JP4076745B2 - コインメタルカルコゲンの製法 - Google Patents

コインメタルカルコゲンの製法 Download PDF

Info

Publication number
JP4076745B2
JP4076745B2 JP2001239013A JP2001239013A JP4076745B2 JP 4076745 B2 JP4076745 B2 JP 4076745B2 JP 2001239013 A JP2001239013 A JP 2001239013A JP 2001239013 A JP2001239013 A JP 2001239013A JP 4076745 B2 JP4076745 B2 JP 4076745B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
alkyl group
chalcogen
chemical formula
halogen
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2001239013A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003054948A (ja
Inventor
晋二 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Science and Technology Agency
National Institute of Japan Science and Technology Agency
Original Assignee
Japan Science and Technology Agency
National Institute of Japan Science and Technology Agency
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Science and Technology Agency, National Institute of Japan Science and Technology Agency filed Critical Japan Science and Technology Agency
Priority to JP2001239013A priority Critical patent/JP4076745B2/ja
Publication of JP2003054948A publication Critical patent/JP2003054948A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4076745B2 publication Critical patent/JP4076745B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、カドミウムカルコゲンなどのコインメタルカルコゲンを簡易かつ安全な方法により高純度で製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、代表的コインメタルカルコゲンであるカドミウムカルコゲンは、カドミウム源としてカドミウム硫酸塩CdSO、カドミウム炭酸塩CdCO、カドミウム塩化物CdCl及びジメチルカドミウム(CHCdを、これらにカルコゲン源としてカルコゲン水素化物、カルコゲンまたはナトリウムカルコゲニド等を反応させることにより合成されてきた(例えば、O. Milligan, J. Phys. Chem. 38, 797 (2001); A. Schleede and J. Glassner, German Patent 699320 (1938))。しかし上記硫酸塩や塩化物を用いる反応は酸性条件を必要とし、カルコゲン水素化物の猛毒性と共に生産設備に種々の制約を余儀なくされてきた。またジメチルカドミウムは猛毒かつ高価にして、室温で不安定かつ加熱により爆発性を有するため、生産設備はさらに種々の制約を受け、とうてい安価かつ安全な製造法とはいえない。カドミウム源としてカドミウム金属を用いる方法(R. Frerich, Naturwiss. 32, 2181 (1946))は800℃以上の高温を要する。一方、最近Z.A.Pengらにより提案されたカドミウムカルコゲンの製造法(J. Am. Chem. Soc. 123, 183-184(2001))では、原料に酸化カドミウムを用いているが、Cd−Oの強い結合力を切断してカルコゲンと再結合させるため、反応条件は高温高圧を要し、かつ簡単に得にくい高純度のCdOを用いる必要がある。さらに文献では粒度形状が均一なナノクリスタルが得られると記載されているが、得られる結晶の多くがナノクリスタルである保証はない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
このようにカドミウムカルコゲンなどのコインメタルカルコゲンを製造するための適当な中間体が用いられていなかったため、従来の製法は上記のようにジメチルカドミウムなどの危険な化合物をかなり激しい条件で反応させて得ていた。従って、その反応自体も危険が伴うことが多かった。また、このようにして得たコインメタルカルコゲンは純度の高いものとはいい難かった。
本発明は、このような従来の製法とは全く考え方が異なる新規なものである。即ち、従来とは異なる中間体を用いることにより、極めて穏やかな条件で、かつ簡易にコインメタルカルコゲンを製造することが可能になり、かつ製造されたコインメタルカルコゲンの純度は極めて高い。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下記化学式(2)
Figure 0004076745
(式中のEはカルコゲン、Aはコインメタルを表す。Rは下記を参照されたい。)で表される化合物を、コインメタルカルコゲンを製造するための中間体として用いることに特徴がある。即ち、この化学式(2)で表される化合物のRC(O)とEとの間の結合が、E−A結合に比べて、極めて弱いことに注目し、この結合を切断することによりコインメタルカルコゲンを製造することができることを見出した点に特徴がある。その結果、極めて穏やかな条件で、かつ簡易にコインメタルカルコゲンを製造することが可能になり、更に製造されたコインメタルカルコゲンの純度は極めて高いことがわかった。
【0005】
即ち、本発明は、下記化学式(1)
Figure 0004076745
(式中、Eはカルコゲン(S、Se又はTe)を表し、Rはアルキル基(該アルキル基はハロゲン、アルコキシ基若しくはニトロ基で置換されていてもよい。)、アリール基(該アリール基はアルキル基、ハロゲン、アルコキシ基若しくはニトロ基で置換されていてもよい。)、RN−(R及びRは、それぞれ同じか若しくは異なってもよく、それぞれ水素、アルキル基又はアリール基を表す。)、又はRO−(Rはアルキル基又はアリール基を表し、該アルキル基及びアリール基はハロゲン、アルコキシ基若しくはニトロ基で置換されていてもよい。)を表し、MはLi、Na、K、Rb、Cs又は N−(Rは水素又はアルキル基を表し、Rは環を形成してもよい。)を表す。)で表される化合物を水及びアルコールの少なくとも一方から成る溶媒中でコインメタル(Zn、Cd、Hg又はCu)のハロゲン化物と反応させることにより下記化学式(2)
Figure 0004076745
(式中、Aはコインメタルを表し、E及びRは上記と同様を表す。)で表される化合物を生成させ、生成した該化合物を空気中に放置又は加熱することによりコインメタルカルコゲンを製造する方法である。
【0006】
【発明の実施の形態】
本発明の方法に用いる中間体化合物は、下記化学式(2)
Figure 0004076745
(式中、Eはカルコゲン(S、Se又はTe)を表し、Aはコインメタル(Zn、Cd、Hg又はCu)を表す。)で表される化合物である。
式中、Rはアルキル基、アリール基、RN−(R及びRは後述する。)又はRO−(Rは後述する。)を表す。
このアルキル基に特に制限はなく、直鎖でも分枝鎖を有するものでもよい。この炭素数は18以下が好ましい。また、このアルキル基はハロゲン、アルコキシ基又はニトロ基で置換されていてもよい。このハロゲンとしては、塩素が好ましく、アルコキシ基としては炭素数が3以下のものが好ましく、メトキシ基がより好ましい。
【0007】
また、アリール基としてはフェニル基が好ましい。このアリール基はアルキル基、ハロゲン、アルコキシ基若しくはニトロ基で置換されていてもよい。この置換アルキル基としては炭素数が2以下のものが好ましく、メチル基がより好ましい。この置換ハロゲンとしては、塩素が好ましく、置換アルコキシ基としてはメトキシ基が好ましい。
N−におけるR及びRは、それぞれ同じか又は異なってもよく、それぞれ水素、アルキル基又はアリール基を表す。このアルキル基としては炭素数が2以下のものが好ましく、メチル基がより好ましい。アリール基としてはフェニル基が好ましい。
O−におけるRはアルキル基又はアリール基を表す。このアルキル基としては炭素数が3以下のものが好ましい。このアリール基としてはフェニル基が好ましい。このアルキル基及びアリール基はハロゲン、アルコキシ基又はニトロ基で置換されていてもよく、ハロゲンとしては塩素が好ましく、アルコキシ基としては炭素数が3以下のものが好ましく、メトキシ基がより好ましい。
【0008】
Rとして、具体的にはCH、C、i−C、n−C1735、C、2−CH、3−CH、4−CH、4−CHOC、2−ClC、3−ClC、4−ClC、2−NO、3−NO、4−NO、N(CH、N(C、N(Cなどが挙げられる。
カルコゲンの還元力はS、Se、Teの順に高く、高いほど本発明の製造法に適している。従って、化学式(2)のEとして、Se又はTeが好ましく、Teが最も好ましい。
一方、コインメタル(A)としては、Zn又はCd、特にCdが本発明の製造方法に適しており、好ましいといえる。
【0009】
以下、本発明の製法について説明する。
まず、エーテル又はホルムアミド中で下記化学式(3)
Figure 0004076745
(式中、Rは前記と同様を表し、Xはハロゲン、好ましくは塩素を表す。)で表される化合物とME(式中、M及びEは前記と同様を表す。)で表される化合物とを反応させることにより、下記化学式(1)
Figure 0004076745
で表される化合物を生成させる。式中、E及びRは上記と同様である。MとしてはLi、Na、K、Rb、Csを用いることができるが、アルカリ金属が好ましく、Na又はKがより好ましい。またMとしてR N−を用いてもよい。このRは水素又はアルキル基を表す。このアルキル基としては炭素数4以下のものが好ましい。またこのアルキル基は環状であってもよく、この場合にはR N−がピペラジニウム(−NC10)が好ましい。
【0010】
この化学式(3)で表される化合物として、安価な高純度工業原料であるアシルハロゲニド、カルバミオルハロゲニド又はアルコキシカルボニルハロゲニドを用いることができる。本発明においてはこのような原料から最終的にコインメタルカルコゲンを製造することが可能であるので、その製造コストは極めて経済的であるということができる。
【0011】
この反応は下記反応式に従って進行する。
Figure 0004076745
ここで溶媒としては、MXが溶解し、
Figure 0004076745
が溶解しない溶媒が好ましい。即ち、テトラヒドロフラン(THF)はこのような溶媒であるので、特に好ましい。このような溶媒を選択することにより、純度、収率とも上げることができる。
【0012】
本発明においては、化学式(1)で表される化合物を製造するために、以上記載した方法を用いてもよいし、別の方法を用いてもよい。
次に、化学式(1)で表される化合物を水及びアルコールの少なくとも一方から成る溶媒中でコインメタル(Zn、Cd、Hg又はCu)のハロゲン化物と反応させることにより下記化学式(2)
Figure 0004076745
(式中、A、E及びRは上記と同様を表す。)で表される化合物を製造する。
【0013】
この反応は下記反応式に従って進行する。
Figure 0004076745
この溶媒は水であることが好ましい。この右辺の化学式(2)で表される化合物は水(又はアルコール)に不溶であるため(MXは可溶である。)析出し、この化合物(1)を特に特殊な方法を取らずとも純粋な形で得ることが可能である。
【0014】
次に、上記の製法により生成した化学式(2)で表される化合物を空気中に放置若しくは加熱することにより、又は単にアルコール中に置くことにより、コインメタルカルコゲンを製造する。これらの方法に本発明の特徴が最もよく現れている。即ち、上記のようにして生成した化学式(2)で表される化合物を単に空気中に放置若しくは加熱すれば、又は単にアルコール中に置けば、極めて容易にコインメタルカルコゲンを製造することができ、かつこのようにして生成したコインメタルカルコゲンはこの簡易な製法のため、従来の方法に比べて純度が極めて高い。このような優れたコインメタルカルコゲンの製法は、即ち、極めてユニークな中間体(化学式(2)で表される化合物)を用いたことによるものである。
【0015】
既述のようにカルコゲンの還元力はS、Se、Teの順に高いが、化学式(2)で表される化合物を空気中に放置又は加熱することによりコインメタルカルコゲンを生成する段階において、還元力が高いほど容易に反応が進み、より穏やかな条件でコインメタルカルコゲンをもたらすことができる。この反応は下記反応式に従って進行する。
Figure 0004076745
即ち、カルコゲン(E)がSの場合には、80〜150℃、特に80〜100℃において5時間程度でコインメタルカルコゲン(AE、E=S)をもたらす。またカルコゲン(E)がSeの場合には、50〜120℃において2〜5時間程度でコインメタルカルコゲン(AE、E=Se)をもたらす。更にカルコゲン(E)がTeの場合には、0〜50℃において1時間以内、特に1〜10分程度でコインメタルカルコゲン(AE、E=Te)をもたらす。これらの条件から本発明の製造法に対する適性を考えると、化学式(2)のEとして、Se又はTeが好ましく、Teが最も好ましいことがわかる。
【0016】
一方、上記のいずれかの製法により生成した化学式(2)で表される化合物を水を含んでもよいアルコール、好ましくは水を含まないアルコールに入れることによりコインメタルカルコゲンを製造することができる。即ち、化学式(2)で表される化合物は水を含んでもよいアルコール中、好ましくは水を含まないアルコール中で還流すると、アルコリシス反応を起こしコインメタルカルコゲンをもたらす。この反応は下記反応式に従って進行する。
Figure 0004076745
このアルコリシス反応の条件は、既述のようにカルコゲンの種類に依存し、上記と同様にS、Se、Teの順に穏やかな条件で反応が進み、具体的には0〜150℃で5時間以内である。
【0017】
【実施例】
以下、本発明を実施例にて例証するが、本発明を限定することを意図するものではない。
本実施例で用いた金属リチウム、金属ナトリウム、金属カリウム、アシルハロゲニド、カルバモイルハロゲニド、アルコキシカルボニルハロゲニド、塩化カドミウム、塩化亜鉛、塩化銀はNacalai Tesque Co.から購入したものを用いた。
化学式(1)で示されるカルコゲノカルボン酸、カルコゲノカルバミン酸およびカルコゲノカーボン酸カドミウム塩の合成法以下の合成操作は全て窒素気流下で行い、使用する溶媒は脱気、窒素置換した溶媒を用いる。
【0018】
実施例1
4−メトキシチオ安息香酸ナトリウム塩0.456g(2ミリモル)を水20mlに溶解させ、これを塩化カドミウム0.295g(1ミリモル)の水溶液(20ml)にゆっくり加え、室温で1時間攪拌する。析出した微細な白色結晶をろ過することにより、分解点142〜144℃のカドミウムビス(4−メトキシベンゼンカルボチオエート)(化学式(2)、R=4−CH、E=S)を97%の収率で得た。(IR(KBr):1654cm−1
次に、上記で得たカドミウムビス(4−メトキシベンゼンカルボチオエート)の1ミリモルをエタノール30mlにけん濁させ、3時間加熱還流する。沈殿物をろ過することにより、硫化カドミウムをレモンイエローからオレンジ色の微細結晶の粉末として98%の収率で得た。
【0019】
実施例2
4−メトキシセレノ安息香酸ナトリウム塩0.456g(2ミリモル)を水20mlに溶解させ、これを塩化カドミウム0.295g(1ミリモル)の水溶液(20ml)にゆっくり加え、室温で1時間攪拌する。析出した微細な白色結晶をろ過することにより、分解点109〜115℃のカドミウムビス(4−メトキシベンゼンカルボセレノエート)(化学式(2)、R=4−CH、E=Se)を94%の収率で得た。(IR(KBr):1655cm−1
次に、上記で得たカドミウムビス(4−メトキシベンゼンカルボセレノエート)の1ミリモルをエタノール30mlにけん濁させ、3時間加熱還流する。沈殿物を濾過することにより、セレン化カドミウムを暗赤色の微細結晶の粉末として96%の収率で得た。
【0020】
実施例3
4−メトキシベンゾイルクロリド0.342g(2ミリモル)のTHF溶液(20ml)を、テルル化ナトリウム0.191g(1.1ミリモル)に0℃で加え、1時間攪拌する。不溶物(NaClと過剰のNaTe)を濾別した後、THFを減圧除去し、次いで蒸留水10mlを加え4−メトキシテルロ安息香酸ナトリウム塩(1.1ミリモル)を含む水溶液を得る。この水溶液を塩化カドミウム0.228g(1ミリモル)の水溶液(10ml)に室温でゆっくり加え、1時間攪拌する。析出した微細な淡黄色結晶をろ過することにより、カドミウムビス(4−メトキシベンゼンカルボテルロエート)(化学式(2)、R=4−CH、E=Te)を97%の収率で得た。
次に、上記で得たカドミウムビス(4−メトキシベンゼンカルボテルロエート)の1ミリモルをエタノール30mlにけん濁させ、3時間加熱還流する。沈殿物を濾過することにより、テルル化カドミウムを黒色の微細結晶の粉末として95%の収率で得た。
【0021】
【発明の効果】
上記のように、本発明のコインメタルカルコゲンの製法により、極めて穏やかな条件で、かつ簡易にコインメタルカルコゲンを製造することが可能になり、製造されたコインメタルカルコゲンの純度は極めて高い。更に、安価な高純度工業原料であるアシルハロゲニド、カルバミオルハロゲニド又はアルコキシカルボニルハロゲニドを用いることができるので、コインメタルカルコゲンを極めて経済的に製造することができる。

Claims (6)

  1. 下記化学式(1)
    Figure 0004076745
    (式中、Eはカルコゲン(S、Se又はTe)を表し、Rはアルキル基(該アルキル基はハロゲン、アルコキシ基若しくはニトロ基で置換されていてもよい。)、アリール基(該アリール基はアルキル基、ハロゲン、アルコキシ基若しくはニトロ基で置換されていてもよい。)、RN−(R及びRは、それぞれ同じか若しくは異なってもよく、それぞれ水素、アルキル基又はアリール基を表す。)、又はRO−(Rはアルキル基又はアリール基を表し、該アルキル基及びアリール基はハロゲン、アルコキシ基若しくはニトロ基で置換されていてもよい。)を表し、MはLi、Na、K、Rb、Cs又は N−(Rは水素又はアルキル基を表し、Rは環を形成してもよい。)を表す。)で表される化合物を水及びアルコールの少なくとも一方から成る溶媒中でコインメタル(Zn、Cd、Hg又はCu)のハロゲン化物と反応させることにより下記化学式(2)
    Figure 0004076745
    (式中、Aはコインメタルを表し、E及びRは上記と同様を表す。)で表される化合物を生成させ、生成した該化合物を空気中に放置又は加熱することによりコインメタルカルコゲンを製造する方法。
  2. 下記化学式(1)
    Figure 0004076745
    (式中、Eはカルコゲン(S、Se又はTe)を表し、Rはアルキル基(該アルキル基はハロゲン、アルコキシ基若しくはニトロ基で置換されていてもよい。)、アリール基(該アリール基はアルキル基、ハロゲン、アルコキシ基若しくはニトロ基で置換されていてもよい。)、RN−(R及びRは、それぞれ同じか若しくは異なってもよく、それぞれ水素、アルキル基又はアリール基を表す。)、又はRO−(Rはアルキル基又はアリール基を表し、該アルキル基及びアリール基はハロゲン、アルコキシ基若しくはニトロ基で置換されていてもよい。)を表し、MはLi、Na、K、Rb、Cs又は N−(Rは水素又はアルキル基を表し、Rは環を形成してもよい。)を表す。)で表される化合物を水及びアルコールの少なくとも一方から成る溶媒中でコインメタル(Zn、Cd、Hg又はCu)のハロゲン化物と反応させることにより下記化学式(2)
    Figure 0004076745
    (式中、Aはコインメタルを表し、E及びRは上記と同様を表す。)で表される化合物を生成させ、生成した該化合物を水を含んでもよいアルコール中でアルコリシス反応によりコインメタルカルコゲンを製造する方法。
  3. 前記化学式(1)で表される化合物を、エーテル又はホルムアミド中で下記化学式(3)
    Figure 0004076745
    (式中、Rは前記と同様を表し、Xはハロゲンを表す。)で表される化合物とME(式中、M及びEは前記と同様を表す。)で表される化合物とを反応させることにより得ることから成る請求項1又は2に記載の製法。
  4. 前記溶媒が水である請求項1〜3のいずれか一項に記載の製法。
  5. 前記EがSe又はTeであり、AがZn又はCdである請求項1〜4のいずれか一項に記載の製法。
  6. 前記エーテル又はホルムアミドとしてTHFを用いる請求項3〜5のいずれか一項に記載の製法。
JP2001239013A 2001-08-07 2001-08-07 コインメタルカルコゲンの製法 Expired - Fee Related JP4076745B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001239013A JP4076745B2 (ja) 2001-08-07 2001-08-07 コインメタルカルコゲンの製法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001239013A JP4076745B2 (ja) 2001-08-07 2001-08-07 コインメタルカルコゲンの製法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003054948A JP2003054948A (ja) 2003-02-26
JP4076745B2 true JP4076745B2 (ja) 2008-04-16

Family

ID=19069837

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001239013A Expired - Fee Related JP4076745B2 (ja) 2001-08-07 2001-08-07 コインメタルカルコゲンの製法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4076745B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2003054948A (ja) 2003-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Stuczynski et al. Formation of metal-chalcogen bonds by the reaction of metal-alkyls with silyl chalcogenides
Armstrong et al. Convenient, high-yield synthesis of tetraethylammonium (. mu.-oxo) bis [trichloroferrate (III)](Et4N) 2 [Fe2OCl6]
JPH0656413A (ja) 六フッ化リン酸塩の製造方法
Klapötke et al. Synthesis, chemistry, and characterization of perfluoroaromatic selenium derivatives
JPS6241706A (ja) 黒鉛層間化合物の製造方法
JP4076745B2 (ja) コインメタルカルコゲンの製法
Uhl et al. Formation of the Digallium Compound [(C5C6) 2N3](R) Ga–Ga (R)[N3 (C6H5) 2] with Two Bis (trimethylsilyl) methyl Groups and Two Terminal Chelating Diphenyltriazenido Ligands
Kato et al. The preparation of ferrocenedithiocarboxylic acid derivatives and their spectral properties
Tang et al. Synthesis and crystal structure of a novel pentaconta-nuclear silver anionic cluster complex [HNEt 3] 4 [Ag 50 S 7 (SC 6 H 4 Bu t-4) 40]· 2CS 2· 6C 3 H 6 O
JP3353068B2 (ja) 炭素骨格の一部がホウ素及び窒素で置換されたヘテロフラーレンの製造方法
JPH1053414A (ja) 金属二硫化物の製造方法及びそれらを更に処理して二金属三硫化物を生成する方法
JP2010235453A (ja) 白金錯体の製造方法
KR100803948B1 (ko) 신규의 카드뮴 셀레나이드 화합물, 이의 제조방법 및 이를이용한 카드뮴 셀레나이드 나노 입자 제조방법
JPS6284091A (ja) V族金属含有導電性無機高分子化合物の製造方法
JP2002371088A (ja) スルホン酸アミン塩およびその製造方法
Patel et al. Influence of intramolecular ring-ring π, π-interaction on crystal building in ternary compound of nickel (II) chelates of 2, 2’-{[2-(4-methylphenyl) ethyl] azanediyl} diacetic acid and 1, 10-phenanthroline–Synthesis, spectral, optical and quantum chemical study
JPS61218555A (ja) トリフルオロジクロロエチル基により置換された酸類の製法および亜鉛化合物類
EP0390833B1 (en) Method for purification of tellurium and selenium alkyls
JPS62260719A (ja) 前周期遷移金属ポリスルフイド錯体およびその製造方法
JP2864985B2 (ja) トリ(第2級アルキル)シラン化合物の製造方法
JP2847181B2 (ja) 金属(ヒ素、アンチモン又はビスマス)酸化物からの有機金属化合物の2段階製造法
JP3917826B2 (ja) テトラメルカプトビフェニル及びその合成方法
Drisya et al. Structural, thermal decomposition and luminescent studies on gel grown crystals of poly [tetraaquadinicotinatostrontium (II)] containing ‘χ’-shaped hydrophobic channels
US3329716A (en) Chemical process
JPH0519489B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040705

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070402

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070821

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070928

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080123

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080130

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110208

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees