JP2566089C - - Google Patents

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【発明の詳細な説明】 【０００１】 【産業上の利用分野】 本発明は、磁気記録媒体、特に１．０μｍ以下の非常に薄い磁性層を有する磁
気記録媒体に関するものである。更に、詳しくは高密度記録用の塗布型磁気記録
媒体に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】 磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオテープ、コンピューターテープ、ディ
スクなどとして広く用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記録波長
が短くなっており、記録方式もアナログ方式から、ディジタル方式まで検討され
ている。この高密度化の要求に対して、磁性層に金属薄膜を用いた磁気記録媒体
が提案されているが、生産性、腐食等の実用信頼性の点で強磁性粉末を結合剤中
に分散して、支持体上に塗布したいわゆる塗布型の磁気記録媒体が優れる。しか
しながら、金属薄膜に対して塗布型媒体は磁性物の充填度が低いために、電磁変
換特性が劣る。塗布型磁気記録媒体としては、強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸
化鉄、ＣｒＯ₂、強磁性合金粉末等を結合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体
に塗設したものが広く用いられる。 【０００３】 塗布型磁気記録媒体の電磁変換特性の向上には、強磁性粉末の磁気特性の改良
、表面の平滑化などがあり、種々の方法が提案されているが、高密度化に対して
は充分なものではない。 また、近年、高密度化と共に記録波長が短くなる傾向にあり、磁性層の厚さが
厚いと出力が低下する記録時の自己減磁損失、再生時の厚味損失の問題が大きく
なっている。 【０００４】 このため、磁性層を薄くすることが行われているが、磁性層を約２μｍ以下に
薄くすると磁性層の表面に非磁性支持体の影響が現れやすくなり、電磁変換特性
やドロップアウトの悪化傾向が見られる。このため、特開昭５７−１９８５３６
号公報の如く、支持体表面の非磁性の厚い下塗層を設けてから磁性層を上層とし
て設けるようにすれば前記の支持体の表面粗さの影響は解消することができるが
、ヘッド磨耗や耐久性が改善されないという問題があった。これは、従来、非磁
性下層として熱硬化系樹脂を結合剤として用いているので、下層が硬化し、磁性
層とヘッドとの摩擦や他の部材との接触が無緩衝状態で行われることや、このよ
うな下層を有する磁気記録媒体がやや可撓性に乏しい等のことに起因していると 考えられる。これを解消するために、下層に非硬化系樹脂を結合剤として用いる
ことが考えられるが、従来の方法では、下層を塗布乾燥後磁性層を上層として塗
布する場合、下層が上層の塗布液の有機溶剤により膨潤し、上層の塗布液に乱流
を起こさせる等の影響を与え磁性層の表面性を悪くし、電磁変換特性を低下させ
る等の問題を生じる。また、磁性層を薄層化するためには、塗布量を減らすこと
とか、もしくは磁性塗布液に溶剤を多量に加えて濃度を薄くすることが考えられ
る。前者を取る場合、塗布量を減らすと塗布後に十分なレベリングの時間がなく
、乾燥が始まるために、塗布欠陥、例えば、スジや刻印のパターンが残るといっ
た問題が発生し、歩留りが非常に悪くなる。後者の方法を取った場合、磁性塗布
液の濃度が希薄であると、できあがった塗膜に空隙が多く、十分な磁性体充填性
が得られないこと、また、空隙が多いために塗膜の強度が不十分であることなど
、種々の弊害をもたらす。特開昭６２−１５４２２５号公報の発明ではこのよう
に歩留りが悪いことが大きな問題であった。 【０００５】 本出願人は、これらの問題を解決する一つの手段として、特開昭６３−１９１
３１５号、同６３−１８７４１８号の各公報に記載されているような同時重層塗
布方式を用いて下層に非磁性の層を設け、この下層が湿潤状態の間に強磁性粉末
を含有する上層磁性層を設ける方法を採用することにより、塗布欠陥のない、生
産性に優れ、しかも再生出力、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性、走行耐久性を改善でき
る磁気記録媒体を提案した。 【０００６】 しかしながら、このような方法を適用してもなお、下記の問題点を解決するこ
とはできなかった。 上述のような同時重層塗布技術においては、磁性面を平滑にするために下層に
用いる粉体を微粒子化して下層非磁性層の表面性を確保して磁性層の表面性を改
善できるのではないかと考えられる。しかしながら、このような微粒子を使用し
た場合、この微粒子は凝集しやすく、かえって下層の表面性を悪化させひいては
磁性層の表面性を不良にするという問題がある。この問題は、磁性層を更に薄層
化させて電磁変換特性を改善しようとしても下層の粉体の分散性が悪いために磁 性層と下層との界面の制御が困難になり、その界面が乱れ、均一一様な磁性層が
得られないという問題もある。また、微粒子の表面積が大きくなるので磁性層も
しくは非磁性層に含まれる潤滑剤を吸着もしくは吸収し、磁性層表面における潤
滑剤の量を著しく低減させる。従って、磁気記録媒体の摩擦係数の上昇にともな
うジッター、スチルライフの低下が顕在化するという問題がある。 【０００７】 非磁性粉末の分散性を改善するために、非磁性粉末の表面を従来公知の処理剤
、例えば、ＴｉＯ₂、シリカ等の非磁性粉末に対し、ペンタエリトリト、トリメ
チロールプロパンなどのポリオール、脂肪酸などの有機酸、トリエタノールアミ
ン、トリメチロールアミンと言ったアルカノールアミン、シリコン樹脂、アルキ
ルクロロシランなどのシリコン系で処理する方法が知られているが、これらの表
面処理剤は、分散性は向上するが、走行性の改善はみられないという問題がある
。また、走行性を改善するために潤滑剤を多量に使用すると塗膜強度が低減する
という問題がある。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】 本発明は、電磁変換特性が良好な磁気記録媒体を提供すること、及び走行性が
良好でかつ保存安定性が良好な磁気記録媒体及びその製造方法を提供することを
課題とする。 【０００９】 【課題を解決するための手段】 本発明は、下記に記載したとおりのものであり、これにより上記課題を解決す
ることができる。 （１）非磁性支持体上に無機質粉末を結合剤に分散した下層非磁性層を設け、
その上に強磁性粉末を結合剤に分散した上層磁性層を設けた磁気記録媒体におい
て、前記強磁性粉末は粒子長軸長が０．３μｍであり、前記無機質粉末はモース
硬度３以上の非磁性粉末であって、前記上層磁性層の乾燥厚みが１．０μｍ以下
であり、且つ前記下層非磁性層が脂肪酸と前記無機質粉末に吸着、または反応し
うる脂肪酸以外の有機化合物とを含むことを特徴とする磁気記録媒体。 （２）前記下層非磁性層に含まれる無機質粉末が金属酸化物であり、前記有機
化合物がｐＫａ３以下の有機酸、分子量３０００以下のエポキシ基含有化合物、
シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤から選ばれる少なくとも１
種の表面処理剤であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 本発明において、粒子長軸長は、平均粒子長軸長を意味する。 【００１０】 【００１１】 （３）モース硬度３以上の非磁性粉末からなる無機質粉末に該無機質粉末に吸
着または反応しうる有機化合物を結合剤添加以前あるいは同時に添加し、混合分
散した後に脂肪酸を加えて下層非磁性層用塗料を調製し、得られた塗料を非磁性
支持体上に塗布して、下層非磁性層を設け、その上に該下層非磁性層が湿潤状態
の内に、粒子長軸長が０．３μｍ以下である強磁性粉末を結合剤に分散した上層
磁性層用塗料を塗布し、その後配向、乾燥、平滑化処理を行うことを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法。 【００１２】 本発明は、下層非磁性層の無機質粉末の分散性を改善して下層非磁性層と上層
磁性層との界面の制御を容易にして上層磁性層の表面性を確保すると共に下層非
磁性層に含まれる無機質粉末と脂肪酸との相互作用を制御することにより、下層
非磁性層及び上層磁性層中の脂肪酸量を制御して、上層磁性層の走行耐久性を改
善すると共に特に短波長記録における電磁変換特性を改善したものである。 また、本発明の磁気記録媒体の製造方法においては、乾燥膜厚が１μｍ以下の
上層磁性層（以下、単に磁性層または上層とも言う。）を下層非磁性層（以下、
単に非磁性層あるいは下層とも言う。）に塗布欠陥がなく設けるために下層塗布
液に無機質粉末を含ませたものを使用し、非磁性支持体上にまず該下層が湿潤状
態の内に該上層を塗設することを特徴とする。即ち、本発明は、ピンホール、す
じなどの塗布欠陥を抑えた大量生産性に優れた磁性層の極めて薄い、強磁性金属
薄膜に匹敵する性能をも有する走行耐久性に優れた磁気記録媒体を提供するもの
である。 【００１３】 本発明の磁気記録媒体について説明する。 本発明の磁気記録媒体は、下層非磁性層に脂肪酸と脂肪酸以外の無機質粉末に
吸着、または反応しうる有機化合物を含むことを特徴とする。そして、下層非磁
性層に含まれる無機質粉末は、該有機化合物と吸着または反応して無機質粉末表
面に担持された状態が確保される。即ち、本発明は、該有機化合物により無機質
粉末と脂肪酸との吸着状態の割合あるいは確率を相対的に低減せしめようとする
ものである。言い換えれば、その結果、下層に含まれる脂肪酸は、無機質粉末と
吸着していない遊離状態のものの割合が多くなり、該脂肪酸は上層磁性層表面へ
徐々に滲み出て、走行性を改善する機能を果たすものである。また、該遊離状態
の脂肪酸量が従来より大きくなったので磁気記録媒体中に含有される脂肪酸の絶
対量を従来より低減でき、その結果磁気記録媒体の可塑化による弊害を防止する
効果も有する。更に、有機化合物を担持した無機質粉末は、下層の分散性を改善
すると言う効果を有する。 【００１４】 該無機質粉末としては、特に金属酸化物が好ましく、特にＴｉＯ₂（ルチル）
、α−Ｆｅ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＣｅＯ₂等が好ましい。 該脂肪酸としては、従来潤滑剤として使用されている脂肪酸が使用され、例え
ばラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイ
ン酸、リノール酸、リノレン酸エライジン酸等が挙げられる。 該有機化合物としては、上記機能を満足すれば、特に制限はないが、好ましく
は、無機質粉末の官能基、例えば、ＯＨ基等と反応して化学結合を形成して無機
質粉末に強固に担持され得る官能基を有する有機化合物が好ましく、具体的には
、ｐＫａが３以下の有機酸、分子量３０００以下のエポキシ基含有化合物、シラ
ンカップリング剤、チタネート系カップリング剤等の表面処理剤が挙げられ、こ
れらは、単独もしくは組み合わせて使用できる。 【００１５】 これら有機化合物を下層の無機質粉末に吸着あるいは反応させる方法は特に制
限なく、任意の手段を採用できる。例えば、塗布液を調製する前に事前に有機化
合物と無機質粉末とを混合して無機質粉末表面に有機化合物を吸着または反応さ せること、該塗布液を調製する時、無機質粉末と結合剤を混練分散するに際し、
適当な時期に有機化合物を添加し、無機質粉末に吸着、反応させる方法等が挙げ
られる。 【００１６】 本発明の磁気記録媒体を製造するのに好ましい方法は、特にこの有機化合物の
下層非磁性層用塗布液調製時における添加のタイミングを規定したものである。
即ち、有機化合物は、結合剤と無機質粉末が混合分散される以前あるいは同時に
添加されるのが重要であり、脂肪酸を該無機質粉末、有機化合物、結合剤が混合
分散された後に添加する方法である。 即ち、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、下層用塗布液を調製する際、該有
機化合物、無機質粉末および結合剤が分散された後に脂肪酸を添加すると、無機
質粉末は該有機化合物と吸着しており、かつ樹脂中に分散されているために脂肪
酸と無機質粉末との吸着が阻害されることを見出したものである。本発明におい
ては、その効果は特に、有機化合物としてその構造が脂肪酸に比べ特に立体的に
複雑である構造を有している有機化合物を選択した場合に顕著である。 【００１７】 本発明の磁気記録媒体においては、磁気記録媒体の上層及び下層における脂肪
酸の全体量と無機質粉末と吸着もしくは反応していない遊離の脂肪酸量（以下、
遊離の脂肪酸を遊離脂肪酸と言う）を特定の範囲に設定することにより、良好な
特性が得られる。該遊離脂肪酸は、ｎ−ヘキサンで容易に抽出され得るが、遊離
脂肪酸でない無機質粉末に吸着した脂肪酸はほとんど抽出されないという性質に
基づいて前記の量を規定したものである。即ち、本発明では、脂肪酸が下層及び
上層の総重量に対し２．０重量％以下、好ましくは１．５重量％以下になるよう
含有させた磁気記録媒体が、ｎ−ヘキサンで抽出される脂肪酸量（即ち遊離脂肪
酸量）を５０重量％以上、好ましくは６０重量％以上に制御したものがよい。該
遊離脂肪酸量が、５０重量％未満あるいは絶対量が２．０重量％以上であると上
層及び下層からなる塗膜の可塑化が促進されたり、分散性が悪化したりして、表
面性、塗膜強度が低下し、かつ上層表面への脂肪酸の供給が減少して走行性が悪
化するので好ましくない。 【００１８】 ここで言う遊離脂肪酸量とは、（１００×上層及び下層中の遊離脂肪酸量／上
層及び下層中の脂肪酸全量）で表され、以下のような定量法により測定された値
より算出される。 （１）上層及び下層中の脂肪酸全量の測定法（仕込み量測定） 磁気記録媒体の上層及び下層からなる塗膜をカッターの刃等でけずり取り、そ
の塗膜重量を測定し、強磁性粉末、無機質粉末等の粉体を１２Ｎ塩酸で処理する
。次いで、ｎ−ヘキサンを塗膜重量１ｇ当たり２００ｃｃ使用し、分液ロートに
て油層を分離し、油層中の脂肪酸をガスクロマトグラフィーにて定量する。 （２）上層及び下層中の遊離脂肪酸量の測定法 磁気記録媒体の上層及び下層をカッターの刃等でけずり取り、その塗膜重量を
測定し、塗膜重量１ｇ当たり２００ｃｃのｎ−ヘキサンで抽出した後、脂肪酸を
ガスクロマトグラフィーにて定量する。 【００１９】 ガスクロマトグラフィー条件：ソルベントカット使用、カラム温度 １５０〜
２８０℃、昇温速度 ８℃／分 本発明において、遊離脂肪酸量を制御する手段は特に制限はなく、任意の手段
を適用できるが、無機質粉末を処理するために用いる、無機質粉末に吸着又は反
応する有機化合物の種類あるいは量を選択することにより、遊離脂肪酸量を制御
することが望ましい。 【００２０】 本発明において使用される該有機化合物について更に詳述する。 ｐＫａが３以上の有機酸としては、α−ナフチルリン酸、フェニルリン酸、ジ
フェニルリン酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホスホン酸、フェニ
ルホスフィン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホ
ン酸、ナフタリン−α−スルホン酸、ナフタリン−β−スルホン酸などがある。 【００２１】 エポキシ基含有化合物としては、以下に挙げる化１〜化８の一般構造のものが
挙げられる。但し、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃は脂肪族及び芳香族の基、Ｘは、 −ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＯＰＯ（ＯＭ）₂、−ＰＯ（ＯＭ）₂、−ＣＯＯＭ（
ここで、Ｍは、水素原子、またはアルカリ金属）を表す。 【００２２】 【化１】 【００２３】 【化２】 【００２４】 【化３】 【００２５】 【化４】 【００２６】 【化５】 【００２７】 【化６】 【００２８】 【化７】 【００２９】 【化８】 【００３０】 シランカップリング剤の具体例としては以下のものが挙げられる。 ビニルエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）エチルメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメ
トキシシランなどがある。 【００３１】 チタネート系カップリング剤の具体例として、以下のものが挙げられる。 イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ−アミ
ノエチル−アミノエチル）チタネート、テトラオクチルビス（ジトリデシルホス
ファイト）チタネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチルトリブチル）ビ
ス（トリデシル）ホスファイトチタネート、ビス（ジオクチルバイロホスフェー
ト）オキシアネートチタネート、ビス（ジオクチルバイロホスフェート）エチレ
ンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタ
クリンイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルホニ
ルチタネート、イソプロピルステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピル
トリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、イオプロピルトリアミルチタネー
ト、テトライソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネートなどがある
。 【００３２】 これら有機化合物の添加量としては、無機質粉末のＢＥＴ法による比表面積に
対して０．３〜３０μｍｏｌ／ｍ²が望まれ、更に好ましくは、１〜１０μｍｏ
ｌ／ｍ²である。 本発明は上層と下層の界面が平坦で上層磁性層厚味ができるだけ一様であるこ
とが望ましく、そのための手段として本発明は寄与し得る因子を含むものである
が、更にこれを満足するためには他の制御因子を選択することが好ましい。 【００３３】 この界面の変動あるいは乱れを制御するための具体的手段としては、以下の２
つが例示される。 第１の手段は、磁性層の磁性塗料と下層非磁性層の各分散液のチキソトロピー
性を互いに近似するように制御することであり、第２の手段は、下層非磁性層と
磁性層に含まれる粉体のサイズ、形状を規定して力学的に上層および下層に混合
領域が生じないように制御することである。 【００３４】 第１の手段の具体的方法としては、各塗布液が、剪断速度１０⁴ｓｅｃ^-1での
剪断応力Ａ１０⁴と剪断速度１０ｓｅｃ^-1での剪断応力 Ａ１０との比Ａ１０⁴／
Ａ１０を１００≧Ａ１０⁴／Ａ１０≧３に調整することが挙げられる。 第２の手段としては、下層非磁性層と上層磁性層との界面において混合領域が
生じないようにするため、下層非磁性層に針状非磁性粉末あるいは鱗片状非磁性
粉末を用いることが挙げられる。従来の粒状の非磁性粉末に比べ、針状の非磁性
粉末が整列して存在すると未乾燥状態でも強固な塗膜を形成し、上層磁性層の強
磁性粉末が回転しても、その界面で混合を生じないように制御できる。又、混合
領域が生じないようにするためのもう１つの手段は下層非磁性層に鱗片状の非磁
性粉末を用いて、いわばタイル状に敷きつめることであり、上記と同様、上層磁
性層の強磁性粉末が回転してもその界面で混合が生じないようにできる。 【００３５】 そしてこれらの調整に係わる因子には、例えば、分散される無機質粉末あるい
は磁性粉末に関しては、（１）粒子サイズ（比表面積、平均一次粒子径等）、（
２）構造（吸油量、粒子形態等）、（３）粉体表面の性質（ｐＨ、加熱減量等）
、（４）粒子の吸引力（σ_s等）等、結合剤に関しては、（１）分子量、（２）
官能基の種類等、溶剤に関しては（１）種類（極性等）、（２）結合剤溶解性、
（３）溶剤処方量等、含水率等が挙げられる。 【００３６】 また、本発明の磁気記録媒体は、界面における厚味変動（即ち、該界面の厚み
方向における変動幅）の平均値Δｄが磁性層の乾燥厚味平均値ｄの１／２以下で
あることが好ましく、また、磁性層厚味の標準偏差３σは、０．６μｍ、好まし
くはσが０．２μｍ以下である。すなわち３σが０．６μｍ以下は各セグメント
の９７％のものが０．６μｍ以下に入っていればよいことを意味する。 又、３σ≦６ｄ／１０であることが好ましい。 【００３７】 これらｄ、Δｄ、σは以下のように求められる。 磁気記録媒体を長手方向にわたってダイヤモンドカッターで約０．１μｍの厚
味に切り出し、透過型電子顕微鏡で倍率１００００〜１０００００倍、好ましく
は２００００〜５００００倍で観察し、その写真撮影を行う（写真のプリントサ
イズはＡ４〜Ａ５である）。その後、上層磁性層、下層非磁性層の強磁性粉末や
無機質粉末の形状差に注目して界面を目視判断して、黒く縁取り、かつ磁性層表 面も同様に黒く縁取りする。まず、Δｄの求め方について述べる。前述の縁取り
をした上層磁性層と下層非磁性層の界面の山又は谷との距離をΔｄとする。又、
標準偏差σの求め方は、前述の如く縁取りし、その後Ｚｅｉｓｓ社製画像処理装
置ＩＢＡＳ２にて縁取りした線の間隔の長さを測定する。磁性層厚の測定は長さ
２１ｃｍの間隔を１００〜３００のセグメント化してその数だけ行い、ｄを求め
た。 【００３８】 標準偏差σは、各セグメントでの厚味をｘ_iとすると下記数１で表される。 【００３９】 【数１】 【００４０】 前述のΔｄは界面での変動にのみ着目したものであるが、平均厚味ｄの標準偏
差σは上層磁性層の表面粗さの要素と界面での変動の両者を含んだ上層磁性層の
厚味の変動を意味する。この界面の変動は３σが０．６μｍ以下であることが好
ましい。 これにより、磁性層厚みの一様性を確保すると共に表面粗さＲａをＲａ≦λ／
５０、即ちλ／Ｒａを５０以上、好ましくは７５以上、更に好ましくは１００以
上に規制することができる。ここで、Ｒａは、光干渉粗さ計を用いて測定した中
心線平均粗さを測定した値をさす。 【００４１】 更に、最短記録波長λに対してλ／４≦ｄ≦３λ、好ましくは、λ／４≦ｄ≦
２λ（即ち、０．２５≦ｄ／λ≦２）かつ磁性層の表面粗さＲａがＲａ≦λ／５
０の関係にあることが好ましい。 これにより再生出力変動、振幅変調ノイズを防止し、高再生出力、高Ｃ／Ｎを
実現することができる。 【００４２】 本発明において、最短記録波長λは、磁気記録媒体の種類により種々異なるが
、例えば、８ｍｍメタルビデオでは０．７μｍ、デジタルビデオでは、０．５μ
ｍ、デジタルオーディオでは０．６７μｍが挙げられる。 該磁性層厚みは、前記の通り実測して求められるが、蛍光Ｘ線で磁性層中に特
有に含まれる元素について、既知厚みの磁性層サンプルを測定し、検量線を作成
し、次いで、未知資料のサンプルの厚みを蛍光Ｘ線の強度から求めることもでき
る。 【００４３】 又、本発明は、磁性層表面の走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）法による２乗平
均粗さ Ｒ_rmsが前記磁性層の乾燥厚味平均値ｄとの間に３０≦ｄ／Ｒ_rmsの関係
があることが好ましい。 磁性層厚味が薄くなると、自己減磁損失が低減して出力向上が図れるはずであ
るが、磁性層厚味低減により押されしろが少なくなるためにカレンダー成形性が 悪くなり、表面粗さが大きくなる。自己減磁損失低減による出力向上を図るため
には上式の関係を満たすＳＴＭによる表面粗さが好ましい。 【００４４】 ＡＦＭによるＲ_rmsは、１０ｎｍ以下が好ましい。３ｄ−ＭＩＲＡＵで測定し
た光干渉表面粗さＲａは１〜４ｎｍ、Ｒ_rmsは１．３〜６ｎｍ、Ｐ−Ｖ値（Ｐｅ
ａｋ−Ｖａｌｌｅｙ）値は、８０ｎｍ以下であることが好ましい。 磁性層表面の光沢度は、カレンダー処理後で２５０〜４００％が好ましい。 このような表面性を達成するには、例えば、本発明の条件内で更に以下の４つ
の条件の少なくとも１つをも満足することによって達成できる。 （１）下層非磁性層に含まれる非磁性粉末がモース硬度３以上の無機質粉末を含
み、上層磁性層に含まれる強磁性粉末が針状の強磁性粉末であり、前記無機質粉
末の平均粒径が針状の強磁性粉末の結晶子サイズの１／２〜４倍であること。 （２）下層非磁性層に含まれる非磁性粉末がモース硬度３以上の無機質粉末を含
み、上層磁性層に含まれる強磁性粉末が針状の強磁性粉末であり、前記無機質粉
末の平均粒径が針状の強磁性粉末の長軸長の１／３以下であること。 （３）上層磁性層に含まれる強磁性粉末が、磁化容易軸が平板の垂直方向にある
六角板状の強磁性粉末であり、且つ下層非磁性層に含まれる非磁性粉末が無機質
粉末を含み、その平均粒径が前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末の板径以下で
あること。 （４）下層非磁性層に含まれる無機質粉末が無機質酸化物で被覆された表面層を
有する無機質非磁性粉末を含むこと。 【００４５】 （１）〜（３）は、上層磁性層の強磁性粉末と下層非磁性層の無機質粉末のサ
イズ及び形状を限定して下層非磁性層の表面性を確保すると共に無機質粉末は強
磁性粉末を力学的に安定して整列させるサイズとしたものである。 また、又、無機質粉末の下層における体積充填率は好ましくは２０〜６０％、
更に好ましくは２５〜５５％の範囲であることが望ましい。 【００４６】 また、無機質粉末は、非磁性粉末のうち重量比率で６０％以上含むことが好ま しく、無機質粉末としては、金属酸化物、アルカリ土類金属塩等であることが好
ましい。また、カーボンブラックを添加することにより公知の効果（例えば、表
面電気抵抗を低減する）を期待できるので、上記無機質粉末と組み合わせて使用
することが好ましいが、カーボンは分散性が非常に悪いので、カーボン単独では
十分な電磁変換特性を確保することができない。良好な分散性を得るためには重
量比率で６０％以上を金属酸化物、金属、アルカリ土類金属塩から選択する必要
がある。無機質粉末が非磁性粉末の重量比率で６０％未満、カーボンブラックが
非磁性粉末の４０％以上であると分散性が不十分となり所望の電磁変換特性を得
ることができなくなる。 【００４７】 また、磁性層の厚味が長軸長の５倍以下であるとカレンダーによる充填度向上
がめざましく、より電磁変換特性の優れた磁気記録媒体が得られる。 次に（４）について説明する。 下層非磁性層に含まれる無機質粉末の表面に被覆される無機質酸化物としては
、好ましくはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、Ｚｎ
Ｏ等が好ましく、更に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。これら
は、組み合わせて使用してもよいし、単独で用いることもできる。又、目的に応
じて共沈させた表面処理槽を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその
表層をシリカで処理する構造、その逆の構造を取ることもできる。また、表面処
理層は、目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般に
は好ましい。 【００４８】 以下、本発明が選択可能な一般的事項について述べる。 本発明に使用できる無機質粉末は、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、
金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の非磁性無機質粉末が挙げ
られる。具体的にはＴｉＯ₂（ルチル、アナターゼ）、ＴｉＯ_x、酸化セリウム、
酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂、ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α化率９
０％以上のるαアルミナ、βアルミナ、γアルミナ、α酸化鉄、ゲータイト、コ
ランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化硼素、 ２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＢａＣＯ₃、ＳｒＣＯ₃、Ｂ
ａＳＯ₄、炭化珪素、炭化チタンなどが単独または組み合わせて使用される。こ
れら無機質粉末の形状、サイズ等は任意であり、これらは必要に応じて異なる無
機質粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布等を選択することも
できる。なお、この無機質粉末には、カーボンブラックは含まれない。 【００４９】 無機質粉末としては、次のものが好ましい。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｃ
ｃ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｃｃ。含水率は０．１〜５％、好ましくは０
．２〜３％。ｐＨは２〜１１、特に４〜１０が好ましい。比表面積は、１〜１０
０ｍ²／ｇ、好ましくは５〜７０ｍ²／ｇ、更に好ましくは７〜５０ｍ²／ｇであ
る。結晶子サイズは０．０１μｍ〜２μｍが好ましい。粒子サイズとしては、粒
状にあっては、平均粒径０．１μｍ以下、好ましくは０．０８以下であり、針状
にあっては長軸長０．０５〜１．０μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍ、針
状比５〜２０、好ましくは５〜１５の範囲から選択される。ＤＢＰを用いた吸油
量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好
ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。ＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜
２０μｍｏｌ／ｍ²、更に好ましくは２〜１５μｍｏｌ／ｍ²である。粉体表面の
ラフネスファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好ましくは２〜１５μｍ
ｏｌ／ｍ²である。２５℃での水への湿潤熱は２００ｅｒｇ／ｃｍ²〜６００ｅｒ
ｇ／ｃｍ²が好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することがで
きる。１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個／１００Åが適当で
ある。水中での等電点のｐＨは３〜９の間にあることが好ましい。比重は１〜１
２、好ましくは３〜６である。 【００５０】 上記の無機質粉末は必ずしも１００％純粋である必要はなく、目的に応じて表
面を他の化合物、例えば、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ等の各化
合物で処理し、それらの酸化物を表面に形成してもよい。その際、純度は７０％
以上であれば効果を減ずることにはならない。強熱減量は２０％以下であること
が好ましい。 【００５１】 本発明に用いられる無機質粉末の具体的な例としては、昭和電工社製ＵＡ５６
００、ＵＡ５６０５、住友化学社製ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０
、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、日本化学工業社製Ｇ５、Ｇ７、
Ｓ−１、戸田工業社製ＴＦ−１００、ＴＦ−１２０、ＴＦ−１４０、Ｒ５１６、
石原産業社製ＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５
Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＦＴ−１０００、ＦＴ
−２０００、ＦＴＬ−１００、ＦＴＬ−２００、Ｍ−１、Ｓ−１、ＳＮ−１００
、Ｒ−８２０、Ｒ−８３０、Ｒ−９３０、Ｒ−５５０、ＣＲ−５０、ＣＲ−８０
、Ｒ−６８０、ＴＹ−５０、チタン工業社製ＥＣＴ−５２、ＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴ
Ｔ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、三菱マテリアル社製Ｔ−１、日本
触媒社製ＮＳ−Ｏ、ＮＳ−３Ｙ、ＮＳ−８Ｙ、テイカ社製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ
−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００
Ｅ、堺化学社製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＢＦ−
１Ｌ、ＢＦ−１０Ｐ、同和工業社製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、チタン工
業社製Ｙ−ＬＯＰ及びそれを焼成した物である。 【００５２】 本発明に使用される非磁性無機質粉末としては、特に酸化チタン（特に二酸化
チタン）が好ましい。以下、この酸化チタンの製法を詳しく記す。酸化チタンの
製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫酸法は、イルミナイトの原鉱石を硫酸で蒸
留し、Ｔｉ、Ｆｅなとを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して除き、残
りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分解を行って、含水酸化チタンを沈
殿させる。これを濾過洗浄後、夾雑物質を洗浄除去し、粒径調節剤などを添加し
た後、８００〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナタ
ーゼ型は加水分解の時に添加される核材の種類によりわけられる。この粗酸化チ
タンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成する。塩素法は原鉱石天然ルチル
や合成ルチルが用いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ
₄にＦｅはＦｅＣｌ₂となり、冷却により固体となった酸化鉄は液体のＴｉＣｌ₄
と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ₄は精留により精製した後、核生成剤を添 加し、１０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを得る。
この酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方
法は硫酸法と同じである。 【００５３】 また、本発明は下層にカーボンブラックを使用することができ、公知の効果で
あるＲ_s（表面電気抵抗）等を下げることもできる。このカーボンブラックとし
てはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラッ
ク、等を用いることができる。比表面積は１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは
１５０〜４００、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３０
〜２００ｍｌ／１００ｇである。平均粒径は５ｍμ〜８０ｍμ、好ましくは１０
〜５０ｍμ、更に好ましくは１０〜４０ｍμである。ｐＨは２〜１０、含水率は
０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃが好ましい。 【００５４】 本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製、
ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８００、、
８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃３０５０、＃
３１５０、＃３２５０、＃３７５０、＃３９５０、＃２４００Ｂ、＃２３００、
＃１０００、、＃９７０、＃９５０、、＃９００、＃８５０、＃６５０、＃４０
、ＭＡ４０、ＭＡ−６００、コロンビアカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ Ｓ
Ｃ、ＲＡＶＥＮ社製８８００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５
００、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５０、アクゾ
ー社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。カーボンブラックを分散剤な
どで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても表面の一部をグラファイ
ト化したものを使用しても構わない。また、カーボンブラックを非磁性塗料に添
加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラッ
クは単独、または組み合わせて該無機質粉末に対し０．１〜３０％の範囲で使用
することができる。 【００５５】 本発明で使用できるカーボンブラックは、例えば（「カーボンブラック便覧」 、カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。 本発明に使用される非磁性有機質粉末は、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベン
ゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられ
るが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂
粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉末が使用される。その
製法は、特開昭６２−１８５６４号、同６０−２５５８２７号の各公報に記載さ
れているようなものが使用できる。 【００５６】 これらの非磁性粉末は、通常、結合剤に対して、重量比率で２０〜０．１、体
積比率で１０〜０．１の範囲で用いられる。 なお、一般の磁気記録媒体においては下塗層を設けることが行われているが、
これは支持体と磁性層等の接着力を向上させるために設けられるものであって、
厚さも０．５μｍ以下で本発明の下層非磁性層とは異なるものである。本発明に
おいても下層と支持体との接着性を向上させるために下塗層を設けることが好ま
しい。 【００５７】 本発明の磁性層に使用する強磁性粉末としては磁性酸化鉄ＦｅＯｘ（ｘ＝１．
３３〜１．５）、Ｃｏ変性ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、ＦｅまたはＮｉ
またはＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性合金粉末、バリウムフエライト
、ストロンチウムフエライトなど公知の強磁性粉末が使用できるが、強磁性合金
粉末が更に好ましい。。これらの強磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、
Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、
Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎ
ｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。
これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤
などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４４
−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６２号、特公
昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号
、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７２８ ４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１
０３０７号、特公昭４８−３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０
３１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号
などに記載されている。 【００５８】 上記強磁性粉末の中で強磁性合金粉末については少量の水酸化物、または酸化
物を含んでもよい。強磁性合金粉末の公知の製造方法により得られたものを用い
ることができ、下記の方法をあげることができる。複合有機酸塩（主としてシュ
ウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気
体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合
物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン
酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不
活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにして得られた
強磁性合金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させ
る方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成
したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整
して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いることができ
る。 【００５９】 本発明の上層磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ法による比表面積で表せば２５〜８
０ｍ²／ｇであり、好ましくは４０〜７０ｍ²／ｇである。２５ｍ²／ｇ以下では
ノイズが高くなり、８０ｍ²／ｇ以上では表面性が得にくく好ましくない。本発
明の上層磁性層の強磁性粉末の結晶子サイズは４５０〜１００Åであり、好まし
くは３５０〜１００Åである。酸化鉄磁性粉末のσ₅は５０ｅｍｕ／ｇ以上、好
ましくは７０ｅｍｕ／ｇ以上であり、強磁性金属粉末の場合は１００ｅｍｕ／ｇ
以上が好ましく、更に好ましくは１１０ｅｍｕ／ｇ〜１７０ｅｍｕ／ｇである。
抗磁力は１１００Ｏｅ以上、２５００Ｏｅ以下が好ましく、更に好ましくは１４
００Ｏｅ以上２０００Ｏｅ以下である。強磁性粉末の針状比は１８以下が好まし
く、更に好ましくは１２以下である。 【００６０】 強磁性粉末のｒ１５００は１．５以下であることが好ましい。さらに好ましく
はｒ１５００は１．０以下である。ｒ１５００とは磁気記録媒体を飽和磁化した
のち反対の向きに１５００Oeの磁場をかけたとき反転せずに残っている磁化量の
％を示すものである。 強磁性粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。結合剤の種類によ
って強磁性粉末の含水率は最適化するのが好ましい。γ酸化鉄のタップ密度は０
．５ｇ／ｃｃ以上が好ましく、０．８ｇ／ｃｃ以上がさらに好ましい。合金粉末
の場合は、０．２〜０．８ｇ／ｃｃが好ましく、０．８ｇ／ｃｃ以上に使用する
と強磁性粉末の圧密過程で酸化が進みやすく、充分な飽和磁化(σ_s)を得ること
が困難になる。０．２ｃｃ／ｇ以下では分散が不十分になりやすい。 【００６１】 γ酸化鉄を用いる場合、２価の鉄の３価の鉄に対する比は好ましくは０〜２０
％であり、さらに好ましくは５〜１０％である。また鉄原子に対するコバルト原
子の量は０〜１５％、好ましくは２〜８％である。 強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合せにより最適化することが好ましい
。その範囲は４〜１２であるが、好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は必要
に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわ
ない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸 などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ²以下になり好ましい。強磁性粉末には可
溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があるが、５
００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えない。 【００６２】 また、本発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値は
２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下である。また形状については先
に示した条件を満足するように針状、粒状、米粒状、板状等から選択される。強
磁性粉末のＳＦＤ０．６以下を達成するためには、強磁性粉末のＨｃの分布を小
さくする必要がある。そのためには、ゲータイトの粒度分布をよくする、γ−ヘ
マタイトの焼結を防止する、コバルト変性の酸化鉄についてはコバルトの被着速
度を従来より遅くするなどの方法がある。 【００６３】 本発明にはまた、磁化容易軸が平板の垂直方向にある六角板状の強磁性粉末と
して、板状六方晶フエライト等が例示され、バリウムフエライト、ストロンチウ
ムフエライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等
、六方晶Ｃｏ粉末が使用できる。具体的にはマグネトブランバイト型のバリウム
フェライト及びストロンチウムフェライト、更に一部スピネル相を含有したマグ
ネトブランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙
げられ、特に好ましいものとしてはバリウムフェライト、ストロンチウムフェラ
イトの各置換体である。また、抗磁力を制御するために上記六方晶フェライトに
Ｃｏ−Ｔｉ、ＣＯ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｉｒ−
Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。 【００６４】 バリウムフェライトを用いる場合、板径は六角板状の粒子の板の幅を意味し、
粒子長軸長に相当し、電子顕微鏡を使用して測定する。本発明ではこのを板径を
０．００１〜０．３μｍで、板厚を直径の１／２〜１／２０とするとよい。比表
面積（Ｓ_BET）は、１〜６０ｍ²／ｇが好ましく、比重は４〜６が好ましい。 本発明の下層非磁性層、上層磁性層に使用される結合剤としては従来公知の熱
可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑 系樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１００
０〜２０００００、好ましくは１００００〜１０００００、重合度が約５０〜１
０００程度のものである。このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビ
ニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデ
ン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタ
ジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等
を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹
脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフエノール樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、
アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリ
アミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエ
ステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシア
ネートの混合物等があげられる。 【００６５】 これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細
に記載されている。 また、公知の電子線硬化型樹脂を下層、または上層に使用することも可能であ
る。これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細に
記載されている。 【００６６】 以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニ
ル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹
脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体の群から選ばれる少なくとも
１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組合せ
たものがあげられる。 【００６７】 ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレ
タン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン
、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタ ンなど公知のものが使用できる。 ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るため
には必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ₁）（
ＯＭ₂）、−ＯＰ＝Ｏ（ＯＭ₁）（ＯＭ₂）、−ＮＲ₄Ｘ（ここで、Ｍ、Ｍ₁、Ｍ₂は
、Ｈ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、−ＮＲ₄、−ＮＨＲ₃を示し、Ｒはアルキル基もしくはＨ
を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）、ＯＨ、ＮＲ²、Ｎ⁺Ｒ³、（Ｒは炭化水素
基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮなどから選ばれる少なくとも一つ以上の極性基を
共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性
基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇで
ある。 【００６８】 塩化ビニル系共重合体としては、好ましくは、エポキシ基含有塩化ビニル系共
重合体が挙げられ、塩化ビニル繰返し単位と、エポキシ基を有する繰返し単位と
、所望により−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＣＯＯＭおよび−ＰＯ（ＯＭ）₂（以
上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属）等の極性基を有する繰返し単位と
を含む塩化ビニル系共重合体が挙げられる。エポキシ基を有する繰返し単位との
併用では、−ＳＯ₃Ｎａを有する繰返し単位を含むエポキシ基含有塩化ビニル系
共重合体が好ましい。 【００６９】 極性基を有する繰返し単位の共重合体中における含有率は、通常０．０１〜５
．０モル％（好ましくは、０．５〜３．０モル％）の範囲内にある。 エポキシ基を有する繰返し単位の共重合体中における含有率は、通常１．０〜
３０モル％（好ましくは１〜２０モル％）の範囲内にある。そして、塩化ビニル
系重合体は、塩化ビニル繰返し単位１モルに対して通常０．０１〜０．５モル（
好ましくは０．０１〜０．３モル）のエポキシ基を有する繰返し単位を含有する
ものである。 【００７０】 エポキシ基を有する繰返し単位の含有率が１モル％より低いか、あるいは塩化
ビニル繰返し単位１モルに対するエポキシ基を有する繰返し単位の量が０．０１ モルより少ないと塩化ビニル系共重合体からの塩酸ガスの放出を有効に防止する
ことができないことがあり、一方、３０モル％より高いか、あるいは塩化ビニル
繰返し単位１モルに対するエポキシ基を有する繰返し単位の量が０．５モルより
多いと塩化ビニル系共重合体の硬度が低くなることがあり、これを用いた場合に
は磁性層の走行耐久性が低下することがある。 【００７１】 また、特定の極性基を有する繰返し単位の含有率が０．０１モル％より少ない
と強磁性粉末の分散性が不充分となることがあり、５．０モル％より多いと共重
合体が吸湿性を有するようになり耐候性が低下することがある。 通常、このような塩化ビニル系共重合体の数平均分子量は、１．５万〜６万の
範囲内にある。 【００７２】 このようなエポキシ基と特定の極性基を有する塩化ビニル系共重合体は、例え
ば、次のようにして製造することができる。 例えばエポキシ基と、極性基として−ＳＯ₃Ｎとが導入されている塩化ビニル
系共重合体を製造する場合には、反応性二重結合と、極性基として−ＳＯ₃Ｎａ
とを有する２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸ナトリ
ウム（反応性二重結合と極性基とを有する単量体）およびジグリシジルアクリレ
ートを低温で混合し、これと塩化ビニルとを加圧下に、１００℃以下の温度で重
合させることにより製造することができる。 【００７３】 上記の方法による極性基の導入に使用される反応性二重結合と極性基とを有す
る単量体の例としては、上記の２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパ
ンスルホン酸ナトリウムの外に２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパ
ンスルホン酸、ビニルスルホン酸およびそのナトリウムあるいはカリウム塩、（
メタ）アクリル酸−２−スルホン酸エチルおよびナトリウムあるいはカリウム塩
、（無水）マレイン酸および（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸−２−リ
ン酸エステルを挙げることができる。 【００７４】 また、エポキシ基の導入には、反応性二重結合とエポキシ基とを有する単量体
として一般にグリシジル（メタ）アクリレートを用いる。 なお、上記の製造法の外に、例えば、塩化ビニルとビニルアルコールなどとの
重合反応により多官能−ＯＨを有する塩化ビニル系共重合体を製造し、この共重
合体と、以下に記載する極性基および塩素原子を含有する化合物とを反応（脱塩
酸反応）させて共重合体に極性基を導入する方法を利用することができる。 【００７５】 ＣｌＣＨ₂ＣＨ₂ＳＯ₃Ｍ、 ＣｌＣＨ₂ＣＨ₂ＯＳＯ₃Ｍ、 ＣｌＣＨ₂ＣＯＯＭ、 ＣｌＣＨ₂ＰＯ（ＯＭ）₂ また、この脱塩酸反応を利用するエポキシ基の導入には通常はエピクロルヒド
リンを用いる。 【００７６】 なお、該塩化ビニル系共重合体は、他の単量体を含むものであってもよい。他
の単量体の例としては、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル、イソブチ
ルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル）、α−モノオレフィン（例、エチ
レン、プロピレン）、アクリル酸エステル（例、（メタ）アクリル酸メチル、ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基を含有する（メタ）アクリル酸
エステル）、不飽和ニトリル（例、（メタ）アクリロニトリル）、芳香族ビニル
（例、スチレン、α−メチルスチレン）、ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プ
ロピオン酸ビニル等）が例示される。 【００７７】 本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはユニオンカーバイト
社製：ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥ
Ｓ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ
、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製：ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ− ＴＡＯ、電気化学社製：１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３
、１００ＦＤ、日本ゼオン社製：ＭＲ１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、４００
Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレタン社製：ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２
３０４、大日本インキ社製：パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−
５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７
２０９、東洋紡社製：バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ８６００、Ｕ
Ｒ５５００、ＵＲ４３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製：ダイフエ
ラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２
０、三菱化成社製：ＭＸ５００４、三洋化成社製：サンプレンＳＰ−１５０、旭
化成社製：サランＦ３１０、Ｆ２１０などがあげられる。 【００７８】 本発明の上層磁性層に用いられる結合剤は強磁性粉末に対し、５〜５０重量％
の範囲、好ましくは１０〜３５重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を
用いる場合は、５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０重量
％、ポリイソシアネートは２〜２０重量％の範囲でこれらを組合せて用いるのが
好ましい。 【００７９】 本発明の下層非磁性層に用いられる結合剤は、非磁性粉末に対し、合計で５〜
５０重量％の範囲、好ましくは１０〜３５重量％の範囲で用いられる。また、塩
化ビニル系樹脂を用いる場合は、３〜３０重量％、ポリウレタン樹脂を用いる場
合は３〜３０重量％、ポリイソシアネートは０〜２０重量％の範囲でこれらを組
合せて用いるのが好ましい。 【００８０】 また、本発明において分子量３万以上のエポキシ基含有樹脂を非磁性粉末に対
し３〜３０重量％使用する場合は、エポキシ基含有樹脂以外の樹脂を非磁性粉末
に対し３〜３０重量％使用でき、ポリウレタン樹脂を用いる場合は、３〜３０重
量％、ポリイソシアネートは０〜２０重量％使用できるが、エポキシ基は結合剤
（硬化剤を含む）全重量に対し、４×１０^-5〜１６×１０^-4ｅｑ／ｇの範囲で含
まれることが好ましい。 【００８１】 本発明において、ポリウレタン樹脂を用いる場合はガラス転移温度が−５０〜
１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃ
ｍ²、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ²が好ましい。 本発明の磁気記録媒体は基本的には二層からなるが、三層以上であってもよい
。三層以上の構成としては、上層磁性層を２層以上の複数の磁性層することであ
る。この場合、最上層の磁性層と下層磁性層との関係は通常の複数の磁性層の考
え方が適用できる。例えば、最上層の磁性層の方が下層磁性層よりも、抗磁力が
高く、平均長軸長や結晶子サイズの小さい強磁性粉末を用いるなどの考え方が適
用できる。又、下層非磁性層を複数の非磁性層で形成してもかまわない。しかし
、大きく分類すれば、上層磁性層、下層非磁性層という構成である。 【００８２】 従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、
ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の
分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ下層と
上層磁性層とで変えることはもちろん可能である。 本発明に用いるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４
−４′−ジフエニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート
、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−
トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフエニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類と
ポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポ
リイソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販
されている商品名としては、日本ポリウレタン社製：コロネートＬ、コロネート
ＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネ
ートＭＴＬ、武田薬品社製：タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、
タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製：デスモジュ
ールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ等があり
、これらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せ で下層非磁性層、上層磁性層ともに用いることができる。 【００８３】 本発明の上層磁性層に使用されるカーボンブラックはゴム用フアーネス、ゴム
用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができる
。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ
、粒子径は５ｍμ〜３００ｍμ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タ
ップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃが好ましい。本発明に用いられるカーボンブラッ
クの具体的な例としてはキャボット社製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、
１３００、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭
カーボン社製：♯８０、♯６０、♯５５、♯５０、♯３５、三菱化成工業社製：
♯２４００Ｂ、♯２３００、♯９００、♯１０００、♯３０、♯４０、♯１０Ｂ
、コンロンビアカーボン社製：ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０
、５０，４０，１５などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処
理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラフアイト化した
ものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前
にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単独
、または組合せで使用することができる。カーボンブラックを使用する場合は強
磁性粉末に対する量の０．１〜３０％で用いることが好ましい。カーボンブラッ
クは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあ
り、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用される
これらのカーボンブラックは下層、上層でその種類、量、組合せを変え、粒子サ
イズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い
分けることはもちろん可能である。本発明の上層で使用できるカーボンブラック
は例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にするこ
とができる。 【００８４】 本発明の上層磁性層に用いられる研磨剤としてはα化率９０％以上のα−アル
ミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コ
ランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チ タン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモース硬度６以上の公知の材料が
単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤
を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成
分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば
効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましい
が、必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組合せたり、単独の研磨剤でも粒
径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。タップ密度は０．３〜２
ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ²／
ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、
のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。 【００８５】 本発明に用いられる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製：ＡＫＰ−２
０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５０、日本化学工業社製：Ｇ５，Ｇ
７，Ｓ−１、戸田工業社製：ＴＦ−１００、ＴＦ−１４０、１００ＥＤ、１４０
ＥＤなどがあげられる。本発明に用いられる研磨剤は下層、上層で種類、量およ
び組合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。これらの
研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわな
い。 【００８６】 本発明の上層磁性層に使用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、
分散効果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化
タングステン、グラフアイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極
性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素
含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフイン、ポリグリコール、アル
キル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびその
アルカリ金属塩、ポリフエニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよ
びそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含ん
でも、また分岐していてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ，Ｎａ
，Ｋ，Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、 六価アルコール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭
素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（
不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含
んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたは
ジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノ
アルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８
〜２２の脂肪族アミン、などが使用できる。これらの具体例としてはラウリン酸
、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル
、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル
、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ス
テアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒド
ロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート、オレイ
ルアルコール、ラウリルアルコール、があげられる。 【００８７】 また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフ
エノールエチレンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エ
ステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホス
ホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スル
フォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含むアニオ
ン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸また
は燐酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる。
これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）
に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純
粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、等の
不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０％以下である。 【００８８】 本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は下層非磁性層、上層磁性層 でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、下層非磁性層、
上層磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点や
極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を
調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を下層非磁性層で多
くして潤滑効果を向上させるなどが考えられ、無論ここに示した例のみに限られ
るものではない。 【００８９】 また本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性塗料製造のど
の工程で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場
合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加
する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。本発明
で使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社製：ＮＡＡ−１０２，
ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−
１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡ
Ａ−１７１，ＮＡＡ−１２２，ＮＡＡ−１４２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１７
３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸，ＮＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４，カチオンＳＡ，カチオ
ンＭＡ，カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナイミーンＬ−２０１，ナイミーンＬ−
２０２，ナイミーンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０８，ノ
ニオンＳ−２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ
−２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオン
Ｓ−４，ノニオンＯ−２，ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニ
オンＳＰ−６０Ｒ，ノニオンＯＰ−８０Ｒ，ノニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬ
Ｔ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノ
ニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレート，ブチルラウ
レート，エルカ酸、関東化学社製・オレイン酸、竹本油脂社製：ＦＡＬ−２０５
，ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジエルブＬＯ，エヌジョルブＩＰＭ，
サンソサイザーＥ４０３０、信越化学社製：ＴＡ−３，ＫＦ−９６，ＫＦ−９６
Ｌ，ＫＦ−９６Ｈ，ＫＦ４１０，ＫＦ４２０，ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０
，ＫＦ５６，ＫＦ−９０７，ＫＦ−８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２ ２，ＫＦ−９０５，ＫＦ−７００，ＫＦ−３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０
，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０
３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５
、ライオンアーマー社製：アーマイドＰ，アーマイドＣ，アーモスリップＣＰ、
ライオン油脂社製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成
社製：プロフアン２０１２Ｅ，ニューポールＰＥ６１，イオネットＭＳ−４００
，イオネットＭＯ−２００，イオネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−３００
，イオネットＤＳ−１０００，イオネットＤＯ−２００などがあげられる。 【００９０】 本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン
、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール
、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル
、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコール
ジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、などのグリコ
ールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン
、などの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化
炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン、等の塩素化
炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。
これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。こ
れらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さらに好ましくは１０重量％以下で
ある。本発明で用いる有機溶媒は必要ならば上層と下層でその種類は同じである
ことが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。下層に表面張力の高い溶媒
（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性をあげる、具体的に
は上層溶剤組成の算術平均値が下層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝
要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、下層
非磁性層と上層磁性層の塗布液に用いた溶剤がいずれも溶解パラメーターが８〜 １１であり、２０℃での誘電率が１５以上の溶剤が１５％以上含まれることが好
ましい。 【００９１】 本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性支持体が１〜１００μｍ、好ましく
は４〜８０μｍ、下層が０．５〜１０μｍ、好ましくは１〜５μｍ、上層は０．
０５μｍ以上１．０μｍ以下、好ましくは０．０５μｍ以上０．６μｍ以下、さ
らに好ましくは０．０５μｍ以上、０．３μｍ以下である。上層と下層を合わせ
た厚みは非磁性支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられる。また、非
磁性支持体と下層の間に密着性向上のための下塗り層を設けてもかまわない。こ
れらの厚みは０．０１〜２μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍである。また
、非磁性支持体の磁性層側と反対側にバックコート層を設けてもかまわない。こ
の厚みは０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これらの下塗
り層、バックコート層は公知のものが使用できる。 【００９２】 本発明に用いられる非磁性支持体はポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレフイン類、セルローストリアセ
テート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
スルフオン、アラミド、芳香族ポリアミドなどの公知のフイルムが使用できる。
これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱
処理、除塵処理、などをおこなっても良い。本発明の目的を達成するには、非磁
性支持体として中心線平均表面粗さが０．０３μｍ以下、好ましくは０．０２μ
ｍ以下、さらに好ましくは０．０１μｍ以下のものを使用する必要がある。また
、これらの非磁性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、１μ
以上の粗大突起がないことが好ましい。また、表面の粗さ形状は、必要に応じて
支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロールされるもの
である。これらのフィラーとしては一例としてはＣａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物
や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末が挙げられる。 【００９３】 また、非磁性支持体のテープ走行方向のＦ−５値は、好ましくは５〜５０Ｋｇ ／ｍｍ²、テープ幅方向のＦ−５値は、好ましくは３〜３０Ｋｇ／ｍｍ²であり、
テープ長手方向のＦ−５値がテープ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的である
が、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りではない。 また、非磁性支持体のテープ走行方向および幅方向の１００℃３０分での熱収
縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での
熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強
度は両方向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ²、弾性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²
が好ましい。 【００９４】 本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分
散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個
々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する
強磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個
々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレ
タンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入
してもよい。 【００９５】 本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として
用いることができることはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加圧ニ
ーダなど強い混練力をもつものを使用することにより本発明の磁気記録媒体の高
いＢｒを得ることができる。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁性
粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０重量％以上が好ま
しい）および強磁性粉末１００部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される
。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号、特開昭６４−
７９２７４号に記載されている。また、下層非磁性層液を調製する場合には高比
重の分散メディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズ、金属ビーズが好
適である。 【００９６】 本発明では、特開昭６２−２１２９３３号に示されるような同時重層塗布方式
を用いることにより、より効率的に生産することができる。本発明のような重層
構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案で
きる。 １．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード
塗布、エクストルージョン塗布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウエッ
ト状態のうちに特公平１−４６１８６号や特開昭６０−２３８１７９号、特開平
２−２６５６７２号に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置
により上層を塗布する。 ２．特開昭６３−８８０８０号、特開平２−１７９２１号、特開平２−２６５６
７２号に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上層及び下層をほぼ同時に塗布する。 ３．特開平２−１７４９６５号に開示されているバックアップロール付きエキス
トルージョン塗布装置により上層及び下層をほぼ同時に塗布する。 なお、強磁性粉末の凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止する
ため、特開昭６２−９５１７４号や特開平１−２３６９６８号に開示されている
ような方法により塗布ヘッド内部の塗布液に剪断を付与することが望ましい。さ
らに、塗布液の粘度については、特願平１−３１２６５９号に開示されている数
値範囲を満足することが好ましい。 【００９７】 本発明の磁気記録媒体の製造方法では、上記の下層用塗布液を湿潤状態で重畳
して塗布する、所謂ウェット・オン・ウェット塗布方式によって、非磁性支持体
上に設ける。 本発明で下層と上層を設けるに用いるウェット・オン・ウェット塗布方式とは
、初め一層を塗布した後に湿潤状態で可及的速やかに次の層をその上に塗布する
所謂逐次塗布方法、及び多層同時にエクストルージョン塗布方式で塗布する方法
等をいう。 【００９８】 ウェット・オン・ウェット塗布方式としては、特開昭６１−１３９９２９号公 報に示した磁気記録媒体塗布方法が使用できる。 本発明の媒体を得るためには強力な配向を行う必要がある。１０００Ｇ（ガウ
ス）以上のソレノイドと２０００Ｇ以上のコバルト磁石を併用することが好まし
く、さらには乾燥後の配向性が最も高くなるように配向前に予め適度の乾燥工程
を設けることが好ましい。また、ディスク媒体として、本発明を適用する場合は
むしろ配向をランダマイズするような配向法が必要である。 【００９９】 さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリ
イミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロールを使用する。また、金属ロー
ル同志で処理することもできる。処理温度は、好ましくは７０℃以上、さらに好
ましくは８０℃以上である。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ま
しくは３００ｋｇ／ｃｍ以上、その速度は２０ｍ／分〜７００ｍ／分の範囲であ
る。本発明の効果は８０℃以上の温度で３００ｋｇ／ｃｍ以上の線圧でより一層
効果を上げることができる。 本発明の磁気記録媒体の上層およびその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦
係数は好ましくは０．５以下、さらに０．３以下、磁性層表面固有抵抗は１０⁴
〜１０¹¹オーム／ｓｑ、下層を単独で塗布した場合の表面固有抵抗は１０⁴〜１
０⁸オーム／ｓｑ、バック層の表面電気抵抗は１０³〜１０⁹オームが好ましい。 【０１００】 上層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは３００〜２
０００Ｋｇ／ｍｍ²、破断強度は好ましくは２〜３０Ｋｇ／ｃｍ²、磁気記録媒体
の弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ²、残
留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は
好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは０．
１％以下である。 【０１０１】 上層、下層が有する空隙率は、ともに好ましくは３０容量％以下、さらに好ま
しくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ま しいが、目的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返
し用途が重視されるデータ記録用磁気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久
性は好ましいことが多い。これらの値を目的に応じた適当な範囲に設定すること
は容易に実施できることである。 【０１０２】 本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５ＫＯｅで測定した場合、テープ走行
方向の角形比は０．７０以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好ましくは
０．９０以上である。テープ走行方向に直角な二つの方向の角型比は走行方向の
角型比の８０％以下となることが好ましい。磁性層のＳＦＤは０．６以下である
ことが好ましい。 【０１０３】 本発明の磁気記録媒体は、下層と上層を有するが、目的に応じ下層と上層でこ
れらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば
、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を
磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当たりを良くするなどである。 本発明の磁気記録媒体は、以下の物性値の範囲が好ましい。 【０１０４】 本発明の磁気記録媒体を引張り試験試験機で測定したヤング率が４００〜５０
００Ｋｇ／ｍｍ²、好ましくは、７００〜４０００Ｋｇ／ｍｍ²であり、前記磁性
層のヤング率が４００〜５０００Ｋｇ／ｍｍ²、好ましくは７００〜４０００Ｋ
ｇ／ｍｍ²、降伏応力は３〜２０Ｋｇ／ｍｍ²、好ましくは３〜１５Ｋｇ／ｍｍ²
、降伏伸びが０．２〜８％、０．４〜５％であることが望ましい。 【０１０５】 これは、強磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、無機質粉末、支持体が係わ
ってくるので、耐久性に影響する。 又、本発明の磁気記録媒体の曲げ剛性（円環式スティフネス）は全厚が１１．
５μｍより厚い場合は好ましくは４０〜３００ｍｇ全厚が１０．５±１μｍでは
好ましくは２０〜９０ｍｇ又全厚が９．５μｍより薄い場合は好ましくは１０〜
７０ｍｇである。 【０１０６】 これは、主として支持体に関連するもので耐久性を確保する上で重要である。 また、本発明磁気記録媒体の２３℃、７０％ＲＨで測定したクラック発生伸度
が好ましくは２０％以下が望ましい。 また、本発明磁気記録媒体をＸ線光電子分光装置を用いて測定した前記磁性層
表面のＣｌ／Ｆｅスペクトルαが好ましくは０．３〜０．６、Ｎ／Ｆｅスペクト
ルβが好ましくは０．０３〜０．１２である。 【０１０７】 これは、強磁性粉末、無機質粉末及び結合剤と関連し、耐久性を得る上で重要
である。 また、本発明磁気記録媒体を動的粘弾性測定装置を用いて測定した前記磁性層
のガラス転移温度Ｔｇ（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極
大点）が好ましくは４０〜１２０℃であり、弾性率Ｅ′（５０℃）が好ましくは
０．８×１０¹¹〜１１×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であり、損失弾性率Ｅ′′（５
０℃）が好ましくは０．５×１０¹¹〜８×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であることが
望ましい。また損失正接は、０．２以下であることが好ましい。損失正接が大き
すぎると粘着故障が出やすい。これらは、バインダー、カーボンブラック、や溶
剤と関連し、耐久性に関連する重要な特性である。 【０１０８】 また、前記非磁性支持体と前記磁性層との２３℃、７０％ＲＨでの８ｍｍ幅テ
ープの１８０°密着強度が好ましくは１０ｇ以上であることが望ましい。 また、上層磁性層表面の２３℃、７０％ＲＨの鋼球磨耗が好ましくは０．７×
１０^-7〜５×１０^-7ｍ³であることが望ましい。これは、直接に磁性層表面の磨
耗を見るもので主に強磁性粉末に関連する耐久性の尺度である。 【０１０９】 又、本発明磁気記録媒体をＳＥＭ（電子顕微鏡）で倍率５００００倍で５枚撮
影した前記磁性層表面の研磨剤の目視での数が好ましくは０．１個／μｍ²以上
であることが望ましい。又、本発明の磁気記録媒体の上層磁性層端面に存在する
研磨剤は５個／１００μｍ²以上が好ましい。これらは、磁性層の研磨剤と結合 剤により影響を受け、耐久性に効果を発揮する尺度である。 【０１１０】 また、本発明磁気記録媒体をガスクロマトグラフィーを用いて測定した前記磁
気記録媒体の残留溶剤が好ましくは５０ｍｇ／ｍ²以下であることが望ましい。 又、上層中に含まれる残留溶媒は好ましくは５０ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ま
しくは１０ｍｇ／ｍ²以下であり、上層に含まれる残留溶媒が下層に含まれる残
留溶媒より少ないほうが好ましい。 【０１１１】 また、本発明磁気記録媒体よりＴＨＦを用いて抽出された可溶性固形分の磁性
層重量に対する比率であるゾル分率が１５％以下であることが望ましい。これは
、強磁性粉末と結合剤により影響を受けるもので、耐久性の尺度となる。 【０１１２】 【実施例】 以下、本発明の具体的実施例を説明するが、本発明は、これに限定されるもの
ではない。尚、「部」は重量部を意味する。 基本処方 下層非磁性層 無機質粉末 ＴｉＯ₂ ８０部 平均粒径 ０．０３５μｍ 結晶系 ルチル ＴｉＯ₂含有量 ９０％以上 ＢＥＴ法による比表面積 ４０ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量 ２７〜３８ｇ／１００ｇ ｐＨ ７ カーボンブラック ２０部 平均粒径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ²／ｇ 揮発分 １．５％ 塩化ビニル共重合体（ＭＲ−１１０） １２部 −ＳＯ₃Ｎａ基 ５×１０^-6ｅｑ／ｇ含む エポキシ基（モノマー単位で３．５重量％） 重合度 ３５０ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ２００部 上層磁性層：下記各実施例に共通 強磁性合金粉末 組成（％）Ｆｅ：Ｎｉ：Ｃｏ＝９３：３：３ １００部 Ｈｃ １６００Ｏｅ 比表面積 ５８ｍ²／ｇ 結晶子サイズ １７０Å 粒子サイズ（長軸長）０．１８μｍ、針状比 ８ 飽和磁化(σ_s)：１２５ｅｍｕ／ｇ 塩化ビニル系共重合体（ＭＲ−１１０） １２部 −ＳＯ₃Ｎａ基 ５×１０^-6ｅｑ／ｇ含有 エポキシ基（モノマー単位で３．５重量％） 重合度 ３５０ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ ＝ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 α−アルミナ（平均粒径 ０．３μｍ） ５部 カーボンブラック（平均粒径 ０．１０μｍ） ０．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン ２００部 上記２つの塗料のそれぞれについて、各成分を連続ニーダーで混練した後、サ
ンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリイソシアネートを下層非磁
性層の塗布液には１部、上層磁性層の塗布液には３部を加え、さらにそれぞれに
酢酸ブチル４０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し
、下層非磁性層用及び上層磁性層用の塗布液をそれぞれ調製した。 【０１１３】 得られた下層非磁性層塗布液を乾燥後の厚さが２μｍになるように更にその直
後にその上に上層磁性層の厚さが０．２μｍになるように、厚さ７μｍで中心平
均表面粗さが０．０１μｍのポリエチレンテレフタレート支持体上に同時重層塗
布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに３０００ガウスの磁力をもつコバル
ト磁石と１５００ガウスの磁力をもつソレノイドにより配向させ、乾燥後、金属
ロールのみから構成される７段のカレンダーで温度９０℃にて処理を行い、８ｍ
ｍの幅にスリットし、ビデオテープを製造した。 【０１１４】 実施例１ 基本処方に対して無機質粉末の表面処理剤としてフェニルホスホン酸を２．４
部、無機質粉末、結合剤と同時に添加した。これは、使用粉末の比表面積に対し
て３μｍｏｌ／ｍ²に当たる量である。ステアリン酸は後で添加した（このよう
な添加順序によったものを、以下では「本発明に従い」という）。 実施例２ 基本処方に対して無機質粉末の表面処理剤として下記化９に示されるエポキシ
基含有化合物４．８部を本発明に従い添加した。これは、使用粉末の比表面積に
対して３μｍｏｌ／ｍ²に当たる量である。 【０１１５】 【化９】 【０１１６】 実施例３ 基本処方に対して無機質粉末の表面処理剤としてシランカップリング剤のγ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシランを３０部、本発明に従い添加した。こ
れは、使用粉末の比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ²に当たる量である。 実施例４ 基本処方の下層の無機質粉末を以下のαＦｅ₂Ｏ₃に変更 αＦｅ₂Ｏ₃ ８０部 平均粒径 ０．０３μｍ ＢＥＴ法による比表面積 ３５ｍ²／ｇ また、フェニルホスホン酸を２．１部、本発明に従い添加した。これは使用粉
末の比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ²に当たる量である。 【０１１７】 実施例５ 基本処方の下層の無機質粉末を以下のＢａＳＯ₄に変更 ＢａＳＯ₄ ８０部 平均粒径 ０．０４μｍ ＢＥＴ法による比表面積 ５０ｍ²／ｇ また、フェニルホスホン酸を３．０部、本発明に従い添加した。これは使用粉
末の比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ²に当たる量である。 【０１１８】 実施例６ 基本処方の下層の無機質粉末を以下のＴｉＯ₂に変更 ＴｉＯ₂ ８０部 平均粒径 ０．０８μｍ ＢＥＴ法による比表面積 １６ｍ²／ｇ また、フェニルホスホン酸を５．５部、本発明に従い添加した。これは使用粉
末の比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ²に当たる量である。 【０１１９】 実施例７ 基本処方に対して無機質粉末の表面処理剤としてフェニルホスホン酸を２．４
部、本発明に従い添加した。これは、使用粉末の比表面積に対して３μｍｏｌ／
ｍ²に当たる量である。また、上層磁性層の厚味を０．８μｍにした。 実施例８ 基本処方に対して無機質粉末の表面処理剤としてフェニルホスホン酸を０．４
部、本発明に従い添加した。これは、使用粉末の比表面積に対して３μｍｏｌ／
ｍ²に当たる量である。 【０１２０】 実施例９ 基本処方に対して無機質粉末の表面処理剤としてフェニルホスホン酸を２０部
、本発明に従い添加した。これは使用粉末の比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ²
に当たる量である。 比較例１ 下層のＴｉＯ₂を使用せず、下記の処方を使用した。 【０１２１】 カーボンブラック ５０部 平均一次粒子径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ²／ｇ 揮発分 １．５％ 塩化ビニル共重合体（ＭＲ−１１０） １８部 −ＳＯ₃Ｎａ基 ５×１０^-6ｅｑ／ｇ含む エポキシ基（モノマー単位で６．５重量％） 重合度 ３５０ ポリエステルポリウレタン樹脂 ７部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ２００部 比較例２ 実施例１の処方と同様であるが塗布方式が乾燥後塗布する逐次方式であって、
表２では塗布方式においてこれを「逐次塗布」と表している。 【０１２２】 比較例４ 基本処方どうりである。 【０１２３】 比較例６ 基本処方に対して下層無機質粉末分散剤としてラウリン酸を２．４部添加した
。これは使用粉末の比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ²に当たる量である。 【０１２４】 【０１２５】 比較例９ 基本処方に対して下層無機質粉末分散剤としてフェニルホスホン酸を２．４部
添加した。これは使用粉末の比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ²に当たる量であ
る。また、磁性層の厚味を１．５μｍにした。 【０１２６】 得られた試料を下記により評価し、その結果を表１、２に示す。 評価方法 中心平均表面粗さ：三次元表面粗さ計（小坂研究所製）を用い、カットオフ０
．２５ｍｍで測定した。 Ｃ／Ｎ：富士写真フィルム社製ＦＵＪＩＸ８ ８ｍｍビデオテープを用いて７
ＭＨｚの信号を記録し、この信号を再生したときの６ＭＨｚで発生するノイズを
スペクトロアナライザー（ＨＰ製）で測定し、このノイズに対する再生信号の比
を測定した。 【０１２７】 ジッター：各試料のジッターの値をジッターメーターにより測定した。 μ値：２３℃、ＲＨ７０％において、試料とステンレスポール（ＳＵＳ４２０
Ｊ：ポール表面粗さＲａ ０．０６〜０．０８μｍ；接触式粗さ計ｃｕｔｏｆｆ
ｏ、２５μで測定）とを２０ｇの張力（Ｔ₁）で接触（巻きつけ角 １８０°）
させて案内部材を介して試料を水平としてロードセルに保持し、この条件下で、
試料を１４ｍｍ／秒の速度で水平方向に走行させるのに必要な張力（Ｔ₂）を測
定した。この測定値をもとに下記の計算式により摩擦係数μ値を求めた。 【０１２８】 μ＝（１／π）・１ｎ（Ｔ₂／Ｔ₁） 【０１２９】 【表１】 【０１３０】 【表２】 【０１３１】 上表より上記実施例を総括すれば下記の通りである。 実施例１〜５：下層無機質粉末の表面処理剤による分散性の向上により表面平
滑性が向上し、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性も向上した。また下層無機質粉末に強く
表面処理剤である有機化合物が吸着するため、潤滑剤である脂肪酸、即ちステア
リン酸の無機質粉末への吸着を防ぎ脂肪酸を有効に活用しておりジッター、走行
性が向上した。 【０１３２】 実施例６：実施例１より無機質粉末の平均粒径が大きいが０．０８程度では表
面粗さ、電磁変換特性に対して大きな低下はない。 実施例７：実施例１より磁性層が厚いが０．８程度では電磁変換特性の低下は
あまりない。 実施例８：実施例１より表面処理剤の量が多いが多少充填度の関係で電磁変換
特性が低下したが、効果は充分である。 【０１３３】 実施例９：実施例１より表面処理剤の量が少ないので分散性の低下により表面
粗さなどが低下したが効果は充分である。 比較例１：下層が無機質粉末を含まないので可撓性におとりヘッド当たりなど
の低下及び塗布時の下層の表面性の低下による磁性層の表面性劣化により、電磁
変換特性の低下をまねいた。 【０１３４】 比較例２：逐次塗布により面性が低下し、電磁変換特性の低下を招いた。 比較例４：下層無機質粉末が微粒子により凝集しやすくなり表面性の低下によ
る電磁変換特性の低下及び潤滑剤が粉末に吸着することにより潤滑効果が充分で
なく、ジッターなども低下した。 【０１３５】 比較例６：表面処理剤のラウリン酸は潤滑剤としていれたステアリン酸により
交換吸着され、分散性及び走行性も低下した。 【０１３６】 比較例９：磁性層が厚かったために厚味損失により電磁変換特性が低下した。 実施例１０ 非磁性支持体としてポリエチレンテレフタレート（厚味１０μｍ、Ｆ５値：Ｍ
Ｄ方向 ２０Ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ方向 １４Ｋｇ／ｍｍ²、ヤング率：ＭＤ方向
７５０Ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ方向 ４７０Ｋｇ／ｍｍ²）又はポリエチレンテレナフ
タレート（厚味 ７μｍ、Ｆ５値：ＭＤ方向 ２２Ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ方向 １
８Ｋｇ／ｍｍ²、ヤング率：ＭＤ方向 ７５０Ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ方向 ７５０Ｋ
ｇ／ｍｍ²）を用い、その上に以下の処方でディスパ攪拌機で１２時間攪拌して
下塗液を調製した。 【０１３７】 ポリエステル樹脂（−ＳＯ₃Ｎａ基含有） １００部 Ｔｇ ６５℃ Ｎａ含量 ４６００ｐｐｍ シクロヘキサノン ９９００部 得られた下塗液を用いてバーコートにより前記非磁性支持体上に乾燥厚味 ０
．１μｍで塗布した。 【０１３８】 一方、以下の処方で上層磁性層用塗布液及び下層非磁性層用塗布液を調製した
。 上層磁性層用塗布液処方 強磁性粉末：Ｆｅ合金粉末（Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ） １００部 組成；Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｏ：Ｎｉ＝９２：６：２ 焼結防止剤としてＡｌ₂Ｏ₃を使用 Ｈｃ １６００Oe、σs １１９ｅｍｕ／ｇ 長軸長 ０．１３μｍ，針状比 ７ 結晶子サイズ １７２Å、含水率 ０．６重量％ 塩化ビニル共重合体 １３部 −ＳＯ₃Ｎａ ８×１０^-5ｅｑ／ｇ、−ＯＨ、エポキシ基含有 Ｔｇ ７１℃、重合度 ３００、数平均分子量（Ｍｎ）１２０００ 重量平均分子量（Ｍｗ）３８０００ ポリウレタン樹脂 ５部 −ＳＯ₃Ｎａ ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有 −ＯＨ ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有 Ｔｇ ３８℃、Ｍｗ ５００００ αアルミナ（平均粒径０．１５μｍ） １２部 Ｓ_BET８．７ｍ²／ｇ、ｐＨ ８．２、含水率 ０．０６重量％ シクロヘキサノン １５０部 メチルエチルケトン １５０部 上記組成物をサンドミル中で６時間混合分散したのち、ポリイソシアネート（
コロネートＬ）及びオレイン酸 ５部、ステアリン酸７部、ステアリン酸ブチル
１５部を加えて上層磁性層用塗布液を得た。 【０１３９】 下層非磁性層用塗布液処方 ＴｉＯ₂ ８５部 平均粒径 ０．０３５μｍ 結晶系 ルチル ＴｉＯ₂含有量 ９０％以上 表面処理剤 Ａｌ₂Ｏ₃ Ｓ_BET ３５〜４５ｍ²／ｇ 真比重 ４．１ ｐＨ ６．５〜８．０ カーボンブラック ５部 平均粒径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．０ Ｓ_BET ２５０ｍ²／ｇ 着色力 １４３％ 塩化ビニル共重合体 １３部 −ＳＯ₃Ｎａ ８×１０^-5ｅｑ／ｇ、−ＯＨ、エポキシ基含有 Ｔｇ ７１℃、重合度 ３００、数平均分子量（Ｍｎ）１２０００ 重量平均分子量（Ｍｗ）３８０００ ポリウレタン樹脂 ５部 −ＳＯ₃Ｎａ ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有 −ＯＨ ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有 Ｔｇ ３８℃、Ｍｗ ５００００ 有機化合物（フェニルホスホン酸） ２．４部 シクロヘキサン １００部 メチルエチルケトン １００部 上記組成物をサンドミル中で４時間混合分散したのち、ポリイソシアネート（
コロネートＬ）５部、オレイン酸５部、ステアリン酸５部、ステアリン酸ブチル
１５部を加えて下層非磁性層用塗布液を得た。 【０１４０】 上記の塗布液をギャップの異なる２つのドクターを用いて、湿潤状態で塗布し
たのち、永久磁石３５００ガウス、次いでソレノイド １６００ガウスにて配向
処理後、乾燥した。その後、金属ロールと金属ロールによるスーパーカレンダー
処理を温度８０℃で行った。塗布厚みは磁性層０．３μｍ、非磁性層３．０μｍ
であった。 【０１４１】 次いで以下の処方により塗布液を調製した。 ＢＣ層処方 カーボンブラック １００部 Ｓ_BET ２２０ｍ²／ｇ 平均粒径 １７ｍμ ＤＢＰ吸油量 ７５ｍｌ／１００ｇ 揮発分 １．５％ ｐＨ ８．０ 嵩密度 １５ ｌｂｓ／ｆｔ³ ニトロセルロース ＲＳ１／２ １００部 ポリエステルポリウレタン ３０部 ニッポラン（日本ポリウレタン社製） 分散剤 オレイン酸銅 １０部 銅フタロシアニン １０部 硫酸バリウム（沈降性） ５部 メチルエチルケトン ５００部 トルエン ５００部 上記組成を予備混練し、ロールミルで混練した。次に上記分散物１００重量部
に対して、 カーボンブラック １００部 Ｓ_BET ２００ｍ²／ｇ 平均粒径 ２００ｍμ ＤＢＰ吸油量 ３６ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．５ α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒径 ０．２μｍ） ０．１部 を添加した組成にてサンドグラインダーで分散を行い、濾過後、上記分散物１０
０重量部に対して以下の組成を添加し、塗布液を調製した。 【０１４２】 メチルエチルケトン １２０部 ポリイソシアネート ５部 得られた塗布液をバーコーターにより、前記磁性層を設けた非磁性支持体の反 対側に乾燥厚味０．５μｍになるよう塗布した。このようにして得られた原反を
８ｍｍ幅に裁断し試料１（ＰＥＴ支持体）及び試料２（ＰＥＮ支持体）の８ｍｍ
ビデオテープを作成した。 【０１４３】 得られた８ｍｍビデオテープについて以下の測定を行い、その測定結果を得た
。 （１）ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡） 磁性層の超薄切片を観察した。 ダイヤモンドカッターで媒体を約０．１μｍ厚味に切り出し、これを透過型電
子顕微鏡で観察し、写真撮影した。撮影した写真の上下層の界面と磁性層表面を
隈取りし、ＩＢＡＳII画像処理装置で磁性層厚味を測定し、その平均値ｄと標準
偏差σとを求めた。 【０１４４】 磁性層厚味の平均値ｄは０．４５μｍであった。実用上は１μｍ以下、特に好
ましくは０．６μｍ以下であることがわかった。磁性層厚味変動の標準偏差σは
、０．００８μｍ以下であった。実用上はσは０．０２μｍ以下、特に好ましく
は０．０１μｍ以下であることがわかった。 前記磁気テープを延伸して磁性層を支持体から浮いた状態にし、カッター刃で
しごいて磁性層を剥離した。この剥離した磁性層５００ｍｇを１Ｎ−ＮａＯＨ／
メタノール溶液１００ｍｌ中で２時間環流し、結合剤を加水分解した。強磁性粉
末は比重が大きいために底に沈むので上澄み液を除去した。 【０１４５】 次いでデカンテーションにより３回水洗、その後ＴＨＦで３回洗浄した。得ら
れた強磁性粉末は５０℃の真空乾燥機で乾燥した。次に得られた強磁性粉末をコ
ロジオン中に分散し、ＴＥＭを用いて６万倍で観察した。その結果、強磁性粉末
の粒子長軸長０．１３μｍであり、針状比は１０であった。実用上は粒子長軸長
は０．４μｍ以下が必要であり、好ましくは０．３μｍ以下であることがわかっ
た。又実用上、針状比は２〜２０が必要であり、好ましくは２〜１５であること
がわかった。 （２）ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏ Ｓｃｏｐｅ） 表面粗さＲ_rmsを測定した。磁性層表面をＤｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅ
ｎｔ社のＮａｎｏｓｃｏｐｅＩＩを用い、トンネル電流１０ｎＡ、バイアス電圧
４００ｍＶで６μｍ×６μｍの範囲を走査した。表面粗さはこの範囲のＲ_rmsを
求めた。 【０１４６】 その結果、Ｒ_rmsは６ｎｍであった。実用上は１０ｎｍ以下が必要であり、好
ましくは８ｎｍ以下であることがわかった。 （３）表面粗さ計 ３ｄ−ＭＩＲＡＵを用いた表面粗さを測定した。ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄを
用いてＭＩＲＡＵ法で約２５０×２５０ｍｍの面積のＲａ、Ｒ_rms、Ｐｅａｋ−
Ｖａｌｌｅｙ値を測定した。測定波長約６５０ｎｍにて球面補正、円筒補正を加
えている。この方式は光干渉にて測定する非接触表面粗さ計である。Ｒａは、２
．７ｎｍであった。実用上、Ｒａは１〜４ｎｍが好ましく、更に好ましくは２〜
３．５ｎｍであることがわかった。Ｒ_rmsは３．５ｎｍであった。実用上は１．
３〜６ｎｍが好ましく、更に好ましくは１．５〜５ｎｍであることがわかった。
Ｐ−Ｖ値は２０〜３０ｎｍであった。実用上は８０ｎｍ以下が好ましく、更に好
ましくは１０〜６０ｎｍであることがわかった。 （４）ＶＳＭ（振動試料型磁束計） ＶＳＭを用いて得られた磁気テープの磁性層の磁気特性を測定した。東英工業
社製の振動試料型磁束計を用いてＨｍ ５ｋＯｅで測定した。 【０１４７】 その結果、Ｈｃは１６２０Ｏｅ、Ｈｒ（９０°）は１８００Ｏｅ、Ｂｒ／Ｂｍ
は０．８２、ＳＦＤは、０．５８３であった。実用上Ｈｃは１５００〜２５００
Ｏｅが必要で、好ましくは１６００〜２０００Ｏｅであることがわった。Ｈｒ（
９０°）は実用上、１０００〜２８００Ｏｅが必要で、好ましくは１２００〜２
５００Ｏｅであることがわかった。Ｂｒ／Ｂｍは、実用上０．７５以上が必要で
、好ましくは０．８以上であることがわかった。ＳＦＤは実用上０．７以下が必
要で、好ましくは０．６以下であることがわかった。 （５）Ｘ線回折 前述の（１）で磁性層より取り出した強磁性粉末を用いて、Ｘ線回折をした。 【０１４８】 磁気テープを直接にＸ線回折装置にかけ、（４，４，０）面と（２，２，０）
面との回折線の半値幅の広がりから求めた。その結果、結晶子サイズは１８０Å
であることがわかった。実用上好ましくは４００Å以下であり、特に好ましくは
１００〜３００Åえだることがわかった。 （６）引っ張り試験 引っ張り試験機で得られた磁気テープのヤング率、降伏応力、降伏伸びを測定
した。引っ張り試験機（東洋ボールドウィン社製万能引っ張り試験機ＳＴＭ−Ｔ
−５０ＢＰ）を用いて雰囲気２３℃、７０％ＲＨで引っ張り速度１０％／分で測
定した。 【０１４９】 その結果、磁気テープのヤング率はテープ０．５％伸び弾性率で１２００Ｋｇ
／ｍｍ²、降伏応力 ６〜７Ｋｇ／ｍｍ²、降伏伸びが０．８％であった。実用上
好ましくはヤング率はテープ０．５％伸び弾性率で４００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ
²、特に好ましくはテープ０．５％伸び弾性率で５００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ²で
あることがわかった。降伏応力は、実用上好ましくは３〜２０Ｋｇ／ｍｍ²、特
に好ましくは４〜１５であることがわかった。降伏伸びは実用上好ましくは０．
２〜８％であり、特に好ましくは０．４〜５％であることがわかった。 （７）曲げ剛性、円環式スティフネス ループスティフネステスタを用いて、幅８ｍｍ、長さ５０ｍｍの試料を円環と
し、変位速度約３．５ｍｍ／秒で変位５ｍｍを与えるのに要する力をｍｇで表す
。 【０１５０】 その結果、８ｍｍのｐ６−１２０のテープでは厚さが１０．５μｍであり、ス
ティフネスは４０〜６０ｍｍであった。実用上厚さが１０．５±１μｍでは好ま
しくは、スティフネスは２０〜９０ｍｇであり、特に好ましくは３０〜７０ｍｇ
であることがわかった。厚さが１１．５μｍ以上の場合は実用上好ましくは４０ 〜２００ｍｇであることがわかった。厚さが９．５μｍ以下の場合は、実用上好
ましくは１０〜７０ｍｇであることがわかった。 （８）延伸破壊 クラック発生伸度を２３℃、７０％ＲＨで測定した。 【０１５１】 テープ長さ１０ｃｍの試験片の両端を０．１ｍｍ／秒の引っ張り速度で引っ張
り、４００倍で磁性層表面を顕微鏡観察して、磁性層表面に５個以上の明らかな
亀裂が発生した伸度を測定する。 その結果、発生伸度は４％であった。実用上好ましくは２０％以下、特に好ま
しくは１０％以下であることがわかった。 （９）熱収縮率 ７０℃４８時間保存後の磁気テープの熱収縮率を測定した。 【０１５２】 ７０℃の恒温槽に４８時間保存し、その前後の長さの変化を保存前の長さで除
して熱収縮率とした。 その結果、熱収縮率は０．２％であった。実用上好ましくは０．４％以下であ
り、特に好ましくは０．１〜０．３％であることがわかった。 （１０）ＥＳＣＡ Ｃｌ／ＦｅスペクトルαとＮ／Ｆｅスペクトルβを測定した。 【０１５３】 α及びβの測定には、Ｘ線光電子分光装置（ＰＥＲＫＩＮ−ＦＬＭＥＲ社製）
を用いた。Ｘ線源はＭｇアノードを用い、３００Ｗで測定した。まず、ビデオテ
ープの潤滑剤をｎ−ヘキサンを用いて洗い流した後、Ｘ線光電子分光装置にセッ
トした。Ｘ線源と試料とも距離は１ｃｍとした。試料を真空に排気して５分後か
らＣ１−２Ｐスペクトル、Ｎ−１ＳスペクトルとＦｅ−２Ｐ（３／２）スペクト
ルを１０分間積算し測定した。なお、バスエネルギーは１００ｅＶで一定とした
。測定したＣ１−２ＰスペクトルとＦｅ−２Ｐ（３／２）スペクトルとの積分強
度比を計算で求め、αとした。 【０１５４】 又、Ｎ−１ＳスペクトルとＦｅ−２Ｐ（３／２）スペクトルとの積分強度比を
計算で求めβとした。 その結果αは、０．４５であり、βは０．０７であった。実用上αは好ましく
は０．３〜０．６であり、特に好ましくは０．４〜０．５であることがわかった
。実用上βは好ましくは０．０３〜０．１２であり、特に好ましくは０．０４〜
０．１であることがわかった。 （１１）レオバイブロン １１０Ｈｚの動的粘弾性を測定した。 【０１５５】 動的粘弾性測定装置（東洋ボールドウィン社製レオバイブロン）を用い、周波
数１１０Ｈｚでテープの粘弾性を測定した。ＴｇはＥ′′のピーク温度とした。
この方法はテープの一端から振動を加え他端に伝播する振動を測定する。 その結果、Ｔｇは７３℃、Ｅ′（５０℃）は４×１０¹⁰ｄｙｎｅ／ｃｍ²、Ｅ
′′（５０℃）は１×１０¹¹であった。実用上Ｔｇは好ましくは４０〜１２０℃
、特に好ましくは５０〜１１０℃であることがわかった。実用上Ｅ′（５０℃）
は０．８×１０¹¹〜１１×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であり、特に好ましくは、１
×１０¹¹〜９×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であることがわかった。実用上Ｅ′′（
５０℃）は好ましくは０．５×１０¹¹〜８×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であり、特
に好ましくは０．７×１０¹¹〜５×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であることがわかっ
た。 （１２）密着強度 １８０°剥離法により支持体と磁性層との密着強度を測定した。 【０１５６】 ８ｍｍ幅にスリットしたテープを３Ｍ製粘着テープにはりつけ、２３℃、７０
％ＲＨで１８０剥離強度を測定した。 得られた結果は５０ｇであった。実用上好ましくは密着強度は１０ｇ以上であ
り、特に好ましくは２０ｇ以上であることがわかった。 （１３）磨耗 磁性層表面の２３℃、７０％ＲＨの鋼球磨耗を測定した。 【０１５７】 プレパラートガラス上に試料をその両端を接着テープで張り付けて固定し、６
．２５ｍｍφの鋼球に荷重５０ｇを加えて摺動させた。その際、２０ｍｍの距離
を速度２０ｍｍ／ｓｅｃで１回走行させた後、新しい磁性面に鋼球を移動させて
同じ操作を２０回繰り返した。その後、鋼球の摺動面を４０倍の顕微鏡で観察し
、その面が円であると仮定して直径を求め、その直径から磨耗量を計算した。 【０１５８】 得られた結果は、０．７×１０^-5〜１．１×１０^-5ｍｍ³であった。実用上好
ましくは０．１×１０^-5〜５×１０^-5ｍｍ³であり、特に好ましくは０．４×１
０^-5〜２×１０^-5ｍｍ³であった。 （１４）ＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍｉｃｒｏｓｃｏ
ｐｅ） ＳＥＭで磁性層表面状況を観察した。 【０１５９】 日立製電子顕微鏡Ｓ−９００にて倍率５０００倍で５枚撮影して表面の研磨剤
を測定した。 その結果、研磨剤個数は０．２個／μｍ²であった。実用上、研磨剤個数は０
．１個／μｍ²以上であり、特に好ましくは０．１２個／μｍ²〜０．５個／μｍ
²であることがわかった。 （１５）ＧＣ（ガスクロマトグラフィー） ＧＣで磁気テープの残留溶剤を測定した。 【０１６０】 島津製作所製ガスクロマトグラフィーＧＣ−１４Ａを用いて、２０ｃｍ²の試
料を１２０℃まで加熱して、媒体中の残留溶剤を測定した。 その結果、残留溶剤は８ｍｇ／ｍ²であった。実用上、好ましくは５０ｍｇ／
ｍ²以下であり、特に好ましくは２０ｍｇ／ｍ²以下であることがわかった。 （１６）ゾル分率 磁気テープの磁性層よりＴＨＦにて抽出された可溶固形分の磁性層重量に対す
る比率を求めた。その結果ゾル分率は７％であった。実用上、ゾル分率は好まし くは１５％以下であり、特に好ましくは１０％以下であることがわかった。 【０１６１】 上述の方法、特性を有する８ｍｍビデオテープを現在市販されているテープと
比較し、その結果を表３に示した。 【０１６２】 【表３】 【０１６３】 尚、評価方法は前記方法もしくは一般的方法によった。 また、判定基準は以下の通りである。 ジッター：○ ０．２μｓｅｃ未満 × ０．２μｓｅｃ以上 保存安定性：○ ６０℃、９０％に２週間保存して表面に錆がでていないこと。 【０１６４】 × ６０℃、９０％に２週間保存して表面に錆がでていること。 走行耐久性：８ｍｍカセットに組み込んで１２０分の再生を１００回繰り返した
。 ○ ５分以上続く目詰まりが１回も発生しない。 × 繰り返し１００ｐａｓｓで目詰まりが発生する。 スリキズ：スチルモードで１０分間走行させた。 【０１６５】 ○ 目視で傷が認められない。 × 目視で傷が認められる。 ＢＥＲ測定方法（Ｂｉｔ ｅｒｒｏｒ ｒａｔｅ）：コンピューターにてランダ
ム信号を２４−２５変換した。スクランブルドインターリーブドＮＲＺ−Ｉ信号
をテスト信号とし、本テスト信号を記録／再生したデータをＰＲ４復調して得た
データを、テスト信号と比較して、エラーを検出して、そのエラーの比率をＢＥ
Ｒとする。 【０１６６】 【発明の効果】 本発明は、磁性層厚味が１μｍ以下と極めて薄い塗布型磁気記録媒体の潤滑剤
量を好適に制御でき、しかも下層非磁性層の無機質粉末の分散性が向上するので
磁性層の表面性が改善できると共に下層及び上層の界面の乱れを抑制して磁性層
を均一に確保し、更に、潤滑剤である脂肪酸量を必要最低限の使用で最大の効果
を奏するように設計したため、ジッターを抑制した走行性を確保できると共に塗
布膜の耐久性、保存性を改善し、しかも金属薄膜型磁気記録媒体に匹敵する電磁 変換特性を発揮できる磁気記録媒体を提供する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 非磁性支持体上に無機質粉末を結合剤に分散した下層非磁性層
   を設け、その上に強磁性粉末を結合剤に分散した上層磁性層を設けた磁気記録媒
   体において、前記強磁性粉末は粒子長軸長が０．３μｍであり、前記無機質粉末
   はモース硬度３以上の非磁性粉末であって、前記上層磁性層の乾燥厚みが１．０
   μｍ以下であり、且つ前記下層非磁性層が脂肪酸と前記無機質粉末に吸着、また
   は反応しうる脂肪酸以外の有機化合物とを含むことを特徴とする磁気記録媒体。 【請求項２】 前記下層非磁性層に含まれる無機質粉末が金属酸化物であり、
   前記有機化合物がｐＫａ３以下の有機酸、分子量３０００以下のエポキシ基含有
   化合物、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤から選ばれる少な
   くとも１種の表面処理剤であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 【請求項３】 モース硬度３以上の非磁性粉末からなる無機質粉末に該無機質
   粉末に吸着または反応しうる有機化合物を結合剤添加以前あるいは同時に添加し
   、混合分散した後に脂肪酸を加えて下層非磁性層用塗料を調製し、得られた塗料
   を非磁性支持体に塗布して、下層非磁性層を設け、その上に該下層非磁性層が湿
   潤状態の内に、粒子長軸長が０．３μｍ以下である強磁性粉末を結合剤に分散し
   た上層磁性層用塗料を塗布し、その後配向、乾燥、平滑化処理を行うことを特徴
   とする前記上層磁性層の乾燥厚みが１．０μｍ以下である磁気記録媒体の製造方
   法。