JP2500155C - - Google Patents

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JP2500155C
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JP
Japan
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substrate
coaxial line
pattern
ground
coaxial
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富士通電装株式会社
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【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】 本発明は、多層回路基板に係わり、特に、基板内に同軸回路を形成する同軸線 パターンを形成した多層回路基板に関する。 【0002】 【従来の技術】 従来、例えば、周波数帯域がGHz以上の高周波帯域を扱う伝送機器では、例
えば、図5に示すように、同軸線材を使用した同軸回路により、2つの入力信号
を、1つの出力信号に合体することが行われている。 すなわち、図5において、符号11はプリント基板を示しており、このプリン
ト基板11には、信号aを入力する回路Aと、信号bを入力する回路Bとが形成
されている。 【0003】 回路AとBとは、それぞれ、プリント基板11に配置される入力端子13,接
続端子15および同軸線材17とを有しており、信号aおよびbは、プリント基
板11に配置される接続端子15および同軸線材17を介して出力端子19に伝
送され、この出力端子19において、図6に示すように、一つの出力信号に合体
される。 【0004】 そして、このような同軸回路では、ノイズ,漏話,損失等を考慮した場合には
、回路Aと回路Bとが、全くバランスの取れた実装配置であり、かつバランスの
取れたパターンルートであることが要望される。 【0005】 【発明が解決しようとする課題】 しかしながら、このような従来の同軸回路では、高価な同軸線材17を使用し
ているため、製造コストが増大し、また、同軸線材17の実装に比較的大きなス
ペースを必要とするため、高密度実装には適していないという問題があった。 本発明は、かかる従来の問題を解決すべくなされたもので、同軸回路を基板内
に、安価,確実に形成することのできる多層回路基板を提供することを目的とす
る。 【0006】 【課題を解決するための手段】 本発明の多層回路基板は、第1同軸線パターンの両側にアースパターンの形成
される第1同軸線基板と、第2同軸線パターンの両側にアースパターンの形成さ
れる第2同軸線基板との間に、アースパターンの形成される中間アース基板を配
置するとともに、前記第1同軸線基板および第2同軸線基板の外側に、アースパ
ターンの形成される外側アース基板を配置し、さらに、前記各基板のアースパタ
ーンを、ビアホールにより電気的に導通してなり、外側アース基板のアースパタ
ーン部分の上面から中間アース基板の中央までの間隔と、外側アース基板の基板
部分の上面から中間アース基板の中央までの間隔とが等しく、第1同軸線パター
ンの肉厚と、第2同軸線パターンの肉厚とが等しく、外側アース基板の基板部分
下面と第1同軸線基板の基板部分の上面との間隔と、中間アース基板の基板部
分の下面と第2同軸線基板の基板部分の上面との間隔とが等しく、かつ、第1同
軸線パターンと第2同軸線パターンとで形成される同軸回路のインピーダンスが
、肉厚と間隔とを変化することにより、下記近似式に基づいて決定される Z0=〔138/(εr1/2〕・log 10・{(D+1.5d)/Kld} (ここで、εrは比誘電率、Klは内部導体実効径係数を表す。) ことを特徴とするものである。 【0007】 【作用】 本発明の多層回路基板では、第1同軸線パターンおよび第2同軸線パターンが
、各基板のアースパターンにより囲繞され、シールドされる。 第1同軸線パターンおよび第2同軸線パターンの肉厚、および、外側アース基
板の基板部分の下面と第1同軸線基板の基板部分の上面との間隔と、中間アース
基板の基板部分の下面と第2同軸線基板の基板部分の上面との間隔を変化するこ
とにより、第1同軸線パターンと第2同軸線パターンとで形成される同軸回路の
インピーダンスを容易に決定することが可能となる。 【0008】 【実施例】 以下、本発明の詳細を図面に示す実施例について説明する。 図1ないし図3は、本発明の多層回路基板の一実施例を示している。図におい て符号31は、第1同軸線基板を示しており、この第1同軸線基板31には、基
板部分に直線状に第1同軸線パターン33が定法に従って誘電体層32を介して
形成されている。 【0009】 この第1同軸線パターン33の両側には、全面にアースパターン35が形成さ
れ、このアースパターン35の第1同軸線パターン33の両側となる位置には、
第1同軸線パターン33に沿って、所定間隔を置いて多数のビアホール37が形
成されている。 符号39は、第2同軸線基板を示しており、この第2同軸線基板39は、第1
同軸線基板31と全く同様に形成されている。 【0010】 すなわち、第2同軸線基板39には、第1同軸線パターン33と全く同一に第
2同軸線パターン41が定法に従って誘電体層42を介して形成され、この第2
同軸線パターン41の両側にアースパターン35が形成され、さらに、第2同軸
線パターン41の両側には、第1同軸線基板31と全く同様に、ビアホール37
が形成されている。 第1同軸線基板31と第2同軸線基板39との間には、アースパターン35の
形成される中間アース基板43が配置され、この中間アース基板43には、第1
同軸線基板31のビアホール37に対応する位置に、ビアホール37が形成され
ている。 【0011】 第1同軸線基板31および第2同軸線基板39の外側には、アースパターン3
5の形成される外側アース基板45,47が配置され、これ等の外側アース基板
45,47には、第1同軸線基板31のビアホール37に対応する位置に、ビア
ホール37が形成されている。 そして、各基板31,39,43,45,47のアースパターン35が、図2
に示すように、ビアホール37により電気的に導通されている。 【0012】 すなわち、各基板31,39,43,45,47の両面には、アースパターン 35が、図2に示すように形成され、各アースパターン35が、ビアホール37
内に形成される環状銅箔パターン49により連結されている。 なお、図3は、多層回路基板を上面から見た概略を示すもので、図3において
符号51は多層回路基板を、符号53はコネクタを示しており、第1同軸線パタ
ーン33および第2同軸線パターン41は、多層回路基板51内において所定の
入力部および出力部に内層結線されている。 【0013】 図4は、第1同軸線パターン33,第2同軸線パターン41等により形成され
る同軸回路の詳細を示すもので、外側アース基板45のアースパターン部分の
面から中間アース基板43の中央までの間隔、および、外側アース基板47の
板部分の上面から中間アース基板43の中央までの間隔が、それぞれLとされて
いる。 また、第1同軸線パターン33および第2同軸線パターン41の肉厚が、それ
ぞれdとされ、さらに、外側アース基板45の基板部分の下面と第1同軸線基板
31の基板部分の上面との間隔、および、中間アース基板43の基板部分の下面
と第2同軸線基板39の基板部分の上面との間隔が、それぞれDとされている。 【0014】 このような同軸回路では、インピーダンスZ0(オーム)は、以下の近似式に
より求めることができる。 Z0=〔138/(εr1/2〕・log 10・{(D+1.5d)/Kld} ここで、εrは比誘電率、Klは内部導体実効径係数、dおよびDは図4に示し
た寸法である。 【0015】 しかして、以上のように構成された多層回路基板では、第1同軸線パターン3
3の両側にアースパターン35の形成される第1同軸線基板31と、第2同軸線
パターン41の両側にアースパターン35の形成される第2同軸線基板39との
間に、アースパターン35の形成される中間アース基板43を配置するともに、
第1同軸線基板31および第2同軸線基板39の外側に、アースパターン35の
形成される外側アース基板45,47を配置し、さらに、各基板31,39,4 3,45,47のアースパターン35を、ビアホール37により電気的に導通し
たので、同軸回路を基板内に、安価,確実に形成することができる。 【0016】 すなわち、以上のように構成された多層回路基板では、同軸回路を、従来のよ
うに高価な同軸線材を使用することなく、第1同軸線パターン33および第2同
軸線パターン41により形成したので、非常に安価なものとなる。 また、第1同軸線パターン33および第2同軸線パターン41が、各基板31
,39,43,45,47のアースパターン35により囲繞され、確実にシール
ドされるため、ノイズ,漏話,損失等の安定した同軸回路となる。 【0017】 さらに、第1同軸線パターン33により形成される回路と、第2同軸線パター
ン41により形成される回路とを、全くバランスの取れた実装配置とし、かつバ
ランスの取れたパターンルートにすることが容易に可能となる。 さらに、また、同軸回路が多層回路基板内に形成されるため、特別な実装スペ
ースが不要となり、高密度実装に非常に適したものとなる。 【0018】 また、以上のように構成された多層回路基板では、第1同軸線パターン33お
よび第2同軸線パターン41の肉厚d、および、前述した間隔Dを変化すること
により、前述した式に基づいてインピーダンスを容易に決定することが可能とな
る。 【0019】 【発明の効果】 以上述べたように、本発明の多層回路基板では、第1同軸線パターンの両側に
アースパターンの形成される第1同軸線基板と、第2同軸線パターンの両側にア
ースパターンの形成される第2同軸線基板との間に、アースパターンの形成され
る中間アース基板を配置するとともに、第1同軸線基板および第2同軸線基板の
外側に、アースパターンの形成される外側アース基板を配置し、さらに、各基板
のアースパターンを、ビアホールにより電気的に導通したので、同軸回路を基板
内に、安価,確実に形成することができる。 特に、本発明の多層回路基板では、第1同軸線パターンおよび第2同軸線パタ
ーンの肉厚、および、外側アース基板の基板部分の下面と第1同軸線基板の基板
部分の上面との間隔、および、中間アース基板の基板部分の下面と第2同軸線基
板の基板部分の上面との間隔を変化することにより、第1同軸線パターンと第2
同軸線パターンとで形成される同軸回路のインピーダンスを容易に決定すること
ができるという利点がある。
【図面の簡単な説明】 【図1】 本発明の多層回路基板の一実施例を示す分解斜視図である。 【図2】 図1のII−II線に沿う断面図である。 【図3】 図1の多層回路基板を概略的に示す上面図である。 【図4】 図2の同軸回路の詳細を示す断面図である。 【図5】 従来の同軸回路の形成されるプリント基板を示す斜視図である。 【図6】 図5の同軸回路による信号の合成を示す説明図である。 【符号の説明】 31 第1同軸線基板 33 第1同軸線パターン 35 アースパターン 37 ビアホール 39 第2同軸線基板 41 第2同軸線パターン 43 中間アース基板 45,47 外側アース基板 肉厚 間隔 間隔

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 第1同軸線パターン(33)の両側にアースパターン(35
    の形成される第1同軸線基板(31)と、第2同軸線パターン(41)の両側に
    アースパターン(35)の形成される第2同軸線基板(39)との間に、アース
    パターン(35)の形成される中間アース基板(43)を配置するとともに、前
    記第1同軸線基板(31)および第2同軸線基板(39)の外側に、アースパタ
    ーン(35)の形成される外側アース基板(45,47)を配置し、さらに、前
    記各基板(31,39,43,45,47)のアースパターン(35)を、ビア
    ホール(37)により電気的に導通してなり、 外側アース基板(45)のアースパターン部分の上面から中間アース基板(4
    3)の中央までの間隔(L)と、外側アース基板(47)の基板部分の上面から
    中間アース基板(43)の中央までの間隔(L)とが等しく、 第1同軸線パターン(33)の肉厚(d)と、第2同軸線パターン(41)の
    肉厚(d)とが等しく、 外側アース基板(45)の基板部分の下面と第1同軸線基板(31)の基板部
    分の上面との間隔(D)と、中間アース基板(43)の基板部分の下面と第2同
    軸線基板(39)の基板部分の上面との間隔(D)とが等しく、 かつ、第1同軸線パターン(33)と第2同軸線パターン(41)とで形成さ
    れる同軸回路のインピーダンスが、肉厚(d)と間隔(D)とを変化することに
    より、下記近似式に基づいて決定される Z0=〔138/(εr1/2〕・log 10・{(D+1.5d)/Kld} (ここで、εrは比誘電率、Klは内部導体実効径係数を表す。) ことを特徴とする多層回路基板。

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