JP2015196650A

JP2015196650A - 新規なトリアジン化合物、それを用いた紫外線吸収剤および樹脂組成物

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Publication number: JP2015196650A
Application number: JP2014073993A
Authority: JP
Inventors: チュンタングエン; Chung Thanh Nguyen
Original assignee: Fujifilm Finechemicals Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Finechemicals Co Ltd
Priority date: 2014-03-31
Filing date: 2014-03-31
Publication date: 2015-11-09

Abstract

【課題】本発明の目的は、高分子材料、塗料、繊維、表面コーティング材、化粧品素材および写真用材料等の分野で紫外線吸収剤として有用なトリアジン化合物を提供することにある。
【解決手段】下記一般式(Ｉ)で表される化合物。

式中、Ｒはアルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ホルミル基、カルボキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ウレイド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホン酸基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環残基、またはハロゲン原子を表す。これらの置換基は更に置換されてもよい。
【選択図】なし

Description

本発明は、高分子材料、塗料、繊維、表面コーティング材、化粧品素材、日焼け止め製品および写真用材料等の分野において紫外線吸収剤として有効なトリアジン化合物に関する。

従来より、高分子材料および表面コーティング材等の様々な有機材料には、自然光中の紫外線からの劣化を防ぐために、種々の紫外線吸収剤が単独または組み合わせて用いられている。中でもトリアゾール系化合物は、紫外線吸収剤として長期に亘り工業的に重要な役割を担ってきた（非特許文献１）。しかしながら、トリアゾール化合物そのものが光劣化を受けやすいこと、また樹脂等の基質への溶解性（以下、相溶性という）が低く、高濃度では使用できない等の欠点があった。

一方、トリアジン系の化合物もまた、特に紫外線吸収剤として優れた効果を発揮することが知られており、例えばトリフェニル−トリアジン化合物（特許文献１、３）、２−ヒドロキシフェニル−４−ナフチル−１，３，５−トリアジン化合物（特許文献２）等が知られている。
しかし、塗料や樹脂の表面コーティングに紫外線吸収剤として使用する場合、通常トルエンやアセトン、メチルエチルケトン、酢酸エステル等の有機溶剤に溶解して用いるが、これらのトリアジン化合物は溶剤への溶解性が低いという問題点があり、満足できる効果を与えるものではなかった。

米国特許第５６４８４８８号米国特許第７０８７７５３号特表２００２−５２４４５２号公報

染料と薬品、４１，２９５（１９９６）．

本発明の目的は、高分子材料、塗料、繊維、表面コーティング材、化粧品素材、日焼け止め製品および写真用材料等の分野で紫外線吸収剤として有用なトリアジン化合物を提供することにある。

本発明者らは前記目的を達成するために創意工夫した結果、有機溶媒に対する溶解性および樹脂に対する相溶性が高く、且つ紫外線吸収効果に優れ、熱および光にも安定である新規なトリアジン化合物を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の課題は、以下の化合物、該化合物を含有する紫外線吸収剤、該化合物と樹脂と
を少なくとも含有する樹脂組成物によって達成される。
＜１＞下記一般式(Ｉ)で表される化合物。

式中、Ｒはアルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ホルミル基、カルボキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ウレイド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホン酸基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環残基、またはハロゲン原子を表す。これらの置換基は更に置換されてもよい。

＜２＞Ｒが炭素数２〜１３のアルコキシカルボニル基である前記＜１＞の化合物。
＜３＞前記＜１＞または＜２＞の化合物を含有する紫外線吸収剤。
＜４＞前記＜１＞または＜２＞の化合物と樹脂とを少なくとも含有する樹脂組成物。

本発明のトリアジン化合物は、従来のトリアジン化合物に比べて有機溶媒への溶解性および樹脂への相溶性に優れ、紫外線吸収効果および熱安定性が高く、紫外線吸収剤として好適に使用することができる。

本発明の化合物Ｉ−１およびＩ−７、比較化合物（Ａ）および（Ｃ）について、ＵＶ照射時間と残存率の関係を表した図である。

以下に本発明を詳細に説明する。
＜一般式（Ｉ）で表されるトリアジン化合物＞
本発明は下記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン化合物に関する。一般式（Ｉ）で表される化合物の構造は非対称型であり、公知の対称型のトリアジン化合物に比べてトルエンや酢酸エチル等の汎用の有機溶剤への溶解性が高いという効果を奏する。

上記一般式（Ｉ）において、Ｒが表すアルキル基としては、直鎖、分岐、環状の何れでもよく、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基が挙げられる。
Ｒが表すアリール基としては、フェニル、ナフチル等の６〜１０員の単環式または二環式のアリール基が挙げられる。

Ｒが表すアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ヘプタデシルオキシ、オクタデシルオキシ、ノナデシルオキシ、イコシルオキシ等の炭素数１〜２０のアルコキシ基が挙げられる。
Ｒが表すアリールオキシ基としては、フェノキシ、ナフチルオキシ等の６〜１０員の単環式または二環式のアリールオキシ基が挙げられる。
Ｒが表すヘテロ環オキシ基としては、イミダゾリルオキシ、オキサゾリルオキシ、トリアゾリルオキシ、チアゾリルオキシ、１，３，４−チアジアゾリルオキシ、ピリジルオキシ、ピリミジルオキシ、ピラジルオキシ、フリルオキシ、チエニルオキシ、ベンゾチアゾリルオキシ、ベンゾオキサゾリルオキシ等の窒素原子、酸素原子または硫黄原子を少なくとも１個以上含む５〜１０員の単環式または二環式ヘテロ環オキシ基が挙げられる。

Ｒが表すアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、ブチルカルボニルオキシ、ペンチルカルボニルオキシ、ヘキシルカルボニルオキシ、ヘプチルカルボニルオキシ、オクチルカルボニルオキシ、ノニルカルボニルオキシ、デシルカルボニルオキシ、ウンデシルカルボニルオキシ、ドデシルカルボニルオキシ、トリデシルカルボニルオキシ、テトラデシルカルボニルオキシ、ペンタデシルカルボニルオキシ、ヘキサデシルカルボニルオキシ、ヘプタデシルカルボニルオキシ、オクタデシルカルボニルオキシ、ノナデシルカルボニルオキシ、イコシルカルボニルオキシ等、炭素数１〜２０の直鎖または分岐アルキル基が置換したカルボニルオキシ基が挙げられる。
Ｒが表すアリールカルボニルオキシ基としては、ベンゾイルオキシ、ナフトイルオキシ等の６〜１０員の単環式またはニ環式アリール基が置換したカルボニルオキシ基が挙げられる。

Ｒが表すカルバモイルオキシ基としては、無置換カルバモイルオキシ基；Ｎ−エチルカルバモイルオキシ、Ｎ−プロピルカルバモイルオキシ、Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ、Ｎ−ペンチルカルバモイルオキシ、Ｎ−ヘキシルカルバモイルオキシ、Ｎ−ヘプチルカルバモイルオキシ、Ｎ−オクチルカルバモイルオキシ、Ｎ−ノニルカルバモイルオキシ、Ｎ−デシルカルバモイルオキシ、Ｎ−ウンデシルカルバモイルオキシ、Ｎ−ドデシルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ−ナフチルカルバモイルオキシ等の炭素数１〜１２の直鎖、分岐もしくは環状アルキル基、または６〜１０員の単環式もしくはニ環式アリール基でモノ置換されたカルバモイルオキシ基；Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジオクチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジドデシルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジフェニルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジナフチルカルバモイルオキシ、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルカルバモイルオキシ、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ−ブチル−Ｎ−ナフチルカルバモイルオキシ等、炭素数１〜１２の直鎖、分岐もしくは環状アルキル基、および／または６〜１０員の単環式もしくはニ環式アリール基でジ置換されたカルバモイルオキシ基が挙げられる。

Ｒが表すアルキルカルボニル基としては、アセチル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、ヘキシルカルボニル、ヘプチルカルボニル、オクチルカルボニル、ノニルカルボニル、デシルカルボニル、ウンデシルカルボニル、ドデシルカルボニル、トリデシルカルボニル、テトラデシルカルボニル、ペンタデシルカルボニル、ヘキサデシルカルボニル、ヘプタデシルカルボニル、オクタデシルカルボニル、ノナデシルカルボニル、イコシルカルボニル、シクロプロピルカルボニル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘプチルカルボニル、シクロオクチルカルボニル、シクロノニルカルボニル、シクロデシルカルボニル等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状アルキル基が置換したカルボニル基が挙げられる。
Ｒが表すアリールカルボニル基としては、例えばベンゾイル、ナフトイル等の６〜１０員の単環式または二環式アリール基が置換したカルボニル基が挙げられる。

Ｒが表すアルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニル、ウンデシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、トリデシルオキシカルボニル、テトラデシルオキシカルボニル、ペンタデシルオキシカルボニル、ヘキサデシルオキシカルボニル、ヘプタデシルオキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、ノナデシルオキシカルボニル、イコシルオキシカルボニル、シクロプロピルオキシカルボニル、シクロブチルオキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、シクロヘプチルオキシカルボニル、シクロオクチルオキシカルボニル、シクロノニルオキシカルボニル、シクロデシルオキシカルボニル等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状アルキル基が置換したオキシカルボニル基が挙げられる。
Ｒが表すアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等の６〜１０員の単環式または二環式のアリールオキシカルボニル基が挙げられる。

Ｒが表すアミノ基としては、例えば無置換アミノ基；Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−ブチルアミノ、Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−デシルアミノ、Ｎ−テトラデシルアミノ、Ｎ−オクタデシルアミノ、Ｎ−シクロプロピルアミノ、Ｎ−シクロヘキシルアミノ、Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−ナフチルアミノ、Ｎ−チアゾリルアミノ、Ｎ−ピリミジルアミノ、Ｎ−フリルアミノ、Ｎ−チエニルアミノ等、炭素数１〜１５の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、６〜１０員の単環式もしくは二環式のアリール基、または窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１個以上含む５〜１０員の単環式もしくは二環式のヘテロ環残基でモノ置換されたアミノ基；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジオクチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジドデシルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジフリルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジピリジルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ピリジルアミノ等、炭素数１〜１８の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、および／または６〜１０員の単環式もしくは二環式のアリール基、および／または窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１個以上含む５〜１０員の単環式もしくは二環式のヘテロ環残基でジ置換されたアミノ基が挙げられる。

Ｒが表すカルバモイル基としては、無置換カルバモイル基；Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）カルバモイル、Ｎ−ヘキシルカルバモイル、Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−ドデシルカルバモイル、Ｎ−オクタデシルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−ナフチルカルバモイル、ピリジルカルバモイル、フリルカルバモイル、チエニルカルバモイル、ベンゾチアゾリルカルバモイル、ベンゾオキサゾリルカルバモイル等、炭素数１〜１８の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、６〜１０員の単環式または二環式のアリール基、または窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１個以上含む５〜１０員の単環式もしくは二環式のヘテロ環残基でモノ置換されたカルバモイル基；Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジドデシルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジフェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジピリミジルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フリルカルバモイル、Ｎ−フェニル−Ｎ−ピリジルカルバモイル、Ｎ−プロピル−Ｎ−チエニルカルバモイル等、炭素数１〜１８の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、６〜１０員の単環式もしくは二環式のアリール基、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１個以上含む５〜１０員の単環式または二環式ヘテロ環残基の中から選択される置換基でジ置換されたカルバモイル基が挙げられる。

Ｒが表すスルファモイル基としては、例えば無置換スルファモイル基；Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（ｉｓｏ−プロピル）スルファモイル、Ｎ−ブチルスルファモイル、Ｎ−ヘキシルスルファモイル、Ｎ−オクチルスルファモイル、Ｎ−デシルスルファモイル、Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ−テトラデシルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−ナフチルスルファモイル、Ｎ−イミダゾリルスルファモイル、Ｎ−オキサゾリルスルファモイル、Ｎ−チアゾリルスルファモイル、Ｎ−ピリジルスルファモイル、Ｎ−チエニルスルファモイル、Ｎ−ベンゾオキサゾリルスルファモイル等、炭素数１〜１８の直鎖、分岐または環状のアルキル基、６〜１０員の単環式または二環式のアリール基、または窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１個以上含む５〜１０員の単環式もしくは二環式のヘテロ環残基でモノ置換されたスルファモイル基；Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジフェニルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジピリジルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジピラジルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ピリジルスルファモイル、Ｎ−フェニル−Ｎ−フリルスルファモイル等、炭素数１〜１８の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、および／または６〜１０員の単環式もしくは二環式のアリール基、および／または窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１個以上含む５〜１０員の単環式もしくは二環式ヘテロ環残基の中から選択される置換基で置換されたスルファモイル基が挙げられる。

Ｒが表すアルキルチオ基は、例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、オクチルチオ、ノニルチオ、デシルチオ、ウンデシルチオ、ドデシルチオ、トリデシルチオ、テトラデシルチオ、ペンタデシルチオ、ヘキサデシルチオ、ヘプタデシルチオ、オクタデシルチオ、シクロプロピルチオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘキシルチオ、シクロヘプチルチオ、シクロオクチルチオ、シクロノニルチオ、シクロデシルチオ等の炭素数１〜１５の直鎖、分岐または環状アルキル基が置換したチオ基が挙げられる。
Ｒが表すアリールチオ基は、例えばベンゾイル、ナフトイル等の６〜１０員の単環式または二環式アリール基が置換したチオ基が挙げられる。
Ｒが表すヘテロ環チオ基としては、イミダゾリルチオ、オキサゾリルチオ、トリアゾリルチオ、チアゾリルチオ、１，３，４−チアジアゾリルチオ、ピリジルチオ、ピリミジルチオ、ピラジルチオ、フリルチオ、チエニルチオ、ベンゾチアゾリルチオ、ベンゾオキサゾリルチオ等の窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を少なくとも１個以上含む５〜１０員の単環式または二環式ヘテロ環が置換したチオ基が挙げられる。

Ｒが表すアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル、ヘプチルスルホニル、オクチルスルホニル、ノニルスルホニル、デシルスルホニル、ウンデシルスルホニル、ドデシルスルホニル、トリデシルスルホニル、テトラデシルスルホニル、ペンタデシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、ヘプタデシルスルホニル、オクタデシルスルホニル、シクロプロピルスルホニル、シクロブチルスルホニル、シクロペンチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、シクロヘプチルスルホニル、シクロオクチルスルホニル、シクロノニルスルホニル、シクロデシルスルホニル等の炭素数１〜１８の直鎖、分岐または環状アルキル基が置換したスルホニル基が挙げられる。
Ｒが表すアリールスルホニル基としては、例えばフェニルスルホニル、ナフチルスルホニル等の６〜１０員の単環式または二環式アリール基が置換したスルホニル基が挙げられる。

Ｒが表すヘテロ環残基としては、例えばイミダゾリル、オキサゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピラジル、フリル、チエニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル、キノリル等の窒素原子、酸素原子または硫黄原子を少なくとも１個以上含む５〜１０員の単環式または二環式ヘテロ環残基が挙げられる。
Ｒが表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
これらＲにおける各置換基は更に置換基を有してもよい。更なる置換基としては、具体的には、アルキル基、トリメチルシリル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、ヘテロ環残基等が挙げられる。

上記Ｒの中で、好ましくは電子求引性基であり、より好ましくはアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、スルファモイル基、スルホン酸基、アルキルスルホニル基であり、更に好ましくはアルコキシカルボニル基であり、特に好ましくは炭素数２〜１３のアルコキシカルボニル基（炭素数１〜１２のアルキル基が置換したアルコキシカルボニル基）である。
ベンゼン環のＲの位置に電子求引性基が置換された場合、化合物のＬＵＭＯ（ＬｏｗｅｓｔＵｎｏｃｃｕｐｉｅｄＭｏｌｅｃｕｌａｒＯｒｂｉｔａｌ）が安定化されて励起寿命が短くなり、その結果優れた耐光性を有する。このため、既知のベンズトリアゾール系およびトリアジン系紫外線吸収剤では、長時間使用した場合に分解して黄変する等の問題点があったが、本発明の化合物は耐光性に優れ長時間使用した後でも分解せず黄変も起こらない。

次に、一般式(Ｉ)で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれに限定されない。また、本発明においては代表的な形の一つで記述しているが、本発明の記述と異なる互変異性体も本発明の化合物に含まれる。
具体例中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｐｒはプロピル基、Ｂｕはブチル基、Ｐｈはフェニル基を表す。また、波線は結合手を表す。

次に本発明の化合物の製造方法について述べる。
一般式（Ｉ）で表される化合物は、従来知られている任意の方法で合成することができる。例えば、特開平７−１８８１９０号公報、特開平１１−３１５０７２号公報、特開２００１−２２０３８５号公報、「染料と薬品」第４０巻１２号３２５〜３３９ページ（１９９５）等、公知の特許文献や非特許文献を参考に合成することが可能である。
以下に本発明の化合物の合成法の一例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。

上記の合成法で用いる原料のベンゾニトリル化合物（Ｉｄ）は種々市販されており、また市販の化合物を公知の方法で調製することも可能である。一方の２−ナフトイルクロライド（Ｉａ）も市販されており入手が容易である。
上記合成例では、まず、ベンゾニトリル化合物（Ｉｄ）を塩基性条件下ヒドロキシアミンとの反応によって中間体（Ｉｅ）とし、次いで無水酢酸を用いてアセチル化を行い、中間体（Iｆ）を得る。続いて、パラジウム−カーボン触媒存在下水素ガスによる還元反応を行い、ベンズアミジン中間体（Iｇ）を合成する。
もう１つの原料である２−ナフトイクロライド（Iａ）はサルチルアミドとの反応によりＮ−（２−ヒドロキシベンゾイル）−２−ナフトアミド（Ｉｂ）とし、次いで酸触媒存在下脱水縮合して２−（２−ナフチル）−４Ｈ−１，３−ベンゾキサジン−４−オン（Ｉｃ）を合成する。
各々得られたベンズアミジン中間体（Iｇ）と２−（２−ナフチル）−４Ｈ−１，３−ベンゾキサジン−４−オン（Ｉｃ）とをアルカリ条件下で反応することにより、目的物（Ｉ）を合成することが可能である。

＜紫外線吸収剤＞
次に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する紫外線吸収剤について説明する。
紫外線吸収剤としては、本発明の化合物を一種のみ用いてもよいし、二種以上を併用することもできる。
本発明の紫外線収剤の使用形態は、固体分散物、溶液、樹脂組成物等、どのような使用形態でも用いることが可能である。
本発明の紫外線吸収剤の極大吸収波長は、特に限定されないが、好ましくは２４０〜４００ｎｍであり、より好ましくは２６０〜３８０ｎｍである。半値幅は好ましくは２０〜１００ｎｍであり、より好ましくは４０〜８０ｎｍである。

本発明で規定する極大吸収波長および半値幅は、例えば、日本化学会編「第４版実験化学講座７分光ＩＩ」（丸善，１９９２年）１８０〜１８６ページ等に記載されており、容易に測定可能である。具体的には、適当な溶媒に試料を溶解し、石英製またはガラス製のセルを用い、試料用と対照用の２つのセルを分光光度計で測定する。用いる溶媒は、試料の溶解性の他、測定波長領域に吸収を持たないこと、溶質分子との相互作用が小さいこと、揮発性が余り著しくないこと等の点を考慮して選択する。これらの条件を満たしていれば、任意の溶媒を選択することができる。なお、本発明では酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）を溶媒に用い、光路長１０ｍｍの石英セルを使用し、本発明の化合物で濃度約５×１０^−５ｍｏｌ・ｄｍ^−３の溶液を調製し、極大吸収波長及び半値幅を測定した。また、半値幅は波長目盛りで軸を取った場合の値とし、半値幅の単位はｎｍを用いた。

半値幅は極大吸収波長における吸光度の１／２の吸収帯の幅を表し、吸収スペクトルの形を表す値として用いられる。半値幅が小さいスペクトルはシャープなスペクトルであり、半値幅が大きいスペクトルはブロードなスペクトルである。ブロードなスペクトルを与える紫外線吸収化合物は、極大吸収波長から長波側の幅広い領域にも吸収を有するので、半値幅が小さいスペクトルを有する紫外線吸収化合物の方が黄色味着色がなく、長波紫外線領域を効果的に遮蔽するため好ましい。
一方、光の吸収の強さ、即ち振動子強度はモル吸光係数の積分に比例し、吸収スペクトルの対称性が良い場合には、振動子強度は極大吸収波長における吸光度と半値幅（この場合は波長目盛りで軸を取った値）の積に比例する。このことは、遷移モーメントの値が同じであれば、半値幅が小さいスペクトルを有する化合物は極大吸収波長における吸光度が大きくなることを意味する。このような紫外線吸収化合物は少量の使用で極大吸収波長周辺の領域を効果的に遮蔽できるメリットがあるが、波長が極大吸収波長から少し離れると急激に吸光度が減少するため、幅広い領域を遮蔽することができない。

紫外線吸収剤は、極大吸収波長におけるモル吸光係数が２００００以上であることが好ましく、３００００以上であることがより好ましく、５００００以上であることが特に好ましい。２００００以上であれば、紫外線吸収剤の質量当たりの吸収効率が十分に得られるため、紫外線吸収剤の使用量を低減できる。使用量の低減は、皮膚刺激性や生体内への蓄積防止、ブリードアウトが生じにくいといった点から好ましい。

本発明の紫外線吸収剤は、紫外線吸収剤が分散媒体に分散された分散物の状態でも使用できる。本発明の紫外線吸収剤を分散する媒体は、水、有機溶剤、樹脂、樹脂溶液等いずれのものでもよい。これらを単独または２種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明で用いる分散媒体の有機溶剤としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、オクタン等の炭化水素系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラヒドロナフタレン等の芳香族系溶媒；ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール系溶媒；アセトン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；トリエチルアミン、トリブチルアミン等のアミン系溶媒；酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム、クロルベンゼン等のハロゲン系溶媒；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ピリジン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、１，３−ジメチルイミダゾリジノン等のヘテロ環系溶媒が挙げられる。２種以上の溶媒を用いる場合、これらを任意の割合で組み合わせて使用することができる。

本発明で用いる分散媒体の樹脂としては、従来公知の各種成形体、シート、フィルム等の製造に従来から使用されている熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂が挙げられる。
熱可塑性樹脂は、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン−アクリロニトリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系共重合体、エチレン−ビニルアルコール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート樹脂（ＰＢＴ）、液晶ポリエステル樹脂（ＬＣＰ）、ポリアセタール樹脂（ＰＯＭ）、ポリアミド樹脂（ＰＡ）、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂及びポリフェニレンサルファイド樹脂（ＰＰＳ）等が挙げられる。これらは単独または二種以上のポリマーブレンドあるいはポリマーアロイとして使用する。また、これらの樹脂は、ナチュラル樹脂にガラス繊維、炭素繊維、半炭化繊維、セルロース系繊維、ガラスビーズ等のフィラーや難燃剤等を含有させた熱可塑性成形材料としても使用する。また、必要に応じて樹脂用の添加剤、例えば、ポリオレフィン系樹脂微粉末、ポリオレフィン系ワックス、エチレンビスアマイド系ワックス、金属石鹸等を単独または二種以上を組み合わせて使用することもできる。
熱硬化性樹脂は、例えば、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられ、これらはナチュラル樹脂のほかガラス繊維、炭素繊維、半炭化繊維、セルロース系繊維、ガラスビーズ等のフィラーや難燃剤を含有させた熱硬化性成形材料としても使用することができる。

本発明の紫外線吸収剤を含む分散物は、必要に応じて分散剤、泡防止剤、保存剤、凍結防止剤、界面活性剤等の添加剤を添加することができ、その他、染料、顔料、赤外線吸収剤、香料、重合性化合物、ポリマー、無機物、金属等の任意の化合物を含んでいてもよい。

本発明の紫外線吸収剤は、液体状の媒体に溶解された溶液の状態でも使用でき、例えば、水、有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液などが挙げられる。有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液の例としては、上述の分散媒体として記載したものが挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、組み合わせて使用してもよい。
本発明の紫外線吸収剤の溶液は、その他に任意の化合物、例えば、染料、顔料、赤外線吸収剤、香料、重合性化合物、ポリマー、無機物、金属等を含んでいてもよい。本発明の紫外線吸収剤以外は必ずしも溶解していなくてもよい。
本発明の紫外線吸収剤を含む溶液における前記紫外線吸収剤の含有量は、使用目的と使用形態によって異なるが、使用する目的に応じて任意の濃度であってよい。好ましくは溶液の全量に対して０．００１〜３０質量％であり、より好ましくは０．０１〜１０質量％である。予め高濃度で溶液を作製しておき、所望の時に希釈して使用することもできる。希釈溶媒は上述の溶媒から任意に選択できる。

本発明の紫外線吸収剤は、染料、顔料、インク、化粧品、医薬品、サプリメント、食品、飲料、ボディケア製品、油、脂肪、ロウ、表面コーティング、写真材料、織物およびその色素、ゴム、塗料、樹脂組成物、プラスチック材料、高分子添加剤等、多岐の分野で使用することが可能である。
＜樹脂組成物＞
本発明の紫外線吸収剤を用いる場合、単独で用いても、組成物として用いても良い。好ましくは組成物として用いることであり、より好ましくは本発明の紫外線吸収剤を含む樹脂組成物で用いることである。本発明の紫外線吸収剤は、公知の方法で樹脂組成物に含有させることができる。本発明の紫外線吸収剤が樹脂組成物との相溶性が良好な場合は、樹脂組成物に直接添加することができる。または、樹脂組成物との相溶性を有する補助溶媒に本発明の紫外線吸収剤を溶解し、その溶液を樹脂組成物に添加してもよい。本発明の紫外線吸収剤を高沸点有機溶媒やポリマー中に分散し、その分散物を樹脂組成物に添加してもよい。

上記で用いる高沸点有機溶媒は、沸点が１８０℃以上であることが好ましく、２００℃以上であることが更に好ましい。高沸点有機溶媒の融点は、１５０℃以下であることが好ましく、１００℃以下であることが更に好ましい。高沸点有機溶媒としては、例えば、リン酸エステル、ホスホン酸エステル、安息香酸エステル、フタル酸エステル、脂肪酸エステル、炭酸エステル、アミド、エーテル、ハロゲン化炭化水素、アルコールおよびパラフィン等が挙げられる。これらの中でも、リン酸エステル、ホスホン酸エステル、フタル酸エステル、安息香酸エステルおよび脂肪酸エステルが好ましい。
本発明の紫外線吸収剤の添加は公知の方法で実施可能であり、例えば、特開平４−１９１８５１号や特開平８−２７２０５８号といった各公報に記載の方法を参考にできる。

前記樹脂組成物に用いられる樹脂は、天然または合成ポリマーのどちらでも使用できる。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリ（１−ブテン）、ポリ４−メチルペンテン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）、ポリイソプレン、ポリブタジエン、ポリシクロペンテン、ポリノルボルネン等のポリオレフィン；エチレン／プロピレンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／ノルボルネンの如きエチレン／シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ：Ｃｙｃｌｏ−ＯｌｅｆｉｎＣｏｐｏｌｙｍｅｒ）、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー等のビニルモノマーのコポリマー；ポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル等のアクリル系ポリマー；ポリ塩化ビニル；ポリ塩化ビニリデン；ポリフッ化ビニル；ポリフッ化ビニリデン；塩化ビニル／酢酸ビニルコポリマー；ポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル；ポリオキシメチレン等のポリアセタール；ポリアミド；ポリイミド；ポリウレタン；ポリ尿素；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリカーボネート；ポリケトン；ポリスルホンポリエーテルケトン；フェノール樹脂；メラミン樹脂；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース等のセルロースエステル；ポリシロキサン；セルロース、ゴム、ゼラチン等の天然ポリマーが挙げられる。
これらの中でも合成ポリマーが好ましく、ポリオレフィン、アクリル系ポリマー、ポリエステル、ポリカーボネート、セルロースエステルがより好ましく、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４−メチルペンテン）、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、トリアセチルセルロースが特に好ましい。
本発明に用いられる樹脂は、熱可塑性樹脂であることが好ましい。

本発明の紫外線吸収剤は、所望の性能を発揮するために必要な量を任意に決めることができる。用いる化合物や樹脂によってその量は異なるが、樹脂組成物中０質量％より大きく２０質量％以下であることが好ましく、０質量％より大きく１５質量％以下であることがより好ましく、０．０５質量％以上１０％質量以下であることが更に好ましい。含有量が上記の範囲であれば十分な紫外線遮蔽効果が得られ、ブリードアウトを抑制することができる。
本発明の樹脂組成物は、前記の樹脂の他、必要に応じて酸化防止剤、光安定剤、加工安定剤、老化防止剤、相溶化剤等の任意の添加剤を適宜含有してもよい。

本発明の紫外線吸収剤を含む樹脂組成物は、合成樹脂が使用される全ての用途に使用できるが、特に日光または紫外線を含む光に晒される可能性のある用途に特に好適に使用できる。具体例としては、例えばガラス代替品とその表面コーティング材、住居、施設、輸送機器等の窓ガラス、採光ガラスおよび光源保護ガラス用のコーティング材、住居、施設、輸送機器等のウインドウフィルム、住居、施設、輸送機器等の内外装材、内外装用塗料・アルキド樹脂ラッカー塗料・アクリルラッカー塗料および該塗料によって形成される塗膜、蛍光灯、水銀灯等の紫外線を発する光源用部材、精密機械、電子電気機器用部材、各種ディスプレイから発生する電磁波等の遮断用材、食品、化学品、薬品等の容器または包装材、ボトル、ボックス、ブリスター、カップ、コンパクトディスクコート、農工業用シートおよびフィルム材、印刷物、染色物、染顔料等の退色防止剤、ポリマー支持体用（機械および自動車部品の如きプラスチック製部品用）の保護膜、印刷物オーバーコート、インクジェット媒体被膜、積層艶消し、オプティカルライトフィルム、安全ガラス／フロントガラス中間層、エレクトロクロミック／フォトクロミック用途、オーバーラミネートフィルム、太陽熱制御膜、日焼け止めクリーム、シャンプー、リンス、整髪料等の化粧品、スポーツウェア、ストッキング、帽子等の衣料用繊維製品及び繊維、カーテン、絨毯、壁紙等の家庭用内装品、プラスチックレンズ、眼鏡レンズ、コンタクトレンズ、義眼等の医療用器具、光学フィルタ、バックライトディスプレーフィルム、プリズム、鏡、写真材料等の光学用品、金型膜、転写式ステッカー、落書き防止膜、テープ、インク等の文房具、標示板、標示器等とその表面コーティング材等を挙げることができる。

本発明の樹脂組成物で形成した高分子成型品の形状は、平膜状、粉状、球状粒子、破砕粒子、塊状連続体、繊維状、管状、中空糸状、粒状、板状、多孔質状等のいずれの形状であってもよい。
本発明の高分子材料は、本発明の紫外線吸収剤を含有しているため、優れた耐光性（紫外光堅牢性）を有しており、紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトを生じることがない。また、本発明の樹脂組成物は優れた長波紫外線吸収能を有するので、紫外線吸収フィルタや容器として用いることができ、紫外線に弱い化合物を保護することもできる。更には、押出成形または射出成形といった任意の方法で成形することで、本発明の樹脂組成物からなる成形品（容器等）を得ることができる。また、別途作製した成形品に塗布、乾燥することで、本発明の樹脂組成物からなる紫外線吸収膜がコーティングされた成形品を得ることもできる。

本発明の樹脂組成物を紫外線吸収フィルタや紫外線吸収膜として用いる場合、高分子物質は透明であることが好ましい。透明樹脂の例としては、セルロースエステル（例、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン）、ポリメチルメタクリレート、シンジオタクチックポリスチレン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド及びポリオキシエチレンなどが挙げられる。好ましくはセルロースエステル、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル樹脂であり、より好ましくはポリカーボネート、ポリエステルである。更に好ましくはポリエステルであり、特に好ましくはポリエチレンテレフタレートである。本発明の樹脂組成物より得られた高分子成型品は透明支持体として用いることもでき、透明支持体の透過率は８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることが更に好ましい。

本発明では、前記一般式（Ｉ）以外の紫外線吸収剤も併用することができる。基本骨格が異なる紫外線吸収剤を併用すると、広い波長領域の紫外線を吸収することができる。また、二種類以上の紫外線吸収剤を併用すると、紫外線吸収剤の分散状態が安定化する作用もある。前記一般式（Ｉ）以外の構造を有する紫外線吸収剤は多々の公開公報、特許公報および文献に記載されており、公知のものを任意に使用することができる。一例として、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、サリチル酸系化合物、ベンゾオキサジノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾオキサゾール系化合物、メロシアニン系化合物、トリアジン系化合物、安息香酸エステル系化合物、ジベンゾイルメタン系化合物、桂皮酸系化合物等が挙げられる。
また、本発明の紫外線吸収剤のみで十分な紫外線遮蔽効果は得られるが、更に厳密を要求する場合には隠蔽力の強い白色顔料、例えば酸化チタンなどを併用してもよい。また、外観、色調が問題となる時、あるいは好みによって微量（０．０５質量％以下）の着色剤を併用することができる。また、透明あるいは白色であることが重要である用途に対しては公知の蛍光増白剤を併用してもよい。

本発明を実施例によって更に詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、生成物の構造はＮＭＲ、ＭＳ測定により同定を行った。

合成例１２−（２−ナフチル）−４Ｈ−１，３−ベンゾキサジン−４−オン（化合物Ｉｃ）の合成
反応容器にトルエン４７０ｍｌ、２−ナフトエ酸８０．０ｇ（０．４６４モル）、サリチルアミド６６．９ｇ（０．４８８モル）、およびジメチルホルムアミド０．４３ｇ（０．００５モル）を加え混合した。この混合液に塩化チオニル６０．８ｇ（０．５１１モル）を滴下し、内温５０℃で２時間攪拌した。次にメタンスルホン酸４．５ｇ（０．０３２モル）を添加し、更に内温１００〜１２０℃で還流脱水しながら５時間攪拌した。反応終了後反応液を室温まで冷却し、トリエチルアミン９．４ｇ（０．０９３モル）を添加した。次いでメタノール４００ｍｌを加えて冷却後、析出した結晶を濾別した。得られた結晶は水とメタノールで各々洗浄して乾燥し、目的物の化合物Ｉｃを９２．７ｇ得た（収率７３％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ２７４（Ｍ^＋）
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ７．５０−７．５２（１Ｈ），δ７．５７−７．６７（３Ｈ），δ７．７８−７．８２（１Ｈ），δ７．９８−８．００（１Ｈ），δ８．０２−８．０３（１Ｈ），δ８．０４―８．０５（１Ｈ），δ８．２５―８．２７（１Ｈ），δ８．４０−８．４２（１Ｈ），δ９．０２（１Ｈ）

合成例２３，５，５−トリメチルヘキシル３−［アミノ（イミノ）メチル］ベンゾエート酢酸塩の合成
反応容器に３−シアノ安息香酸５０．０ｇ（０．３４０モル）、イソノニルアルコール１０７．８ｇ（０．７４７モル）、濃硫酸１．８ｇ（０．０１８モル）を混合し、内温１１０℃で脱水しながら３時間攪拌した。原料が消失したことを確認後、反応混合物を冷却し、水を加えて抽出・分液操作を行い、得られた有機層に５％重曹水を加えて分液した。
得られた分液有機層は別の反応容器に入れ、メタノール２４０ｍｌを加え、ヒドロキシルアミン塩酸塩２６．６ｇ（０．３８２モル）を添加した。トリエチルアミン４０．２ｇ（０．３９７モル）を添加し、内温３０〜４０℃で２時間攪拌した。原料の消失を確認した後、反応液を冷却した。次に反応液を反応容器に入れ、冷却しながら無水酢酸４０．６ｇ（０．３９７モル）を加え、３０分間攪拌した。反応終了後、反応液を冷却し、次に耐圧容器に入れて、１０％パラジウム炭素触媒３．４ｇと水１．７ｇを加え、０．３Ｍｐａの水素加圧下、内温３０℃で４時間反応した。触媒をろ別し、メタノール１５０ｍｌで洗浄して目的物のメタノール溶液を得た。

実施例１３，５，５−トリメチルヘキシル３−［４−（ヒドロキシフェニル）−６−（２−ナフチル）−１，３，５−トリアジン−２−イル］ベンゾエート（化合物Ｉ−７）の合成
合成例２で得た３，５，５−トリメチルヘキシル３−［アミノ（イミノ）メチル］ベンゾエートのメタノール溶液を反応容器に全量入れ、トルエン４５０ｍｌを加え、更に２５％水酸化ナトリウム水溶液７８．５ｇを加えた。ここに合成例１で得た化合物Ｉｃ７８．９ｇ（０．２９２モル）を添加し、反応液のｐＨが８〜１０の範囲内になるよう２５％水酸化ナトリウム水溶液を滴下しながら、内温３０℃で５時間撹拌した。３５％塩酸５０．０ｇを添加し、反応液をｐＨ８に調整した後分液した。得られた有機層は純水４００ｍｌで２回抽出後分液し、有機層を減圧濃縮した。濃縮物にアセトニトリル４５０ｍｌを加え一夜撹拌し、ろ別して目的物の黄色結晶１４０ｇを得た（収率８８％）。この化合物の極大吸収波長は２７０ｎｍであり、半値幅は４５ｎｍであった。
ＭＳ：ｍ／ｚ：５４４（Ｍ^＋）
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ１．１６−１．１９（９Ｈ），δ１．２１（３Ｈ），δ１．３４−１．３５（１Ｈ），δ１．３７−１．３８（１Ｈ），δ１．６９−１．９０（３Ｈ），δ４．４５−４．４８（２Ｈ），δ７．０５−７．１２（２Ｈ），δ７．５２−７．５４（１Ｈ），δ７．５５−７．６５（２Ｈ），δ７．６８−７．７２（１Ｈ），δ７．９３−７．９５（１Ｈ），δ８．０１−８．０３（１Ｈ），δ８．０９−８．１１（１Ｈ），δ８．３１−８．３２（１Ｈ），δ８．６４−８．６６（１Ｈ），δ８．７７−８．７９（１Ｈ），δ８．８６−８．８８（１Ｈ），δ９．１９（１Ｈ），δ９．３５（１Ｈ），δ１３．２４（１Ｈ）
λｍａｘ＝３４６ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

合成例３メチル３−［アミノ（イミノ）メチル］ベンゾエート酢酸塩の合成
反応容器に３−シアノ安息香酸１０．０ｇ（０．０６８モル）、トルエン２０ｍｌ、メタノール２０ｇ（０．６２５モル）、濃硫酸０．４ｇ（０．００４モル）を入れ、内温７０〜１００℃で脱水しながら５時間攪拌した。反応溶液を冷却し、水を加えて分液した。有機層を減圧濃縮し、白色の固体１１．５ｇを得た。
次に、得られた白色固体全量を反応容器に入れてメタノール４０ｍｌに溶解し、ここにヒドロキシルアミン塩酸塩５．３ｇ（０．０７６モル）を添加した。トリエチルアミン８．１ｇ（０．０７８モル）を添加し３０〜４０℃で２時間攪拌した。反応液を冷却し、無水酢酸８．１ｇ（０．０７９モル）加えて更に３０分間攪拌した。反応終了後、反応液を冷却し耐圧容器に入れ、１０％パラジウム炭素触媒０．６７ｇと水０．３４ｇを加え、０．３Ｍｐａの水素加圧下４時間反応した。触媒をろ別し、メタノールで洗浄して目的物のメタノール溶液を得た。

実施例２メチル３−［４−（２−ヒドロキシフェニル）−６−（２−ナフチル）−１，３，５−トリアジン−２−イル］ベンゾエート（化合物Ｉ−１）の合成
合成例３で得たメチル３−［アミノ（イミノ）メチル］ベンゾエートのメタノール溶液とトルエン１００ｍｌを反応容器に入れ、ここに２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液４０．５ｇを添加した。合成例１で得た２−（２−ナフチル）−４Ｈ−１，３−ベンゾキサジン−４−オン１０．０ｇ（０．０３６モル）を添加し、内温３０℃で一晩撹拌した。３５％塩酸で反応液をｐＨ８に調整し、得られた固体をろ別し、目的物の黄色結晶１１．６ｇを得た（収率７３％）。この化合物の極大吸収波長は２６０．５ｎｍであり、半値幅は４０ｎｍであった。
ＭＳ：ｍ／ｚ：４３２（Ｍ^＋）
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ４．０２−４．０４（３Ｈ），δ７．０５−７．１２（２Ｈ），δ７．５１−７．５７（１Ｈ），δ７．５７−７．６１（２Ｈ），δ７．６３−７．７１（１Ｈ），δ７．９２−７．９４（１Ｈ），δ８．０１−８．０３（１Ｈ），δ８．０９−８．１０（１Ｈ），δ８．３０−８．３２（１Ｈ），δ８．６３−８．６５（１Ｈ），δ８．７７−８．７９（１Ｈ），δ８．８６−８．８８（１Ｈ），δ９．１９（１Ｈ），δ９．３２（１Ｈ），δ１３．２３（１Ｈ）
λｍａｘ＝３３４ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

実施例３溶解性試験
ガラス試験管に実施例１で合成した化合物Ｉ−７を２０ｍｇ入れ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）０．２ｍｌを添加し、室温で５分間撹拌後、目視で不溶解部の有無を確認した。同様に酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、クロロホルム、トルエン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトンおよびアセトンについても溶解性を評価した。

実施例４、比較例１〜２
表２に示す化合物を用いた以外は、実施例３と同様の操作を行った。
実施例３〜４、比較例１〜２の結果を表９に示す。なお、表９中の評価は、易溶（手による攪拌）：◎、可溶（超音波洗浄機使用）：○、難溶（超音波洗浄機使用および加温６０℃）：△、不溶：×、とした。
なお、本発明の比較例で用いた化合物は、市販品のＴｉｎｕｖｉｎ１５７７（比較化合物Ａ）、米国特許第７０８７７５３号記載の化合物（比較化合物Ｂ）、および市販品のＴｉｎｕｖｉｎ３２６（比較化合物Ｃ）の３種である。以下にその構造を示す。

表９の結果より、比較例の化合物と比較して、本発明の化合物は汎用の有機溶剤に対する溶解性が良好であることがわかる。

実施例５耐熱性の評価
化合物Ｉ−７を５ｍｇ秤量し、ＳＩＩナノテックノロジー社製熱分析装置（ＴＧ／ＤＴＡ、商品名：ＥＸＳＴＡＲ６０００）を用いて、２９０℃、４０分間で加熱後重量を測定した。下記の式から、重量減少率を算出した。
重量減少率（％）＝１００×[初期重量−４０分後の重量]／[初期重量]

実施例６、比較例３
表１０に示す化合物を用いた以外は、実施例５と同様の操作を行った。実施例５〜６、比較例３の結果を表１０に示す。

表１０の結果から、本発明の化合物は比較化合物と比較して、耐熱試験における重量減少率が小さく、熱安定性が良好であることがわかる。

実施例７ポリマーフィルムの作成および評価
ポリメチルメタクリレート樹脂（商品名：ダイヤナールＢＲ−８０、三菱レイヨン製）を塩化メチレンに２２質量％溶解し、バインダー溶液を調製した。このバインダー溶液に実施例２で合成した化合物Ｉ−１を０．２質量％溶解し、塗布液を調製した。基材となるガラスに当該塗布液を２００μｍのブレードで乾燥時の膜厚が５０μｍとなるように塗布し、１００℃で１０分間乾燥して、フィルムを作成した。
作成したフィルムはまた、メタルハライドランプ（約２９０ｎｍ以下カット）（商品名：アイスーパーＵＶテスター、岩崎電気製）で照度９０ｍＷ／ｃｍ²、温度６３℃、湿度５０％の条件で光照射し、表１１に示した時間の経過後に島津製作所製分光光度計（商品名：ＵＶ−３６００）を用い、極大吸収波長で吸光度を測定した。得られた吸光度の値から、下記の式を用いて残存率を計算した。
残存率（％）＝１００×（照射後の吸光度）／（照射前の吸光度）

実施例８、比較例４〜５
用いる化合物を表１１に示すものにした以外は、実施例７と同様の操作を行った。表１１にその結果を示す。

図１に、本発明の化合物Ｉ−１およびＩ−７、比較化合物（Ａ）および（Ｃ）について、ＵＶ照射時間と残存率の関係を表した。
上記結果から、本発明の化合物はフイルム中の残存率が高く、光照射によって分解しにくい光安定性を有することは明らかである。

Claims

下記一般式(Ｉ)で表される化合物。

式中、Ｒはアルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ホルミル基、カルボキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、ウレイド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホン酸基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環残基、またはハロゲン原子を表す。これらの置換基は更に置換されてもよい。
Ｒが炭素数２〜１３のアルコキシカルボニル基である請求項１に記載の化合物。
請求項１または２に記載の化合物を含有する紫外線吸収剤。
請求項１または２に記載の化合物と樹脂とを少なくとも含有する樹脂組成物。