制御データに基づいて制御し、急激な加圧や減圧による露光用マスクへの衝撃負荷を低減することができるようにすることにより、最適な露光用マスクの加減圧制御が可能になり、急激な加減圧による露光用マスクへの衝撃負荷を低減することができる。さらに、非常に滑らか、かつ高精度な密着・剥離動作ができ、また露光用マスクの固有振動を回避することができる。

図１は、本発明の実施の形態に係る露光装置の概略構成を示す図である。図１において、５０は近接場露光装置であり、この近接場露光装置５０は、圧力調整容器１０８と、露光光源１０１と、ステージ１１２と、圧力調整容器１０８内の圧力を調整する加減圧アクチュエータ５１とを備えている。

また、図１において、１０９は、圧力調整容器１０８の底面に取り付けられている露光用マスクであり、この露光用マスク１０９は、図２に示すようにマスク支持体１０９ａ、マスク母材１０９ｂ、遮光膜１０９ｃから構成されている。ここで、遮光膜１０９ｃは、弾性体からなる薄膜の保持部材であるマスク母材１０９ｂの上に保持されるように成膜されており、その遮光膜１０９ｃに微小開口１０９ｄが所望のパターンに形成されている。

また、この露光用マスク１０９の、少なくともマスク支持体１０９ａから外れた中央部分は、弾性変形可能な薄膜部１０９ｅとなっている。なお、以下の説明において、露光用マスク１０９の図２の（ａ）に示す面、即ち遮光膜１０９ｃが設けられた面を表面、その反対側を裏面という。また、露光用マスク１０９はマスク支持体１０９ａを介して圧力調整容器１０８の底面に取り付けられるようになっている。

また、図１において、１１０Ａは、マスク面内２次元方向及びマスク面法線方向に移動可能な移動手段であるステージ１１２上に取り付けられた被露光物であり、この被露光物１１０Ａは基板１１１と、基板１１１の表面に形成されたレジスト１１０とから構成されるものである。そして、この被露光物１１０Ａをステージ１１２上に取り付け、ステージ１１２を駆動することにより、露光用マスク１０９に対する基板１１１のマスク面内２次元方向の相対位置合わせを行い、この後、マスク面法線方向に移動させるようにしている。

なお、図１において、１０２は露光光源１０１から出射される露光光１０３を平行光にするためのコリメータレンズであり、このコリメータレンズ１０２で平行光とされた露光光１０３は、圧力調整容器１０８の上面に設けられたガラス窓１０４を通って圧力調整容器１０８内に導入されるようになっている。

次に、このように構成された近接場露光装置５０の露光方法について説明する。

まず、圧力調整容器１０８の底面に露光用マスク１０９を、表面が被露光物１１０Ａに面する状態で取り付ける。次に、被露光物１１０Ａをステージ１１２上に取り付け、ステージ１１２を駆動することにより、露光用マスク１０９に対する基板１１１のマスク面内２次元方向の相対位置合わせを行い、この後、露光用マスク１０９との距離が所定の設定距離となるまでマスク面法線方向に移動させる。

次に、圧力調整容器１０８内に加減圧アクチュエータ５１により流体（気体または液体）を送り込み、露光用マスク１０９に対して裏面から表面に向かって圧力を印加することにより、露光用マスク１０９（の薄膜部１０９ｅ）を被露光物側に弾性変形させ（撓ませ）、露光用マスク１０９の表面と基板１１１上のレジスト１１０面との間隔が全面にわたって１００ｎｍ以下になるように露光用マスク１０９と被露光物１１０Ａを密着（接触）させる。

次に、このように露光用マスク１０９を被露光物１１０Ａに密着させた後、露光光源１０１から出射される露光光１０３をコリメータレンズ１０２で平行光にした後、ガラス窓１０４を通って圧力調整容器１０８内に導入し、露光用マスク１０９に対して裏面から照射する。これにより、露光用マスク１０９のマスク母材１０９ａ上の遮光膜１０９ｂに形成された微小開口パターンから近接場光が滲み出し、この近接場光により被露光物１１０Ａに対して露光が行われる。

次に、このような露光工程が終了した後、圧力調整容器１０８内の気体を排出し、圧力調整容器外の気圧と等しくする。これにより、露光用マスク１０９の撓みが解消され、露光用マスク１０９が被露光物１１０Ａから剥離される。なお、このとき露光用マスク１０９と被露光物１１０Ａの間に吸着力が存在する場合、圧力調整容器内外の気圧を等しくしても、露光用マスク１０９が被露光物１１０Ａから剥離されないことがある。この場合は、圧力調整容器内の気圧を、外の気圧よりも低くすることで露光用マスク１０９を図中上方向に撓ませ、剥離する力を強くするようにする。

以上の工程を行うことで、露光プロセスを終了し、所望のパターンを被露光物１１０Ａに露光することができる。

ところで、圧力調整容器１０８内に気体を送り込む加減圧アクチュエータ５１としては、シリンダ、ピストン、ピストン駆動エンコーダ付モータを備えたもの、高圧ガスと圧力調整弁を備えたもの、高圧ガスとサーボ弁を備えたもの等があるが、本実施の形態に係る加減圧アクチュエータ５１は、図１に示すように圧力調整容器１０８と連通するシリンダ１０７と、圧力調整容器１０８内に気体を送り込むピストン１０６と、ピストン１０６を駆動するエンコーダ付モータ１０５とを備えている。尚、ここではシリンダ、ピストン、ピストン駆動付モータを備えた例について説明するが、高圧ガスと圧力調整弁を備えた系、高圧ガスとサーボ弁を備えた系においても同様にして構成することができる。

図１において、２００は加減圧アクチュエータ５１の加減圧動作を制御する制御手段である加減圧制御部であり、この加減圧制御部２００によって、露光用マスク１０９を被露光物１１０Ａに接触、又は剥離させるよう露光用マスク１０９を加減圧により弾性変形させる加減圧手段である加減圧アクチュエータ５１の加減圧動作を制御することにより、露光マスク１０９に加える圧力を最良なものとするようにしている。これにより、露光マスク１０９及び被露光物１１０Ａの密着・剥離を最良の状態で行うことができる。

ここで、この加減圧制御部２００は、ＣＰＵ２０２と、露光用マスク加減圧制御プログラムを記憶するＲＯＭ２０３と、通信処理部（ＣＯＭＵ）２０５と、ネットワーク２１０を介して外部から入力される制御データを一時的に記憶するＲＡＭ２０４と、加減圧アクチュエータ駆動部（ＤＲＶＡＣＴ）２０７を介してピストン駆動モータ１０５を駆動する加減圧アクチュエータ制御部（ＣＮＴＡＣＴ）２０６と、内部バス２０１等を備えている。

そして、このような構成の加減圧制御部２００において、露光を行う際、ＣＰＵ２０２は、まず内部バス２０１に接続されたＲＯＭ２０３に記憶された露光用マスク加減圧制御プログラムに基づき、内部バス２０１に接続された通信処理部（ＣＯＭＵ）２０５を介して外部からの制御データをＲＡＭ２０４に一時的に記憶する。

ここで、この制御データは、急激な加圧や減圧による露光用マスク１０９への衝撃負荷を低減すると共に露光用マスク１０９がもつ固有振動領域を回避し、露光用マスク１０９と被露光物１１０Ａとの密着・剥離の円滑化及び密着・剥離精度を向上するため、実験やコンピュータ・シミュレーション解析から得られた最適な露光用マスク加減圧プロファイルを実現するために加減圧アクチュエータ５１を制御するデータである。

次に、この制御データを加減圧アクチュエータ制御部２０６の制御データテーブルに展開し、記憶させる。この後、加減圧アクチュエータ制御部２０６は、制御データテーブルに基づいて加減圧アクチュエータ駆動部２０７へ制御指令を送り、これに応じて加減圧アクチュエータ駆動部２０７がピストン駆動モータ１０５を駆動して加圧調整容器１０８の内部圧力を制御する。これにより、露光用マスク１０９が所定の変位（弾性変形）をし、被露光物１１０Ａ（被露光基板１１１）に密着または、被露光物１１０Ａから剥離する。

尚、本願発明において、予め用意された制御データは、データテーブルに蓄積されたデータに限定されるものではなく、予め用意された関数に基づいて出力されるデータをも包含する。

次に、このような本実施の形態を、実施例を用いて更に詳しく説明する。

図３は、本実施例に係わる露光装置における露光マスク加減圧プロファイル制御を実施するための具体的構成を示したものであり、加減圧アクチュエータ５１において、ピストン駆動モータ１０５と、その速度・位置検出手段であるエンコーダ１２０と、加減圧アクチュエータ駆動部２０７とにより速度ループと位置ループが形成されている。なお、本実施例においては、エンコーダ１２０からの信号に基づいて得られるピストン駆動モータ１０５の回転位置情報である現在位置情報から、ピストン１０６の位置情報を検出し、更にこのピストン１０６の位置情報から圧力調整容器１０８の圧力を検出するようにしている。

図４は加圧時と減圧時の加減圧アクチュエータ駆動（回転、直線運動）速度プロファイルと、それによって発生する圧力調整器内部の圧力プロファイルの例を示したものである。そして、露光の際、このようなプロファイルを実現するように加減圧アクチュエータ５１を制御することにより、露光用マスク１０９に対する加減圧の際における衝撃的負荷を低減することができると共に非常に滑らか、かつ高精度な密着・剥離動作ができ、また固有振動を回避できるので、露光用マスク１０９の破壊防止と寿命の向上が可能となる。

なお、図３において、３００は露光用マスク加減圧制御ソフトであり、Ｐ１は、このうちのＲＯＭ２０３に記憶されている露光用マスク加減圧制御プログラムであり、この露光用マスク加減圧制御プログラムＰ１は、初期化処理部Ｐ２、通信処理部Ｐ３、加減圧処理部Ｐ４を備えている。

図５は、加減圧アクチュエータ制御部２０６のブロック図であり、加減圧アクチュエータ制御部２０６は加圧の際の制御データを記憶させる第１制御データテーブルＰＲＳＴＢＬ１と、減圧の際の制御データを記憶させる第２制御データテーブルＰＲＳＴＢＬ２とを備えている。

また、加減圧アクチュエータ制御部２０６は、エンコーダ１２０からの現在位置情報、第１及び第２制御データテーブルＰＲＳＴＢＬ１，ＰＲＳＴＢＬ２の位置データ及び圧力データ、制御状態レジスタ(ＣＳＲ)からの動作指令（起動、停止）、方向情報（加圧、減圧）に応じて設定制御データを制御指令として出力するＣＮＴＰＤＴ２０６Ａを備えている。

以下、本実施例における加減圧制御部２００の動作を説明する。

システムの電源が立ち上がると、加減圧制御部２００のＣＰＵ２０２により、図３に示す露光用マスク加減圧制御ソフト３００のうち、ＲＯＭ２０３に記憶されている露光用マスク加減圧制御プログラムＰ１が実行され、この露光用マスク加減圧制御プログラムＰ１では、まず図６のフローチャートで示すように、初期化処理部Ｐ２を起動し（Ｓ１００）、次に通信処理部Ｐ３を起動し（Ｓ１０１）、この後、加減圧処理部Ｐ４を起動する（Ｓ１０２）。さらに、この後、初期化処理が必要か否かを判断し（Ｓ１０３）、必要ならば（Ｓ１０３のＹ）、Ｓ１００に戻り、初期化処理が不要ならば（Ｓ１０３のＮ）、Ｓ１０１に戻る。

ここで、初期化処理部Ｐ２は、起動されると、まず図７のフローチャートで示すように初期化処理が完了しているかを判断し（Ｓ２０１）、初期化が完了していなければ（Ｓ２０１のＮ）、加減圧アクチュエータ制御部２０６の制御状態レジスタ(ＣＳＲ)の初期化、通信部２０５の初期化、ＲＡＭ２０４の送受信データバッファのクリアを行う（Ｓ２０２）。

次に、加減圧アクチュエータ駆動部２０７の電源を投入すると共に、加減圧アクチュエータ駆動部２０７に指令を送り、加減圧アクチュエータ５１の原位置（初期位置）復帰を行う（Ｓ２０３）。

次に、第１及び第２制御データテーブルＰＲＳＴＢＬ１，ＰＲＳＴＢＬ２（図５参照）に外部から制御データ、またはＲＡＭ２０４に記憶された情報に基づいて制御データを記憶させ、制御データテーブルを作成すると共に、許容負荷値を異常検出レジスタ（ＰＲＳＤＥＴ）２０６Ｂ（図５参照）に設定する（Ｓ２０４）。以上により初期化処理部Ｐ２は終了する。

次に、通信処理部Ｐ３は、図８のフローチャートで示すように通信部２０５のステータスにより通信要求があるか否かをチェックし、通信要求が無ければ（Ｓ３０１のＮ）終了し、有れば（Ｓ３０１のＹ）、次の処理を行う。

即ち、通信要求が、露光マスク１０９の変更に伴う制御データの変更要求であれば、外部或いはＲＡＭ２０４から変更制御データ及び許容負荷値を受信し（Ｓ３０２）、制御データテーブル及び異常検知レジスタの変更を行う。具体的には、第１及び第２制御データテーブルＰＲＳＴＢＬ１，ＰＲＳＴＢＬ２の変更及び許容負荷値の設定を行う。

次に、加減圧処理部Ｐ４は、図９のフローチャートで示すように、加圧開始のときには（Ｓ４００のＹ）、図５に示す加減圧アクチュエータ制御部２０６の制御状態レジスタ（ＣＳＲ）の動作指令（起動、停止）ビットを起動に、方向情報（加圧、減圧）ビットを加圧に設定する（Ｓ４０１）。

次に、加減圧アクチュエータ制御部２０６は、加減圧アクチュエータ駆動部２０７に加圧制御指令を出し、これにより加減圧アクチュエータ駆動部２０７が加減圧アクチュエータ５１を駆動し、圧力調整容器１０８の内圧を上昇させる。そして、このように圧力調整容器１０８の内圧が上昇すると、これに伴い露光用マスク１０９は被露光物側に弾性変形する。

このとき、加減圧アクチュエータ駆動部２０７を介して伝わるエンコーダ１２０からの現在位置情報と、加圧時の加圧制御データテーブルＰＲＳＴＢＬ１の位置データまたは経過時間を比較する。なお、本実施例においては、例えば位置データを比較し、一致する位置データに対応する制御データ（圧力データ）を取出し、設定制御指令として加減圧アクチュエータ駆動部２０７に出力する。

そして、加減圧アクチュエータ駆動部２０７は、この設定により加減圧アクチュエータ５１の動作速度を変え、圧力調整容器１０８の内圧を変える。これに伴い、図４で示す加減圧アクチュエータの速度プロファイルと対応する、露光用マスク加減圧速度プロファイルの加圧時のプロファイルに示すように圧力調整容器１０８の内圧が上昇する。

ここで、このような加圧中、加減圧アクチュエータ制御部２０６の異常検出レジスタ２０６Ｂが加減圧アクチュエータ駆動部２０７から現在負荷を読み取ると共に許容負荷値と比較し、加圧異常の有無を判断する（Ｓ４０２）。そして、許容負荷値より現在負荷が大きいときは、加圧異常と判断し（Ｓ４０２のＹ）、加減圧アクチュエータ５１を原点復帰（減圧方向）に戻して制御状態レジスタの動作を停止すると共に制御状態レジスタをリセットし（Ｓ４０３）、さらに不図示の表示手段である操作パネルに異常を示すメッセージを表示する（Ｓ４０４）。

なお、加圧異常が無く（Ｓ４０２のＮ）、この後、加圧が正常に終了すると（Ｓ４０５のＹ）、加減圧アクチュエータ５１の制御状態レジスタの動作を停止し（Ｓ４０６）、圧力を保持する。

一方、この状態で露光が行われ、この後、減圧が開始されると（Ｓ４１０のＹ）、図５に示す加減圧アクチュエータ制御部２０６の制御状態レジスタ（ＣＳＲ）の動作指令（起動、停止）ビットを起動に、方向情報（加圧、減圧）ビットを減圧に設定する（Ｓ４１１）。次に、加減圧アクチュエータ制御部２０６は、加減圧アクチュエータ駆動部２０７に減圧制御指令を出し、圧力調整容器１０８の内圧を下降させる。

このとき、加減圧アクチュエータ駆動部２０７を介して伝わるエンコーダ１２０からの現在位置情報と、減圧時の減圧制御データテーブルＰＲＶＴＢＬ２の位置データとを比較し、一致する位置データに対応する制御データ（圧力データ）を取出し、設定制御指令としてアクチュエータ駆動部２０７に出力する。

そして、加減圧アクチュエータ駆動部２０７は、この設定により加減圧アクチュエータ５１の動作速度を変え、圧力調整容器１０８の内圧を変える。これに伴い、図４で示す加減圧アクチュエータの速度プロファイルと対応する、露光用マスク加減圧速度プロファイルの減圧時のプロファイルに示すように圧力調整容器１０８の内圧が下降する。

ここで、このような減圧中、加減圧アクチュエータ制御部２０６の異常検出レジスタが加減圧アクチュエータ駆動部２０７から現在負荷を読み取ると共に許容負荷値とを比較し、減圧異常の有無を判断する（Ｓ４１２）。そして、許容負荷値より現在負荷が大きいときは減圧異常と判断し（Ｓ４１２のＹ）、制御状態レジスタの動作を停止すると共に制御状態レジスタをリセットし（Ｓ４１３）、さらに不図示の操作パネルに異常を示すメッセージを表示する（Ｓ４１４）。

なお、減圧異常が無く（Ｓ４１２のＮ）、この後、減圧が正常に終了すると（Ｓ４１５のＹ）、加減圧アクチュエータ５１の制御状態レジスタの動作を停止し（Ｓ４１６）、圧力を保持する。これにより、加減圧処理部Ｐ４は終了し、再び加減圧起動待ちになり、加減圧シーケンスを繰り返す。

そして、このように加減圧制御部２００により、加減圧アクチュエータ５１による加減圧動作を予め用意された制御データテーブルに基づいて制御し、急激な加圧や減圧による露光用マスク１０９への衝撃負荷を低減することができるようにすることにより、最適な露光用マスク１０９の加減圧制御が可能になり、急激な加圧や減圧による露光用マスク１０９への衝撃負荷を低減することができる。

また、加減圧アクチュエータ５１による加減圧動作を予め用意された制御データテーブルに基づいて制御することにより、露光用マスク１０９の固有振動を回避することができ、さらに露光用マスク１０９と被露光物１１０Ａとの密着・剥離の円滑化と、密着・剥離精度を向上させることができる。

さらに、加減圧制御部２００は、加減圧アクチュエータ５１による加減圧動作の際、露光用マスク１０９の許容負荷と、制御データテーブルの圧力データとを比較し、制御データテーブルの圧力データが、露光用マスク１０９の許容負荷を超えると判断すると、加減圧アクチュエータ５１による加減圧動作を停止することにより、露光用マスク１０９の破壊を防ぐことができる。

また、露光用マスク１０９の許容負荷を露光用マスク１０９の固有振動を回避することのできるように設定した場合には、露光用マスク１０９の許容負荷と、制御データテーブルの圧力データとを比較することにより、露光用マスク１０９の固有振動を回避することができる。

言い換えれば、露光用マスク１０９の許容負荷を、露光用マスク１０９の弾性変形を所定の範囲内とする大きさのもの、あるいは露光用マスク１０９の固有振動を回避する大きさのものとすることにより、露光用マスク１０９の破壊を防ぐことができ、あるいは露光用マスク１０９の固有振動を回避することができる。

また、既述したように制御データテーブル及び露光用マスク１０９の許容負荷を変更可能とすることにより、例えば制御データテーブル及び露光用マスク１０９の許容負荷の変更を、通信手段を介して外部から変更可能とすることにより、多種多様な露光用マスク１０９への対応を達成することができ、量産への対応が可能となる。

本発明の実施の形態に係る露光装置の概略構成を示す図。上記露光装置に設けられる露光用マスクを説明する図。本発明の実施例に係わる露光装置における露光マスク加減圧プロファイル制御を実施するための具体的構成を示した図。上記露光装置における加圧時と減圧時の加減圧アクチュエータ駆動速度プロファイルと、それによって発生する圧力調整器内部の圧力プロファイルの例を示した図。上記露光装置に設けられた加減圧アクチュエータ制御部のブロック図。上記加減圧アクチュエータ制御部により実行される露光用マスク加減圧制御プログラムのフローチャート。上記加減圧制御プログラムの初期化処理部のフローチャート。上記加減圧制御プログラムの通信処理部のフローチャート。上記加減圧制御プログラムの加減圧処理部のフローチャート。

符号の説明

５０近接場露光装置
５１加減圧アクチュエータ
１０８圧力調整容器
１０９露光用マスク
１０９ｄ微小開口
１１０Ａ被露光物
２００加減圧制御部

Claims

微小開口パターンを有する露光用マスクを弾性変形させ、被露光物に接触させた状態で露光を行う露光装置において、
前記露光用マスクを前記被露光物に接触、又は剥離させるよう該露光用マスクを加減圧により弾性変形させる加減圧手段と、
前記加減圧手段による加減圧動作を制御する制御手段と、
を備え、
前記制御手段は、前記加減圧手段による加減圧動作を予め用意された制御データに基づいて制御することを特徴とする露光装置。
前記制御データは圧力データを有し、前記制御手段は、前記加減圧手段による加減圧動作の際、前記露光用マスクの許容負荷と、前記制御データの圧力データとを比較し、前記制御データの圧力データが、前記露光用マスクの許容負荷を超えると判断すると、前記加減圧手段による加減圧動作を停止することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
前記露光用マスクの許容負荷は、前記露光用マスクの弾性変形を所定の範囲内とする大きさのもの、または前記露光用マスクの固有振動を回避する大きさのものの、或いはその両方の大きさのものであることを特徴とする請求項２記載の露光装置。
前記制御データ及び前記露光用マスクの許容負荷は変更可能であることを特徴とする請求項２又は３記載の露光装置。
前記制御データ及び前記露光用マスクの許容負荷を、通信手段を介して外部から変更可能とすることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
前記制御手段は、前記制御データの圧力データが前記露光用マスクの許容負荷を超えると判断すると、前記制御データの圧力データが前記露光用マスクの許容負荷を超えたことを表示手段により表示することを特徴とする請求項２記載の露光装置。