JP2015032702A - ウェハ搬送用装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウェハ搬送用装置1は、カセット2を置くことが可能なカセット台23と、カセット検出センサ35とを有している。カセット2は、半導体製造用のウェハWを収容するためのカセット本体4から把持部5が突出する構成を有している。カセット検出センサ35は、カセット台23にカセット2が置かれたことを検出するために設けられている。カセット台23は、当該カセット台23に置かれたカセット2の把持部5との接触を回避するための接触回避部34を有している。
【選択図】 図1
Description
2,2A カセット
4 カセット本体
5,5A 把持部(突出部)
14 下側被検出部
16 上側被検出部
23 カセット台
34 接触回避部
35 カセット検出センサ
36 向き検出センサ
W ウェハ
Claims (5)
- 半導体製造用のウェハを収容するためのカセット本体から突出部が突出する構成のカセットを置くことが可能な、カセット台と、
前記カセット台に前記カセットが置かれたことを検出するためのカセット検出センサと、を備え、
前記カセット台は、当該カセット台に置かれた前記カセットの前記突出部との接触を回避するための接触回避部を有していることを特徴とする、ウェハ搬送用装置。 - 請求項1に記載のウェハ搬送装置であって、
前記カセット台に前記カセットが置かれた場合における前記カセットの向きを検出するための向き検出センサをさらに備えていることを特徴とする、ウェハ搬送用装置。 - 請求項2に記載のウェハ搬送用装置であって、
前記向き検出センサは、前記接触回避部に進入した前記突出部を検出可能に構成されていることを特徴とする、ウェハ搬送用装置。 - 請求項2または請求項3に記載のウェハ搬送用装置であって、
前記向き検出センサは、前記カセット台において前記カセットが上向き姿勢および下向き姿勢の何れか一方の前記姿勢にあるときに前記カセットを検出するように構成されており、かつ、前記カセットが他方の前記姿勢にあるときには前記カセットを検出しないように構成されていることを特徴とする、ウェハ搬送用装置。 - 半導体製造用のウェハを収容するためカセットと、
前記カセットを置くためのカセット台と、
前記カセット台に前記カセットが置かれたことを検出するためのカセット検出センサと、を備え、
前記カセットは、前記ウェハを保持するためのカセット本体と、前記カセット本体の上部に形成され前記カセット検出センサによって検出されるための上側被検出部と、前記カセット本体の下部に形成され前記カセット検出センサによって検出されるための下側被検出部と、を含んでいることを特徴とする、ウェハ搬送用装置。
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63193841U (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-14 | ||
| JPH10284585A (ja) * | 1997-04-02 | 1998-10-23 | Mitsubishi Electric Corp | ウエハキャリア |
| JP2001116707A (ja) * | 1999-10-19 | 2001-04-27 | Rigaku Industrial Co | ウエハが収納されるカセットとカセットに収納されたウエハを分析する蛍光x線分析装置 |
| JP2004071728A (ja) * | 2002-08-05 | 2004-03-04 | Hirata Corp | 容器開閉装置 |
| JP2012023176A (ja) * | 2010-07-14 | 2012-02-02 | Disco Abrasive Syst Ltd | 研削装置 |
-
2013
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63193841U (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-14 | ||
| JPH10284585A (ja) * | 1997-04-02 | 1998-10-23 | Mitsubishi Electric Corp | ウエハキャリア |
| JP2001116707A (ja) * | 1999-10-19 | 2001-04-27 | Rigaku Industrial Co | ウエハが収納されるカセットとカセットに収納されたウエハを分析する蛍光x線分析装置 |
| JP2004071728A (ja) * | 2002-08-05 | 2004-03-04 | Hirata Corp | 容器開閉装置 |
| JP2012023176A (ja) * | 2010-07-14 | 2012-02-02 | Disco Abrasive Syst Ltd | 研削装置 |
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