JP6819638B2 - 酸化物イオン伝導体及び電気化学デバイス - Google Patents
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Description
一方、ビスマスがより少ない組成でも、例えば、Bi4V2O11(Bi67%含有)などでは、アクセプタードーピングにより高いイオン伝導度が実現されている(非特許文献3参照)。但し、酸化ビスマスが多い組成では、耐還元性や安定性に問題がある。酸化ビスマスの含有量が少なくなるにつれて、安定性は増すが、イオン伝導度は低下する。
また、本発明が解決しようとする他の課題は、700℃以下におけるイオン伝導度がYSZより高い、新規な酸化物イオン伝導体を提供することにある。
さらに、本発明が解決しようとする他の課題は、このような酸化物イオン伝導体を用いた電気化学デバイスを提供することにある。
Bix(Nb1-a-bTaaAb)1-x-cBcOδ ・・・(1)
但し、
Aは、Ti、Zr、及びGaからなる群から選ばれるいずれか1以上の元素、
Bは、1種又は2種以上の第2族元素、
0<x≦0.8、0≦a≦1.0、0≦b≦0.1、0<c<0.8、
δは、電気的中性が保たれる値。
Nb及びTaは、ドナーイオンであるため、酸素欠陥を減らしてイオン伝導度を低下させる。一方、第2族元素はアクセプターである。そのため、Nb及び/又はTaと第2族元素とを同時にドープすると、蛍石型構造を保ったまま、酸素欠陥量が増加し、イオン伝導度が向上する。
[1. 酸化物イオン伝導体]
本発明に係る酸化物イオン伝導体は、次の式(1)で表される組成を有する酸化物からなる。
Bix(Nb1-a-bTaaAb)1-x-cBcOδ ・・・(1)
但し、
Aは、Ti、Zr、及びGaからなる群から選ばれるいずれか1以上の元素、
Bは、1種又は2種以上の第2族元素、
0<x≦0.8、0≦a≦1.0、0≦b≦0.1、0<c<0.8、
δは、電気的中性が保たれる値。
本発明に係る酸化物イオン伝導体は、その組成に応じて、蛍石型構造、Bi層状化合物構造などの結晶構造を取る。
本発明において、酸化物イオン伝導体の結晶構造は、特に限定されない。高いイオン伝導度を得るためには、蛍石型構造が有利であるが、他の結晶構造(例えば、Bi層状化合物構造)であっても、組成によってはYSZを超えるイオン伝導度を示すものがある。
なお、組成によっては、単相とならず、式(1)で表される組成を有するBi系酸化物と、他の相(例えば、Bi2O3など)との混相になる場合がある。
[1.2.1. 元素A]
元素Aは、Nb又はTaを置換する元素であり、必要に応じて添加することができる。本発明において、元素Aは、Ti、Zr、又はGaからなる。元素Aは、これらのいずれか1種の元素であっても良く、あるいは、2種以上の元素であっても良い。
Ti、Zr、及びGaは、いずれもイオン半径がNb及びTaに近い。また、Nb及びTaは5価であるのに対し、Ti及びZrは4価であり、Gaは3価である。そのため、Nb及び/又はTaの一部をこれらの元素Aで置換すると、酸素欠陥が生成し、高いイオン伝導度を示すようになる。
元素Bは、第2族元素(Be、Mg、Ca、Ba、Sr、Ra)である。本発明において、元素Bは、必須元素である。元素Bは、これらのいずれか1種の元素であっても良く、あるいは、2種以上の元素であっても良い。
Bi含有量が多い組成を有するBi系酸化物に対して、Caなどの第2族元素を添加すると、結晶構造が斜方晶に変化することが知られている。一方、Caに加えて僅かなNb及び/又はTaをさらにドープすると、イオン伝導に有利な蛍石型構造が安定化する。
さらに、Nb及びTaはドナーイオンであるため、Bi系酸化物中の酸素欠陥を減らしてイオン伝導度を下げる作用がある。一方、第2族元素はアクセプターである。そのため、Nb及び/又はTaと第2族元素とを同時にドープすると、蛍石型構造を保ったまま、酸素欠陥量が増加し、イオン伝導度が向上する。
xは、酸化物に含まれるBiの量を表す。本発明において、Biは必須元素である。すなわち、xは、0超である必要がある。一般に、Bi含有量が多くなるほど、イオン伝導度が高くなる傾向がある。xは、好ましくは、0.2以上、さらに好ましくは、0.4以上、さらに好ましくは、0.6以上である。
一方、Bi含有量が過剰になると、機械的強度や化学的安定性が低下する。従って、xは、0.8以下である必要がある。
aは、Nbを置換するTaの量を表す。本発明において、少なくともNb又はTaのいずれか一方は必須元素である。すなわち、aは0でも良い。一般に、Nbの一部をTaで置換すると、イオン伝導度が改善される。理由の詳細は不明であるが、実験事実として、Ta含有量が多くなるほど、イオン伝導度が高くなる傾向が確認された。aは、好ましくは、0超、さらに好ましくは、0.2以上である。
本発明において、Taのみが含まれていても良い。すなわち、aは1.0以下であれば良い。しかし、Ta含有量が過剰になると、作製時に高温での加熱が必要となる。また、Nbと比べて原料コストも高くなる。従って、aは、1.0未満が好ましい。aは、好ましくは、0.8以下、さらに好ましくは、0.6以下である。
bは、Nb又はTaを置換する元素Aの量を表す。本発明において、元素Aは必須元素ではない。すなわち、bは、0以上であれば良い。一般に、元素Aの含有量が多くなるほど、酸素欠陥の量が多くなり、イオン伝導度が高くなる。bは、好ましくは、0.005以上、さらに好ましくは、0.01以上である。
一方、元素Aの含有量が過剰になると、酸素欠陥の量が過剰となり、イオン伝導度が逆に低下する。また、元素Aが固溶せずに析出して、イオン伝導度の低下を招く可能性がある。従って、bは、0.1以下である必要がある。bは、好ましくは、0.04以下、さらに好ましくは、0.03以下である。
cは、元素Bの含有量を表す。本発明において、元素Bは必須元素である。すなわち、cは、0超である必要がある。一般に、元素Bの含有量が多くなるほど、イオン伝導度が高くなる。cは、好ましくは、0.1以上、さらに好ましくは、0.3以上である。
一方、元素Bの含有量が過剰になると、化学的安定性が低下する。従って、cは、0.0.8未満である必要がある。cは、好ましくは、0.72未満、さらに好ましくは、0.6以下、さらに好ましくは、0.5以下である。
δは、電気的中性が保たれる値である。δは、理想的には、元素の種類及び量で定まる。Biは3価、Ni及びTaは5価、元素Bは2価である。従って、元素Aとして4価の元素を用いた場合、δは、理想的には次の式(2)で表される。但し、実際には、δの値が式(2)から若干ずれることがある。
3x+5(1−b)×(1−x−c)+4b×(1−x−c)+2c=2δ ・・・(2)
[1.3.1. 具体例1]
酸化物イオン伝導体の第1の具体例は、0.2≦x≦0.8、0<a<1.0、0≦b≦0.1、0.1≦c≦0.6を満たすものからなる。このような組成範囲にある酸化物イオン伝導体は、蛍石型構造を取る場合と、それ以外の構造(例えば、Bi層状酸化物構造)を取る場合とがある。高いイオン伝導度を得るためには、酸化物イオン伝導体は、蛍石型構造を取るものが好ましい。
Bi系酸化物は、高温で使用すると徐々にイオン伝導度が低下するという問題がある。一方、CaとNb及び/又はTaとを同時にドープすると、高いイオン伝導度を保ったまま経時劣化を抑制することができる。また、1500℃以下で焼結できる材料系の場合、低温で焼結できる。そのため、他部材に組み付けながら焼結することにより、製造コストを低減することができる。
さらに、このような組成範囲にある酸化物イオン伝導体は、YSZと比べて700℃以下の低温で高いイオン伝導度を得ることができる。
酸化物イオン伝導体の第2の具体例は、0.6<x≦0.8、0<a<1.0、b=0、0<c<0.2を満たすものからなる。このような組成範囲にある酸化物イオン伝導体は、蛍石型構造を取る場合と、それ以外の構造(例えば、Bi層状酸化物構造)を取る場合とがある。高いイオン伝導度を得るためには、酸化物イオン伝導体は、蛍石型構造を取るものが好ましい。
Bi含有量が60%〜80%程度の組成領域では、代表的な酸化物イオン伝導体であるZrO2(イットリア安定化ジルコニア:YSZ)のイオン伝導度(10-2〜10-3S/cm@700℃)を超えるイオン伝導度(>10-2S/cm@500℃)が得られる。
また、このような組成範囲にある酸化物イオン伝導体は、YSZと比べて1桁程度高いイオン伝導度を得ることができる。
酸化物イオン伝導体の第3の具体例は、0.4<x≦0.6、0<a≦0.5、b=0、0<c<0.4を満たすものからなる。このような組成範囲にある酸化物イオン伝導体は、蛍石型構造以外の構造(例えば、Bi層状酸化物構造)を取る場合がある。高いイオン伝導度を得るためには、酸化物イオン伝導体は、蛍石型構造を取るものが好ましい。
Bi含有量が40%〜60%程度の組成領域では、Bi過剰組成と比べてイオン伝導度は低下するが、700℃においては、YSZに近いイオン伝導度(4×10-3S/cm)が得られる。
また、このような組成範囲にある酸化物イオン伝導体は、高いイオン伝導度を保ったまま、比較的高い化学的安定性を得ることができる。
酸化物イオン伝導体の第4の具体例は、0.2<x≦0.4、0.2<a≦0.8、b=0、0.3<c≦0.5を満たすものからなる。
Bi含有量が20%〜40%程度の組成領域では、Bi過剰組成と比べてイオン伝導度は低下するが、比較的高いイオン伝導度(1.0×10-3S/cm@700℃)が得られる。
また、このような組成範囲にある酸化物イオン伝導体は、YSZより少し高いイオン伝導度を持ち、機械的安定性や化学的安定性が比較的高いという特徴がある。
酸化物イオン伝導体の第5の具体例は、0<x≦0.2、0<a≦0.8、b=0、0.4<c<0.72を満たすものからなる。このような組成範囲にある酸化物イオン伝導体は、蛍石型構造以外の構造(例えば、Bi層状酸化物構造)を取る場合がある。高いイオン伝導度を得るためには、酸化物イオン伝導体は、蛍石型構造を取るものが好ましい。
また、このような組成範囲にある酸化物イオン伝導体は、YSZと比べてイオン伝導度低いが、比較的化学的安定性が高く、700℃の低温で10-3S/cm程度の比較的高いイオン伝導度を実現できる。
酸化物イオン伝導体の第6の具体例は、0.4<x≦0.44、0≦a≦0.8、0<b≦0.04、c=0.2を満たすものからなる。このような組成範囲にある酸化物イオン伝導体は、蛍石型構造以外の構造(例えば、Bi層状酸化物構造)を取るが、この組成範囲では、Bi層状化合物構造を取るものであっても、高いイオン伝導度を示す。
また、このような組成範囲にある酸化物イオン伝導体は、YSZと比べてイオン伝導度は低いが、比較的化学的安定性が高く、700℃の低温で10-3S/cm程度の比較的高いイオン伝導度を実現できる。
本発明に係る酸化物イオン伝導体において、組成を最適化すると、高いイオン伝導度が得られる。具体的には、組成を最適化すると、700℃におけるイオン伝導度は、1×10-3S/cm以上となる。
また、本発明に係る酸化物イオン伝導体において、組成を最適化すると、700℃以下におけるイオン伝導度は、8mol%のY2O3を含むZrO2のそれより大きくなる。
本発明に係る酸化物イオン伝導体は、各種の電気化学デバイスの固体電解質に用いることができる。本発明が適用される電気化学デバイスとしては、例えば、
(a)固体酸化物形燃料電池(SOFC)、
(b)酸素ガスセンサ、
(c)排ガス浄化用素子、
(d)固体酸化物形電解セル(SOEC)、
などがある。
本発明に係る酸化物イオン伝導体は、
(a)所定の組成となるように原料を混合し、
(b)原料混合物を所定の条件下で仮焼し、
(c)仮焼粉を適度に粉砕した後、仮焼粉を成形・焼結する
ことにより製造することができる。
製造条件は、特に限定されるものではなく、目的とする組成に応じて、最適な条件を選択するのが好ましい。
SOFCなどの電気化学デバイスに用いられる固体電解質には、現在、YSZが広く用いられている。しかし、YSZは、以下のような問題がある。
(a)YSZは、イオン伝導度が未だ不十分である。
(b)YSZは、伝導の活性化エネルギーが比較的高く(約100kJ/mol)、温度が700℃未満になると急激にイオン伝導度が低下する。
(c)YSZは、通常、800〜1000℃程度の高温で使用される。そのため、YSZの周辺部材には、耐熱性が高く、作動温度域においてYSZと反応せず、かつ、YSZと熱膨張係数が近い材料を用いる必要がある。
(d)YSZは、高温での焼結が必要である。YSZは、通常、1500℃程度で焼結されるため、YSZを焼結後に所定の形状に加工し、それから他部材と接合する必要がある。そのため、製造コストの低減が難しい。
(a)電解質を極めて薄い膜にする方法、
(b)高性能な電極を用いて過電圧を低減する方法、
(c)高イオン伝導性を示す新規な材料を開発する方法
などが提案されている。
Nb及びTaは、ドナーイオンであるため、酸素欠陥を減らしてイオン伝導度を低下させる。一方、第2族元素はアクセプターである。そのため、Nb及び/又はTaと第2族元素とを同時にドープすると、蛍石型構造を保ったまま、酸素欠陥量が増加し、イオン伝導度が向上する。
[1. 試料の作製]
[1.1. Bi系酸化物(実施例1〜4)]
[1.1.1. ライブラリ膜の作製]
化学溶液法により組成を連続的に変化させたBi系酸化物薄膜のライブラリを作製し、それらのイオン伝導度を評価することで有望な組成のスクリーニングを行った。原料には、キシレン又は酢酸ブチルに各種金属塩を溶解させた溶液を用いた。それらの原料を所望の組成となるようにマイクロプレートに秤量し、振とう撹拌させることで前駆体溶液を得た。
膜厚計によりライブラリ膜の膜厚を計測した後、膜上の電極間距離が0.5mmとなるように、ライブラリ膜の上にマスクを設置し、スパッタ装置でPt電極を製膜した。
アルミナ基板上に、イットリア安定化ジルコニア(YSZ、8mol%Y2O3)をスパッタ製膜した。ライブラリ膜と同様の測定条件を確保するため、スパッタ膜をライブラリ膜と同様に、1基板当たり3×3mmで6×6個の膜に分割した。以下、実施例1〜4と同様にして、Pt電極を製膜した。
酸化物膜が製膜された基板をホトプレートに乗せて、窒素雰囲気中で、500〜800℃に加熱した。この状態で、Pt電極の上に、インピーダンスアナライザに接続したプローブ電極を押し当てて、酸化物膜の交流インピーダンス測定を行った。
得られたインピーダンスの値、膜厚、及び電極間距離から、各温度における各組成の酸化物膜のイオン伝導度を算出した。
[3.1. YSZ(比較例1)のイオン伝導度]
図1に、イットリア安定化ジルコニア(8mol%Y2O3)の700℃でのイオン伝導度を示す。分割箇所により若干の誤差はあるが、700℃において、平均3.5×10-3S/cmのイオン伝導度が得られた。
図2〜6に、Bix(Nb1-a-bTaaAb)1-x-cBcOδの700℃又は600℃におけるイオン伝導度の組成依存性を示す。膜厚が1μmであるため、測定可能なイオン伝導度の値は、1×10-3S/cm以上である。図2〜6中、比較例1と比べてイオン伝導度が低い組成に関しては、ハッチング付きの棒グラフで示した。図2〜6より、Bi含有量(x)が多い組成ほど、イオン伝導度が高くなる傾向が明らかとなった。
図2に、x=0.8(Bi:80at%)であるBix(Nb1-a-bTaaAb)1-x-cBcOδの700℃でのイオン伝導度の組成依存性を示す。Bi含有量(x)をx=0.8に固定した場合、すべての組成で1×10-3S/cm@700℃以上の高いイオン伝導度を示した。この組成では、Bi−Ca−Nb−Taの4元系酸化物にすることで、多くの組成で700℃においてYSZを超えるイオン伝導度が得られた。
特に、Caドープ量(c)が14%以上の組成範囲では、Ta置換量(a)が0<a≦0.8の組成範囲においてイオン伝導度が高くなり、a=0.4の組成では、1×10-1S/cmを超えるイオン伝導度を示した。
但し、Ba系に関しては、c=0.14の場合には、イオン伝導度は測定可能値よりも低くなった。
図4に、x=0.6(Bi:60at%)であるBix(Nb1-a-bTaaAb)1-x-cBcOδの700℃でのイオン伝導度の組成依存性を示す。Bi含有量(x)が0.6の組成では、Ta含有量(a)が0.4以下の組成範囲では、ほとんどの組成において、1×10-3S/cm@700℃以上の高いイオン伝導度となることが分かった。特に、全体的にa=0.2の組成でイオン伝導度が高くなり、c=0.37の組成では、0<a≦0.4の範囲で高いイオン伝導度が維持されていた。
図5に、x=0.4(Bi:40at%)であるBix(Nb1-a-bTaaAb)1-x-cBcOδの700℃でのイオン伝導度の組成依存性を示す。Bi含有量(x)が0.4の組成では、0.4≦cの組成範囲で、1×10-3S/cm@700℃以上の高いイオン伝導度を示した。その中で、0.4≦a≦0.8の組成範囲では、YSZを超えるイオン伝導度を示す組成があることが分かった。
図6に、x=0.2(Bi:20at%)であるBix(Nb1-a-bTaaAb)1-x-cBcOδの700℃でのイオン伝導度の組成依存性を示す。Bi含有量(x)が0.2の組成でも、Caを56%含む組成において、1×10-3S/cm以上の高いイオン伝導度を示すことが分かった。また、この場合も、NbとTaを同時にドーピングすることで、イオン伝導度がさらに高くなることが分かった。
[1. 試料の作製]
実施例1と同様にして、Ta及び/又はNbを含む種々のBi系酸化物(試料No.1〜7)を作製した。
実施例1と同様にして、各種Bi系酸化物の700℃におけるイオン伝導度を測定した。表1に、その結果を示す。表1より、以下のことが分かる。
(1)試料No.1〜7は、いずれもイオン伝導体として機能した。これらは、いずれもBi層状化合物であり、強誘電体であることは知られていたが、イオン伝導体としては知られていない。
(2)Taサイトの一部をZrに置換することで、イオン伝導度が向上することが分かった(試料No.1→試料No.2)。
(3)CaサイトをBaで置換することで、イオン伝導度が向上した(試料No.1→試料No.7)。
(4)Sr系では、10-3S/cmを超える高いイオン伝導度が達成されることがわかった(試料No.3〜6)。
(5)Nbの一部をGaで置換することで、イオン伝導度が少し向上した(試料No.3→試料No.4)。
(6)Taサイトの一部をZrで置換することで、イオン伝導度が向上した(試料No.5→試料No.6)。
Claims (10)
- 次の式(1)で表される組成を有する酸化物からなる酸化物イオン伝導体。
Bix(Nb1-a-bTaaAb)1-x-cBcOδ ・・・(1)
但し、
Aは、Ti、Zr、及びGaからなる群から選ばれるいずれか1以上の元素、
Bは、1種又は2種以上の第2族元素、
0.2≦x≦0.8、0<a<1.0、0≦b≦0.1、0.1≦c≦0.6、
δは、電気的中性が保たれる値。 - 次の式(1)で表される組成を有する酸化物からなる酸化物イオン伝導体。
Bi x (Nb 1-a-b Ta a A b ) 1-x-c B c O δ ・・・(1)
但し、
Aは、Ti、Zr、及びGaからなる群から選ばれるいずれか1以上の元素、
Bは、1種又は2種以上の第2族元素、
0.6<x≦0.8、0<a<1.0、b=0、0<c<0.2、
δは、電気的中性が保たれる値。 - 次の式(1)で表される組成を有する酸化物からなる酸化物イオン伝導体。
Bi x (Nb 1-a-b Ta a A b ) 1-x-c B c O δ ・・・(1)
但し、
Aは、Ti、Zr、及びGaからなる群から選ばれるいずれか1以上の元素、
Bは、1種又は2種以上の第2族元素、
0.4<x≦0.6、0<a≦0.5、b=0、0<c<0.4、
δは、電気的中性が保たれる値。 - 次の式(1)で表される組成を有する酸化物からなる酸化物イオン伝導体。
Bi x (Nb 1-a-b Ta a A b ) 1-x-c B c O δ ・・・(1)
但し、
Aは、Ti、Zr、及びGaからなる群から選ばれるいずれか1以上の元素、
Bは、1種又は2種以上の第2族元素、
0.2<x≦0.4、0.2<a≦0.8、b=0、0.3<c≦0.5、
δは、電気的中性が保たれる値。 - 次の式(1)で表される組成を有する酸化物からなる酸化物イオン伝導体。
Bi x (Nb 1-a-b Ta a A b ) 1-x-c B c O δ ・・・(1)
但し、
Aは、Ti、Zr、及びGaからなる群から選ばれるいずれか1以上の元素、
Bは、1種又は2種以上の第2族元素、
0<x≦0.2、0<a≦0.8、b=0、0.4<c<0.72、
δは、電気的中性が保たれる値。 - 蛍石型構造を備えている請求項1又は2に記載の酸化物イオン伝導体。
- 次の式(1)で表される組成を有する酸化物からなり、Bi層状化合物構造を備えている酸化物イオン伝導体。
Bi x (Nb 1-a-b Ta a A b ) 1-x-c B c O δ ・・・(1)
但し、
Aは、Ti、Zr、及びGaからなる群から選ばれるいずれか1以上の元素、
Bは、1種又は2種以上の第2族元素、
0.4<x≦0.44、0≦a≦0.8、0<b≦0.04、c=0.2、
δは、電気的中性が保たれる値。 - 700℃におけるイオン伝導度が1×10-3S/cm以上である請求項1から7までのいずれか1項に記載の酸化物イオン伝導体。
- 700℃以下におけるイオン伝導度が8mol%のY2O3を含むZrO2のそれより大きい請求項1から8までのいずれか1項に記載の酸化物イオン伝導体。
- 請求項1から9までのいずれか1項に記載の酸化物イオン伝導体を用いた電気化学デバイス。
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