JP2814664B2 - キノキサリンオリゴマーおよびその製造方法 - Google Patents

キノキサリンオリゴマーおよびその製造方法

Info

Publication number
JP2814664B2
JP2814664B2 JP6371590A JP6371590A JP2814664B2 JP 2814664 B2 JP2814664 B2 JP 2814664B2 JP 6371590 A JP6371590 A JP 6371590A JP 6371590 A JP6371590 A JP 6371590A JP 2814664 B2 JP2814664 B2 JP 2814664B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
quinoxaline
oligomer
reaction
tetramethyl
alkyl group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP6371590A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH03264568A (ja
Inventor
嘉彦 伊藤
Original Assignee
住友化学工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 住友化学工業株式会社 filed Critical 住友化学工業株式会社
Priority to JP6371590A priority Critical patent/JP2814664B2/ja
Publication of JPH03264568A publication Critical patent/JPH03264568A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2814664B2 publication Critical patent/JP2814664B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、式(I)で示されるキノキサリンオリゴマ
ー、 (R1は低級アルキル基、nは2〜6の数を表す。)およ
びその製造方法に関する。
<従来の技術、発明が解決しようとする課題> 従来、特定の遷移金属化合物によりイソニトリルを重
合してポリ(N置換イミノメチレン)が得られることは
知られている。
しかし、キノキサリンオリゴマーについては知られて
いなかった。
<課題を解決するための手段> 本発明者は、1,2−ジイソシアノベンゼン類と有機金
属との反応について種々検討を重ねた結果、3,4,5,6−
テトラメチル−1,2−ジイソシアノベンゼンが有機亜
鉛、グリニヤール試薬により反応し、キノキサリン骨格
を形成しつつ、重合が進行し、キノキサリンオリゴマー
が生成することを見出した。
すなわち、本発明は、式(I) (R1は低級アルキル基、nは2〜6の数を表す。)およ
び3,4,5,6−テトラメチル−1,2−ジイソシアノベンゼン
をZnR1 2およびR1MgX(R1は低級アルキル基、Xはハロゲ
ン原子を表す。)から選ばれた有機金属化合物の存在下
に反応させることを特徴とする上記式(I)で示される
キノキサリンオリゴマーの製造方法を提供するものであ
る。
本発明のキノキサリンオリゴマーは半導体材料へと誘
導することができる。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明において使用される有機金属化合物であるZnR1
2またはR1MgXのR1としてはエチル基、n−プロピル基、
i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−
ブチル基、t−ブチル基等の低級アルキル基であり、X
としてはBr、Cl等のハロゲンである。
具体例としてはジエチル亜鉛、ジ−i−プロピル亜
鉛、i−プロピルマグネシウムブロミド、n−ブチルマ
グネシウムブロミド、sec−ブチルマグネシウムブロミ
ド、i−ブチルマグネシウムブロミド、t−ブチルマグ
ネシウムクロリド等である。
また、反応において、使用する3,4,5,6−テトラメチ
ル−1,2−ジイソシアノベンゼンに対する上記有機金属
化合物の割合は、特に限定されないが、モル比が小さい
方がより生成するオリゴマーの割合が大きくなるので、
好ましくはモル比で2以下、より好ましくは1以下、さ
らに好ましくは0.5以下である。
また反応に使用する溶媒としては特に限定されず、用
いる有機金属化合物に応じて適宜選ぶことができるが、
テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル
類、トルエン等の芳香族炭化水素、N,N−ジメチルホル
ムアミド等が好ましい。
反応温度は特に限定されないが、好ましくは有機亜鉛
を使用した場合は0〜95℃であり、グリニヤール試薬を
使用した場合は0℃付近でも十分重合が進行する。
ジアルキル亜鉛を使用した場合、反応はの以下の反応
式で示されるように、 (R1は低級アルキル基、nは2〜6の数を表す。)R1
Zn結合に3,4,5,6−テトラメチル−1,2−ジイソシアノベ
ンゼンの2つの隣接するイソシアノ基が連続して挿入
し、ヘテロ芳香環、キノキサリン骨格を形成しつつ、重
合反応が進行し、オリゴマーが生成する。
またR1MgXを使用した場合も同様に、下式(III) (R1及びnは上記と同じ。) の化合物が生成する。
成長末端はキノキサリン骨格に結合した−ZnR1または
−MgXであり、これらは反応後に水、塩化水素等と反応
させることにより容易に水素に変換させることができ
る。
また、さらに塩化ニッケル、トリアセチルアセトナー
ト鉄等の遷移金属塩を作用させるとさらに重合が進み、
よりキノキサリンの連鎖数(重合度)が大きく、且つ両
末端が前記の低級アルキル基のキノキサリンオリゴマー
を得ることもできる。
〔発明の効果〕
本発明のキノキサリンオリゴマーは、半導体材料等の
電子材料の原料として有用である。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例 1 3,4,5,6−テトラメチル−1,2−ジイソシアノベンゼン
41.7mg(0.23mmol)をN2雰囲気下、LiAlH4で乾燥したテ
トラヒドロピラン(THP)3mlに溶解した。この溶液を0
℃に冷却し、i−プロピルマグネシウムブロミド(1.0M
THP溶液)0.1ml(0.1mmol)をシリンジで滴下した。
0℃で20分間攪拌後、pH7の緩衝液10mlを投入した。
クロロホルム30mlで抽出した有機層を無水NaSO4で乾燥
した。溶媒をエバポレーターで留去して得られた固体を
プレパラティブ薄層クロマトグラフ〔シリカゲル、溶媒
(ヘキサン:ジエチルエーテル:塩化メチレン=10:1:
1)〕及び分取用リサイクルGPC(溶媒クロロホルム)に
より分離精製した。分離された生成物(1a)、(2a)、
(3a)及び(4a)について質量分析計およびH1NMR(200
MHz,CDCl3)で測定を行った結果を以下に示す。
以上の結果から4種の生成物は下式(IV) で表せられるキノキサリンまたはそのオリゴマーで、
(1a)はn=1、(2a)はn=2、(3a)はn=3、
(4a)はn=4に対応するものであり、これらの収率は
原料の3,4,5,6−テトラメチル−1,2−ジイソシアノベン
ゼン当たりそれぞれ14%、39%、16%、4%であった。
実施例 2 3,4,5,6−テトラメチル−1,2−ジイソシアノベンゼ
ン:グリニヤール試薬を1:0.5(モル比)に変え、溶媒
としてテトラヒドロフランを使用した以外は実施例1と
同様にして実験を行った。
実施例1と同様に生成物を分離してそれぞれの生成に
ついて分析したところ、実施例1で得られたキノキサリ
ンの4量体までの化合物の他に実施例1では得られなか
った2種の化合物が生成していた。これらにつき実施例
1と同様に質量分析計およびH1NMRにより測定した。
結果を以下に示す。
分析の結果これらの生成物は(5a)は前記式(IV)の
n=5、(6a)はn=6に該当することが判った。な
お、各化合物の収率はn=1が5%、n=2が3%、n
=3が7%、n=4が5%、n=5が8%、n=6が3
%であった。
実施例 3〜7 3,4,5,6−テトラメチル−1,2−ジイソシアノベンゼン
に対してi−プロピルマグネシウムブロミドの当量比及
び溶媒を第1表に示すとおりに変えた以外は実施例1と
同様に行った。結果を第1表に示す。
実施例 8〜12 3,4,5,6−テトラメチル−1,2−ジイソシアノベンゼン
に対して、第2表に示すグリニヤール試薬を同表に示す
量使用してテトラヒドロフランを溶媒として用いた以外
は実施例1と同様に反応を行い、末端に用いたグリニヤ
ール試薬のアルキル基を有するキノキサリンオリゴマー
を得た。
結果を第2表に示す。
第2表において実施例11及び13で得られたそれぞれの
1〜3量体について塩化メチレンに溶解し、紫外線吸収
スペクトルの測定を行ったところ、第3表に示す結果が
得られた。
実施例 13〜16 3,4,5,6−テトラメチル−1,2−ジイソシアノベンゼン
41.7mg(0.23mmol)をN2雰囲気下、N,N−ジメチルホル
ムアミド3mlに溶解した。この溶液を0℃に冷却し、第
4表に示す有機亜鉛を同表に示す量加え、同表に示す温
度および時間反応を行った。反応後、pH7の水10mlを投
入した。クロロホルム30mlで抽出した有機層を無水NaSO
4で乾燥した。溶媒をエバポレーターで留去して得られ
た固体をプレパラティブ薄層クロマトグラフ〔シリカゲ
ル、溶媒(ヘキサン:ジエチルエーテル:塩化メチレン
=10:1:1)〕及び分取用リサイクルGPC(溶媒クロロホ
ルム)により分離精製した。
実施例1と同様に生成物を分析し、反応の結果得られ
た生成物の収率を第4表に示す。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式(I)で示されるキノキサリンオリゴマ
    ー。 (R1は低級アルキル基、nは2〜6の数を表す。)
  2. 【請求項2】3,4,5,6−テトラメチル−1,2−ジイソシア
    ノベンゼンをZnR1 2またはR1MgX(R1は低級アルキル基、
    Xはハロゲン原子を表す。)の存在下に反応させること
    を特徴とする請求項(1)のキノキサリンオリゴマーの
    製造方法。
JP6371590A 1990-03-13 1990-03-13 キノキサリンオリゴマーおよびその製造方法 Expired - Lifetime JP2814664B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6371590A JP2814664B2 (ja) 1990-03-13 1990-03-13 キノキサリンオリゴマーおよびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6371590A JP2814664B2 (ja) 1990-03-13 1990-03-13 キノキサリンオリゴマーおよびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03264568A JPH03264568A (ja) 1991-11-25
JP2814664B2 true JP2814664B2 (ja) 1998-10-27

Family

ID=13237363

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6371590A Expired - Lifetime JP2814664B2 (ja) 1990-03-13 1990-03-13 キノキサリンオリゴマーおよびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2814664B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH03264568A (ja) 1991-11-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3129816B2 (ja) 置換インデンの製造方法
JP2814664B2 (ja) キノキサリンオリゴマーおよびその製造方法
Holzapfel et al. 2-Nitroglycals preparation and nucleophilic addition reactions
US5817837A (en) Tetrathiafulvalene derivative precursors, tetrathiafulvalene derivatives, and processes for producing them
CN110156800B (zh) 一种吡喃并[3,2-b]吲哚-2-酮类化合物的合成方法
JP3743687B2 (ja) ハロゲン化アルキルを用いるテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の製造方法
CN114507121B (zh) 一种α-烯基-α,α-二氟芳基酮类化合物的制备方法及产物
Luo et al. Formation of α‐Lithio Siloles from Silylated 1, 4‐Dilithio‐1, 3‐Butadienes: Mechanism and Applications
CN109517144A (zh) 一种共轭聚合物及其制备方法
CN113637035A (zh) 一种平面手性噁唑啉-醇二茂铁化合物及其制备、应用
WO2003027121A2 (en) Manufacture of vitamin b6
CN111943939A (zh) 色满酮类化合物的合成方法及其农用生物活性
KR101789386B1 (ko) 고수율 및 고 광학순도의 광학활성 벤조티오펜계 화합물의 합성 방법
Rausch et al. The formation and reactions of some new functionally substituted derivatives of (η5-cyclopentadienyl dicarbonylnitrosylchromium (cynichrodene)
JP3301132B2 (ja) 1,2−ジフェニルエタン誘導体及びその製造法
RU2714319C1 (ru) Способ селективного получения замещенных 1-стирил-2-гидрофуллеренов
DE69824652T2 (de) Silacyclopentadienderivate
CN108047267B (zh) 1-氮杂-5-锗杂-5-溴(氢)二环[3.3.3]十一烷化合物及其合成方法
CN121735994A (zh) 一种镍催化合成含硅基的四取代烯烃化合物的方法
CN120058498A (zh) 一种异戊烯基取代酰化间苯三酚的合成方法
Chou et al. Nucleophilic Addition Reactions of Tricarbonyl [η5‐1‐(Phenylthio) Cyclohexadienyl] Iron (I) Complex
JPS58444B2 (ja) 大環状ビス↓−1,3↓−ジケトンを有するスチレン系重合体およびその製造方法
CN116640152A (zh) 一种苯并噻吩并吡啶类衍生物及合成方法
JP4105481B2 (ja) トリ置換芳香族化合物の製造法
CN120842256A (zh) 一种三芳基硼衍生物的合成方法

Legal Events

Date Code Title Description
S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 9

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070814

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080814

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080814

Year of fee payment: 10

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D05

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090814

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090814

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100814

Year of fee payment: 12

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 12

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100814