JP2006257257A - 硬化性樹脂組成物および該組成物を用いて形成される保護膜 - Google Patents

硬化性樹脂組成物および該組成物を用いて形成される保護膜 Download PDF

Info

Publication number
JP2006257257A
JP2006257257A JP2005076604A JP2005076604A JP2006257257A JP 2006257257 A JP2006257257 A JP 2006257257A JP 2005076604 A JP2005076604 A JP 2005076604A JP 2005076604 A JP2005076604 A JP 2005076604A JP 2006257257 A JP2006257257 A JP 2006257257A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
resin composition
curable resin
carbon atoms
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005076604A
Other languages
English (en)
Inventor
Yujiro Kawaguchi
裕次郎 川口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP2005076604A priority Critical patent/JP2006257257A/ja
Publication of JP2006257257A publication Critical patent/JP2006257257A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polyethers (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

【課題】
耐薬品性、接着性、ITOスパッタ耐性を有する保護膜を形成し得る硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
下記(A)〜(C)を含有する硬化性樹脂組成物。
(A):環状エーテル基およびオレフィン二重結合を有する単量体を付加重合して得られる重合体
(B):式(1)で表される有機スルホニウムヘキサフルオロホスファート
(C):式(2)で表される有機スルホニウムフルオロアルキルスルホナート

【選択図】 なし

Description

本発明は、硬化性樹脂組成物および前記の硬化性樹脂組成物からなる保護膜に関する。詳しくは、液晶表示用素子、固体撮像素子およびカラーフィルタにおける平坦化膜、保護膜、反射防止膜等の形成に好適な硬化性樹脂組成物、ならびに、前記の硬化性樹脂組成物を熱硬化して得られる保護膜に関する。
カラーフィルタにおけるオーバーコート材等の保護膜を形成する材料として、エポキシ基を含有するアクリレート類の重合体とカチオン重合触媒とを含有するカラーフィルタ表面保護材用組成物が知られている。当該カチオン重合触媒として、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−4−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4,4’−ビス[ビス(2−ヒドロキシエトキシフェニル)スルホニオ]フェニルスルフィドビスヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等のオニウムカチオンのヘキサフルオロホスファートおよびヘキサフルオロアンチモナートが例示されている(特許文献1)。
また、オニウムカチオンのヘキサフルオロホスファートおよびヘキサフルオロアンチモナート以外のカチオン硬化触媒としては、有機スルホニウムのトリフルオロスルホナートが知られている(特許文献2)。
特開平11−5816号公報 特開2004−217551号公報
しかし、本発明者らが、前記の組成物に含有される硬化触媒として、特許文献1に記載のオニウムカチオンのヘキサフルオロホスファートおよびヘキサフルオロアンチモナート、特許文献2に記載の有機スルホニウムのトリフルオロスルホナートについて検討したところ、いずれか一方のみを含有する組成物では、耐薬品性、接着性、ITOスパッタ耐性のすべてを満足するものではないことが分かった。
本発明の目的は、耐薬品性、接着性、ITOスパッタ耐性を有する保護膜を形成し得る硬化性樹脂組成物を提供することにある。また、本発明の目的は、前記の硬化性樹脂組成物を用いて形成される保護膜ならびにその製造方法を提供することにある。
すなわち、本発明は、下記(A)〜(C)を含有する硬化性樹脂組成物を提供する。
(A):環状エーテル基およびオレフィン二重結合を有する単量体を付加重合して得られる重合体
(B):式(1)で表される有機スルホニウムヘキサフルオロホスファート
(C):式(2)で表される有機スルホニウムフルオロアルキルスルホナート
[式(1)および式(2)中、R〜Rは、それぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基または炭素数7〜20のアラルキル基を表す。前記の各基は、それぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜20のアルキルオキシ基、炭素数2〜20のアルキルカルボニル基、炭素数2〜20のアルキルカルボニルオキシ基またはニトロ基で置換されていても良い。
〜Rから選ばれる任意の2つは、それぞれのアルキル基の水素原子がとれて、環構造をなしていても良い。
〜Rから選ばれる任意の2つは、それぞれのアルキル基の水素原子がとれて、環構造をなしていても良い。
nは、1〜8の整数を表す。
mは、1〜17の整数を表す。ただし、mとnとは、次の関係を満たす。
2n+1−m≧0]
また、本発明は、前記の硬化性樹脂組成物を用いて形成される保護膜および前記の硬化性樹脂組成物を被着体に塗工し、熱硬化させる保護膜の製造方法を提供する。
本発明の硬化性樹脂組成物を用いて保護膜を形成すると、優れた耐薬品性、接着性、ITOスパッタ耐性を有する保護膜が得られる。
本発明の硬化性樹脂組成物における(A)成分は、環状エーテル基およびオレフィン二重結合を有する単量体を付加重合して得られる重合体である。
環状エーテル基およびオレフィン二重結合を有する単量体としては、例えば、式(3)で表される単量体等が挙げられる。
[式(3)中、Rは、水素原子またはメチル基を表す。
Yは、カルボニルオキシ基またはメチレンオキシ基を表す(ただし、前記のカルボニルオキシ基またはメチレンオキシ基の(カルボニル基由来ではない)酸素原子は、構成成分Aの側である)。
Aは、単結合または炭素数1〜12のアルキレン基を表す。ただし、Aで表されるアルキレン基における炭素−炭素結合は酸素原子によって中断されていてもよい。
Eは、式(4)〜式(6)で表される環状エーテル基を表す。
式(4)〜(6)中、R〜R15は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜4の炭化水素基を表す。
qは、1〜4の整数を表す。]
としては、好ましくはメチル基が挙げられる。
Yとしては、好ましくはカルボニルオキシ基が挙げられる。
Aとしては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、などが挙げられる。
〜R10としては、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基などが挙げられ、より好ましくは水素原子およびメチル基が挙げられる。
式(4)で表される基としては、好ましくはエポキシ基、2−メチルエポキシ基などが挙げられ、より好ましくはエポキシ基が挙げられる。
qは、好ましくは1〜2であり、より好ましくは2である。
式(5)で表される基としては、エポキシシクロペンチル基、エポキシシクロヘキシル基などが挙げられ、好ましくはエポキシシクロヘキシル基が挙げられる。
式(6)中、R11〜R15としては、水素、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基などが挙げられ、好ましくは水素、メチル基、エチル基が挙げられる。
式(6)で表される基としては、好ましくは2−エチルオキセタニル基が挙げられる。
式(3)で表される単量体としては、例えば、アリルグリシジルエーテル、2−メチルアリルグリシジルエーテル等の不飽和グリシジルエーテル;
グリシジルアクリレート、2−メチルグリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、2−メチルグリシジルメタクリレート、イタコン酸グリシジルエステル等の不飽和グリシジルエステル;
グリシドキシエチル(メタ)アクリレート、グリシドキシブチル(メタ)アクリレート等のグリシジルエーテル(メタ)アクリレート類;
3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート等の環状脂肪族エポキシ(メタ)アクリレート;
オキセタニル(メタ)アクリレート、3−オキセタニルメチル(メタ)アクリレート、(3−メチル−3−オキセタニル)メチル(メタ)アクリレート、(3−エチル−3−オキセタニル)メチル(メタ)アクリレート等のオキセタニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
なお、本明細書中において、(メタ)アクリル酸の記載は、アクリル酸および/またはメタクリル酸を表す。また、(メタ)アクリレートの記載は、アクリレートおよび/またはメタクリレートを表す。さらに、(メタ)アクリル系の記載は、アクリル系および/またはメタクリル系を表す。
環状エーテル基およびオレフィン二重結合を有する単量体としては、2種類以上の単量体を混合して用いてもよい。
環状エーテル基およびオレフィン二重結合を有する単量体としては、エポキシ基およびオレフィン二重結合を有する単量体やオキセタニル(メタ)アクリレートが挙げられ、好ましくは不飽和カルボン酸グリシジルエステルや環状脂肪族エポキシ(メタ)アクリレートが挙げられる。具体的には、グリシジル(メタ)アクリレートや2−メチルグリシジル(メタ)アクリレートや3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートが挙げられ、好ましくはグリシジル(メタ)アクリレートが挙げられる。
(A)成分としては、環状エーテル基およびオレフィン二重結合を有する単量体以外に、さらに、(メタ)アクリル系単量体および/またはスチレン系単量体を用いて付加重合して得られる重合体でもよい。
前記の(メタ)アクリル系単量体としては、例えば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチルやメタクリル酸エチル等の炭素数1〜20の直鎖状アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル;
アクリル酸t−ブチルやメタクリル酸t−ブチル等の炭素数3〜20の分枝状アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル;
アクリル酸シクロヘキシルやメタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ジシクロペンタニル、メタクリル酸ジシクロペンタニル等の炭素数5〜20の環状脂肪族アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルなどが挙げられ、好ましくは
(メタ)アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。
前記の(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、炭素数1〜4の直鎖状アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル、炭素数1〜4の分枝状アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルや飽和環状脂肪族アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルが好ましい。
(メタ)アクリル系単量体として、2種類以上の(メタ)アクリル系単量体を用いてもよい。
スチレン系単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン等が挙げられる。スチレン系単量体として、2種類以上のスチレン系単量体を用いてもよい。
スチレン系単量体としては、特にスチレンが好適である。
(A)成分が、環状エーテル基およびオレフィン二重結合を有する単量体以外に、さらに、(メタ)アクリル系単量体および/またはスチレン系単量体を用いて付加重合して得られる場合は、(メタ)アクリル系単量体およびスチレン系単量体からなる群から選ばれる少なくとも1種の単量体に由来する構造単位の合計は、(A)成分を構成する全ての構造単位100モル%に対し、5〜95モル%であることが好ましい。
前記の(メタ)アクリル系単量体およびスチレン系単量体からなる群から選ばれる少なくとも1種の単量体に由来する構造単位の合計は、(A)成分を構成する全ての構造単位100モル%に対し、好ましくは10〜90モル%であり、より好ましくは20〜80モル%である。
これらの各単量体を付加重合させて得られる重合体のうち、(メタ)アクリル系単量体および/またはスチレン系単量体を5〜95モル%付加重合させて得た(A)成分は、得られる保護膜の脆化を抑制する傾向にある点で好ましい。
(メタ)アクリル系単量体やスチレン系単量体以外の(A)成分の原料として用い得る単量体としては、分子内に付加重合し得る二重結合を少なくとも1個含有する単量体等が挙げられる。
このような脂肪族単量体としては、例えば、酪酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、イソノナン酸ビニルやバーサチック酸ビニル等のアルカン酸ビニルエステル;
塩化ビニルや臭化ビニル等のハロゲン化ビニル;
塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニリデン類;
マレイン酸、フマル酸、無水イタコン酸等の不飽和カルボン酸、無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸無水物;
マレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド等の不飽和カルボン酸イミド;
などが例示される。
本発明の硬化性樹脂組成物に用いられる(A)成分を構成する単量体としては、好ましくは(A)成分中、その1〜99モル%がCH=CH−基を有する単量体であり、より好ましくは1〜95モル%がCH=CH−基を有する単量体であり、特に好ましくは5〜80モル%がCH=CH−基を有する単量体である。
(A)成分の重合体を構成する単量体に由来する構造単位の5〜80モル%がCH=CH−基を有する単量体であると、耐熱性が向上する傾向にあり、特に好ましい。CH=CH−基を有する単量体の具体例としては、前記(メタ)アクリル系単量体のうち、α位に置換基を有しないアクリル系単量体、α位に置換基を有しないスチレン系単量体、アルカン酸ビニル類やハロゲン化ビニル類、アリルグリシジルエーテル、グリシジルアクリレート等が挙げられる。
(A)成分の重合体の製造方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。
(1)J. Polym. Sci., Polym.Chem.(1968), 6(2), 257−267に記載の如く、単量体およびラジカル発生剤を有機溶媒に混合せしめ、さらに必要に応じて、連鎖移動剤を混合せしめて、60〜300℃で溶液重合する方法;
(2)J. Polym. Sci., Polym.Chem.(1983), 21(10), 2949−2960に記載の如く、モノマーが溶解しない溶媒を用いて、60〜300℃で懸濁重合または乳化重合する方法;
(3)特開平6−80735号報に記載の如く、60〜200℃で塊状重合する方法;
(4)特開平10−195111に記載の如く、使用する単量体等を連続的に重合器に供給して、重合器内で重合開始剤の存在下または非存在下に180〜300℃で5〜60分間加熱し、得られる反応生成物を連続的に重合器外に取出す方法。
本発明の硬化性樹脂組成物において、溶媒として使用される有機溶媒を、前記重合体(A)成分の製造時に反応溶媒として使用すると、硬化性樹脂組成物を調合する後の工程において重合体を溶解する工程が省略できるので、好ましい。
前記の有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノールやシクロヘキサノール等のアルコール類;
3−メトキシブタノール、3−メチル−3−メトキシ−1−ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコール類およびグリコールエーテル類;
酢酸、プロピオン酸、酪酸等の(モノ)カルボン酸または乳酸、ヒドロキシプロピオン酸、ヒドロキシ酪酸等のヒドロキシ(モノ)カルボン酸と、上記に記載のアルコール類またはグリコール類およびグリコールエーテル類のエステル類(具体例として、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシ−1−ブチルアセテート、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート);
ブチロラクトン、バレロラクトン、カプロラクトン等のラクトン類;
エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート類;
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノンやシクロヘキサノン等のケトン類;
トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。
有機溶媒としては、2種類以上の有機溶媒を使用してもよい。
有機溶媒の中でも、遊離カルボキシル基やアミノ基等のような、環状エーテル基と反応し得る官能基を含有しないものが好ましい。
また、重合体(A)成分のエポキシ基1個あたりの分子量(以下、エポキシ当量という。)は、好ましくは128〜10000であり、より好ましくは128〜4000であり、とりわけ好ましくは150〜1000である。エポキシ当量が前記の範囲にあると、得られる保護膜の脆化を抑制する傾向がある点で好ましく、また耐薬品性に優れる傾向があるため、好ましい。
ここで、耐薬品性に優れるとは、本発明の保護膜を、酸性水溶液、アルカリ性水溶液または非プロトン性極性溶媒に、それぞれ、数十分程度浸漬しても、保護膜の表面が侵されないことを意味し、具体的には、保護膜が薬品を吸収して膨潤または粒状に分解される状態を抑制する傾向に優れることである。
重合体(A)成分のポリスチレン換算重量平均分子量としては、好ましくは2,000〜1,000,000であり、より好ましくは3,000〜500,000であり、とりわけ好ましくは5,000〜200,000である。ポリスチレン換算重量平均分子量が前記の範囲にあると、製膜性が良好であり、かつ塗膜の耐熱性に優れる傾向があり好ましい。
重合体(A)成分としては、例えば、ブレンマー(登録商標)CP−50M(グリシジルメタクリレート・メチルメタクリレート共重合体;日本油脂(株)製)、ブレンマーCP−50S(グリシジルメタクリレート・スチレン共重合体;日本油脂(株)製)等の市販品を使用してもよい。
本発明の硬化性樹脂組成物に用いられる(B)成分は、式(1)で表される有機スルホニウム ヘキサフルオロホスファートである。
[式(1)中、R〜Rは、それぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、または炭素数7〜20のアラルキル基を表す。前記の各基は、それぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜20のアルキルオキシ基、炭素数2〜20のアルキルカルボニル基、炭素数2〜20のアルキルカルボニルオキシ基、またはニトロ基で置換されていても良い。
〜Rから選ばれる任意の2つは、それぞれのアルキル基の水素原子がとれて、共通の環構造の一部をなしても良い。]
前記の炭素数1〜20のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−ウンデシル基が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基が挙げられる。
前記の炭素数1〜20のアルキルオキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシオキシル基、n−ドデシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基が挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基が挙げられる。
前記の炭素数2〜20のアルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、n−ヘプチルカルボニル基、n−オクチルカルボニル基、n−ノニルカルボニル基、n−デシルカルボニル基、n−ドデシルカルボニル基、n−ウンデシルカルボニル基が挙げられ、好ましくはメチルカルボニル基、エチルカルボニル基が挙げられる。
前記の炭素数2〜20のアルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基、t−ブチルカルボニルオキシ基、n−ペンチルカルボニルオキシ基、n−ヘキシルカルボニルオキシ基、n−ヘプチルカルボニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基、n−ノニルカルボニルオキシ基、n−デシルカルボニルオキシ基、n−ドデシルカルボニルオキシ基、n−ウンデシルカルボニルオキシ基が挙げられ、好ましくはメチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、t−ブチルカルボニルオキシ基が挙げられる。
また、RとRとで、それぞれのアルキル基の水素原子がとれて、共通の環構造の一部をなした構造としては、式(7)で表される構造が挙げられる。
(B)成分の有機スルホニウムの構造としては、例えば、特開平2−1470、特開平2−196812、特開平3−17101、特開平3−47164、特開平3−48654、特開平3−59001、特開平3−72569、特開平3−145459、特開平3−200761、特開平3−205405、特開平3−237107、特開平4−1177、特開平4−210673、特開平6−41215、特開平8−188569、特開平11−255739、特開平4−308563、特開平5−140209、特開平5−140210、特開平6−271532、特開平6−345726、特開平7−300504、特開平7−300505、特開平8−325225、特開平9−118663、特開平10−152469に開示される構造などが挙げられる。
具体的には、例えば、(α−ナフチルメチル)ジメチルスルホニウム、(α−ナフチルメチル)テトラメチレンスルホニウム、(α−ナフチルメチル)ベンジルメチルスルホニウム、2,4,6−トリニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、2,4−ジニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、2−クロロ−4−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルジメチルスルホニウム、3,5−ジニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、3−クロロ−4−アセトキシフェニルスルホニウムジメチル−4−(ベンゾイルオキシ)フェニルジメチルスルホニウム、3−メチル−4−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルジメチルスルホニウム、4−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)フェニルジベンジルスルホニウム、4−(ベンゾイルオキシ)フェニル(o−メチルベンジル)メチルスルホニウム、4−(ベンゾイルオキシ)フェニルジベンジルスルホニウム、4−(メトキシカルボニルオキシ)フェニルシンナミルメチルスルホニウム、4−(メトキシカルボニルオキシ)フェニルベンジルメチルスルホニウム、4−アセトキシフェニルジベンジルスルホニウム、4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム、4−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウム、4−ジメチルアミノフェニルジメチルスルホニウム、4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム、4−ヒドロキシフェニルシンナミルメチルスルホニウム、4−フェノキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウム、4−ベンジルオキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウム、4−メチルベンジル−4−メトキシカルボニルオキシ−3−クロロフェニルメチルスルホニウム、4−メトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウム、4−メトキシベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、m−ニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、o−ニトロベンジル−3−クロル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、o−ニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニルエチルスルホニウム、o−ニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、o−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、o−メチルベンジルテトラメチレンスルホニウム、p−クロロベンジル−4−アセトキシフェニルエチルスルホニウム、p−ニトロベンジル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、p−ニトロベンジル−3−メチル−4−ヒドロキシフェニルエチルスルホニウム、p−ニトロベンジル−4−アセトキシフェニルメチルスルホニウム、p−ニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニルエチルスルホニム、p−ニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、p−ニトロベンジルテトラメチレンスルホニウム、p−メチルベンジル−4−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルメチルスルホニウム、p−メチルベンジル−4−アセトキシフェニルメチルスルホニウム、p−メチルベンジル−4−クロルアセトキシフェニルメチルスルホニウム、p−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、p−メチルベンジル−4−メトキシカルボニルオキシフェニルメチルスルホニウム、p−メトキシベンジル−4−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)フェニルメチルスルホニウム、p−メトキシベンジルテトラメチレンスルホニウム、α−ナフチルメチル−4−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルメチルスルホニウム、α−ナフチルメチル−4−(メトキシカルボニルオキシ)フェニルメチルスルホニウム、α−ナフチルメチル−4−アセトキシフェニルメチルスルホニウム、α−ナフチルメチル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、β−ナフチルメチル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、ジエチル−4−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルスルホニウム、ジニトロベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、ジベンジル−2−メチル−4−ヒドロキシフェニルスルホニウム、ジベンジル−3−クロロ−4−ヒドロキシフェニルスルホニウム、ジベンジル−3−メチル−4−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニルスルホニウム、ジベンジル−4−(エトキシカルボニルオキシ)フェニルスルホニウム、ジベンジル−4−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルスルホニウム、ジベンジル−4−ヒドロキシフェニルスルホニウム、ジベンジル−4−メトキシフェニルスルホニウム、シンナミルジメチルスルホニウム、シンナミルテトラメチレンスルホニウム、トリベンジルスルホニウム、ベンジル−2−メチル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、ベンジル−3−クロロ−4−(ベンゾイルオキシ)フェニルメチルスルホニウム、ベンジル−3−クロロ−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、ベンジル−3−メチル−4−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニルメチルスルホニウム、ベンジル−3−メチル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、ベンジル−4−(4−メトキシベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルメチルスルホニウム、ベンジル−4−(9−フルオレニルメトキシカルボニルオキシ)フェニルメチルスルホニウム、ベンジル−4−(tert−ブトキシカルボニルオキシ)フェニルメチルスルホニウム、ベンジル−4−(エトキシカルボニルオキシ)フェニルメチルスルホニウム、ベンジル−4−(フェノキシカルボニルオキシ)フェニルメチルスルホニウム、ベンジル−4−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルメチルスルホニウム、ベンジル−4−(ベンゾイルオキシ)フェニルエチルスルホニウム、ベンジル−4−(ベンゾイルオキシ)フェニルメチルスルホニウム、ベンジル−4−クロルアセトキシフェニルメチルスルホニウム、ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、ベンジル−4−メトキシカルボニルフェニルメチルスルホニウム、ベンジル−4−メトキシフェニルメチルスルホニウム、ベンジル−4−メトキシベンジル−4−ヒドロキシフェニルスルホニウム、ベンジルエチル−4−(エトキシカルボニルオキシ)フェニルスルホニウム、ベンジルエチル−4−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)フェニルスルホニウム、ベンジルエチル−4−ヒドロキシフェニルスルホニウム、ベンジルジメチルスルホニウム、ベンジルテトラメチレンスルホニウム、α−フェニルベンジルジメチルスルホニウム、α−ナフチルメチルジメチルスルホニウム、α−ナフチルメチルテトラメチレンスルホニウム、シンナミルジメチルスルホニウム、シンナミルテトラメチレンスルホニウム、9−フルオレニルジメチルスルホニウム、9−フルオレニルテトラメチレンスルホニウム、ベンジルフェニルメチルスルホニウム、4−クロロフェニルベンジルメチルスルホニウム、4−メチルフェニルベンジルメチルスルホニウム、ビニルベンジル−4−メチルフェニルメチルスルホニウム、ベンズヒドリルフェニルメチルスルホニウム、シンナミルフェニルメチルスルホニウム、β−メタリルフェニルメチルスルホニウム、1−ナフチルメチルフェニルメチル、4−ヒドロキシフェニルクロチルメチルスルホニウム、4−ヒドロキシフェニル−β−メタリルメチルスルホニウム、4−ヒドロキシフェニル−α−フェネチルエチルスルホニウム、4−ヒドロキシフェニルベンズヒドリルメチルスルホニウム、4−ヒドロキシフェニル−9’−フルオレニルメチルスルホニウム、ジフェニルメチルスルホニウム、ジ(4−アセトキシフェニル)メチルスルホニウム、フェニルドデシルメチルスルホニウム、フェニル(2−フェニルエチル)メチルスルホニウム、フェニル(2−ヒドロキシシクロヘキシル)メチルスルホニウム、2−ナフチル(2−インダニル)メチルスルホニウム、2−ナフチル−2−フェニルプロピルメチルスルホニウム、2−ナフチルドデシルメチルスルホニウム、2−ナフチルエトキシカルボニルメチルメチルスルホニウム、3−(4−メトキシフェニル)−2−プロピルフェニルメチルスルホニウム、2−ブテニルテトラメチレンスルホニウム、3−メチル−2−ブテニルテトラメチレンスルホニウム、ベンジルテトラメチレンスルホニウムなどが挙げられる。
中でも、硬化性や保存安定性の観点からベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、ベンジル−4−アセトキシフェニルメチルスルホニウム、ベンジル−4−メトキシカルボニルフェニルメチルスルホニウム、ベンジル−4−メトキシフェニルメチルスルホニウム、o−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、p−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、(α−ナフチルメチル)ベンジルメチルスルホニウム、ベンジルエチル−4−ヒドロキシフェニルスルホニウム等のベンジルスルホニウムが好ましい。
(B)成分の有機スルホニウムとしては、2種類以上の有機スルホニウムを使用してもよい。また、(B)成分の有機スルホニウムヘキサフルオロホスファートとして、市販の熱カチオン硬化触媒を使用しても良い。市販の熱カチオン硬化触媒としては、サンエイド(登録商標)SI−110L、サンエイドSI−180L(以上、三新化学(株)製)、CI−2639(日本曹達(株)製)等が挙げられる。
本発明の硬化性樹脂組成物における有機スルホニウムヘキサフルオロホスファート(B)の含有量は、重合体(A)に対して質量分率で、好ましくは0.2〜20質量%、より好ましくは1〜10質量%である。
本発明の硬化性樹脂組成物に用いられる(C)成分は、式(2)で表される有機スルホニウムフルオロアルキルスルホナートである。
[式(2)中、R〜Rは、それぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20アラルキル基を表す。
前記の各基は、それぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜20のアルキルオキシ基、炭素数2〜20のアルキルカルボニル基、炭素数2〜20のアルキルカルボニルオキシ基、ニトロ基で置換されていても良い。
〜Rから選ばれる任意の2つは、それぞれのアルキル基の水素原子がとれて、環構造をなしていても良い。
nは、1〜8の整数を表す。
mは、1〜17の整数を表す。ただし、mとnとは、次の関係を満たす。
2n+1−m≧0]
(C)成分の有機スルホニウムの構造としては、(B)成分の有機スルホニウムの構造として挙げたものと同様のものが挙げられる。
(C)成分の有機スルホニウム部分としては、(B)成分の有機スルホニウム部分と同一であっても異なっていてもよい。また、2種類以上の有機スルホニウムを使用してもよい。
nは、1〜8の整数を表し、好ましくは1〜4の整数を表す。
mは、1〜17の整数を表し、好ましくは3〜9の整数を表す。
(C)成分のフルオロアルキルスルホナートとしては、例えば、トリフルオロメチルスルホナート、ペンタフルオロエチルスルホナート、パーフルオロブチルスルホナート、パーフルオロオクチルスルホナートなどが挙げられる。(C)成分のフルオロアルキルスルホナートとしては、2種類以上のフルオロアルキルスルホナートを使用してもよい。
(C)成分の有機スルホニウムフルオロアルキルスルホナートとしては、例えば、特開2004−217551に例示される4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、2−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4−ヒドロキシフェニルメチル−1−ナフチルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4−メトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ベンジル−4−メトキシカルボニルオキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4−アセトキシフェニルメチル−4−メチルベンジルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート等の4−ヒドロキシあるいは置換オキシフェニルスルホニウムのトリフルオロメタンスルホン酸塩が好ましい。
本発明の硬化性樹脂組成物における有機スルホニウムフルオロアルキルスルホナート(C)の含有量は、重合体(A)に対して質量分率で、好ましくは0.2〜20質量%、より好ましくは0.5〜10質量%である。
また、本発明の硬化性樹脂組成物における(B)成分の有機スルホニウムヘキサフルオロホスファートと(C)成分の有機スルホニウムフルオロアルキルスルホナートとの混合比率は質量比で、好ましくは95:5〜5:95であり、より好ましくは95:5〜50:50であり、とりわけ好ましくは90:10〜60:40である。
また、本発明の硬化性樹脂組成物には、酸化防止剤(D)を含有させることが好ましい。前記の酸化防止剤(D)としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤またはイオウ系酸化防止剤が挙げられ、好ましくはフェノール系酸化防止剤が挙げられる。
酸化防止剤(D)を含有する場合、その含有量は、重合体(A)に対して質量分率で、好ましくは0.001〜10質量%であり、より好ましくは0.01〜1質量%である。
前記のフェノール系酸化防止剤としては、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジシクロヘキシル−4−メチルフェノール、2,6−ジ−t−アミル−4−メチルフェノール、2,6−ジ−t−オクチル−4−n−プロピルフェノール、2,6−ジシクロヘキシル−4−n−オクチルフェノール、2−イソプロピル−4−メチル−6−t−ブチルフェノール、2−t−ブチル−2−エチル−6−t−オクチルフェノール、2−イソブチル−4−エチル−6−t−ヘキシルフェノール、2−シクロヘキシル−4−n−ブチル−6−イソプロピルフェノール、dl−α−トコフェロール、t−ブチルヒドロキノン、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス[6−(1−メチルシクロヘキシル)−p−クレゾール]、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2’−ブチリデンビス(2−t−ブチル−4−メチルフェノール)、2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレート、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、トリエチレングリコールビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオールビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2−チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド)、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル、トリス(2,6−ジメチル−3−ヒドロキシ−4−t−ブチルベンジル)イソシアヌレート、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、トリス[(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシエチル]イソシアヌレート、トリス(4−t−ブチル−2,6−ジメチル−3−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、2,4−ビス(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)テレフタレート、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−{β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、2,2−ビス[4−(2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ))エトキシフェニル]プロパンやβ−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸ステアリルエステルなどが挙げられる。
これらのフェノール系酸化防止剤のうち、β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸ステアリルエステル、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、dl−α−トコフェロール、トリス(2,6−ジメチル−3−ヒドロキシ−4−t−ブチルベンジル)イソシアヌレート、トリス[(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシエチル]イソシアヌレートや3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−{β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンが好ましい。
フェノール系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているフェノール系酸化防止剤としては、例えば、イルガノックス(登録商標)1010(テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン)、イルガノックス1076(β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸ステアリルエステル)、イルガノックス1330(1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン)、イルガノックス3114(トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート)イルガノックス3125(トリス[(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシエチル]イソシアヌレート)(いずれもチバ・スペシャルティー・ケミカルズ製)、スミライザー(登録商標)BHT(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール)、スミライザーGA−80(3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−{β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン)(いずれも住友化学(株)製)シアノックス1790(トリス(2,6−ジメチル−3−ヒドロキシ−4−t−ブチルベンジル)イソシアヌレート)(Cyanox(登録商標) 1790、サイテック製)、やビタミンE(dl−α−トコフェロール)(エーザイ製)などが挙げられる。フェノール系酸化防止剤は、2種類以上のフェノール系酸化防止剤を併用してもよい。
前記のリン系酸化防止剤としては、例えば、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリデシルホスファイト、(オクチル)ジフェニルホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス(ブトキシエチル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ(トリデシル)−1,1,3−トリス(2−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフエニル)ブタンジホスファイト、テトラ(C12〜15アルキル)−4,4’−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、テトラ(トリデシル)−4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)ジホスファイト、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ホスファイト、トリス(モノノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、水素化−4,4’−イソプロピリデンジフェノールポリホスファイト、ビス(オクチルフェニル)ビス[4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)]−1,6−ヘキサンジオールジホスファイト、フェニル(4,4’−イソプロピリデンジフェノール)ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス[4,4’−イソプロピリデンビス(2−t−ブチルフェノール)]ホスファイト、ジ(イソデシル)フェニルホスファイト、4,4’−イソプロピリデンビス(2−t−ブチルフェノール)ビス(ノニルフェニル)ホスファイト、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイド、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル)エチルフォスファイト、2−[{2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1.3.2]−ジオキサホスフェピン−6−イル}オキシ]−N,N−ビス〔2−[{2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1.3.2]−ジオキサホスフェピン−6−イル}オキシ]エチル〕エタンアミンや6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1.3.2]−ジオキサホスフェピンなどが挙げられる。
また、ビス(ジアルキルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトエステルとしては、式(8)で表されるスピロ型のもの、または、式(9)で表されるケージ形のものなどが挙げられる。
[式(8)中、R16〜R18は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜9のアルキル基を表す。]
[式(9)中、R19〜R21は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜9のアルキル基を表す。]
ここで、R16〜R21がアルキル基である場合は、分枝状のアルキル基が好ましく、t−ブチル基が特に好ましい。また、ベンゼン環におけるR16〜R21の置換位置は、2位、4位または6位が好ましい。
前記のホスファイトエステルの具体例としては、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトやビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト等が挙げられる。
また、炭素とリンとが直接結合した構造を持つホスフォナイトとしては、例えば、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスフォナイト等が挙げられる。
リン系酸化防止剤の中では、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスフォナイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、2−[{2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1.3.2]−ジオキサホスフェピン−6−イル}オキシ]−N,N−ビス〔2−[{2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1.3.2]−ジオキサホスフェピン−6−イル}オキシ]エチル〕エタンアミンや6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1.3.2]−ジオキサホスフェピンが好ましい。
リン系酸化防止剤としては、市販品を使用することもできる。このような市販されているリン系酸化防止剤としては、例えば、イルガフォス(登録商標)168[トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト]、イルガフォス12(2−[[2,4,8,10−テトラキス(1,1−ジメチルエチル)ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサフォスフェピン6−イル]オキシ]−N,N−ビス[2−[[2,4,8,10−テトラキス(1,1ジメチルエチル)ジベンゾ[d,f][1,3,2,]ジオキサフォスフェピン−6−イル]オキシ]−エチル]エタナミン)、イルガフォス38(いずれもチバ・スペシャルティー・ケミカルズ製)、アデカスタブ(登録商標)329K、アデカスタブPEP36(サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)フォスファイト)、アデカスタブPEP−8(ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファイト)(いずれも旭電化(株)製)、Sandstab(登録商標) P−EPQ(クラリアント製)、ウェストン618、ウェストン619G、ウルトラノックス626(いずれもGE製)やスミライザー(登録商標)GP(6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキサフォスフェピン)(住友化学(株)製)などが挙げられる。リン系酸化防止剤は、2種類以上のリン系酸化防止剤を併用してもよい。
前記のイオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネートやジステアリルチオジプロピオネートなどのジアルキルチオジプロピオネート;ブチルチオプロピオン酸の多価アルコールエステル、オクチルチオプロピオン酸の多価アルコールエステル、ラウリルチオプロピオン酸の多価アルコールエステル、ステアリルチオプロピオン酸の多価アルコールエステル(前記の多価アルコールとしては、例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールやトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート等が挙げられる)や、ペンタエリスリルテトラキス−3−ラウリルチオプロピオネート等のアルキルチオプロピオン酸の多価アルコールエステルが挙げられ、好ましく
ジラウリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ラウリルステアリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジブチレートやペンタエリスリルテトラキス−3−ラウリルチオプロピオネートが挙げられ、より好ましくはペンタエリスリルテトラキス−3−ラウリルチオプロピオネートが挙げられる。
市販のイオウ系酸化防止剤としては、例えば、スミライザーTPS(ジステアリルチオジプロピオネート)、スミライザーTPL−R(ジラウリルチオジプロピオネート)、スミライザーTPM(ジミリスチルチオジプロピオネート)やスミライザーTP−D(ペンタエリスリルテトラキス−3−ラウリルチオプロピオネート)(いずれも住友化学(株)製)等が挙げられる。イオウ系酸化防止剤としては、2種類以上のイオウ系酸化防止剤を併用してもよい。
また、前記の各酸化防止剤は、異なる種類の酸化防止剤を併用してもよい。併用する組合せとしては、例えば、フェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤とイオウ系酸化防止剤の併用が挙げられる。
本発明の硬化性樹脂組成物は、通常は有機溶媒に溶解されて使用される。本発明の硬化性樹脂組成物で使用される有機溶媒としては、前述した有機溶媒が挙げられる。有機溶媒は2種類以上の有機溶媒を混合して使用してもよい。
前記の有機溶媒の中でも、遊離カルボキシル基やアミノ基等のような、環状エーテル基と反応し得る官能基を有しない溶媒が好ましい。
また、本発明の硬化性樹脂組成物には、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤およびフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも1種の界面活性剤を含有させることが好ましい。
前記のシリコーン系界面活性剤としては、商品名トーレシリコーンDC3PA、同SH7PA、同DC11PA、同SH21PA、同SH28PA、同29SHPAや同SH30PA(トーレシリコーン(株)製);ポリエーテル変性シリコンオイル;商品名SF8410、SH3746、SH3749、SH3771、SH3771M、SH3775M、SH8400(トーレシリコーン(株)製);商品名KP321、KP322、KP323、KP324、KP326、KP340やKP341(信越シリコーン(株)製);商品名TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF−4446、TSF4452やTSF4460(ジーイー東芝シリコーン(株)製)等が挙げられる。
前記のフッ素系界面活性剤としては、フロラードFC430や同FC431(住友スリーエム(株)製);メガファック(登録商標)F142D、同F171、同F172、同F173、同F177、同F183や同R30(大日本インキ化学工業(株)製);エフトップ(登録商標)EF301、同EF303、同EF351や同EF352((株)トーケムプロダクツ製);
サーフロン(登録商標)S381、同S382、同SC101や同SC105(セイミケミカル(株)製);
商品名A−1110、A−1210、A−1260、A−1310、A−1420、A−1430、A−1460、A−1514、A−1620、A−1630、、A−1660、A−1820、A−1830、A−1860、A−2020、A−2114、A−3260、A−3420、A−3620、A−3820、A−5210、A−5410、A−5610、A−5810、A−7210、A−7310、A−7412、A−7612、A−9211、E−1430、E−1630、E−1830、E−2030、E−3430、E−3630、E−3830、E−5244、E−5444、E−5644、E−5844、E−7432、M−1110、M−1210、M−1420、M−1433、M−1620、M−1633、M−1820、M−1833、M−2020、M−3420、M−3433、M−3620、M−3633、M−3820、M−3833、M−5210、M−5410、M−5610、M−5610、M−7210、M−7310、
R−1110、R−1210、R−1420、R−1433、R−1620、R−1633、R−1820、R−1833、R−2020、R−3420、R−3433、R−3620、R−3633、R−3820、R−3833、R−5210、R−5410、R−5610、R−5810、R−7210、R−7310((株)ダイキンファインケミカル研究所製);
商品名BM−1000やBM−1100(BM Chemie社製)等が挙げられる。
フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、メガファック(登録商標)R08、同BL20、同F475、同F477や同F443(大日本インキ化学工業(株)製)等が挙げられる。
これらの界面活性剤は、単独で、または2種類以上を組合せて用いることができる。
さらに、本発明の硬化性樹脂組成物には、アクリル重合物系界面活性剤やビニル重合物系界面活性剤、アセチレングリコール系界面活性剤、アセチレンアルコール系界面活性剤等の他の界面活性剤を併用してもよい。
アクリル重合物系界面活性剤としては、ディスパロン(登録商標)OX−880、同OX−881、同OX−883、同OX−70、同OX−77、同OX−77HF、同OX−60、同OX−710、同OX−720、同OX−740、同OX−750、同OX−8040、同1970、同230、同L−1980−50、同L−1982−50、同L−1983−50、同L−1984−50、同L−1985−50、同LAP−10、同LAP−20、同LAP−30や同LHP−95(楠本化成(株)製);商品名BYK−352、BYK−354、BYK−355、BYK−356、BYK−357、BYK−358、BYK−359、BYK−361やBYK−390(ビックケミー・ジャパン社製);エフカーLP3778(Efka Chemicals社製)等が挙げられる。
ビニル重合物系界面活性剤としては、ディスパロン(登録商標)1922、同1927、同1950、同1951、同P−410、同P−410HF、同P−420、同P−425、同PD−7や同LHP−90(楠本化成(株)製)等が挙げられる。
アセチレングリコール系界面活性剤としては、サーフィノール(登録商標)104E、同104H、同104A、同104BC、同104DPM、同104PA、同420、同440、同465、同485、同SE、同SE−F、同504、同61、同DF−110D、同DF−37、同DF−58、同DF−75、同DF−210、同CT−111、同CT−121、同CT−131、同CT−136、同CT−151、同TGや同GA(エアープロダクツジャパン(株)製)等が挙げられる。
アセチレンアルコール系界面活性剤としては、オルフィン(登録商標)E1004、同1010、同PD−001、同PD−002W、同PD−004、同EXP4001、同EXP4036、同EXP4051、同SPC、同AF−103、同AF−104、同AK−02、同SK−14、同AE−3、同PD−003、同PD−201、同PD−202、同PD−301、同B、同P、同Y、や同A(いずれも日信化学工業(株)製)等が挙げられる。
さらに本発明の硬化性樹脂組成物の保存安定性や、該組成物を熱硬化して得られる保護膜の耐薬品性を損なわない限り、本発明の硬化性樹脂組成物に、他の硬化性化合物を混合しても良い。
混合可能な硬化性化合物としては、例えば、芳香族エポキシ樹脂、水添型芳香族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、カルボン酸のグリシジルエステル、スピロ環含有エポキシ樹脂または脂環式エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂類;
オキセタン化合物やオキセタン樹脂類;
スピロオルトエステル類;
スピロオルトカーボナート類;
ビニルエーテル類;
ポリオール類等が挙げられる。
前記の芳香族エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂またはビフェニル型エポキシ樹脂等が挙げられる。
前記の水添型芳香族エポキシ樹脂としては、例えば、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水添フェノールノボラック型エポキシ樹脂、水添クレゾールノボラック型エポキシ樹脂または水添ビフェニル型エポキシ樹脂等が挙げられる。
前記の脂肪族エポキシ樹脂としては、例えば、ブチルグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルまたはトリメチロールプロパントリグリシジルエーテル等が挙げられる。
前記のカルボン酸のグリシジルエステルとしては、例えば、ネオデカン酸グリシジルエステルまたはヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステルなどが挙げられる。
前記のスピロ環含有エポキシ樹脂または脂環式エポキシ樹脂としては、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペートまたは1,2:8,9−ジエポキシリモネン等が挙げられる。
前記のオキセタン化合物やオキセタン樹脂類としては、例えば、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシメチル)オキセタン、1,4−ビス{〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ〕メチル}ベンゼン、1,4−ビス{(3−エチル−3−オキセタニル)メチル}テレフタレート、ジ[1−エチル(3−オキセタニル)]メチルエーテル、1,3−ビス{(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ}ベンゼンまたはフェノールノボラックオキセタン等が挙げられる。
オキセタン化合物やオキセタン樹脂などのオキセタン類としては、1,4−ビス{[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン、1,4−ビス{(3−エチル−3−オキセタニル)メチル}テレフタレート、ジ[1−エチル(3−オキセタニル)]メチルエーテル、1,3−ビス{(1−エチル−3−オキセタニル)メトキシ}ベンゼン、4,4’−[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]ビフェニル、ビスフェノールノボラックオキセタンのように分子中に2個以上のオキセタニル基を有するオキセタン類が好ましい。また、1,3−ビス{(1−エチル−3−オキセタニル)メトキシ}ベンゼン、4,4’−[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]ビフェニル、ビスフェノールノボラックオキセタンのように芳香族フェノール系オキセタン類が耐熱性の面で特に好ましい。
前記のオキセタン類の分子量は、好ましくは100〜2,000であり、より好ましくは200〜2,000であり、とりわけ好ましくは300〜2,000である。
オキセタン類を用いる場合、その含有量は、重合体(A)に対して質量分率で、好ましくは1質量%以上100質量%以下、より好ましくは10質量%以上50質量%以下、とりわけ好ましくは15質量%以上30質量%以下である。
前記のポリオール類としては、例えば、ポリカプロラクトンジオール、ポリカプロラクトントリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリエステルジオール、ポリエステルトリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートジオール、ポリカーボネートトリオール、ポリカーボネートポリオール等が挙げられる。
本発明における重合体(A)以外の硬化性化合物としては、オキセタン化合物やオキセタン樹脂などのオキセタン類が耐熱性の面で好ましい。
本発明においては、重合体(A)以外の硬化性化合物として、2種類以上の硬化性化合物を使用してもよい。
本発明の硬化性樹脂組成物には、該組成物の保存安定性や本発明の保護膜の耐薬品性等を損なわない範囲で、前記の有機溶媒や酸化防止剤、界面活性剤、硬化性化合物以外に、例えば、シランカップリング剤、消泡剤、チキソトロピー性付与剤、染料や紫外線吸収剤等の添加剤を含有せしめてもよい。
本発明の硬化性樹脂組成物は、例えば、有機溶媒中で(A)成分を製造した後、有機スルホニウムキサフルオロホスファート(B)、有機スルホニウムフルオロアルキルスルホナート(C)、その他の成分を適宜添加する方法;
有機溶媒中で(A)成分を製造した後、溶媒を除去し、別の有機溶媒に(A)成分、(B)成分、(C)成分、その他の成分を適宜溶解する方法;
等により、製造される。
かくして得られた硬化性樹脂組成物を、例えば、ガラス基板、カラーフィルタ基板等の保護する必要のある基体に塗工し、続いて加熱することにより、本発明の保護膜を製造することができる。
ここで、塗工方法としては、例えば、スピンコーター、スリットコーター、カーテンフローコーター、ダイコーター、バーコーター、スプレーコーター、ロールコーター、フレキソ印刷、オフセット印刷等を用いる方法や、スリット・アンド・スピンコーター、バー・アンド・スピンコーター等の二種類以上の塗工方法を組合せた方法等が挙げられる。
加熱方法としては、例えば、ホットプレート、クリーンオーブン、加熱炉や赤外線加熱装置等を用い、好ましくは150〜260℃、より好ましくは190〜260℃、とりわけ好ましくは220〜250℃で、10〜120分間加熱する方法等が挙げられる。
加熱温度が前記の範囲にあると、耐熱性が向上する傾向にあり、また、硬化物が着色しにくいので好ましい。
また、前記のホットプレート、クリーンオーブン、加熱炉または赤外線加熱装置等を用いて加熱する前に、通常は、室温〜150℃、好ましくは50〜120℃の温度で、常圧または減圧下に、0.5〜5分間加熱して溶媒を除去する方法も好ましい。
また、得られる保護膜の厚みとしては、好ましくは0.07〜20μmである。保護膜の厚みが前記の範囲にあると、保護膜の物性、中でも平坦性および表面強度が優れる傾向にあり、好ましい。
また、本発明の硬化性樹脂組成物を、例えば、4−メチル−1−ペンテン共重合体からなるフィルム等のポリオレフィン系フィルム、酢酸セルロースフィルム、硬化性樹脂組成物からなる層に接する面にシリコーン系離型剤またはフッ素系離型剤が塗布された離型紙、および離型ポリエチレンテレフタレートフィルム等に塗工し、有機溶媒を除去して、接着性を有するフィルムを作製し、この接着性フィルムを保護する必要のある基体に貼り合せた後、熱硬化して、本発明の保護膜とすることもできる。
前記のフィルムや離型紙は、保護する必要のある基体に貼り合せ、熱硬化する前または熱硬化した後に剥離してもよい。
また、熱硬化する前の保護膜に、さらに必要に応じて、他の樹脂や基体を積層してもよい。
基体の材料は、本発明の保護膜と接着し得る材料が挙げられる。前記の保護膜と接着し得る材料として、具体的には、金、銀、銅、鉄、錫、鉛、アルミニウムやシリコーン等の金属;
ガラスやセラミックス等の無機材料;
紙や布等のセルロース系高分子材料;
メラミン系樹脂、(メタ)アクリル・ウレタン系樹脂、ウレタン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、スチレン・アクリロニトリル系共重合体、ポリカーボネート系樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂等の合成高分子材料等が挙げられる。
基体としては、異なる2種類以上の材料を混合または複合してもよい。基体には、必要に応じて、離型剤、メッキ等の被膜や本発明以外の樹脂組成物からなる塗料による塗膜処理を施してもよく、また、プラズマやレーザー等による表面改質、表面酸化、エッチング等の表面処理等を施してもよい。
基体としては、合成高分子材料および金属の複合材料である集積回路、プリント配線板、液晶表示用素子、固体撮像素子、カラーフィルタ等の電子・電気部品等が好ましく用いられる。
上記において、本発明の実施の形態について説明を行ったが、上記に開示された本発明の実施の形態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの実施の形態に限定されない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。以下、実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
例中、「部」は、特に断らないかぎり質量部を意味する。
実施例1
<硬化性樹脂組成物の調製>
環状エーテル基およびオレフィン二重結合を有する単量体を付加重合して得られる重合体(A);ブレンマーCP−50S(グリシジルメタクリレート−スチレン共重合体;エポキシ当量は292、Mwは19000)
有機スルホニウムヘキサフルオロホスファート(B);ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスファートの49質量%γ−ブチロラクトン溶液
有機スルホニウムフルオロアルキルスルホナート(C);ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナートの33質量%γ−ブチロラクトン溶液
(A)成分100部、(B)成分6部および(C)成分4部を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、PGMEAと記載することがある。)480部に溶解して硬化性樹脂組成物1を得た。
<保護膜の製造>
硬化性樹脂組成物1をガラス基板(#1737;コーニング社製)にスピンコートし、加熱炉中において85℃で2分間ベークした後、加熱炉中において230℃で40分間加熱して、保護膜を得た。該保護膜の膜厚を接触式膜厚計(DEKTAK3;(株)ULVAC製)により測定したところ、1.5μmであった。同じ保護膜を3枚準備した。
<耐薬品性試験>
得られた保護膜各1枚を、表1に記載の浸漬液中にそれぞれ、表1に記載の時間、浸漬したのち、それらの膜厚を測定し、下記式(10)に従って残膜率を求め、耐酸性、耐アルカリ性および耐NMP性を評価した。
(残膜率)(%)=[(浸漬後の膜厚)/(浸漬前の膜厚)]×100 (10)
得られた残膜率が95〜105%であるものを○、95%未満および105%を超えたものを×とした。結果を表2に示す。
<碁盤目剥離試験>
前項の耐薬品性試験と同条件で準備した保護膜を用いて、カッターナイフとクロスカットゲージで碁盤目上に1mm間隔のキズを入れ、JIS K5400に基づきテープ剥離試験を実施した。
剥離状態はJIS K5400 8.5.1 表18に基づき判定し、8点以上のものを○、8点未満のものを×とした。結果を表2にまとめた。
<ITOスパッタ耐性>
前項の耐薬品性試験と同条件で準備した保護膜上に、膜厚140nmのITO膜を形成した。ITO膜は、スパッタリング装置(SPF−530H;アネルバ(株)製)を用い、基板温度200℃でITOスパッタした後、常圧のクリーンオーブン中において230℃で40分間アニール処理して形成した。
ITO膜形成後に、目視により、保護膜上に変化が認められなかったものを○、目視により、保護膜上にシワが入り白濁したことが認められたものを×とした。結果を表2にまとめた。
比較例1
(B)成分を10部、(C)成分を0部とした以外は実施例1と同様にして硬化性樹脂組成物2を得た。硬化性樹脂組成物2について実施例1と同様の評価を行った。結果を表2に示す。
比較例2
(B)成分を0部、(C)成分を10部とした以外は実施例1と同様にして硬化性樹脂組成物3を得た。硬化性樹脂組成物3について実施例1と同様の評価を行った。結果を表2に示す。
比較例3
(B)成分および(C)成分の替わりに、ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート(X)の49%γ−ブチロラクトン溶液を5部用いた以外は実施例1と同様にして硬化性樹脂組成物4を得た。硬化性樹脂組成物4について実施例1と同様の評価を行った。結果を表2に示す。
なお、比較例2の保護膜については、耐酸性試験に供すると、保護膜が粒状に分解して、膜厚を測定することができなかった。表2中には「剥離」として表記した。
実施例2
(A)〜(C)成分は実施例1と同様のものを用いた。
酸化防止剤(D);テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン[Irganox 1010;チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製]
重合体(A)以外の硬化性化合物;1,3−ビス{(1−エチル−3−オキセタニル)メトキシ}ベンゼン[アロンオキセタン RSOX;東亞合成(株)製]
シランカップリング剤;3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン[KBM−403;信越シリコーン(株)製]
(A)成分80部、(B)成分8部、(C)成分2部、(D)成分0.1部、RSOX/20部、KBM−403/2部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)440部およびγ−ブチロラクトン(GBL)110部に溶解して硬化性樹脂組成物を得た。
比較例4
(B)成分を10部、(C)成分を0部とした以外は実施例2と同様にして硬化性樹脂組成物を得た。
保護膜の製造、耐薬品試験、碁盤目剥離試験、ITOスパッタ試験は実施例1と同様にして行なった。結果を表3にまとめた。
本発明の硬化性樹脂組成物は、液晶表示用素子、固体撮像素子およびカラーフィルタにおける平坦化膜、保護膜、反射防止膜等の形成に好適である。また、絶縁材、ソルダーレジスト等の電子部品や塗料、接着剤等にも用いることができる。

Claims (12)

  1. 下記(A)〜(C)を含有する硬化性樹脂組成物。
    (A):環状エーテル基およびオレフィン二重結合を有する単量体を付加重合して得られる重合体
    (B):式(1)で表される有機スルホニウムヘキサフルオロホスファート
    (C):式(2)で表される有機スルホニウムフルオロアルキルスルホナート
    [式(1)および式(2)中、R〜Rは、それぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、または炭素数7〜20のアラルキル基を表す。
    前記の各基は、それぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜20のアルキルオキシ基、炭素数2〜20のアルキルカルボニル基、炭素数2〜20のアルキルカルボニルオキシ基、またはニトロ基で置換されていても良い。
    式(1)において、R〜Rから選ばれる任意の2つは、それぞれのアルキル基の水素原子がとれて、環構造をなしていても良い。
    式(2)において、R〜Rから選ばれる任意の2つは、それぞれのアルキル基の水素原子がとれて、環構造をなしていても良い。
    nは、1〜8の整数を表す。
    mは、1〜17の整数を表す。ただし、mとnとは、次の関係を満たす。
    2n+1−m≧0]
  2. (B):式(1)で表される有機スルホニウムヘキサフルオロホスファートが、芳香族スルホニウムヘキサフルオロホスファートである請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。
  3. (C):式(2)で表される有機スルホニウムフルオロアルキルスルホナートが、芳香族スルホニウムフルオロアルキルスルホナートである請求項1または2に記載の硬化性樹脂組成物。
  4. (C):式(2)で表される有機スルホニウムフルオロアルキルスルホナートが、有機スルホニウムトリフルオロメチルスルホナートである請求項1〜3のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
  5. (B):有機スルホニウムヘキサフルオロホスファートと(C)成分の有機スルホニウムフルオロアルキルスルホナートとの混合比率が質量比で、90:10〜60:40である請求項1〜4のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
  6. (A):環状エーテル基およびオレフィン二重結合を有する単量体を付加重合して得られる重合体の環状エーテル基が、エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基である請求項1〜5のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
  7. (A):環状エーテル基およびオレフィン二重結合を有する単量体を付加重合して得られる重合体の環状エーテル基およびオレフィン二重結合を有する単量体が、グリシジル(メタ)アクリレートである請求項1〜6のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
  8. さらに、酸化防止剤を含有する請求項1〜7のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
  9. さらに、分子量が100〜2,000であるオキセタン化合物を含有する請求項1〜8のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
  10. さらに溶剤(D)を含有する請求項1〜9のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
  11. 請求項1〜10のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物を用いて形成される保護膜。
  12. 請求項1〜10のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物を被着体に塗工し、熱硬化させる保護膜の製造方法。
JP2005076604A 2005-03-17 2005-03-17 硬化性樹脂組成物および該組成物を用いて形成される保護膜 Pending JP2006257257A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005076604A JP2006257257A (ja) 2005-03-17 2005-03-17 硬化性樹脂組成物および該組成物を用いて形成される保護膜

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005076604A JP2006257257A (ja) 2005-03-17 2005-03-17 硬化性樹脂組成物および該組成物を用いて形成される保護膜

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006257257A true JP2006257257A (ja) 2006-09-28

Family

ID=37096867

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005076604A Pending JP2006257257A (ja) 2005-03-17 2005-03-17 硬化性樹脂組成物および該組成物を用いて形成される保護膜

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006257257A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009185197A (ja) * 2008-02-07 2009-08-20 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 接着剤組成物及びその利用、並びに接着剤組成物の製造方法
JP2010507696A (ja) * 2006-10-24 2010-03-11 チバ ホールディング インコーポレーテッド 熱安定性のカチオン光硬化性組成物
JP2010523801A (ja) * 2007-04-13 2010-07-15 ハンツマン・アドバンスド・マテリアルズ・アメリカズ・エルエルシー 二元光開始剤、光硬化型組成物、三次元物品製造へのこれらの使用、および製造方法
KR20240047708A (ko) * 2022-10-05 2024-04-12 인하대학교 산학협력단 잠재성 경화제 화합물 및 이를 포함하는 일액형 에폭시 수지 조성물
KR20240169829A (ko) * 2023-05-25 2024-12-03 인하대학교 산학협력단 잠재성 경화제 화합물 및 이를 포함하는 에폭시 수지 조성물

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004189720A (ja) * 2002-11-26 2004-07-08 Sumitomo Seika Chem Co Ltd 光重合開始剤および光硬化性組成物
JP2004256754A (ja) * 2003-02-27 2004-09-16 Jsr Corp 樹脂組成物および保護膜とその形成方法
JP2005017321A (ja) * 2003-06-23 2005-01-20 Jsr Corp 硬化性樹脂組成物、保護膜および保護膜の形成方法
JP2005036092A (ja) * 2002-09-19 2005-02-10 Sumitomo Chemical Co Ltd 硬化性樹脂組成物及び保護膜

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005036092A (ja) * 2002-09-19 2005-02-10 Sumitomo Chemical Co Ltd 硬化性樹脂組成物及び保護膜
JP2004189720A (ja) * 2002-11-26 2004-07-08 Sumitomo Seika Chem Co Ltd 光重合開始剤および光硬化性組成物
JP2004256754A (ja) * 2003-02-27 2004-09-16 Jsr Corp 樹脂組成物および保護膜とその形成方法
JP2005017321A (ja) * 2003-06-23 2005-01-20 Jsr Corp 硬化性樹脂組成物、保護膜および保護膜の形成方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010507696A (ja) * 2006-10-24 2010-03-11 チバ ホールディング インコーポレーテッド 熱安定性のカチオン光硬化性組成物
JP2010523801A (ja) * 2007-04-13 2010-07-15 ハンツマン・アドバンスド・マテリアルズ・アメリカズ・エルエルシー 二元光開始剤、光硬化型組成物、三次元物品製造へのこれらの使用、および製造方法
JP2009185197A (ja) * 2008-02-07 2009-08-20 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 接着剤組成物及びその利用、並びに接着剤組成物の製造方法
KR20240047708A (ko) * 2022-10-05 2024-04-12 인하대학교 산학협력단 잠재성 경화제 화합물 및 이를 포함하는 일액형 에폭시 수지 조성물
KR102915133B1 (ko) 2022-10-05 2026-01-19 인하대학교 산학협력단 잠재성 경화제 화합물 및 이를 포함하는 일액형 에폭시 수지 조성물
KR20240169829A (ko) * 2023-05-25 2024-12-03 인하대학교 산학협력단 잠재성 경화제 화합물 및 이를 포함하는 에폭시 수지 조성물
KR102898959B1 (ko) * 2023-05-25 2025-12-10 인하대학교 산학협력단 잠재성 경화제 화합물 및 이를 포함하는 에폭시 수지 조성물

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI696888B (zh) 觸控面板用感光性樹脂組合物及其硬化膜、以及具有該硬化膜的觸控面板
CN104745104B (zh) 光固化性粘接剂组合物、偏光板及其制造方法、光学构件以及液晶显示装置
TWI769228B (zh) 水溶性組成物、其硬化物之製造方法、及其硬化物,以及醯基膦酸鹽
JP2012008547A (ja) 光学フィルム
US20160209743A1 (en) Photosensitive resin composition for forming member having curved shape, photosensitive resin film for forming member having curved shape using said composition, and lens member manufactred using said composition or said film
JP6337523B2 (ja) 活性エネルギー線重合性樹脂組成物および積層体
JP6545506B2 (ja) 重合体及び光硬化性組成物
JP2006257257A (ja) 硬化性樹脂組成物および該組成物を用いて形成される保護膜
CN103176359A (zh) 光波导形成用树脂组合物以及使用其的光波导
CN102372825B (zh) 固化性树脂组合物
JP6071533B2 (ja) 光硬化性組成物
TWI540174B (zh) Hardened resin composition
JP4999254B2 (ja) 硬化性樹脂組成物及び保護膜
CN100365083C (zh) 硬化性树脂组成物及其保护膜
WO2024048633A1 (ja) 組成物、硬化物、表示装置、及び固体撮像素子
JP4492070B2 (ja) 硬化性樹脂組成物及び該組成物からなる保護膜
TWI598391B (zh) 硬化性樹脂組合物
JP6212952B2 (ja) 硬化性樹脂組成物
JP4442131B2 (ja) 硬化性樹脂組成物
CN100432168C (zh) 可固化树脂组合物
KR100966247B1 (ko) 경화성 수지 조성물
CN100584907C (zh) 固化性树脂组合物
JP2005179650A (ja) 硬化性樹脂組成物および該組成物を用いて形成される保護膜
TWI797295B (zh) 熱硬化性組成物、硬化膜及彩色濾光片
CN100475902C (zh) 固化性树脂组合物

Legal Events

Date Code Title Description
RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

Effective date: 20080131

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080229

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

Effective date: 20080514

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101015

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101019

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110125

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120131