JP3100521B2

JP3100521B2 - 液晶表示素子

Info

Publication number: JP3100521B2
Application number: JP06301075A
Authority: JP
Inventors: 孝一藤森
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1994-12-05
Filing date: 1994-12-05
Publication date: 2000-10-16
Anticipated expiration: 2015-10-16
Also published as: JPH08160396A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばパソコン等の平
面ディスプレイ装置、液晶テレビ、携帯ディスプレイ
（含フィルム基板）等に利用することはもちろん、バッ
クライトを必要としない反射型セルやプロジェクション
などの透過型セルとしても利用できる液晶表示素子に関
し、特に高分子壁にて仕切られた液晶領域を有する液晶
表示素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子として従来、電気光学効果
を利用したものが知られている。電気光学効果を利用し
た液晶表示素子としては、ネマチック液晶を用いたＴＮ
（ツイステッドネマチック）型や、ＳＴＮ型のものが
実用化されている。また強誘電性液晶を用いた液晶表示
素子も提案されている。

【０００３】また、偏光板を要さず、配向処理を不要と
する液晶表示素子として、高分子壁の内部にドロップレ
ット状の液晶領域を分散させ、液晶と高分子との屈折率
の差を利用して、透明状態または白濁状態を電気的に制
御する高分子分散型の液晶表示素子が提案されている。
この素子は、絵素それぞれにおいて、液晶領域の大きさ
を制御することが困難であり、液晶領域の大きさが異な
るため、絵素によって液晶の閾値が異なり、また散乱強
度が異なるため、表示品位を低下させる原因となってい
た。

【０００４】そこで、本願出願人は、この液晶領域の大
きさを制御する方法として、絵素の大きさに対応したホ
トマスクを基板外部に設置し、ホトマスク越しに紫外光
照射を行い、高分子と液晶とをそのホトマスクのパター
ンどおりに相分離させる方法を提案している（特願平５
−３０９９６号）。

【０００５】提案方法は、高分子壁を非絵素部である、
パネルの非開口部に選択的に形成することができるの
で、液晶材料に含ませる高分子用の材料の量をパネルの
非開口率に相当する量とすることで、液晶と高分子とが
完全に相分離した状態で、非絵素部に高分子壁を形成す
ることができる。換言すれば、提案方法による場合、パ
ネルの絵素開口率に対応させて、液晶材料と高分子用材
料（モノマー）とを混合し、液晶領域と高分子壁とを選
択的に形成する時に、パネルの絵素開口率と一致した領
域では目的とする場所に定量的に高分子壁を形成でき
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、提案方
法による場合、パネルの絵素開口率に相当する量を秤量
して、液晶材料と高分子用材料（パネル内に注入前は低
分子）とを混合させ、その混合物をパネル内に注入する
ので、例えば表示エリアの隅にキー入力部などの入力操
作部が設けられた場合のように、１つの表示エリアに絵
素開口率の異なる領域が複数存在する場合には、以下の
問題がある。

【０００７】１つは、開口率が高分子含有率より大きい
エリア領域では、高分子量が過剰となる。その結果とし
て、開口率が低下することとなる。

【０００８】他の１つは、開口率が高分子含有率より小
さいエリア領域では、高分子量が不足となる。その結果
として、液晶表示素子の表示駆動時に高分子壁部が散乱
したり、コントラストの低下につながる。

【０００９】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、１つの表示エリアに絵素
開口率の異なる領域が複数存在しても、各領域において
開口率の低下やコントラストの低下が起こらない液晶表
示素子を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子
は、一対の基板間に挟まれている表示媒体が高分子壁に
よって液晶領域が囲まれている構成であり、かつ、表示
エリア内に絵素開口率の異なる領域が複数存在している
液晶表示素子において、絵素開口率の異なっている各領
域が、隔壁にて仕切られており、一対の基板間と隔壁と
に仕切られた各領域に、それぞれの領域毎に形成される
液晶と高分子壁との体積比に応じた組成比の液晶材料と
重合反応により重合性化合物となる高分子用材料との混
合物を注入し、混合物を重合反応により液晶材料と重合
性化合物とを相分離させることにより、絵素開口率の異
なった領域毎に、液晶と高分子壁との占有体積の割合が
異なる構成の表示媒体となっているので、そのことによ
り上記目的が達成される。

【００１１】本発明の液晶表示素子において、前記絵素
開口率の異なる領域が、有機膜または無機膜からなる隔
壁にて仕切られている構成とすることができる。また、
前記絵素開口率の異なる領域を仕切る隔壁が、基板を貼
り合わせているシール材で形成されている構成とするこ
とができる。

【００１２】

【作用】本発明にあっては、１対の基板間に開口率の異
なる領域が存在した場合、その開口率の異なる領域に対
応した液晶−高分子の組成比の混合物を狭持させ、この
混合物に、例えば熱または光を与えて重合反応により液
晶材料と重合性化合物とを相分離させる。これにより、
任意の位置に選択的に液晶領域と高分子壁とが形成され
た表示媒体が得られる。なお、上記液晶領域を形成する
液晶と高分子壁を形成する高分子とは、その組成比を形
成したい液晶領域と高分子壁との形成体積比に合わせた
重量比で混合するとよい。

【００１３】また、表示エリアにおける絵素開口率の異
なった領域の間に、隔壁を設けることにより、各領域の
目的とする位置に液晶領域と高分子壁とを配置すること
ができる。よって、例えば絵素を構成する電極の抜け部
（非絵素部）に沿って高分子壁を形成したい場合や、絵
素を構成する電極の抜け部の面積が異なる領域が表示エ
リアに複数存在しても、目的とする位置に高分子壁を形
成することができる。また、この高分子壁にスペーサの
役目を持たせることで、外部衝撃に対し、対衝撃性の優
れた液晶表示素子を提供できる。

【００１４】また、上記隔壁としては、有機膜または無
機膜で形成してもよく、あるいは基板を貼り合わせてい
るシール材で形成してもよい。

【００１５】

【実施例】以下に本発明の実施例について説明する。

【００１６】図１（ａ）は、本発明の一実施例である液
晶表示素子の構成を示す正面図であり、図１（ｂ）はそ
の断面図である。この液晶表示素子は、画面構成的に
は、表示エリアの左側に本来の表示部Ａが配設され、右
側に入力操作部Ｂが配設されている。また、構造的に
は、以下のようになっている。

【００１７】ガラスなどからなる一対の基板１ａ、１ｂ
が対向配設され、その間に表示媒体が挟まれている。こ
の表示媒体は、高分子壁５にて液晶領域６が囲まれた構
成となっている。基板１ａ、１ｂの表示媒体側に対応す
る表面にはそれぞれ、帯状の透明電極２ａ、２ｂが正面
視でそれぞれ相互に交差する状態に形成されている。こ
の図示例では、表示部Ａにおける隣合う透明電極２ａ同
士の離隔間隔が、入力操作部Ｂにおける隣合う透明電極
２ａ同士の離隔間隔よりも大きくなっており、また、表
示部Ａにおける隣合う透明電極２ｂ同士の離隔間隔が、
入力操作部Ｂにおける隣合う透明電極２ｂ同士の離隔間
隔よりも大きくなっている。

【００１８】このような透明電極２ａ、２ｂの上には、
必要ならば、その上を覆うように電気絶縁膜３ａ、３ｂ
がそれぞれ形成されている。さらに、その上に配向膜４
ａ、４ｂがそれぞれ形成されている。

【００１９】上記透明電極２ａ、２ｂが対向する部分が
絵素部となっており、本来の表示部Ａと入力操作部Ｂと
は、液晶領域６と高分子壁５との体積比の異なる領域と
なっている。本来の表示部Ａと入力操作部Ｂとの境界線
１０にはレジストなどによる隔壁８が設けられている。
なお、上記絵素部は上記液晶領域６に含まれている。

【００２０】上記対向配設された基板１ａ、１ｂの端部
はシール材７によって貼り合わされており、基板１ａ、
１ｂの間隙には基板ギャップ制御材としてスペーサ（図
示せず）が存在している。

【００２１】このように構成された液晶表示素子は、例
えば以下のようにして製造することができる。

【００２２】まず、基板１ａ、１ｂ上にそれぞれ、例え
ばスパッタ法によりＩＴＯ膜を厚み２０００オングスト
ロームに堆積し、帯状の透明電極２ａ、２ｂをそれぞれ
形成する。上記基板材料としては、少なくとも一方の基
板が光を透過する透明材料であればいずれも用いること
ができ、ガラス、プラスチックフィルムなどがあげられ
る。また、一方の基板が透明であれば、他方の基板には
透明ではない金属膜などを設けた基板であってもよい。

【００２３】次に、この透明電極２ａ、２ｂを覆うよう
に、例えばスパッタ法により電気絶縁膜３ａ、３ｂをそ
れぞれ形成する。

【００２４】次に、そのうえに、配向膜４ａ、４ｂをそ
れぞれ形成し、配向膜４ａ、４ｂに対してナイロン布な
どでラビング処理を行う。なお、配向膜４ａ、４ｂおよ
び電気絶縁膜３ａ、３ｂは形成されていてもよく、必要
がない場合には形成しなくてもよい。

【００２５】次に、上記本来の表示部Ａと入力操作部Ｂ
とを仕切るための隔壁８を基板１ａ、１ｂの一方に形成
する。この隔壁８は配向膜４ａ、４ｂの両方の上に形成
してもよく、また電極２ａ、２ｂの上に形成してもよ
い。

【００２６】次に、この状態の両基板１ａ、１ｂを、透
明電極２ａ、２ｂが互いに直交するように対向させて、
スーペサ９を散布し、基板１ａ、１ｂの端部をシール材
７により貼り合わせて液晶セルを作製する。ここで、こ
のシール材７によって前記隔壁８を同時に形成してもよ
い。このようにシール材７により隔壁８を形成する場合
は、別の工程で隔壁８を形成する場合よりも工程を少な
くすることができる利点がある。なお、隔壁８の材料と
しては、ストラクトボンド（三井東圧化学製）などの熱
硬化剤、もしくはワールドロック（協立化学製）などの
ＵＶ硬化剤、もしくは感光性ポリイミド等の感光性樹
脂、その他、アクリル樹脂等の有機材料や、または酸化
亜鉛膜等の無機材料を用いることが可能である。また、
隔壁８の形成手法としては、これらの材料をスピンコー
ト法などによって膜を形成し、この膜をフォトリソグラ
フィ等でパターン化する手法や、印刷手法、またはディ
スペンサーによる描写などを使用できる。

【００２７】次に、このようにして作製された液晶セル
の間隙（基板１ａ、１ｂの間隙）に、少なくとも液晶材
料と重合性化合物とを含む混合材料を注入孔９より注入
する。このとき、液晶材料と重合性化合物との混合比で
あるが、原則的には液晶を配置させたい領域と重合性化
合物を配置させたい領域との体積比に合わせて混合比を
決定する。例えば、帯状の電極２ａ、２ｂの交差する絵
素部に液晶を配置し、それ以外の部分に重合性化合物を
配置する場合、絵素の開口率（たとえば８０％）にほぼ
合わせた比（この場合は液晶：重合性化合物＝８０ｗｔ
％：２０ｗｔ％）にすることが望ましい。また、本発明
では、液晶を配置させたい領域と重合性化合物を配置さ
せたい領域の体積比が異なる本来の表示部Ａと入力操作
部Ｂとが、１基板内に２つ存在するので、それぞれの体
積比に応じた組成比の混合材料を、隔壁８仕切られた２
つのセル内空間に別々の注入孔９より注入する必要があ
る。

【００２８】上記液晶材料としては、従来のＴＮモー
ド、ＳＴＮモード、ＥＣＢモード、強誘電性液晶表示モ
ード、光散乱モードなどの液晶表示素子に用いられる液
晶材料のいずれでも用いることができる。たとえば、カ
イラル型（Ｓ−８１１）を０．３％添加したＺＬＩ−４
４７２（メルク社製）などが挙げられる。また重合性化
合物としては、光または熱で重合し硬化するものであれ
ばいずれでも用いることができる。また、重合性化合物
は単独で用いても数種類を組み合わせて用いてもよい。
混合材料には、さらに重合開始剤を含んでもよい。光重
合開始剤としてはＩｒｕｇａｃｕｒｅ６５１（チバガイ
ギー社製）などを用いることができる。また注入孔９
は、後の紫外線照射工程で基板の表示部に光があたらな
いように紫外線硬化樹脂、または２液混合性硬化樹脂で
封止しておく。

【００２９】次に、液晶セルの外部から、上記混合材料
に熱または紫外線などの光（本実施例の場合は光）を与
える。なお、熱または光などのエネルギーが与えられる
側の基板には、液晶領域６を含む任意の部分に対し、透
過光量などのエネルギー強度が小さくなるような処理を
施しておく。また、光のうち紫外線を照射する場合に
は、フォトマスクで遮光したり、ＩＴＯなどの金属膜や
有機膜、または無機膜などにより紫外線を吸収させて、
選択的に透過光量分布（エネルギー強度分布）を発生さ
せる。光源としては、平行光の得られる紫外線照射用の
高圧水銀ランプなどを使用することができ、その照射位
置は任意で、例えば照射強度１０ｍＷ／ｃｍ²の位置で
行う。

【００３０】上述のようにエネルギー強度分布を選択的
に発生させることにより、液晶と重合性化合物を相分離
する。その結果、液晶領域６と高分子壁５とが任意の位
置に選択的に形成された表示媒体が両基板１ａ、１ｂの
間に形成されることになる。なお、液晶の配向を安定化
させるために基板温度を高温にして紫外線照射を行った
場合には、徐冷オーブン内で室温もしくは低温（０℃以
下）まで徐冷するのが望ましい。また、相分離後、高分
子の架橋度をさらに向上させるために、室温もしくは低
温（０℃以下）雰囲気下で紫外線照射などのエネルギー
の付与を行ってもよい。

【００３１】上述した内容は、本発明の適用が可能な範
囲であり、以下に具体例を述べる。

【００３２】（具体例１）本具体例では、基板の間に隔
壁を設ける手段として、配向膜上にフォトリソグラフィ
工程を用いて樹脂の壁を形成する場合である。

【００３３】図２（ａ）に示すように、基板１ａ、１ｂ
として、例えば７０５９ガラスを用い、これらを一対と
し、この基板１ａ、１ｂ上にＩＴＯからなる透明電極２
ａ、２ｂを帯状に形成する。本来の表示部Ａにおける透
明電極２ａ、２ｂの電極幅としては２８０μｍ、電極間
隔としては２０μｍとした。また、入力操作部Ｂにおけ
る透明電極２ａ、２ｂの電極幅としては４００μｍ、電
極間隔としては４０μｍとした。

【００３４】次に、この両基板１ａ、１ｂの電極２ａ、
２ｂ上に、例えばＳｉＯ₂の電気絶縁膜とポリイミドの
配向膜とをそれぞれ形成する。更に、配向膜の表面をナ
イロン布でラビング処理を施す。

【００３５】次に、図２（ｂ）に示すように、上記配向
膜の表面に感光性樹脂、ここでは感光性ポリイミド（ホ
トニース：東レ製）をスピンコートなどによって塗布
し、フォトリソグラフィ工程を用いて、本来の表示部Ａ
と入力操作部Ｂとの境界線に隔壁８を形成する。

【００３６】次に、一対の基板１ａ、１ｂを、電極２
ａ、２ｂを内側にし、かつ、両電極２ａと２ｂとが交差
する状態にし、間に図示しないスペーサを介して貼り合
わせる。この貼り合わせは、シール材７を用いることが
できる。この貼り合わせの際、上記隔壁８は、最終的に
は本来の表示部Ａと入力操作部Ｂとを別々に取り囲むシ
ール材の役目を担っているので、上下基板に密着した状
態になることが望ましい。

【００３７】次に、この状態の基板１ａ、１ｂの間に、
液晶材料と重合性化合物との混合物を注入する。このと
き、本来の表示部Ａでは開口率が約８７．１％であるの
で、液晶：重合性化合物＝８７：１３として混合物を作
製した。また、入力操作部Ｂでは開口率が約８２．６％
であるので、液晶：重合性化合物＝８２．５：１７．５
として混合物を作製した。これら混合物を、それぞれ前
者を本来の表示部Ａに、後者を入力操作部Ｂに、公知の
注入法でそれぞれ別々の注入孔より注入する。

【００３８】次に、前記混合物に紫外線を照射して、液
晶と重合性化合物との相分離を行う。本実施例では、電
極２ａ、２ｂの交差部分を絵素部とすべく、この絵素部
を遮光部とし、他の部分を透光部とするホトマスクを、
一方の基板の外部に設置し、このホトマスク側から紫外
線を、例えば１０ｍＷ／ｃｍ²の照度で照射した。この
とき、液晶は等方性の液体状態であってもかまわない。
このようにホトマスクを用いて光の強弱を選択的に発生
させることにより、目的とする位置に液晶領域と高分子
壁（ポリマー）とを配置させることができる。

【００３９】したがって、本実施例では、開口率と液晶
−重合性化合物の組成比とがほぼ一致している為に、重
合性化合物（高分子壁）が不足したり、過剰になること
はない。これに対して、従来のように、例えば液晶：重
合性化合物＝８７：１３の混合物を本来の表示部Ａと入
力操作部Ｂとに注入した場合、本来の表示部Ａでは十分
な高分子壁が形成されるが、入力操作部Ｂでは高分子量
が不足することになる。逆に、液晶：重合性化合物＝８
２．５：１７．５の混合物を本来の表示部Ａと入力操作
部Ｂとに注入した場合、入力操作部Ｂでは十分な高分子
壁が形成されるが、本来の表示部Ａでは高分子量が不足
することになる。

【００４０】このように本実施例による場合には、パネ
ル開口率の異なる領域が表示エリアに複数存在しても、
その開口率にあった液晶−重合性化合物の組成比を持つ
混合物として注入することで、目的とする位置に高分子
壁を形成することができる。よって、各領域において開
口率の低下やコントラストの低下が起こらないようにで
きる。また、この実施例のように、基板間に高分子壁の
柱がマトリクス状に配置されるため、ギャップ変化の極
めて少ない、ペン入力に適した液晶表示素子が得られる
こととなる。

【００４１】（具体例２）本具体例は、一対の基板の間
に隔壁を設ける手段として、一対の基板を貼り合わせる
際に基板の外周に設けるシール材を利用して形成する場
合である。

【００４２】図３（ａ）に示すように、具体例１と同様
に基板１ａ、１ｂとして、例えばアクリル系プラスチッ
クを用い、これらを一対とし、この基板１ａ、１ｂの上
に、たとえばＩＴＯからなる透明電極２ａ、２ｂを形成
する。このとき、ＩＴＯからなる透明電極２ａ、２ｂの
スパッタ温度を１００℃とした。本来の表示部Ａにおけ
る電極２ａ、２ｂは帯状に形成され、その電極幅は２８
０μｍ、電極間隔は２０μｍとした。また、入力操作部
Ｂにおける電極２ａ、２ｂは数字の０から９までをかた
どった形状に形成し、電極部：非電極部＝４０：６０
（面積比）とした。

【００４３】次に、この両基板１ａ、１ｂの電極２ａ、
２ｂ上に、例えばＳｉＯ₂の電気絶縁膜とポリイミドの
配向膜とをそれぞれ形成する。さらに配向膜表面をナイ
ロン布でラビング処理を施す。

【００４４】次に、図３（ｂ）に示すように、一方の基
板１ｂに、両基板１ａ、１ｂを貼り合わせるためのシー
ル材７を表示エリアの周辺部に形成し、加えて本来の表
示部Ａと入力操作部Ｂとの境界線にも同様のシール材を
隔壁８として形成する。ここで使用するシール材は、熱
硬化剤、ＵＶ硬化型でもよい。熱硬化型ではストラクト
ボンド（三井東圧化学製）など、またＵＶ硬化型ではワ
ールドロック（協立化学製）などが使用できる。また、
形成に印刷方法を用いる際は、本来の表示部Ａと入力操
作部Ｂとの境界線の隔壁として細いシールを印刷したい
場合、ディスペンサー法を用いたり、それ以外の場合は
スクリーン印刷法などを使用してもよい。上記隔壁８
は、最終的には本来の表示部Ａと入力操作部Ｂとを別々
に取り囲むシール材の役目を担っているので、上下基板
に密着した状態になることが望ましい。

【００４５】次に、図３（ｃ）に示すように、この状態
の両基板１ａ、１ｂを、間に図示しないスペーサを介し
てシール材７によって貼り合わせる。このとき、本来の
表示部Ａにおける電極２ａ、２ｂは、相互に電極が交差
するようになし、一方の入力操作部Ｂにおける電極２
ａ、２ｂは０から９までの数字を表示できるようになし
た。

【００４６】次に、具体例１と同様に、両基板１ａ、１
ｂの間に液晶材料と重合性化合物との混合物を注入す
る。このとき、本来の表示部Ａでは開口率が約８７．１
％であるので、液晶：重合性化合物＝８７：１３として
混合物を作製した。また、入力操作部Ｂでは開口率が約
４０％であるので、液晶：重合性化合物＝４０：６０と
して混合物を作製した。これら混合物をそれぞれ、前者
を本来の表示部Ａに、後者を入力操作部Ｂに、公知の注
入法で別々の注入孔より注入する。

【００４７】次に、液晶と重合性化合物との混合物に紫
外線を照射し、液晶領域と高分子壁とに相分離を行う。
このとき、本実施例では、本来の表示部Ａにおいては電
極２ａ、２ｂの交差部分を絵素部とし、入力操作部Ｂに
おいては両電極２ａ、２ｂの重畳部を数字部とした。Ｉ
ＴＯからなる透明電極は上述したように、低温（１００
℃）でスパッタしていることから、光が透過しにくくな
っており、特に紫外光領域では透過率が３０％程度とな
っているため、ホトマスクの機能を十分に果たす。よっ
て、ＩＴＯからなる透明電極をホトマスクとし、このホ
トマスク側から紫外線を、例えば１０ｍＷ／ｃｍ²の照
度で照射する。なお、照射の際、液晶は等方性液体状態
であってもかまわない。このようにホトマスクを用いて
光の強弱を選択的に発生させるので、目的とする位置に
液晶領域と高分子壁（ポリマー）とを配置させることが
できる。

【００４８】図４（ａ）は、このようにして得られた本
具体例２の液晶表示素子を示す断面図、図４（ｂ）はそ
の液晶表示素子の平面図を示す。

【００４９】したがって、本実施例による場合には、こ
のようにパネル開口率の異なる領域が複数存在しても、
その開口率にあった液晶−重合性化合物の組成比を混合
物として注入することで、目的とする位置に高分子壁お
よび液晶領域を形成することができる。よって、各領域
において開口率の低下やコントラストの低下が起こらな
いようにできる。また、この実施例の場合にも、基板間
に高分子壁の柱がマトリクス状に配置されるため、ギャ
ップ変化の極めて少ない、ペン入力に適した液晶表示素
子を得ることができる。

【００５０】上記実施例では表示エリアに入力操作部が
１つ存在する場合を例に挙げて説明しているが、本発明
はこれに限らず、表示エリアに入力操作部が２以上存在
する場合や、入力操作部に加えて、または入力操作部に
代えて他の絵素開口率の異なった領域が存在する場合に
も同様にして適用することができる。

【００５１】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、表示エリ
アに絵素開口率の異なった領域が複数存在する場合、そ
れぞれの領域に液晶と重合性化合物との組成比の異なる
混合物を注入するので、それぞれの領域に液晶領域と高
分子壁とを任意の位置に形成することができので、各領
域において開口率の低下やコントラストの低下が起こら
ないようにできる。また、高分子壁を両基板の内面に達
する柱状に形成することにより、液晶表示素子の外部か
らの衝撃に対する強度を向上させることができ、通常の
ペン入力時にかかる圧力に対して十分に耐えることがで
きる。また、このような特徴と生かすことにより、携帯
用情報端末装置などのペン入力タイプの液晶表示素子や
持ち運びを必要とするＯＡ機器に利用することができ
る。

【００５２】また、表示エリアにおける絵素開口率の異
なった領域の間に隔壁を設けることにより、液晶と高分
子の相分離の際に、お互いの領域を侵食することがな
く、各領域で明確に液晶領域と高分子壁とを形成するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）は、本発明の一実施例である液晶表示素
子の構成を示す正面図であり、（ｂ）はその断面図であ
る。

【図２】具体例１の液晶表示素子を作製する作製工程を
示す断面図である。

【図３】具体例２の液晶表示素子を作製する作製工程を
示す断面図である。

【図４】（ａ）は、具体例２の液晶表示素子を示す断面
図、図４（ｂ）はその液晶表示素子の平面図を示す。

【符号の説明】

１ａ、１ｂ基板２ａ、２ｂ電極３ａ、３ｂ電気絶縁膜４ａ、４ｂ配向膜５高分子壁６液晶領域７シール材８隔壁９注入孔１０境界線

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の基板間に挟まれている表示媒体が
高分子壁によって液晶領域が囲まれている構成であり、
かつ、表示エリア内に絵素開口率の異なる領域が複数存
在している液晶表示素子において、前記絵素開口率の異なっている各領域が、隔壁にて仕切
られており、前記一対の基板間と前記隔壁とに仕切られた各領域に、
それぞれの領域毎に形成される液晶と高分子壁との体積
比に応じた組成比の液晶材料と重合反応により重合性化
合物となる高分子用材料との混合物を注入し、該混合物を重合反応により液晶材料と重合性化合物とを
相分離させることにより、前記絵素開口率の異なった領
域毎に、液晶と高分子壁との占有体積の割合が異なる構
成の表示媒体となっている液晶表示素子。
【請求項２】前記絵素開口率の異なる領域が、有機膜
または無機膜からなる隔壁にて仕切られている請求項１
記載の液晶表示素子。
【請求項３】前記絵素開口率の異なる領域を仕切る隔
壁が、基板を貼り合わせているシール材で形成されてい
る請求項２記載の液晶表示素子。