JP7123809B2 - 未分化ｉＰＳ細胞の除去剤 - Google Patents

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Description

本発明は、イミダゾリルアミド誘導体およびその塩を含有する未分化iPS細胞の除去剤に関する。
人工多能性幹細胞（iPS細胞：induced pluripotent stem cell）は自己複製能と分化能を兼ね備える細胞であり、生体内にそのまま移植した場合、未分化状態のiPS細胞が混入されていると奇形腫（Teratoma）と呼ばれる腫瘍を形成する（非特許文献１）。奇形腫はいわゆる癌（悪性腫瘍）とは異なるものの、iPS細胞を出発材料とした細胞製品を開発する際、もし最終製品にiPS細胞が残存し、その細胞から奇形腫が形成されると、製品の安全性と有効性が損なわれる可能性がある。そこで、iPS細胞由来細胞製品を開発する際には、奇形腫形成能のある未分化状態のiPS細胞が製品中に存在しないことが極めて重要となる。
現在ではiPS細胞を高感度に検出することが可能となっているものの、検出には技術的な限界があり、特に大量の細胞から構成される細胞製品の場合、微量のiPS細胞の存在を完全には否定できない場合がある。そこで製造面からのアプローチとして、製品の中間体または最終製品についてiPS細胞を除去する処理を行うことで、微量のiPS細胞が存在する可能性を低減し、安全性を高めることを目的として、様々な手法が開発されている。例えば、細胞死を誘導する物質を用いてiPS細胞を除去する方法が挙げられる。
iPS細胞に対して細胞死を誘導できる物質としては、例えば、iPS細胞を認識する糖蛋白と毒素との融合蛋白（非特許文献２）、iPS細胞を認識して細胞死を誘導する抗体（非特許文献３）、脂肪酸不飽和化を阻害する化合物（特許文献１、非特許文献４）等が知られている。しかしながら、そのような物質として本発明のイミダゾリルアミド誘導体は知られていない。iPS細胞認識糖蛋白と毒素との融合蛋白、iPS細胞の除去抗体は、平面培養している単層のiPS細胞に対しては効率よく作用するものの、分子量の大きい巨大分子であるという性質上、血管系を持たない細胞塊に添加した場合、細胞塊内部に浸透する効率は極めて悪いと考えられている。
非特許文献５および６には、抗肥満薬として有用な４－アミノイミダゾール誘導体等が開示されている。しかしながら、それらの化合物がiPS細胞に対して細胞死を誘導できることは一切開示されていない。
特表２０１５－５２５２０７号公報
Pros One, 9, 1-11 (2014) Stem Cell Reports, 4, 1-10 (2015) Journal of Biological Chemistry, 290, 20071-20085 (2015) Cell Stem Cell, 12, 167-179 (2013) 第２７回メディシナルケミストリーシンポジウム講演要旨集、166-167頁 月刊ファインケミカル ２００９年８月号、シーエムシー出版、12-24頁
本発明が解決しようとする課題は、iPS細胞由来細胞医薬品中に存在する未分化状態のiPS細胞を効率的に除去する方法を提供することにある。
本発明者らは、鋭意検討した結果、がん細胞スフィア形成能抑制作用を有する下記式（１）で表される化合物またはその塩（以下、「本発明化合物」と称することもある。）が、iPS細胞由来細胞医薬品中に存在する未分化状態のiPS細胞を効率的に除去できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち本発明は、以下の通りである。
〔１〕 式（１）：
Figure 0007123809000001
 ［式中、Ｑ１は、置換されていてもよいＣ６－１０アリール、置換されていてもよいＣ６－１０アリールオキシ、置換されていてもよいＣ６－１０アリールチオ、置換されていてもよいＣ３－１０シクロアルキル、または置換されていてもよい５員～１０員のヘテロアリールを表し；
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、またはＣ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）を表し；
Ｗ１は、Ｃ１－４アルキレン（該基は、１～３個のフッ素原子またはＣ３－７シクロアルキルで置換されていてもよい）を表し；
Ｗ２－Ｑ２は、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）－Ｑ２、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）Ｏ－Ｑ２、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）ＯＣＨ２－Ｑ２、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）ＮＲ３ｂ－Ｑ２、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）ＮＲ３ｂＣＨ２－Ｑ２、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）ＣＨ２Ｏ－Ｑ２、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）ＣＨ２－Ｑ２、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２－Ｑ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３ａ－Ｑ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３ａＣＨ２－Ｑ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３ａＣＨ２ＣＨ２－Ｑ２、または－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）－ＣＲ４ｃ＝ＣＲ４ｄ－Ｑ２（ここにおいて、Ｒ３ａおよびＲ３ｂは、それぞれ独立して、水素原子またはＣ１－６アルキルを表し；Ｒ３ｃおよびＲ３ｄは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、またはＣ１－６アルキルを表す）を表し；
環Ｑ２は、置換されていてもよいＣ６－１０アリール、または置換されていてもよい５員～１０員のヘテロアリールを表す]で表される化合物またはその塩を含有する、iPS細胞の除去剤。
〔２〕 Ｑ１がフェニル（該基は、
（１）ハロゲン原子、
（２）Ｃ１－６アルキル（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、
（３）Ｃ１－６アルコキシ（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、Ｃ１－６アルコキシおよびフェニルからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、
（４）アミノ（該基は同種または異種の１～２個のＣ１－６アルキルで置換されていてもよい）、
（５）Ｃ６－１０アリール（該基は、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、
（６）Ｃ６－１０アリールオキシ（該基は、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、
（７）５員～１０員のヘテロアリール（該基は、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、および
（８）Ｃ１－６アルコキシ－カルボニル
からなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）である、〔１〕に記載の除去剤。
〔３〕 Ｑ１がフェニル（該基は、ハロゲン原子、およびＣ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）からなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）である、〔１〕または〔２〕に記載の除去剤。
〔４〕 Ｗ２－Ｑ２が、－ＮＨＣ（Ｏ）－Ｑ２、－ＮＨＣ（Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－Ｑ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－Ｑ２、または－ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２Ｏ－Ｑ２である、〔１〕～〔３〕のいずれか一項に記載の除去剤。
〔５〕 Ｗ１がメチレンである、〔１〕～〔４〕のいずれか一項に記載の除去剤。
〔６〕 環Ｑ２が、
（１）フェニル（該基は、
（ａ）ハロゲン原子、
（ｂ）Ｃ１－６アルキル（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、
（ｃ）Ｃ１－６アルコキシ（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、
（ｄ）Ｃ３－７シクロアルキル、
（ｅ）Ｃ２－６アルケニル、
（ｆ）シアノ、
（ｇ）アミノ（該基は同種または異種の１～２個のＣ１－６アルキルで置換されていてもよい）、および
（ｈ）Ｃ１－６アルキル－カルボニルアミノ
からなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、
（２）５員～１０員のヘテロアリール（該基は、本項中の前記（１）の（ａ）～（ｈ）からなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、または
（３）下記式（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５）、または（１６）：
Figure 0007123809000002
 （式中、環Ｑ３は、置換されていてもよいベンゼン環、置換されていてもよいピリジン環、置換されていてもよいピリミジン環、置換されていてもよいピリダジン環、または置換されていてもよいピラジン環を表し；
環Ｑ４は、置換されていてもよい５員のヘテロアリール環を表し；
ｎおよびｍは、それぞれ独立して、０、１または２を表し；
ここにおいて、ｎおよびｍが同時に０であることはなく；
ＸおよびＺは、それぞれ独立して、ＮＲ５、－ＮＲ３ｅＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３ｅ－、またはＯを表し（ここにおいて、Ｒ５は、水素原子、Ｃ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）、またはＣ１－６アルキルカルボニルを表し；Ｒ３ｅは、水素原子またはＣ１－６アルキルを表す）；
ｐは、１、２、３、４または５を表し；
Ｒ４は、複数ある場合はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ、オキソ、Ｃ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）、またはＣ１－６アルコキシ（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）を表す）で表される基である、〔１〕～〔５〕のいずれか一項に記載の除去剤。
〔７〕 環Ｑ２が、
（１）フェニル（該基は、ヒドロキシで置換されていてもよいＣ１－６アルコキシおよびＣ１－６アルキル－カルボニルアミノからなる群から選択される同種または異種の１～２個の基で置換されていてもよい）、
（２）下記式（２）：
Figure 0007123809000003
 （式中、
Ｒ１１、Ｒ１２、およびＲ１３は、それぞれ独立して、
（ａ）水素原子、
（ｂ）ハロゲン原子、
（ｃ）Ｃ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のフッ素原子で置換されていてもよい）、または
（ｄ）アミノ（該基は同種または異種の１～２個のＣ１－６アルキルで置換されていてもよい）を表す）
で表される基、または
（３）下記式（２１）：
Figure 0007123809000004
 （式中、Ｘ１は、ＮまたはＣＲ１４を表し；
Ｘ２は、ＮまたはＣＲ１５を表し；
Ｘ３は、ＮまたはＣＲ１６を表し；
ここにおいて、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３が同時にＮであることはなく；
Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、それぞれ独立して、
（ａ）水素原子、
（ｂ）ハロゲン原子、
（ｃ）Ｃ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）、または
（ｄ）Ｃ１－６アルコキシ（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）を表し；
ｎおよびｍは、それぞれ独立して、０、１または２を表し；
ここにおいて、ｎおよびｍが同時に０であることはなく；
ｐは、１、２、３、４または５を表し；
Ｒ４ａは、複数ある場合はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、またはＣ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）を表す）
で表される基である、〔１〕～〔６〕のいずれか一項に記載の除去剤。
〔８〕 Ｗ２－Ｑ２が、－ＮＨＣ（Ｏ）－Ｑ２、または－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－Ｑ２であり；
環Ｑ２が、式（２）または（２１）で表される基である、〔７〕に記載の除去剤。
〔９〕 Ｒ１１、およびＲ１２がいずれも水素原子であり；
Ｒ１３が水素原子、Ｃ１－４アルキル（該基は１～３個のフッ素原子で置換されていてもよい）、またはアミノであり；
Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり、
ｎが１であり；
ｍが０または１であり；
ｐが１または２であり；
Ｒ４ａが、複数ある場合はそれぞれ独立して、水素原子またはメチルである、〔７〕または〔８〕に記載の除去剤。
〔１０〕 Ｗ２－Ｑ２が、－ＮＨＣ（Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－Ｑ２であり；
環Ｑ２が、フェニル（該基は、ヒドロキシで置換されていてもよいＣ１－６アルコキシおよびＣ１－６アルキル－カルボニルアミノからなる群から選択される同種または異種の１～２個の基で置換されていてもよい）である、〔１〕～〔７〕のいずれか一項に記載の除去剤。
〔１１〕 Ｒ１およびＲ２がいずれも水素原子である、〔１〕～〔１０〕のいずれか一項に記載の除去剤。
〔１２〕 以下の化合物から選択される、〔１〕に記載の式（１）で表される化合物、またはその塩を含有する、iPS細胞の除去剤：
（２Ｅ）－３－［４－（アセチルアミノ）フェニル］－Ｎ－（１－［３－（トリフルオロメチル）ベンジル］－１Ｈ－イミダゾール－４－イル）プロプ－２－エナミド（実施例１－１）
Ｎ－［１－（３－クロロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル］－３，４－ジメトキシベンズアミド（実施例１０－１）、および
６－（ヒドロキシメチル）－Ｎ－｛１－［３－（トリフルオロメチル）ベンジル］－１Ｈ－イミダゾール－４－イル｝ニコチンアミド（実施例２２）。
〔１３〕 iPS細胞を含む培養液に、〔１〕～〔１２〕のいずれか一項に記載の式（１）で表される化合物またはその塩を添加する工程を含む、iPS細胞の除去方法。
〔１４〕 iPS細胞を材料として作製した細胞塊を含む培養液に、〔１〕～〔１２〕のいずれか一項に記載の式（１）で表される化合物またはその塩を添加する工程を含む、iPS細胞の除去方法。
〔１５〕 iPS細胞を材料として作製した細胞塊の内部に存在するiPS細胞を除去するための、〔１〕～〔１２〕のいずれか一項に記載の式（１）で表される化合物またはその塩の使用。
〔１６〕 iPS細胞を含まないiPS細胞由来細胞集団を製造するための、〔１〕～〔１２〕のいずれか一項に記載の式（１）で表される化合物またはその塩の使用。
〔１７〕 〔１〕～〔１２〕のいずれか一項に記載の式（１）で表される化合物またはその塩とiPS細胞由来細胞集団とを接触させる工程を含む、iPS細胞を含まないiPS細胞由来細胞集団の製造方法。
〔１８〕 以下の工程：
（１）iPS細胞を含む細胞集団を分化誘導する工程；及び
（２）工程（１）で得られる細胞集団を、〔１〕～〔１２〕のいずれか一項に記載の式（１）で表される化合物またはその塩と接触させる工程；
を含む、多能性を維持する細胞を含まないiPS細胞由来細胞集団の製造方法。
〔１９〕 〔１７〕または〔１８〕に記載の製造方法により製造される、iPS細胞を含まないiPS細胞由来の細胞集団。
〔２０〕 移植用細胞を含む、〔１９〕に記載の細胞集団。
〔２１〕 〔１９〕に記載の細胞集団に含まれる細胞を有効成分として含有する医薬組成物。
本発明化合物はiPS細胞由来細胞医薬品から未分化状態のiPS細胞を効率的に除去することができる。とりわけ、これまで技術的に困難であったiPS細胞を材料として作製した細胞塊の内部に存在する未分化状態のiPS細胞の除去を効率的に行うことができる。
ヒトiPS細胞（1,2段目）およびHeLa細胞（3,4段目）を、各濃度の実施例１－２の化合物で24時間処理し、明視野観察（1,3段目）およびDAPI核染色（2,4段目）した結果を示す。 ヒトiPS細胞（1,2行段目）およびHeLa細胞（3,4段目）を、各濃度の実施例１０－２の化合物で24時間処理し、明視野観察（1,3段目）およびDAPI核染色（2,4段目）した結果を示す。 ヒトiPS細胞（1,2行段目）およびHeLa細胞（3,4段目）を、各濃度の実施例２２の化合物で24時間処理し、明視野観察（1,3段目）およびDAPI核染色（2,4段目）した結果を示す。 実施例１－２、１０－２、および２２の化合物で処理後のiPS細胞（黒棒）およびHeLa細胞（白棒）の残存を、DAPI核染色により定量化した結果を示す。 ヒトiPS細胞から分化誘導した細胞凝集塊を、各濃度の実施例１－２の化合物で24時間処理した。当該細胞凝集塊に対するOct3/4陽性細胞の免疫組織染色（1段目）、DAPI核染色（2段目）、およびCleaved Caspase-3陽性細胞の免疫組織染色（3段目）の結果を示す。 ヒトiPS細胞から分化誘導した細胞凝集塊を、各濃度の実施例１０－２の化合物で24時間処理した。当該細胞凝集塊に対するOct3/4陽性細胞の免疫組織染色（1段目）、DAPI核染色（2段目）、およびCleaved Caspase-3陽性細胞の免疫組織染色（3段目）の結果を示す。 上記実施例１－２および１０－２の化合物で処理後の細胞凝集塊中に含まれるCleaved Caspase-3陽性細胞の割合を、DAPI核染色での補正により定量化した。陰性対照（DMSO）、実施例１－２の化合物、実施例１０－２の化合物につき、各３例の定量結果の平均を示す。
以下に、本発明を詳細に説明する。本明細書において「置換基」の定義における炭素の数を、例えば、「Ｃ１－６」等と表記する場合もある。具体的には、「Ｃ１－６アルキル」なる表記は、炭素数１から６のアルキルと同義である。
「ハロゲン原子」の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が挙げられる。好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。
「Ｃ１－６アルキル」は、炭素数１～６個を有する直鎖状もしくは分枝状の飽和炭化水素基を意味する。好ましくは、「Ｃ１－４アルキル」である。「Ｃ１－６アルキル」の具体例としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、１－エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、１，１－ジメチルブチル、２，２－ジメチルブチル、３，３－ジメチルブチル、２－エチルブチル等が挙げられる。
「Ｃ２－６アルケニル」は、１～３個の炭素－炭素二重結合を含有する、炭素数２～６個を有する直鎖状もしくは分枝状の不飽和炭化水素基を意味する。好ましくは「Ｃ２－４アルケニル」である。「Ｃ２－６アルケニル」の具体例としては、例えば、エテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル等が挙げられる。
「Ｃ１－４アルキレン」は、炭素数１～４個を有する直鎖状もしくは分枝状の二価の飽和炭化水素基、または炭素数３～４個を有する環状構造を含む二価の飽和炭化水素基を意味する。
直鎖状もしくは分枝状「Ｃ１－４アルキレン」の具体例としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、１－メチルメチレン、１－エチルメチレン、１－プロピルメチレン、１－メチルエチレン、２－メチルエチレン、１－エチルエチレン等が挙げられ、好ましくは、メチレン、エチレンが挙げられる。
環状構造を含む「Ｃ１－４アルキレン」の具体例としては、例えば、下記群で表される基等が挙げられる。
Figure 0007123809000005
「Ｃ１－６アルコキシ」の「Ｃ１－６アルキル」部分は、前記「Ｃ１－６アルキル」と同義である。好ましくは、「Ｃ１－４アルコキシ」である。「Ｃ１－６アルコキシ」の具体例としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ－ブトキシ、ｔｅｒｔ－ブトキシ等が挙げられる。
「Ｃ３－１０シクロアルキル」は、３員～１０員の単環式もしくは多環式環状の飽和または部分不飽和の炭化水素基を意味する。好ましくは、「Ｃ３－７シクロアルキル」である。「Ｃ３－１０シクロアルキル」の具体例としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、デカリニル、アダマンチル、ノルボルニル等が挙げられる。
「Ｃ６－１０アリール」は、炭素数６～１０個を有する芳香族炭化水素基を意味する。好ましくは「Ｃ６アリール」（フェニル）である。「Ｃ６－１０アリール」の具体例としては、例えば、フェニル、１－ナフチル、２－ナフチル等が挙げられる。
前記「Ｃ６－１０アリール」には、フェニルと５員～７員の窒素原子、硫黄原子または酸素原子から選ばれるヘテロ原子を同じまたは異なって１個以上（例えば１～４個）含有する非芳香環、または５員～７員の飽和もしくは部分不飽和の炭化水素環（シクロペンタン、またはシクロヘキサン）と縮環した基も包含される。但し、芳香族環と非芳香族環とが縮環する多環式「Ｃ６－１０アリール」の場合には、芳香族環のみが「基」の結合手を有する。
該基の具体例としては、例えば、下記式で表される基等が挙げられる。下記式において環を横切る結合手は、「基」が該環における置換可能な位置で結合することを意味する。
Figure 0007123809000006
「５員～１０員のヘテロアリール」としては、例えば、５員～１０員の単環式もしくは二環式の芳香族ヘテロ環基等が挙げられ、該基は、窒素原子、硫黄原子および酸素原子から選択される同種または異種のヘテロ原子を１個以上（例えば１～４個）含有する。二環式のヘテロアリールには、前記単環式のへテロアリールと芳香族環（ベンゼン、ピリジン等）または非芳香族環（シクロヘキサン、ピロリジン、ピペリジン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４－ジオキサン等）とが縮環したものも含む。「ヘテロアリール」の具体例としては、例えば、下記式で表される基等が挙げられる。
Figure 0007123809000007
前記式において環を横切る結合手は、「基」が該環における置換可能な位置で結合することを意味する。例えば、下記式
Figure 0007123809000008
 のヘテロアリールの場合には、２－ピリジル、３－ピリジルまたは４－ピリジルであることを意味する。
また、「ヘテロアリール」が二環式の基である場合において、例えば、下記式
Figure 0007123809000009
 で表される場合には、１－ベンゾイミダゾリル、または２－ベンゾイミダゾリルの他に、４－、５－、６－または７－ベンゾイミダゾリルであってもよい。
但し、芳香族環と非芳香族環（シクロヘキサン、ピペリジン等）とが縮環する多環式へテロアリールの場合には、芳香族環のみが「基」の結合手を有する。例えば、下記式
Figure 0007123809000010
 で表される「多環式のヘテロアリール」の場合には、「基」が２－、３－、または４－位で結合することを意味する。
前記〔６〕の式（１１）～（１６）で表される基において、環Ｑ２または環Ｑ３と、それらが縮環する環とが共有している矢印で示した２つの原子は、炭素である。
Figure 0007123809000011
「Ｃ１－６アルキル－カルボニルアミノ」の「Ｃ１－６アルキル」部分は、前記「Ｃ１－６アルキル」と同義である。好ましくは「Ｃ１－４アルキル－カルボニルアミノ」が挙げられ、より好ましくはメチルカルボニルアミノ（アセチルアミノ）が挙げられる。
「置換されていてもよいＣ６－１０アリール」、「置換されていてもよいＣ６－１０アリールオキシ」、「置換されていてもよいＣ６－１０アリールチオ」、「置換されていてもよいＣ３－１０シクロアルキル」、「置換されていてもよい５員～１０員のヘテロアリール」、「置換されていてもよいベンゼン環」、「置換されていてもよいピリジン環」、置換されていてもよいピリミジン環」、「置換されていてもよいピリダジン環」、「置換されていてもよいピラジン環」等における置換基としては、例えば、
（ａ）ハロゲン原子、
（ｂ）Ｃ１－６アルキル（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、
（ｃ）Ｃ１－６アルコキシ（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、
（ｄ）シアノ、
（ｅ）フェニル（該基は、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、
（ｆ）５員もしくは６員のヘテロアリール（該基は、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、
（ｇ）フェノキシ（該基は、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、
（ｈ）ヒドロキシ、
（ｉ）アミノ（該基は同種または異種の１～２個のＣ１－６アルキルで置換されていてもよい）、および
（ｊ）アミノカルボニル（該アミノは同種または異種の１～２個のＣ１－６アルキルで置換されていてもよい）等が挙げられる。
好ましくは、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、Ｃ１－６アルコキシ（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、またはシアノが挙げられる。
より好ましくは、ハロゲン原子、またはＣ１－６アルキル（該基は１～３個フッ素原子で置換されていてもよい）が挙げられる。
なお、芳香族環と非芳香族環とが縮環する多環式のアリールまたはヘテロアリールの場合、上記の置換基は、芳香族環と非芳香族環のどちらに置換していてもよい。
式（１）で表される本発明化合物の中でも、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ１、Ｒ２、環Ｑ１、および環Ｑ２で、好ましいものは以下のとおりであるが、本発明の技術的範囲は下記に挙げる化合物の範囲に限定されるものではない。
Ｗ１として好ましくは、メチレンが挙げられる。
Ｗ２－Ｑ２として好ましくは、－ＮＨＣ（Ｏ）－Ｑ２、－ＮＨＣ（Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－Ｑ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－Ｑ２、または－ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２Ｏ－Ｑ２である。より好ましくは、－ＮＨＣ（Ｏ）－Ｑ２、または－ＮＨＣ（Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－Ｑ２である。
Ｒ１およびＲ２として好ましくは、水素原子、塩素原子、またはメチルが挙げられる。より好ましくは、水素原子である。
環Ｑ１として好ましくは、フェニル（該基は、
（１）ハロゲン原子、
（２）Ｃ１－６アルキル（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、または
（３）Ｃ１－６アルコキシ（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、Ｃ１－６アルコキシ、およびフェニルからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、
（４）アミノ（該基は、同種または異種の１～２個のＣ１－６アルキルで置換されていてもよい）、
（５）Ｃ６－１０アリール（該基は、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、
（６）Ｃ６－１０アリールオキシ（該基は、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、
（７）５員～１０員のヘテロアリール（該基は、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、および
（８）Ｃ１－６アルコキシ－カルボニルからなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）が挙げられる。
環Ｑ１としてより好ましくは、フェニル（該基は、ハロゲン原子、およびＣ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）からなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）が挙げられ；更に好ましくは、同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていているフェニル、またはトリフルオロメチルフェニルが挙げられる。
環Ｑ２として好ましくは、
（１）フェニル（該基は、
（ａ）ハロゲン原子、
（ｂ）Ｃ１－６アルキル（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、
（ｃ）Ｃ１－６アルコキシ（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、
（ｄ）Ｃ３－７シクロアルキル、
（ｅ）Ｃ２－６アルケニル、
（ｆ）シアノ、
（ｇ）アミノ（該基は同種または異種の１～２個のＣ１－６アルキルで置換されていてもよい）、および
（ｈ）Ｃ１－６アルキル－カルボニルアミノ
からなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、
（２）５員もしくは６員のヘテロアリール（該基は、本項中の前記（１）の（ａ）～（ｈ）からなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、または
（３）下記式（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５）、または（１６）：
Figure 0007123809000012
 （式中、環Ｑ３は、置換されていてもよいベンゼン環、置換されていてもよいピリジン環、置換されていてもよいピリミジン環、置換されていてもよいピリダジン環、または置換されていてもよいピラジン環を表し；
環Ｑ４は、置換されていてもよい５員のヘテロアリール環を表し；
ｎおよびｍは、それぞれ独立して、０、１または２を表し；
ここにおいて、ｎおよびｍが同時に０であることはなく；
ＸおよびＺは、それぞれ独立して、ＮＲ５、－ＮＲ３ｅＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３ｅ－、またはＯを表し（ここにおいて、Ｒ５は、水素原子、Ｃ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）、またはＣ１－６アルキルカルボニルを表し；Ｒ３ｅは、水素原子またはＣ１－６アルキルを表す。）；
ｐは、１、２、３、４または５を表し；
Ｒ４は、複数ある場合はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ、オキソ、Ｃ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）、またはＣ１－６アルコキシ（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）を表す）で表される基が挙げられる。
環Ｑ３として好ましくは、ベンゼン環またはピリジン環が挙げられる。
環Ｑ４として好ましくは、イミダゾール環、オキサゾール環、またはチアゾール環が挙げられ；より好ましくはチアゾール環が挙げられる。
環Ｑ２としてより好ましくは、
（１）フェニル（該基は、ヒドロキシで置換されていてもよいＣ１－６アルコキシおよびＣ１－６アルキル－カルボニルアミノからなる群から選択される同種または異種の１～２個の基で置換されていてもよい）、
（２）下記式（２）：
Figure 0007123809000013
 （式中、
Ｒ１１、Ｒ１２、およびＲ１３は、それぞれ独立して、
（ａ）水素原子、
（ｂ）ハロゲン原子、
（ｃ）Ｃ１－６アルキル（該基は１～３個のフッ素原子で置換されていてもよい）、または
（ｄ）アミノ（該基は同種または異種の１～２個のＣ１－６アルキルで置換されていてもよい）を表す）で表される基、または
（３）下記式（２１）：
Figure 0007123809000014
 （式中、Ｘ１は、ＮまたはＣＲ１４を表し；
Ｘ２は、ＮまたはＣＲ１５を表し；
Ｘ３は、ＮまたはＣＲ１６を表し；
ここにおいて、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３が同時にＮであることはなく；
Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、それぞれ独立して、
（ａ）水素原子、
（ｂ）ハロゲン原子、
（ｃ）Ｃ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）、または
（ｄ）Ｃ１－６アルコキシ（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）を表し；
ｎおよびｍは、それぞれ独立して、０、１または２を表し；
ここにおいて、ｎおよびｍが同時に０であることはなく；
ｐは、１、２、３、４または５を表し；
Ｒ４ａは、複数ある場合はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、またはＣ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）を表す）で表される基が挙げられる。
環Ｑ２として更に好ましくは、
（１）アセチルアミノフェニル、
（２）６－ヒドロキシメチルピリジン－３－イル（該ピリジンは、１～３個のフッ素原子で置換されていてもよいＣ１－４アルキル、またはアミノで更に置換されていてもよい）、または
（３）下記式（２１）：
Figure 0007123809000015
 （式中、Ｘ１は、Ｎ、ＣＨ、またはＣＦを表し；
Ｘ２は、Ｎ、ＣＨ、またはＣＦを表し；
Ｘ３はＮ、ＣＨ、またはＣＦを表し；
ここにおいて、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３が同時にＮであることはなく；
ｎは１を表し；
ｍは０または１を表し；
ｐは１または２を表し；
Ｒ４ａは、複数ある場合はそれぞれ独立して、水素原子またはメチルを表す）で表される基が挙げられる。
本発明化合物は、水和物および／または溶媒和物の形で存在することもあるので、これらの水和物またはエタノール溶媒和物等の溶媒和物も本発明化合物に含まれる。さらに、本発明化合物はあらゆる態様の結晶形のものも包含している。
式（１）で表される化合物の塩としては、例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩、硝酸塩等の無機酸塩；および酢酸塩、プロピオン酸塩、シュウ酸塩、コハク酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、メタンスルホン酸塩、ｐ－トルエンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、アスコルビン酸塩等の有機酸塩等が具体例として挙げられる。
式（１）で表される化合物は、互変異性体として存在する場合もあり得る。従って、本発明化合物は、式（１）で表される化合物の互変異性体も包含する。
式（１）で表される化合物は、少なくとも一つの不斉炭素原子を有する場合もあり得る。従って、本発明化合物は、式（１）で表される化合物のラセミ体のみならず、これらの化合物の光学活性体も包含する。式（１）で表される化合物が２個以上の不斉炭素原子を有する場合、立体異性を生じる場合がある。従って、本発明化合物は、これらの化合物の立体異性体およびその混合物や単離されたものも包含する。
また、式（１）で表される化合物のいずれか１つ又は２つ以上の１Ｈを２Ｈ（Ｄ）に変換した重水素変換体も式（１）で表される化合物に包含される。
以下に、本発明における式（１）で表される化合物の製造法について、例を挙げて説明するが、本発明はもとよりこれに限定されるものではない。
式（１）で表される化合物は、例えば下記に示す製造法、および公知化合物と公知の合成方法を組み合わせた方法により合成される。
原料化合物として用いられる化合物は、それぞれ塩として用いられることもある。なお、これらの反応は単なる例示であり、有機合成に習熟している者の知識に基づき、適宜、他の方法で本発明化合物を製造することもできる。
下記において説明する各製造法において、具体的に保護基の使用を明示していない場合であっても、保護が必要な官能基が存在する場合は、当該官能基を必要に応じて保護し、反応終了後または一連の反応を行った後に脱保護することにより目的物を得ることもある。
保護基としては、文献（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ， ”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”， ３ｒｄ Ｅｄ．， Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ， ｉｎｃ．， Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ（１９９９））等に記載されている通常の保護基を用いることができ、更に具体的には、アミノ基の保護基としては、例えば、ベンジルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル、アセチル、ベンジル等を、またヒドロキシ基の保護としては、例えば、トリアルキルシリル、アセチル、ベンジル等をそれぞれ挙げることができる。
保護基の導入及び脱離は、有機合成化学で常用される方法（例えば、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ， ”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”， ３ｒｄ Ｅｄ．， Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ， ｉｎｃ．， Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ（１９９９）に記載されている方法等）またはそれに準じた方法により行うことができる。
製造法１
式（１）で表される化合物のうち、式（１－７）で表される化合物は、ａ、ｂの部分でそれぞれの部分構造を結合させることにより製造される。
Figure 0007123809000016
 ［式中、Ｗ１、Ｒ１、Ｒ２、環Ｑ１、環Ｑ２は、前記〔１〕と同義である。］
ａ、ｂの部分の結合形成方法は、下記のように例示することができるが、結合形成の順番については適宜変更することができる。
Figure 0007123809000017
 ［式中、Ｗ１、Ｒ１、Ｒ２、環Ｑ１、環Ｑ２は、前記〔１〕と同義であり；Ｒ１０１はＣ１－６アルキルを表し；Ｌは脱離基（例えば、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、置換スルホニルオキシ（例えば、メタンスルホニルオキシ、ｐ-トルエンスルホニルオキシ等）等）を表す。］
化合物（１－１）は、市販品もしくは既知の合成法（例えば、新編ヘテロ環化合物応用編（講談社サイエンティフィク編））により製造したものを用いることができる。
工程１－１：化合物（１－２）の製造工程
化合物（１－２）は、化合物（１－１）を公知の方法（例えば、Protective Groups in Organic Synthesis 3rd Edition (John Wiley & Sons, Inc.)、Comprehensive Organic Transformation, R. C. ラロック著等、VCH publisher Inc., 1989等）と同様の方法で加水分解することにより製造される。
工程１－２：化合物（１－５）の製造工程
化合物（１－５）は、不活性溶媒中、塩基存在下、化合物（１－３）と化合物（１－４）とを用いたアルキル化反応によって製造される。
塩基の具体例としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン等の有機塩基；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基；ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ－ブトキシド等の金属アルコキシド等が挙げられる。
不活性溶媒の具体例としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素；トルエン等の芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン等のエーテル系溶媒；アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリジノン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒；ピリジン等の塩基性溶媒；およびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常０℃から１５０℃、好ましくは２０℃から１００℃の範囲から選択される。反応時間は、通常３０分から４８時間、好ましくは３０分から１０時間である。
工程１－３：化合物（１－６）の製造工程
化合物（１－６）は、化合物（１－５）のニトロ基を還元することにより製造される。例えば、亜鉛、鉄、スズなどの金属または塩化スズ（ＩＩ）などの金属塩を用いた酸性条件下での還元；亜二チオン酸ナトリウム（Ｎａ２Ｓ２Ｏ４）などの硫化物を用いた還元；水素雰囲気下でのパラジウム／炭素、ラネーニッケル、酸化白金／炭素、ロジウム／炭素などの金属触媒を用いた接触還元などが適用される。
金属または金属塩を用いた還元反応では、金属または金属塩の使用量は化合物（１－５）１モルに対して、通常約１モル～１００モル、好ましくは約１０モル～３０モルである。また、酸の使用量は、化合物（１－５）１モルに対して、通常約１モル～１００モル、好ましくは約１０モル～３０モルである。還元反応は、通常、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例、エタノール）中で行われる。反応温度は、特に限定されないが、通常０℃から１００℃の範囲から選択される。反応時間は、通常３０分間から８時間である。
接触還元反応では、金属触媒の使用量は化合物（１－５）に対して、通常０．１重量％から１０００重量％、好ましくは１重量％から１００重量％である。本反応は、例えば、メタノールなどのアルコール類；テトラヒドロフランなどのエーテル類；酢酸エチルなどのエステル類中で行うことができる。水素圧は通常１気圧から１００気圧、好ましくは１気圧から５気圧である。反応温度は、特に限定されないが、通常０℃から１２０℃、好ましくは２０℃から８０℃の範囲から選択される。反応時間は、通常３０分から７２時間、好ましくは１時間から４８時間である。
また本反応は、必要に応じて酸触媒の存在下で行うことができる。酸触媒としては、例えば、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸、硫酸、塩酸、臭化水素酸等の無機酸などが用いられる。酸の使用量は、化合物（１－５）１モルに対し、０．１モル以上である。
工程１－４：化合物（１－７）の製造工程
化合物（１－７）は、不活性溶媒中、化合物（１－２）と化合物（１－６）とを縮合剤の存在下で反応させることにより製造される。
当該反応はさらに塩基の存在下で行ってもよい。反応温度は、特に限定されないが、通常約－２０℃から用いた溶媒の沸点までの範囲から選択される。反応時間は、反応温度、使用される縮合剤、原料、および溶媒等の条件によって異なるが、通常１０分から４８時間である。
縮合剤の具体例としては、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、ジイソプロピルカルボジイミド（ＤＩＰＣ）、１－エチル-３－（３－ジメチルアミノプロピル）－カルボジイミド（ＷＳＣ）、ベンゾトリアゾール－１－イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウム・ヘキサフルオロリン酸塩（ＢＯＰ）、ジフェニルホスホリルアジド（ＤＰＰＡ）、Ｎ，Ｎ－カルボニルジミイダゾール（ＣＤＩ）、Ｏ－（ベンゾトリアゾール－１－イル）－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウロニウムヘキサフルオロリン酸塩（ＨＢＴＵ）、Ｏ－（７－アザベンゾトリアゾール－１－イル）－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウロニウムヘキサフルオロリン酸塩（ＨＡＴＵ）、クロロリン酸ジフェニル等が挙げられる。必要に応じて、例えば、Ｎ－ヒドロキシスクシンイミド（ＨＯＳｕ）、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、３－ヒドロキシ－４－オキソ－３，４－ジヒドロ－１，２，３－ベンゾトリアジン（ＨＯＯＢｔ）等の添加剤を加えて当該反応を行うことができる。
塩基の具体例としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン等の有機塩基；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基；ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ－ブトキシド等の金属アルコキシド等が挙げられる。
不活性溶媒の具体例としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素；トルエン等の芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン等のエーテル系溶媒；アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリジノン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒；ピリジン等の塩基性溶媒；およびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
化合物（１－７）は、不活性溶媒中、化合物（１－６）と化合物（１－２）から誘導される酸ハロゲン化物または酸無水物等とを塩基の存在下で反応させることによっても製造される。
製造法２
式（１）で表される化合物のうち、式（２－４）で表される化合物は、例えば、下記に示される方法によって製造される。
Figure 0007123809000018
 ［式中、Ｗ１、Ｒ１、Ｒ２、環Ｑ１、環Ｑ２は、前記〔１〕と同義であり；Ｒ１０１はＣ１－６アルキルを表す。］
化合物（２－１）は、市販品もしくは既知の合成法（例えば、国際公開第２０１４／１２５４４４号等）により製造したものを用いることができる。
工程２－１：化合物（２－２）の製造工程
化合物（２－２）は、化合物（２－１）を公知の方法（例えば、Protective Groups in Organic Synthesis 3rd Edition (John Wiley & Sons, Inc.)、Comprehensive Organic Transformation, R. C. ラロック著等、VCH publisher Inc., 1989等）と同様の方法で加水分解することにより製造される。
工程２－２：化合物（２－４）の製造工程
化合物（２－４）は、化合物（２－２）と化合物（２－３）より、工程１－４に記載の方法に準じて製造される。
製造法３
式（１）で表される化合物のうち、式（１－７）で表される化合物は、例えば、下記に示される方法によって製造される。
Figure 0007123809000019
 ［式中、Ｗ１、Ｒ１、Ｒ２、環Ｑ１、環Ｑ２は、前記〔１〕と同義であり；Ｒ１０２は保護基を表し；Ｌは脱離基（例えば、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、置換スルホニルオキシ（例えば、メタンスルホニルオキシ、ｐ-トルエンスルホニルオキシ等）等）を表す。］
工程３－１：化合物（３－１）の製造工程
化合物（３－１）は、不活性溶媒中、化合物（１－３）のイミダゾール窒素原子に保護基を導入することにより製造される。保護基としては、例えば、２－（トリメチルシリル）エトキシメチル、ベンジルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル、アセチル、ベンジル等を挙げることができる。
例えば、２－（トリメチルシリル）エトキシメチル基を導入する反応では、不活性溶媒中、塩基存在下、２－（トリメチルシリル）エトキシメチルクロリドを反応させることにより製造される。
塩基としては、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、カリウム－ｔｅｒｔ－ブトキシド、水素化ナトリウム、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド、カリウムビス（トリメチルシリル）アミド、リチウムジイソプロピルアミド等が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えば、ＤＭＦ、ＴＨＦ、アセトニトリルおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常０℃から１５０℃、好ましくは０℃から１００℃の範囲から選択される。反応時間は、通常１０分から２４時間、好ましくは２０分から６時間である。
工程３－２：化合物（３－２）の製造工程
化合物（３－２）は、化合物（３－１）より、工程１－３に記載の方法に準じて製造される。
工程３－３：化合物（３－３）の製造工程
化合物（３－３）は、化合物（３－２）と化合物（１－２）より、工程１－４に記載の方法に準じて製造される。
工程３－４：化合物（３－４）の製造工程
化合物（３－４）は、不活性溶媒中、化合物（３－３）のイミダゾール窒素原子の保護基を脱保護することにより製造される。
例えば、２－（トリメチルシリル）エトキシメチル基を脱保護する反応では、不活性溶媒中、酸またはフッ素試薬を作用させることにより製造される。
酸としては、例えば、ＴＦＡ、ギ酸、塩酸、硫酸、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、（±）１０－カンファ―スルホン酸等が挙げられる。
フッ素試薬としては、例えば、フッ化水素酸、テトラブチルアンモニウムフルオリド等が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、１，４－ジオキサン、ＴＨＦ、トルエン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、２－プロパノールおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常０℃から１５０℃、好ましくは０℃から５０℃の範囲から選択される。反応時間は、通常５分間～２４時間、好ましくは１時間～９時間である。
工程３－５：化合物（１－７）の製造工程
化合物（１－７）は、化合物（３－４）と化合物（１－４）より、工程１－２に記載の方法に準じて製造される。
製造法４
式（１）で表される化合物のうち、式（４－４）で表される化合物は、例えば、下記に示される方法によって製造される。
Figure 0007123809000020
 ［式中、Ｗ１、Ｒ１、Ｒ２、環Ｑ１、環Ｑ２は、前記〔１〕と同義であり；Ｒ１０１はＣ１－６アルキルを表し；Ｘはハロゲン原子を表す。］
工程４－１：化合物（４－２）の製造工程
化合物（４－２）は、不活性溶媒中、パラジウム触媒および塩基の存在下、化合物（４－１）とアクリル酸エステルとを反応させることにより製造される。
パラジウム触媒の具体例としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ジクロロジ(トリ(ｏ－トリルホスフィン))パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、ビス（トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィン）パラジウム（０）、[１、１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]パラジウム（II）ジクロライド等が挙げられる。
塩基の具体例としては、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、リン酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基やトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えば、ＴＨＦ、アセトニトリル、プロピオニトリル、トルエン、１，２－ジメトキシエタン、１，４－ジオキサン、ＤＭＦ、水およびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常５０℃から１５０℃、好ましくは８０℃から１２０℃の範囲から選択され、マイクロ波照射下での反応も実施可能である。反応時間は、通常１時間から２４時間、好ましくは２時間から１２時間である。
工程４－２：化合物（４－３）の製造工程
化合物（４－３）は、化合物（４－２）を公知の方法（例えば、Protective Groups in Organic Synthesis 3rd Edition (John Wiley & Sons, Inc.)、Comprehensive Organic Transformation, R. C. ラロック著等、VCH publisher Inc., 1989等）と同様の方法で加水分解することにより製造される。
工程４－３：化合物（４－４）の製造工程
化合物（４－４）は、化合物（４－３）と化合物（１－６）より、工程１－４に記載の方法に準じて製造される。
製造法５
式（１）で表される化合物のうち、式（５－５）で表される化合物は、例えば、下記に示される方法によって製造される。
Figure 0007123809000021
 ［式中、環Ｑ２は、前記〔１〕と同義であり；Ａはボロン酸またはボロン酸エステルを表し；Ｒ１０１は、Ｃ１－６アルキルを表し；ＲａおよびＲｂは、同一または異なって、水素原子またはメチルを表し；Ｘはハロゲン原子を表し、Ｌは脱離基（例えば、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、置換スルホニル（例えば、メタンスルホニル、ｐ-トルエンスルホニル等）等）を表す。］
工程５－１：化合物（５－３）の製造工程
化合物（５－３）は、不活性溶媒中、パラジウム触媒および塩基の存在下、化合物（５－１）と化合物（５－２）とを反応させることにより製造される。
パラジウム触媒の具体例としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、ビス（トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィン）パラジウム（０）、[１、１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン]パラジウム（II）ジクロライド等が挙げられる。
塩基の具体例としては、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、リン酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えば、ＴＨＦ、トルエン、１，２－ジメトキシエタン、１，４－ジオキサン、ＤＭＦ、水およびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常５０℃から１５０℃、好ましくは８０℃から１２０℃の範囲から選択され、マイクロ波照射下での反応も実施可能である。反応時間は、通常１時間から２４時間、好ましくは２時間から１２時間である。
工程５－２：化合物（５－４）の製造工程
化合物（５－４）は、化合物（５－３）と四酸化オスミウム溶液（固定化触媒、マイクロカプセル化含む）またはカリウム オスメート（ＩＶ）二水和物とを、過ヨウ素酸ナトリウム共存下で反応させることにより製造される。
用いられる溶媒としては、例えば、アセトン、１，４－ジオキサン、ＴＨＦ、ｔｅｒｔ－ブタノール、水およびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常０℃から１００℃、好ましくは２５℃から５０℃での範囲から選択される。反応時間は、通常１時間から７２時間、好ましくは１時間から２４時間である。
また、化合物（５－４）は、ジクロロメタン、酢酸エチル、メタノール等の溶媒中、オゾンを含む酸素気流を通じた後、ジメチルスルフィド等の還元剤を反応させることによっても製造される。反応温度は、特に限定されないが、通常－７８℃から室温の範囲から選択される。反応時間は、１時間から７２時間、好ましくは６時間から２４時間である。
工程５－３：化合物（５－５）の製造工程
化合物（５－５）は、化合物（５－４）にヒドリド還元剤または有機金属試薬を作用させることによって製造される。
ヒドリド還元剤の具体例としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられる。
ヒドリド還元剤との反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、ジクロロメタン、トルエンおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常－７８℃から５０℃、好ましくは０℃から２５℃の範囲から選択される。反応時間は、通常５分から１２時間、好ましくは３０分から６時間である。
有機金属試薬の具体例としては、メチルマグネシウムブロミド、メチルマグネシウムヨージド、メチルリチウム等が挙げられる。
有機金属試薬との反応に用いられる溶媒としては、ＴＨＦ、ジエチルエーテルおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常－７８℃から２５℃、好ましくは－４０℃から０℃の範囲から選択される。反応時間は、通常５分から１２時間、好ましくは３０分から６時間である。
製造法６
式（６－５）で表される化合物は、例えば、下記に示される方法によって製造される。
Figure 0007123809000022
 ［式中、環Ｑ２は、前記〔１〕と同義であり；Ｒ１０１はＣ１－６アルキルを表し；Ｘはハロゲン原子を表し；Ｙは、臭素原子またはヨウ素原子を表す］
工程６－１：化合物（６－２）の製造工程
化合物（６－２）は、不活性溶媒中、化合物（６－１）にラジカルイニシエーター存在下、ブロモ化剤を反応させることにより製造される。
ラジカルイニシエーターの具体例としては、例えば、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、過酸化ベンゾイル（ＢＰＯ）等が挙げられる。
ブロモ化剤の具体例としては、例えば、Ｎ－ブロモスクシンイミド、臭素等が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えば、四塩化炭素、クロロベンゼンおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常５０℃から１５０℃、好ましくは８０℃から１２０℃の範囲から選択される。反応時間は、通常３時間から４８時間、好ましくは４時間から１２時間である。
工程６－２：化合物（６－４）の製造工程
化合物（６－４）は、不活性溶媒中、化合物（６－２）に硝酸銀を作用させることにより製造される。
不活性溶媒の具体例としては、例えば含水条件下、アセトニトリル、ＴＨＦ、１，４－ジオキサンおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常５０℃から１５０℃、好ましくは８０℃から１２０℃の範囲から選択される。反応時間は、通常３時間から４８時間、好ましくは４時間から１２時間である。
工程６－３：化合物（６－４）の製造工程
化合物（６－４）は、化合物（６－３）に、有機金属試薬を反応させた後、ホルミル化剤で処理することによっても製造される。
有機金属試薬としては、例えば、イソプロピルマグネシウムクロリド－塩化リチウム錯体、イソプロピルマグネシウムクロリド、ｎ－ブチルリチウム等が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えば、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、トルエンおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
ホルミル化剤としては、例えば、ＤＭＦ、Ｎ－ホルミルモルホリン等が挙げられる。
反応温度は、通常－７８℃から５０℃、好ましくは－３０℃から２５℃の範囲から選択される。反応時間は、通常３０分間から２４時間、好ましくは１時間から６時間である。
工程６－４：化合物（６－５）の製造工程
化合物（６－５）は、不活性溶媒中、化合物（６－４）に脱酸素的フッ素化剤を作用させることにより製造される。
脱酸素的フッ素化剤の具体例としては、例えば、ジエチルアミノサルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）、ビス（２－メトキシエチル）アミノサルファートリフルオリド（Ｄｅｏｘｏ－Ｆｌｕｏｒ（登録商標））、ＸｔａｌＦｌｕｏｒ－Ｅ（登録商標）、ＸｔａｌＦｌｕｏｒ－Ｍ（登録商標）、４－ｔｅｒｔ－ブチル－２，６－ジメチルフェニルサルファートリフルオリド（Ｆｌｕｏｌｅａｄ（登録商標））等が挙げられる。必要に応じて、プロモーターとして、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）、トリエチルアミン三フッ化水素酸塩、トリエチルアミン二フッ化水素酸塩等を用いることが可能である。
不活性溶媒の具体例としては、例えば、ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、トルエン、ＴＨＦおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常－２０℃から５０℃、好ましくは０℃から２５℃の範囲から選択される。反応時間は、通常１０分から１２時間、好ましくは３０分から３時間である。
また、化合物（６－５）は、化合物（６－４）に四フッ化硫黄を反応させることによっても製造される。
製造法７
式（１）で表される化合物のうち、式（７－３）で表される化合物は、例えば、下記に示される方法によって製造される。
Figure 0007123809000023
 ［式中、Ｗ１、Ｒ１、Ｒ２、環Ｑ１、環Ｑ２は、前記〔１〕と同義であり；Ｒ１０１は、Ｃ１－６アルキルを表し；ＲｃおよびＲｄは、同一または異なって、水素原子、重水素原子またはメチルを表す］
工程７－１：化合物（７－２）の製造工程
化合物（７－２）は、化合物（７－１）と化合物（１－６）より、工程１－４に記載の方法に準じて製造される。
工程７－２：化合物（７－３）の製造工程
化合物（７－３）は、不活性溶媒中、化合物（７－２）にヒドリド還元剤または有機金属試薬を作用させることによって製造される。
ヒドリド還元剤の具体例としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ビス（２－メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、重水素化ホウ素リチウム、重水素化アルミニウムリチウム等が挙げられる。用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ジクロロメタン、トルエンおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常－７８℃から２５℃、好ましくは０℃から２５℃の範囲から選択される。反応時間は、通常５分から１２時間、好ましくは３０分から６時間である。
有機金属試薬の具体例としては、メチルマグネシウムブロミド、メチルマグネシウムヨージド、メチルリチウム等があげられる。
有機金属試薬との反応に用いられる溶媒としては、ＴＨＦ、ジエチルエーテルおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常－７８℃から５０℃、好ましくは０℃から２５℃の範囲から選択される。反応時間は、通常５分から１２時間、好ましくは３０分から６時間である。
製造法８
式（１）で表される化合物のうち、式（８－５）で表される化合物は、例えば、下記に示される方法によって製造される。
Figure 0007123809000024
 ［式中、Ｗ１、Ｒ１、Ｒ２、環Ｑ１、および環Ｑ２は、前記〔１〕と同義であり；Ｒ１０１は、Ｃ１－６アルキルを表し；ＲｃおよびＲｄは、同一または異なって、水素原子、重水素原子またはメチルを表す］
工程８－１：化合物（８－２）の製造工程
化合物（８－２）は、不活性溶媒中、化合物（８－１）に塩基存在下、ハロ酢酸エステルを反応させることにより製造される。
ハロ酢酸エステルの具体例としては、例えば、クロロ酢酸－ｔｅｒｔ－ブチル、ブロモ酢酸－ｔｅｒｔ－ブチル、ヨード酢酸－ｔｅｒｔ－ブチル等が挙げられる。
塩基としては、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、カリウム－ｔｅｒｔ－ブトキシド、水素化ナトリウム、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド、カリウムビス（トリメチルシリル）アミド、リチウムジイソプロピルアミド等が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えば、ＤＭＦ、ＴＨＦ、アセトニトリルおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常２５℃から１５０℃、好ましくは７０℃から１００℃の範囲から選択される。反応時間は、通常１０分から１２時間、好ましくは２０分から６時間である。
工程８－２：化合物（８－３）の製造工程
化合物（８－３）は、酸性条件下、化合物（８－２）のｔｅｒｔ－ブチルエステル基を脱保護することにより製造される。
脱保護に用いられる酸としては、例えば、塩酸、硫酸、ＨＢｒ、ＨＩ、ＴＦＡ等が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、ＴＨＦ、１，４－ジオキサン、酢酸エチルおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常０℃から１００℃、好ましくは２５℃から５０℃の範囲から選択される。反応時間は、通常１時間から２４時間、好ましくは２時間から１２時間である。
工程８－３：化合物（８－４）の製造工程
化合物（８－４）は、化合物（８－３）と化合物（１－６）より、工程１－４に記載の方法に準じて製造される。
工程８－４：化合物（８－５）の製造工程
化合物（８－５）は、化合物（８－４）より、工程７－２に記載の方法に準じて製造される。
製造法９
式（９－４）で表される化合物は、例えば、下記に示される方法によって製造される。
Figure 0007123809000025
 ［式中、Ｒ４、ｐ、および環Ｑ３は、前記〔６〕と同義であり；Ｒ１０１はＣ１－６アルキルを表し；Ｒ１０３は、Ｃｂｚ、Ｂｏｃ、ベンジル、４－メトキシベンジル、またはＦｍｏｃ等を表す。］
化合物（９－１）は、市販品を用いることができる。
工程９－１：化合物（９－２）の製造工程
化合物（９－２）は、不活性溶媒中、化合物（９－１）にヒドリド還元剤を作用させることにより製造される。
ヒドリド還元剤の具体例としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、ボラン、水素化アルミニウムリチウム等が挙げられる。
ヒドリド還元剤との反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、ジクロロメタン、トルエン、テトラヒドロフランおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
反応温度は、特に限定されないが、通常－７８℃から１００℃、好ましくは０℃から５０℃の範囲から選択される。反応時間は、通常５分から１２時間、好ましくは３０分から６時間である。
工程９－２：化合物（９－３）の製造工程
化合物（９－３）は、保護基を導入する試薬存在下、化合物（９－２）のオレフィンを還元することにより製造される。例えば、Ｂｏｃ２Ｏ存在下、水素雰囲気下で、パラジウム／炭素、ラネーニッケル、酸化白金／炭素、ロジウム／炭素等の金属触媒を用いた接触還元などが適用される。
接触還元反応では、金属触媒の使用量は化合物（９－２）に対して、通常０．１重量％から１０００重量％、好ましくは１重量％から１００重量％である。本反応は、例えば、メタノールなどのアルコール類；テトラヒドロフランなどのエーテル類；酢酸エチルなどのエステル類中で行うことができる。水素圧は通常１気圧から１００気圧、好ましくは１気圧から５気圧である。反応温度は、特に限定されないが、通常０℃から１２０℃、好ましくは２０℃から８０℃の範囲から選択される。反応時間は、通常３０分から７２時間、好ましくは１時間から４８時間である。
なお、Ｒ１０３が、ベンジル基、４－メトキシベンジル基等である場合は、化合物（９－１）のピリジニウム塩中間体を経て、直接、化合物（９－３）を製造することもできる。例えば、化合物（９－１）とベンジルブロミド等を反応させて合成できる化合物（９－１）のピリジニウム塩を還元することにより製造される。還元反応としては、ヒドリド還元剤を用いた還元、水素雰囲気下でパラジウム／炭素、ラネーニッケル、酸化白金／炭素、ロジウム／炭素等の金属触媒を用いた接触還元などが適用される。
工程９－３：化合物（９－４）の製造工程
化合物（９－４）は、化合物（９－３）を公知の方法（例えば、Protective Groups in Organic Synthesis 3rd Edition (John Wiley & Sons, Inc.)、Comprehensive Organic Transformation, R. C. ラロック著等、VCH publisher Inc., 1989等）と同様の方法で加水分解することにより製造される。
製造法１０
式（１０－５）で表される化合物は、例えば下記に示す方法により製造される。
Figure 0007123809000026
 ［式中、Ｒ４、ｎ、ｍ、ｐ、および環Ｑ３は、前記〔６〕と同義であり；Ｒ１０１はＣ１－６アルキルを表し；ＸａはＯまたはＮＲ１０３を表し；Ｒ１０３は、Ｃｂｚ、Ｂｏｃ、ベンジル、４－メトキシベンジル、またはＦｍｏｃ等を表し；Ｌは脱離基（例えば、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、置換スルホニル（例えば、メタンスルホニル、ｐ-トルエンスルホニル等）等）を表す。］
化合物（１０－１）は、市販品もしくは既知の合成法（例えば、国際公開第２００９／０５６５５６号、国際公開第２００６／０６５２１５号等）により製造したものを用いることができる。
工程１０－１：化合物（１０－３）の製造工程
化合物（１０－３）は、不活性溶媒中、一酸化炭素雰囲気下、パラジウム触媒、リン配位子及び式（１０－２）で表されるアルコール存在下、化合物（１０－１）にエステル基を導入することにより製造される。
一酸化炭素の圧力は反応温度、原料及び溶媒などの条件によって適宜選択されるが、通常１気圧から１００気圧、好ましくは１気圧から５気圧の範囲から選択される。反応温度は通常約－２０℃から用いた溶媒の沸点までの範囲であり、好ましくは室温から用いた溶媒の沸点までの範囲である。反応時間は、使用される試薬、反応温度、原料、および溶媒等の条件によって異なるが、通常１０分から４８時間である。
パラジウム触媒としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィンパラジウム等が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリジノン、１，４－ジオキサンおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
また、必要に応じて、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン等の有機塩基を添加してもよい。
工程１０－２：化合物（１０－５）の製造工程
化合物（２－５）は、化合物（２－３）を公知の方法（例えば、Protective Groups in Organic Synthesis 3rd Edition (John Wiley & Sons, Inc.)、Comprehensive Organic Transformation, R. C. ラロック著等、VCH publisher Inc., 1989等）と同様の方法で加水分解することにより製造される。
工程１０－３：化合物（１０－４）の製造工程
化合物（１０－４）は、化合物（１０－１）を不活性溶媒中、パラジウム触媒、リン配位子及びシアノ化剤存在下、シアノ化することにより製造される。
反応温度は通常約－２０℃から用いた溶媒の沸点までの範囲であり、好ましくは室温から用いた溶媒の沸点までの範囲である。また、マイクロウエーブ反応装置を用いて、反応を行うこともできる。反応時間は、反応温度、使用される試薬、原料、および溶媒等の条件によって異なるが、通常１０分から４８時間である。
シアノ化剤としては、例えば、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、シアン化亜鉛、シアン化銅（Ｉ）などが挙げられ、好ましくはシアン化亜鉛が挙げられる。
パラジウム触媒としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィンパラジウム等が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリジノン、１，４－ジオキサンおよびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
工程１０－４：化合物（１０－５）の製造工程
化合物（１０－５）は、化合物（１０－４）を適切な溶媒中、塩基存在下、シアノ基を加水分解することで得られる。
反応温度は通常約－２０℃から用いた溶媒の沸点までの範囲であり、好ましくは室温から用いた溶媒の沸点までの範囲である。反応時間は、反応温度、原料、および溶媒等の条件によって異なるが、通常１０分から４８時間である。
塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。
用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、２－プロパノール、アセトン、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、水およびこれらの混合溶媒等が挙げられる。
上記各製造法における中間体および目的化合物は、有機合成化学で常用される精製法、例えば、中和、ろ過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、再結晶、各種クロマトグラフィー等に付して単離精製することができる。また、各中間体においては、特に精製することなく次の反応に供することも可能である。
光学活性な出発原料や中間体を用いることにより、あるいは最終品のラセミ体を光学分割することにより、本発明化合物の光学活性体を製造することができる。光学分割の方法としては、光学活性カラムを用いた物理的な分離方法、分別結晶化法等の化学的な分離方法が挙げられる。本発明化合物のジアステレオマーは、例えば、分別結晶化法によって製造される。
式（１）で表される化合物の塩は、例えば、水、メタノール、エタノール、アセトン等の溶媒中で、式（１）で表される化合物と、有機酸または無機酸とを混合することにより製造される。
本発明における人工多能性幹細胞（iPS細胞）とは、体細胞を公知の方法等により初期化することにより、多能性を誘導した細胞である（Cell 126, p663-676, 2006、Cell 131, p861-872, 2007、Science 318, p1917-1920, 2007、Nat Biotechnol 26, p101-106, 2008）。具体的には、線維芽細胞や末梢血単核球等の分化した体細胞をOct3/4、Klf4、Klf1、Klf2、Klf5、Sox2、Sox1、Sox3、Sox15、Sox17、Sox18、c-Myc、N-Myc、L-Myc、TERT、SV40 Large T antigen、Glis1、Nanog、Sall4、lin28、Esrrb等を含む初期化遺伝子群から選ばれる複数の遺伝子の組合せのいずれかにより初期化された細胞が挙げられる。初期化因子は少なくとも1つ、2つもしくは3つ含む組合せがよく、好ましくは4つ含む組合せである。好ましい初期化因子の組み合わせとしては、（1）Oct3/4、Sox2、Klf4、及びMyc(c-Myc又はL-Myc)、（2）Oct3/4、Sox2、Klf4、Lin28及びL-Mycを挙げることができる。
これらの初期化因子は、タンパク質の形態で、例えばリポフェクション、細胞膜透過ペプチドとの融合、マイクロインジェクション等の方法で細胞に導入することも可能であるし、DNAの形態で、例えばリポフェクション、リポソーム、マイクロインジェクション、ウイルス、プラスミドベクター、人工染色体ベクター等の方法で細胞に導入することも可能である。ウイルスベクターとしてはレンチウイルスベクター、レトロウイルスベクター、アデノウイルスベクター、アデノ随伴ウイルスベクター、センダイウイルスベクター等が例示される。プラスミドベクターとしては、一般的に利用可能な哺乳動物細胞用プラスミドを用いることができ、初期化因子の発現効率を高めるためにプロモーター、エンハンサー、リボゾーム結合配列、ターミネーター等の制御配列が一般的に組み込まれ、プラスミド自己複製効率を上げるためにEBNA-1等の因子が組み込まれることもある。また、遺伝子発現による直接初期化で製造する方法以外に、化合物の添加などにより体細胞から人工多能性幹細胞を誘導することもできる（Science 341, p651-654, 2013、WO 2010/068955）。
また、株化された人工多能性幹細胞を入手する事も可能であり、例えば、京都大学iPS細胞研究所（CiRA）で樹立されたiPS細胞株が、京都大学及びiPSポータル株式会社より入手可能である。
人工多能性幹細胞を製造する際の出発材料となる体細胞としては、生殖細胞以外のいかなる細胞であってもよく、例えば、線維芽細胞、上皮細胞、粘膜上皮細胞、外分泌腺上皮細胞、ホルモン分泌細胞、肺胞細胞、神経細胞、色素細胞、血球系細胞（例えば、末梢血単核球(PBMC)やT細胞など）、間葉系幹細胞、肝臓細胞、膵臓細胞、腸上皮細胞、平滑筋細胞、およびこれらの前駆細胞等が挙げられる。組織の分化の程度や採取する動物の齢に制限はなく、全て本発明における体細胞の材料として使用することができる。
本発明に用いる人工多能性幹細胞は、哺乳動物（例、ヒト、サル、ブタ、ウサギ、ラット、マウス）の人工多能性幹細胞であり、好ましくはげっ歯類（例、マウス、ラット）又は霊長類（例、ヒト、サル）の人工多能性幹細胞であり、より好ましくはヒト人工多能性幹細胞（ヒトiPS細胞）である。また、本発明に用いられる人工多能性幹細胞は、ゲノム編集などの手法により遺伝子改変された人工多能性幹細胞も含む。
再生医療製品は多くの場合細胞塊、具体的には、多数の細胞層が重なった厚みのある細胞積層体、あるいは多数の細胞から成る細胞凝集塊であることから、除去すべきiPS細胞が細胞塊内部に存在した場合、細胞塊内部への浸透性が低い分子量の大きい物質では、細胞塊内部のiPS細胞に到達できず、iPS細胞除去効果が極めて悪くなると考えられる。
このような状況から、細胞塊内部への浸透性の高い低分子化合物であり、かつ低濃度でiPS細胞に対して細胞傷害性を示す化合物を用いて、細胞塊中に存在する未分化状態のiPS細胞を除去する方法が切望されている。
一般に、幹細胞とは自己複製能と分化能を有する細胞を指す。がん幹細胞は、その特性の一つとして自己複製能がある（Oncogene 2004, 23, 7274.）。細胞の自己複製能の測定法として確立され信頼できる手法として、血清非存在下、非接着状態でのがん細胞スフィア形成能測定が挙げられる（Cancer Res. 2005, 65, 5506.）。また、iPS細胞にも自己複製能があることは広く知られている。スフィア形成能は、自己複製能を反映するものであり、幹細胞の重要な表現型の一つと考えられることから、スフィア形成能を抑制することは、自己複製能の抑制、さらにはがん幹細胞やiPS細胞の増殖抑制につながるものと期待される。また、iPS細胞の増殖抑制により、有用な細胞の調製にもつながるものと期待される。
式（１）で表される化合物またはその塩は、スフィア形成能抑制作用、詳しくはがん幹細胞スフィア形成能抑制作用を示し、iPS細胞の増殖抑制および細胞死を誘導することから、iPS細胞由来細胞集団からiPS細胞を効率的に除去することができる。さらに、本発明化合物は低分子化合物であり、細胞塊内部への浸透性が高く、これまで技術的に困難であったiPS細胞を材料として作製した細胞塊の内部に存在する未分化状態のiPS細胞の除去を効率的に行うことができる。
本発明における細胞塊としては、単層の細胞を2層以上積み重ねる、あるいは単層細胞の上に新たに細胞層を形成させて作製する細胞積層体、細胞を凝集させて作製する細胞凝集体、3Dバイオプリンターなどのデバイスを用いて細胞を立体的に積層させた細胞集合体が挙げられる。これらの細胞塊においては、細胞同士が互いに接着することで培養足場を提供し、構造を保持しているが、細胞塊中にハイドロゲルなどの足場器材が含有された状態であってもよい。ハイドロゲルとは水を大量に含むことができる物質であり、酸素や水・栄養素などの生存に必要な物質と老廃物を容易に拡散移動させることができる。通常は生体適合性の物質が用いられ、例えばゼラチンハイドロゲルなどが挙げられる。
本発明の適用対象となるiPS細胞由来細胞集団は、再生医療等製品を含む細胞医薬品の有効成分又はその製造中間体となる、iPS細胞を分化誘導してできる細胞集団であり、例えば、コロニーを含む平面培養細胞、および上記で定義した細胞塊などが挙げられる。
人工多能性幹細胞から分化誘導する細胞としては、髪、眼（網膜、角膜）、神経組織（脳、脊髄、末梢神経）、心臓、骨（軟骨）、肺、腎臓、膵臓、腸管、血管、血液、筋肉、半月板、アキレス腱、肝臓、脂肪（乳房）、皮膚、食道などの組織を構成する細胞、又は当該細胞の前駆細胞が挙げられるが、これに限定されるものではない。
人工多能性幹細胞から各組織への分化誘導方法については、分化誘導が可能な方法であれば何でもよく、例えば試験例にて示した分化誘導した細胞凝集塊、又はこれから誘導される網膜を構成する視細胞を含む細胞凝集塊であれば、ＷＯ２０１６／０６３９８５に記載の方法等を用いることができる。
iPS細胞を分化誘導してできる細胞集団において、多能性を維持する未分化の細胞、具体的には残存するiPS細胞を除去するために、本発明化合物で当該細胞集団を処理する方法としては、細胞もしくは細胞集団に本発明の化合物を接触させればよい。具体的には、化合物を含有する液体（溶液もしくは懸濁液）、または化合物原体を細胞もしくは細胞集団の培養液に加えればよく、一般的には化合物の濃縮液を培養液に添加する方法が用いられる。化合物の濃縮液の溶媒としては、化合物を溶解できるものなら何でもよいが、化合物の物性にかかわらず溶解性が比較的高く、かつ細胞への毒性が低いジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）やエタノールなどがよく用いられる。添加する化合物の濃度は、０．００１μｍｏｌ／Ｌから１０μｍｏｌ／Ｌの範囲であり、好ましい様態において、０．０１μｍｏｌ／Ｌから１μｍｏｌ／Ｌの範囲である。
本発明化合物と細胞集団を接触させる時間は、細胞が生存可能であれば特に限定はないが通常１時間から７２時間の範囲であり、好ましくは２４時間から４８時間の範囲である。
本発明化合物と細胞集団を接触させる温度は、細胞が生存可能な温度であれば特に限定はないが、通常４℃から４０℃までの範囲であり、好ましくは２０℃から３７℃の範囲である。
本発明化合物もしくはその塩と細胞集団を接触させる時に使用する培地は、細胞培養に用いられる一般的な培地あるいは緩衝液であれば何でもよく、好ましくは、細胞の分化誘導に用いた培地が用いられる。
本発明化合物の評価は、アポトーシスのマーカーであるCleaved Caspase-3の免疫染色を実施し、その陽性細胞の定量により実施した。本発明化合物の暴露により、未分化細胞に細胞死が誘導された場合、Cleaved Casplase-3の陽性細胞の割合は増加すると考えられる。
以下に本発明を、参考例、実施例および試験例により、さらに具体的に説明するが、本発明はもとよりこれに限定されるものではない。尚、以下の参考例及び実施例において示された化合物名は、必ずしもＩＵＰＡＣ命名法に従うものではない。
本明細書において、以下の略語を使用することがある。
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸
ＴＢＳＣｌ：ｔｅｒｔ－ブチルジメチルクロロシラン
ＤＡＳＴ：三フッ化Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ硫黄
ＤＭＡＰ：Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド
ＷＳＣＩ・ＨＣｌ：１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩
ＨＯＢｔ：１－ヒドロキシベンゾトリアゾール
ＨＡＴＵ：Ｏ－（７－アザベンゾトリアゾール－１－イル）－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウロニウムヘキサフルオロリン酸塩
Ｍｅ：メチル
Ｅｔ：エチル
Ａｃ：アセチル
ＴＢＳ：ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル
Ｂｏｃ：ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル
ＴＨＰ：テトラヒドロピラニル
化合物同定のＬＣ／ＭＳ分析条件は以下の通りである。参考例または実施例に記載の化合物については、下記に記載のＬＣ／ＭＳ分析条件Ａ、Ｂ、またはＣによって分析を行った。
Figure 0007123809000027
Figure 0007123809000028
Figure 0007123809000029
参考例１
１－（３－（トリフルオロメチル）ベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－アミン塩酸塩
Figure 0007123809000030
 ４－ニトロイミダゾール（２０ｇ）のアセトニトリル（１５０ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（２６．９ｇ）、ヨウ化カリウム（０．０７４ｇ）を加えた後、室温にて臭化３－トリフルオロメチルベンジル（４２．３ｇ）のアセトニトリル（５０ｍＬ）溶液を滴下した。８０℃にて４時間撹拌した後、室温に冷却し、水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥させた後、ろ過、減圧濃縮した。得られた粗生成物（４６．１ｇ）の酢酸エチル（５００ｍＬ）溶液に、ロジウム－炭素（２３．１ｇ）を加え、水素雰囲気下室温で撹拌した。２０時間後、セライトろ過をした。得られた濾液に４ｍｏｌ／Ｌ塩酸－ジオキサン（５５．３ｍＬ）を加え、室温で撹拌した。析出した固体を濾取して酢酸エチルで洗浄し、表題化合物（２２．８ｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 242.1/0.529
参考例２～６
対応する原料化合物を用い、参考例１に記載の方法と同様に反応・処理して参考例２～６の化合物を得た。
Figure 0007123809000031
参考例７－１
２－（２－（５－ブロモ－２－メトキシフェノキシ）エトキシ）テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン
Figure 0007123809000032
 ５－ブロモ－２－メトキシフェノール（１０．０ｇ）のＤＭＦ（５０ｍＬ）溶液に、２－（２－ブロモエトキシ）テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン（１０．８ｇ）、炭酸カリウム（８．８６ｇ）を加え、８０℃で２．５時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過後、減圧濃縮し、表題化合物（１５．１ｇ）を得た。
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)δ7.12 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.05 (1H, dd, J = 8.4, 2.0 Hz), 6.75 (1H, d, J = 8.4 Hz), 4.72 (1H, t, J = 3.6 Hz), 4.26-4.19 (2H, m), 4.14-4.03 (1H, m), 3.92-3.82 (2H, m), 3.85 (3H, s), 3.57-3.50 (1H, m), 1.90-1.78 (1H, m), 1.78-1.70 (1H, m), 1.68-1.53 (4H, m).
参考例７－２
エチル （Ｅ）－３－（４－メトキシ－３－（２－（（テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－イル）オキシ）エトキシ）フェニル）アクリレート
Figure 0007123809000033
 参考例７－１の化合物（１４．０ｇ）のプロピオニトリル（１２０ｍＬ）溶液に、アクリル酸エチル（６．９ｍＬ）、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン（１４．７ｍＬ）、酢酸パラジウム（０．４８ｇ）、トリス（ｏ－トリル）ホスフィン（１．２９ｇ）を加え１００℃で１３時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、表題化合物（８．０ｇ）を得た。
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)δ7.62 (1H, d, J = 16.0 Hz), 7.19 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.12 (1H, dd, J = 8.4, 2.0 Hz), 6.87 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.31 (1H, d, J = 16.0 Hz), 4.73 (1H, t, J = 3.6 Hz), 4.31-4.22 (4H, m), 4.15-4.08 (1H, m), 3.93-3.86 (5H, m), 3.57-3.51 (1H, m), 1.88-1.81 (1H, m), 1.78-1.71 (1H, m), 1.68-1.53 (4H, m), 1.35 (3H, t, J = 6.8 Hz).
参考例７－３
（Ｅ）－３－（４－メトキシ－３－（２－（（テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－イル）オキシ）エトキシ）フェニル）アクリル酸
Figure 0007123809000034
 参考例７－２の化合物（３．６ｇ）のＴＨＦ／メタノール（２０ｍＬ／２０ｍＬ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１５ｍＬ）を加え６０℃で７時間撹拌した。反応混合物に塩酸水溶液を加えｐＨを５．０にし、酢酸エチルにて抽出した。有機層を、飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過後、減圧濃縮し、表題化合物（３．１ｇ）を得た。
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)δ7.72 (1H, d, J = 15.6 Hz), 7.23 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.15 (1H, dd, J = 8.4, 2.0 Hz), 6.89 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.33 (1H, d, J = 15.6 Hz), 4.74 (1H, t, J = 3.6 Hz), 4.33-4.25 (2H, m), 4.15-4.07 (1H, m), 3.95-3.86 (5H, m), 3.58-3.53 (1H, m), 1.88-1.81 (1H, m), 1.79-1.71 (1H, m), 1.69-1.51 (4H, m).
参考例８
対応する原料化合物を用い、参考例７に記載の方法と同様に反応・処理して参考例８の化合物を得た。
Figure 0007123809000035
参考例９
（Ｅ）－Ｎ－（１－（３－クロロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル）－３－（４－メトキシ－３－（２－（（テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－イル）オキシ）エトキシ）フェニル）アクリルアミド
Figure 0007123809000036
 参考例２の化合物（１．２０ｇ）のＤＭＦ（３０ｍＬ）溶液に、参考例７－３の化合物（１．９０ｇ）、ＷＳＣＩ・ＨＣｌ（１．１３ｇ）、ＨＯＢｔ（０．８０ｇ）、トリエチルアミン（２．２ｍＬ）を加え室温で２時間撹拌した。反応混合物に水を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール）にて精製して表題化合物（１．２５ｇ）を得た。
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)δ8.84 (1H, s), 7.64 (1H, d, J = 16.0 Hz), 7.48-7.43 (2H, m), 7.35-7.29 (2H, m), 7.23-7.17 (2H, m), 7.14-7.10 (2H, m), 6.87 (1H, d, J = 8.0 Hz), 6.43 (1H, d, J = 16.0 Hz), 5.10 (2H, s), 4.72-4.69 (1H, m), 4.29-4.24 (2H, m), 4.16-4.07 (1H, m), 3.94-3.85 (5H, m), 3.56-3.51 (1H, m), 1.88-1.80 (1H, m), 1.78-1.71 (1H, m), 1.64-1.52 (4H, m).
参考例１０～１２
対応する原料化合物を用い、参考例９に記載の方法と同様に反応・処理して参考例１０～１２の化合物を得た。
Figure 0007123809000037
参考例１３
６－（｛１－［３－（トリフルオロメチル）ベンジル］－１Ｈ－イミダゾール－４－イル｝カルバモイル）ニコチン酸メチル
Figure 0007123809000038
 参考例１の化合物および対応する原料化合物を用い、参考例９に記載の方法と同様に反応・処理し表題化合物を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 404.9/0.901
参考例１４－１
メチル １－（３，４，５－トリフルオロベンジル－１Ｈ－イミダゾール－４－カルボキシレート
Figure 0007123809000039
 メチル １Ｈ－イミダゾール－４－カルボキシレート（１４．０ｇ）のアセトニトリル（２００ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（１９．９ｇ）、ヨウ化カリウム（０．０９２ｇ）を加えた後、室温にて３，４，５－トリフルオロベンジルブロミド（１４．６ｍＬ）を滴下し、７０℃にて６時間撹拌した。室温に冷却した後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥、ろ過後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をヘキサン／酢酸エチル（１／２、６０ｍＬ）で洗浄し、表題化合物（１４．０ｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 271.4/0.725
参考例１４－２
１－（３，４，５－トリフルオロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－カルボン酸
Figure 0007123809000040
 参考例１４－１の化合物（４．７５ｇ）のメタノール／ＴＨＦ（５０ｍＬ／５０ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１３．２ｍＬ）を加え、５０℃にて５時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に溶解後、塩酸水溶液によってｐＨを５に調整した。沈殿した固体を濾取し、水、ヘキサンで洗浄後、５０℃で減圧乾燥して表題化合物（４．５２ｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 257.1/0.513
参考例１５
６－（｛[ｔｅｒｔ－ブチル（ジメチル）シリル]オキシ｝メチル）ピリジン－３－アミン
Figure 0007123809000041
 （５－アミノピリジン－２－イル）メタノール（１３５ｍｇ）のＴＨＦ（１５ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（０．３０ｍＬ）、ＴＢＳＣｌ（３２８ｍｇ）を加え室温にて６時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール）にて精製して表題化合物（９９ｍｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 239.2/0.726
参考例１６
２－（｛[ｔｅｒｔ－ブチル（ジメチル）シリル]オキシ｝メチル）キノリン－６－アミン
Figure 0007123809000042
 参考例１５に記載の方法に準じ、（６－アミノキノリン－２－イル）メタノールより表題化合物を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 289.9/0.836
参考例１７
参考例９に記載の方法に準じ、参考例１４－２および対応する原料化合物を用い、参考例１７の化合物を得た。
Figure 0007123809000043
参考例１８－１
５－（２－ｔｅｒｔ－ブトキシ－２－オキソエトキシ）－ピコリン酸メチル
Figure 0007123809000044
 ５－ヒドロキシ－ピコリン酸メチル（２００ｍｇ）のＤＭＦ（５ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（３６１ｍｇ）、ブロモ酢酸－ｔｅｒｔ－ブチルを加え、７０℃で２０分間撹拌した。室温に冷却後、反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、ろ過後、減圧濃縮して表題化合物（３２０ｍｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 268.2/0.777
参考例１８－２
｛［６－（メトキシカルボニル）ピリジン－３－イル］オキシ｝酢酸
Figure 0007123809000045
 参考例１８－１の化合物（３２０ｍｇ）のジクロロメタン（４ｍＬ）溶液にＴＦＡ（２ｍＬ）を加え、室温で２時間撹拌した。溶媒を留去して表題化合物（２５３ｍｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 212.1/0.394
参考例１８－３
５－（２－オキソ－２－｛［１－（３，４，５－トリフルオロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル］アミノ｝エトキシ）－ピコリン酸メチル
Figure 0007123809000046
 参考例９に記載の方法に準じ、参考例４と参考例１８－２の化合物を用い、表題化合物を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 421.2/0.731
参考例１９－１
６－クロロ－５－（ジブロモメチル）－ニコチン酸メチル
Figure 0007123809000047
 ６－クロロ－５－メチル－ニコチン酸メチル（４６７ｍｇ）の四塩化炭素（２５ｍＬ）懸濁液にＮ－ブロモスクシンイミド（１．３４ｇ）、過酸化ベンゾイル（２１８ｍｇ）を加え、１００℃にて７．５時間撹拌した。室温に冷却後、反応混合物に飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液と水を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）にて精製し、表題化合物（８３３ｍｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 341.9/1.011
参考例１９－２
６－クロロ－５－ホルミル－ニコチン酸メチル
Figure 0007123809000048
 参考例１９－１の化合物（２．７１ｇ）のアセトニトリル（４０ｍＬ）／水（２０ｍＬ）溶液に硝酸銀（６．７０ｇ）を加え、１００℃にて３時間撹拌した。不溶物をろ過により除去し、溶媒を留去した。残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ｐＨを８に調整した後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、ろ過後、減圧濃縮し、表題化合物（０．８４ｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 200.0/0.671
参考例１９－３
６－クロロ－５－（ジフルオロメチル）－ニコチン酸メチル
Figure 0007123809000049
 参考例１９－２の化合物（０．８４ｇ）のジクロロメタン（２０ｍＬ）溶液に氷冷下、ＤＡＳＴ（１．１１ｍＬ）を加え、氷冷下にて３０分間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてｐＨを８に調整し、クロロホルムにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）にて精製し、表題化合物（０．４５ｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 222.0/0.828
参考例１９－４
５－（ジフルオロメチル）－６－（エテニル）－ニコチン酸メチル
Figure 0007123809000050
 参考例１９－３の化合物（４５０ｍｇ）の１，２－ジメトキシエタン（１５ｍＬ）／水（１．５ｍＬ）混合液に、ビニルボロン酸ピナコールエステル（０．５２１ｍＬ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２３５ｍｇ）、炭酸カリウム（７０２ｍｇ）を加え、１００℃で３．５時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却後、水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）にて精製し、表題化合物（２４０ｍｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 214.1/0.842
参考例１９－５
５－（ジフルオロメチル）－６－（ホルミル）－ニコチン酸メチル
Figure 0007123809000051
 参考例１９－４の化合物（２４３ｍｇ）のアセトン（５ｍＬ）／水（２．５ｍＬ）混合液に過ヨウ素酸ナトリウム（４８８ｍｇ）、四酸化オスミウム（２．５ｗｔ％ ｉｎ ｔｅｒｔ－ブタノール，０．７１６ｍＬ）を加え、室温で８時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）にて精製して表題化合物（１２０ｍｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 216.1/0.736
参考例１９－６
５－（ジフルオロメチル）－６－（ヒドロキシメチル）－ニコチン酸メチル
Figure 0007123809000052
 参考例１９－５の化合物（１２０ｍｇ）のメタノール（３ｍＬ）溶液に水素化ホウ素ナトリウム（２１ｍｇ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過後、減圧濃縮して表題化合物（１１６ｍｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 218.1/0.564
参考例２０
６－（ヒドロキシメチル）－５－（トリフルオロメチル）－ニコチン酸メチル
Figure 0007123809000053
 参考例１９－４、参考例１９－５、参考例１９－６に記載の方法に準じ、６－クロロ－５－（トリフルオロメチル）－ニコチン酸メチルより表題化合物を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 236.1/0.649
参考例２１
メチル ５－（ヒドロキシメチル）ピラジン－２－カルボキシレート
Figure 0007123809000054
 参考例１９－４、参考例１９－５、および参考例１９－６に記載の方法に準じ、メチル ５－クロロピラジン－２－カルボキシレートより表題化合物を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 169.0/0.334
参考例２２
１－（３，４－ジフルオロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－カルボン酸
Figure 0007123809000055
 参考例１４－１および参考例１４－２に記載の方法に準じ、３，４－ジフルオロベンジルブロミドから表題化合物を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 239.1/0.460
参考例２３
ｔｅｒｔ－ブチル ６－｛［（トリフルオロメチル）スルホニル］オキシ｝－３，４－ジヒドロ－２，７－ナフチリジン－２（１Ｈ）－カルボキシレート
Figure 0007123809000056
 ｔｅｒｔ－ブチル ６－ヒドロキシ－１，２，３，４－テトラヒドロ－２，７－ナフチリジン－２－カルボキシレート（１．７３ｇ）のピリジン（２０ｍＬ）溶液に、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（１．２８ｍＬ）を加え、室温にて２時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）にて精製し、表題化合物（１．７２ｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 383.2/1.112
参考例２４
ｔｅｒｔ－ブチル ６－ブロモ－５－フルオロ－３，４－ジヒドロイソキノリン－２（１Ｈ）－カルボキシレート
Figure 0007123809000057
 酢酸（１５ｍＬ）に水素化ホウ素ナトリウム（３４０ｍｇ）を室温にて加えた。反応液に６－ブロモ－５－フルオロイソキノリン（１．０ｇ）を加え、室温にて１５時間撹拌した。反応液に水素化ホウ素ナトリウム（３４５ｍｇ）を加え、室温にて１時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をＴＨＦ（２０ｍＬ）に溶解した。そこに二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチル（２．０４ｇ）、トリエチルアミン（３．１ｍＬ）を加え、室温にて２時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）にて精製し、表題化合物（１．１７ｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 330.2/1.213
参考例２５～２６
参考例２４に記載の方法に準じ、対応する原料化合物を用い、参考例２５および２６の化合物を得た。
Figure 0007123809000058
参考例２７－１
ｔｅｒｔ－ブチル ６－シアノ－８－フルオロ－３，４－ジヒドロイソキノリン－２（１Ｈ）－カルボキシレート
Figure 0007123809000059
 参考例２５の化合物（１２４ｍｇ）のＤＭＦ（１ｍＬ）溶液に、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（４５ｍｇ）、シアン化亜鉛（５７ｍｇ）を加え、１２０℃にて８時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）にて精製し、表題化合物（４８ｍｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 277.2/1.048
参考例２７－２
２－（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）－８－フルオロ－１，２，３，４－テトラヒドロイソキノリン－６－カルボン酸
Figure 0007123809000060
 参考例２７－１の化合物（２．１３ｇ）の２－プロパノール（４０ｍＬ）溶液に、水（１０ｍＬ）、水酸化ナトリウム（５ｇ）を加えて１１０℃にて１１時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣を飽和重曹水で抽出した。水層を硫酸水素ナトリウムで酸性に調整し、クロロホルムにて抽出した。得られた有機層を硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧濃縮し、表題化合物（２．５４ｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 296.2/0.907
参考例２８
６－（ヒドロキシメチル）－５－メチル－ニコチン酸メチル
Figure 0007123809000061
 参考例１９－４、参考例１９－５、および参考例１９－６に記載の方法に準じ、６－クロロ－５－メチル－ニコチン酸メチルから表題化合物を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 182.0/0.354
参考例２９－１
５－［（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）アミノ］－６－クロロ－ニコチン酸メチル
Figure 0007123809000062
 ５－アミノ－６－クロロ－ニコチン酸メチル（３２５ｍｇ）のＴＨＦ（１０ｍＬ）溶液に二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチル（７６０ｍｇ）、ＤＭＡＰ（１１ｍｇ）を加え、室温にて１５．５時間撹拌した。さらに二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチル（３８ｍｇ）を加え、６０℃にて４５分間撹拌した。室温に冷却後、溶媒を留去した。残渣にメタノール（５ｍＬ）、炭酸カリウム（４８１ｍｇ）を加え、室温にて２．５時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）にて精製し、表題化合物（３２１ｍｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 287.1/0.985
参考例２９－２
５－［（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）アミノ］－６－（ヒドロキシメチル）－ニコチン酸メチル
Figure 0007123809000063
 参考例１９－４、参考例１９－５、および参考例１９－６に記載の方法に準じ、参考例２９－１の化合物から表題化合物を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 282.8/0.761
参考例２９－３
２－オキソ－１，４－ジヒドロ－２Ｈ－ピリド［３，２－ｄ］［１，３］オキサジン－７－カルボン酸
Figure 0007123809000064
 参考例２９－２の化合物（１１１ｍｇ）のＴＨＦ（２ｍＬ）／メタノール（４ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．３９ｍＬ）を加え、室温で１６時間撹拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸（０．２５ｍＬ）を加え、ｐＨを７に調整した。反応混合物を減圧濃縮し、表題化合物（７６ｍｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 195.1/0.325
参考例３０～３２
参考例２７－１および参考例２７－２に記載の方法に準じ、参考例２３、参考例２４、および参考例２６の化合物を用い、参考例３１～３３の化合物を得た。
Figure 0007123809000065
実施例１－１
（２Ｅ）－３－［４－（アセチルアミノ）フェニル］－Ｎ－（１－［３－（トリフルオロメチル）ベンジル］－１Ｈ－イミダゾール－４－イル）プロプ－２－エナミド
Figure 0007123809000066
 参考例１の化合物（２．０ｇ）のジメチルホルムアミド（２０ｍＬ）溶液に（Ｅ）－３－（４－アセチルアミノフェニル）アクリル酸（１．４１ｇ）、ＨＡＴＵ（２．８８ｇ）、ジイソプロピルエチルアミン（２．９７ｍＬ）を加え、室温にて終夜撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と水を加え、析出した固体をろ過し、水とアセトニトリルにて洗浄した。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール）にて精製し、表題化合物（０．７０６ｇ）を得た。
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)δ10.51 (1H, s), 10.09 (1H, s), 7.71-7.66 (3H, m), 7.63-7.59 (4H, m), 7.47 (2H, d, J = 8.5 Hz), 7.40 (1H, d, J = 15.9 Hz), 7.36 (1H, d, J = 1.8 Hz), 6.74 (1H, d, J = 15.9 Hz), 5.28 (2H, s), 2.05 (3H, s).
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 429.5/0.88
実施例１－２
（２Ｅ）－３－［４－（アセチルアミノ）フェニル］－Ｎ－（１－［３－（トリフルオロメチル）ベンジル］－１Ｈ－イミダゾール－４－イル）プロプ－２－エナミド 塩酸塩
実施例１－１の化合物（５００ｍｇ）のエタノール懸濁液に４ｍｏｌ／Ｌ塩酸－酢酸エチル（３５０μＬ）を６０℃で加え、同温で５分間撹拌した。オイルバスを除去し、種晶を加えた後、室温で４０分間、氷冷下３５分間撹拌した。析出した固体をろ取し、冷エタノールで洗浄後、減圧乾燥して表題化合物（４７４ｍｇ）を得た。
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)δ11.13 (1H, brs), 10.20 (1H, s), 8.62 (1H, brs), 7.85 (1H, s), 7.74-7.62 (5H, m), 7.57-7.49 (4H, m), 6.74 (1H, d, J = 15.8 Hz), 5.42 (2H, s), 2.05 (3H, s).
実施例２～４
対応する原料化合物を用い、実施例１－１に記載の方法と同様に反応・処理して実施例２～４の化合物を得た。
Figure 0007123809000067
実施例５
（Ｅ）－３－（３－（２－ヒドロキシエトキシ）－４－メトキシフェニル）－Ｎ－（１－（３，４，５－トリフルオロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル）アクリルアミド
Figure 0007123809000068
 参考例１１の化合物（１２５ｍｇ）のメタノール（１０ｍＬ）溶液に４ｍｏｌ／Ｌ塩酸－ジオキサン（８８μＬ）を加え、８０℃で４０分間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮した後、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール）にて精製して表題化合物（７２ｍｇ）を得た。
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)δ10.39 (1H, s), 7.63 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.42-7.30 (4H, m), 7.15-7.11 (2H, m), 6.99 (1H, d, J = 8.8 Hz), 6.74 (1H, d, J = 16.0 Hz), 5.15 (2H, s), 4.85 (1H, t, J = 5.6 Hz), 4.02-3.98 (2H, m), 3.78 (3H, s), 3.74-3.70 (2H, m).
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 448.3/0.758
実施例６
（２Ｅ）－Ｎ－［１－（３－クロロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル］－３－［３－（２－ヒドロキシエトキシ）－４－メトキシフェニル］プロプ－２－エナミド
Figure 0007123809000069
 参考例９の化合物（１．２５ｇ）のメタノール（１０ｍＬ）溶液にトシル酸一水和物（０．４６ｇ）を加え、４０℃で２．５時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加え、析出した固体を水洗し乾燥した。ろ液をクロロホルムにて抽出し飽和食塩水にて洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、反応混合物を減圧濃縮して得られた固体をメタノール、酢酸エチルで洗浄し、上記の固体とあわせて表題化合物（０．８４ｇ）を得た。
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)δ10.40 (1H, s), 7.64 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.43-7.36 (4H, m), 7.33 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.27-7.24 (1H, m), 7.16-7.10 (2H, m), 7.00 (1H, d, J = 8.8 Hz), 6.75 (1H, d, J = 16.0 Hz), 5.18 (2H, s), 4.87 (1H, t, J = 5.6 Hz), 4.02-3.98 (2H, m), 3.78 (3H, s), 3.75-3.70 (2H, m).
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 428.2/0.772
実施例７～８
参考例１０および参考例１２の化合物を用い、実施例６に記載の方法と同様に反応・処理して実施例７および８の化合物を得た。
Figure 0007123809000070
実施例９
（２Ｅ）－Ｎ－（１－（３－クロロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル）－３－（ピリジン－３－イル）プロプ－２－エナミド
Figure 0007123809000071
 参考例２の化合物および対応する原料化合物を用い、参考例９に記載の方法と同様に反応・処理して表題化合物を得た。
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)δ10.7 (1H, s), 8.75 (1H, s), 8.56-8.55 (1H, m), 7.95 (1H, d, J = 9.0 Hz), 7.67 (1H, s), 7.55-7.38 (6H, m), 7.27-7.25 (1H, m), 6.96 (1H, d, J = 15.0 Hz), 5.19 (2H, s).
実施例１０－１
Ｎ－［１－（３－クロロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル］－３，４－ジメトキシベンズアミド
Figure 0007123809000072
 参考例２の化合物（１１．０ｇ）の塩化メチレン（２４０ｍＬ）溶液にトリエチルアミン（１５．８ｍＬ）、３，４－ジメトキシベンゾイルクロリド（９．０４ｇ）を加え、室温にて終夜撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、得られた固体を酢酸エチルにて洗浄して濾取することで表題化合物（９．７ｇ）を得た。
LC-MS, 条件C ([M+H]＋/Rt (min))： 372.0/2.69
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)δ10.64 (1H, s), 7.63 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.60-7.56 (2H, m), 7.39-7.31 (4H, m), 7.25-7.21 (1H, m), 6.97 (1H, d, J = 8.4 Hz), 5.16 (2H, s), 3.78 (3H, s), 3.76 (3H, s).
実施例１０－２
Ｎ－［１－（３－クロロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル］－３，４－ジメトキシベンズアミド 塩酸塩
実施例１０－１の化合物（７０．０ｇ）の１，４－ジオキサン（１．５Ｌ）溶液に４ｍｏｌ／Ｌ塩酸－ジオキサン（９４ｍＬ）、種晶を加えて超音波洗浄機にかけた。溶媒を留去し、残渣にエタノール（５００ｍＬ）を加え、再度超音波洗浄機にかけ、析出した固体をろ取、減圧乾燥して表題化合物（７２．４ｇ）を得た。
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)δ11.53 (1H, s), 8.87 (1H, s), 7.68-7.64 (3H, m), 7.58 (1H, s), 7.46-7.40 (3H, m), 7.09 (1H, d, J = 8.8 Hz), 5.40 (2H, s), 3.83 (3H, s), 3.82 (3H, s).
実施例１１～１２
対応する原料化合物を用い、実施例１０－１に記載の方法と同様に反応・処理して実施例１１および１２の化合物を得た。
Figure 0007123809000073
実施例１３～１４
対応する原料化合物を用い、参考例９に記載の方法と同様に反応・処理して実施例１３および１４の化合物を得た。
Figure 0007123809000074
実施例１５
５－（ヒドロキシメチル）－Ｎ－｛１－［３－（トリフルオロメチル）ベンジル］－１Ｈ－イミダゾール－４－イル｝ピコリンアミド
Figure 0007123809000075
 参考例１３の化合物（１００ｍｇ）のＴＨＦ（２ｍＬ）／メタノール（１ｍＬ）溶液に水素化ホウ素リチウム（３ｍｏｌ／Ｌ ｉｎ ＴＨＦ，０．０８ｍＬ）を加え、室温で３時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過後、減圧濃縮した。得られた固体に酢酸エチル（２ｍＬ）、ヘキサン（２ｍＬ）を加えて超音波洗浄機にかけ、固体をろ取し、ヘキサン／酢酸エチル（１／１，１ｍＬ×２）で洗浄後、４０℃で減圧乾燥し、表題化合物（７０ｍｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 377.2/0.733
実施例１６～１７
実施例１５に記載の方法に準じ、参考例１７および参考例１８－３の化合物より実施例１６および１７の化合物を得た。
Figure 0007123809000076
実施例１８～１９
参考例９に記載の方法に準じ、参考例１の化合物、参考例４の化合物および対応する原料化合物より実施例１８および１９の化合物を得た。
Figure 0007123809000077
実施例２０
６－（ヒドロキシメチル）－Ｎ－［１－（３，４，５－トリフルオロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル］ニコチンアミド
Figure 0007123809000078
 ６－（ヒドロキシメチル）－ニコチン酸メチル(０．９２４ｇ)のＴＨＦ（２２ｍＬ）溶液に５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液（２．２ｍｌ）を加えた。室温にて終夜撹拌した後、溶媒を減圧濃縮により留去し、減圧乾燥した。得られた固体のＤＭＦ（２５ｍＬ）溶液に参考例４で得た化合物（１．６１ｇ）、ＨＡＴＵ（２．５２ｇ）、ジイソプロピルエチルアミン（２．３８ｍＬ）を加え、室温にて１時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と水を加え、析出した固体をろ過した。水とアセトニトリル、酢酸エチルにて洗浄した後、減圧乾燥し、表題化合物（１．３７５ｇ）を得た。
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)δ11.00 (1H, s), 9.01 (1H, d, J = 1.8 Hz), 8.30 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.69 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.54 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.48 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.38-7.30 (2H, m), 5.52 (1H, t, J = 6.1 Hz), 5.18 (2H, s), 4.60 (2H, d, J = 6.1 Hz).
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 363.1/0.66
実施例２１～２７
実施例２０に記載の方法に準じ、対応する参考例の化合物より実施例２１～２７の化合物を得た。
Figure 0007123809000079
実施例２８
Ｎ－［６－（ヒドロキシメチル）ピリジン－３－イル］－１－（３，４，５－トリフルオロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－カルボキサミド
Figure 0007123809000080
 参考例１４－２の化合物（１３８ｍｇ）と参考例１５の化合物（１４１ｍｇ）のＤＭＦ（１５ｍＬ）溶液に、ＷＳＣＩ・ＨＣｌ（１２４ｍｇ）、ＨＯＢｔ（８７ｍｇ）、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン（０．１８８ｍL）を加え８０℃にて６時間撹拌した。反応混合物に水、水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をメタノール（５ｍＬ）に溶かし、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸－メタノール（０．８１ｍＬ）を加え４０℃にて５時間撹拌した。反応混合物に水、水酸化ナトリウム水溶液を順に加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム/メタノール）にて精製し、表題化合物（８６．４ｍｇ）を得た。
LC-MS， 条件B ([M+H]＋/Rt (min)) 363.2/0.640
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)δ10.06 (1H, s), 8.84 (1H, s), 8.19-8.14 (1H, m), 7.97-7.95 (2H, m), 7.42-7.34 (3H, m), 5.31-5.26 (1H, m), 5.24 (2H, s), 4.48 (2H, d, J = 4.8 Hz).
実施例２９
実施例２８に記載の方法に準じ、対応する参考例の化合物より実施例２９の化合物を得た。
Figure 0007123809000081
実施例３０
Ｎ－（７－フルオロ－１，２，３，４－テトラヒドロイソキノリン－６－イル）－1－（３，４，５－トリフルオロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－カルボキサミド
Figure 0007123809000082
 参考例９に記載の方法に準じ、参考例１４－２の化合物およびｔｅｒｔ－ブチル ６－アミノ－７－フルオロ－３，４－ジヒドロイソキノリン－２（１Ｈ）－カルボキシレートを用いて、ｔｅｒｔ－ブチル ７－フルオロ－６－（｛［１－（３，４，５－トリフルオロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル］カルボニル｝アミノ）－３，４－ジヒドロイソキノリン－２（１Ｈ）－カルボキシレートを得た。前記化合物のメタノール溶液に、４ｍｏｌ／Ｌ塩酸－ジオキサンを加え室温で終夜撹拌した。反応混合物を減圧濃縮した後、水と２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加えた。沈殿した固体をろ取し、水、ヘキサン／酢酸エチル（２／１）で洗浄後、減圧乾燥し、表題化合物を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 405.2/0.665
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)δ9.27 (1H, s), 7.96-7.93 (2H, m), 7.69 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.43-7.34 (2H, m), 6.91 (1H, d, J = 11.6 Hz), 5.23 (2H, s), 3.75 (2H, s), 2.90-2.86 (2H, m), 2.62-2.57 (2H, m).
実施例３１～３２
実施例３０に記載の方法に準じ、参考例１４－２、参考例２２および対応する原料化合物を用い、実施例３１および３２の化合物を得た。
Figure 0007123809000083
実施例３３
Ｎ－（１，２，３，４－テトラヒドロイソキノリン－６－イル）－１－（３，４，５－トリフルオロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－カルボキサミド 二塩酸塩
Figure 0007123809000084
 参考例９に記載の方法に準じ、参考例１４－２の化合物およびｔｅｒｔ－ブチル ６－アミノ－３，４－ジヒドロイソキノリン－２（１Ｈ）－カルボキシレートを用いて、ｔｅｒｔ－ブチル ６－（｛［１－（３，４，５－トリフルオロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル］カルボニル｝アミノ）－３，４－ジヒドロイソキノリン－２（１H）－カルボキシレートを得た。前記化合物のメタノール溶液に、４ｍｏｌ／Ｌ塩酸－ジオキサンを加え８０℃にて撹拌した。沈殿した固体をろ取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄後、減圧乾燥し、表題化合物を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 387.2/0.615
実施例３４～４９
実施例３３に記載の方法に準じ、対応する参考例の化合物および原料化合物を用い、実施例３４～４９の化合物を得た。
Figure 0007123809000085
Figure 0007123809000086
Figure 0007123809000087
Figure 0007123809000088
実施例５０
Ｎ－［１－（３，４，５－トリフルオロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル］－（１，２，３，４－テトラヒドロイソキノリン－６－カルボキサミド 二トリフルオロ酢酸塩
Figure 0007123809000089
 参考例９に記載の方法に準じ、参考例４の化合物および２－（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）－１，２，３，４－テトラヒドロイソキノリン－６－カルボキシレートを用いて、Ｎ－（１－（３，４，５－トリフルオロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル）－１，２，３，４－テトラヒドロイソキノリン－６－カルボキサミドを得た。前記化合物のクロロホルム溶液にトリフルオロ酢酸を加え室温で撹拌後、反応混合物を減圧濃縮した。残渣にヘキサン・酢酸エチル混合溶媒を加え、析出した固体をろ取し、減圧乾燥することで表題化合物を得た。
LC-MS, 条件B ([M+2H]2＋/Rt (min)): 194.1/0.580
1H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.94 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.85-7.83 (2H, m), 7.47 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.38 (1H, d, J = 8.4 Hz), 7.14 (2H, dd, J = 8.4, 6.8 Hz), 5.26 (2H, s), 4.44 (2H, s), 3.55 (2H, t, J = 6.4 Hz), 3.20 (2H, t, J = 6.4 Hz).
実施例５１～５４
実施例５０に記載の方法に準じ、対応する参考例の化合物および原料化合物を用い、実施例５１～５４の化合物を得た。
Figure 0007123809000090
実施例５５
６－（ヒドロキシメチル）－５－メチル－Ｎ－［１－（３，４，５－トリフルオロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル］ニコチンアミド
Figure 0007123809000091
 実施例２０に記載の方法に準じ、参考例２８の化合物から表題化合物を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 377.2/0.631
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)δ 10.97 (1H, s), 8.87 (1H, d, J = 1.8 Hz), 8.10 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.69 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.48 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.38-7.31 (2H, m), 5.18 (2H, s), 5.11 (1H, t, J = 5.5 Hz), 4.60 (2H, d, J = 5.5 Hz), 2.35 (3H, s).
実施例５６～５７
参考例９に記載の方法に準じ、参考例１、参考例４、および参考例２９－３の化合物より実施例５６および５７の化合物を得た。
Figure 0007123809000092
実施例５８
５－アミノ－６－（ヒドロキシメチル）－Ｎ－｛１－［３－（トリフルオロメチル）ベンジル］－１Ｈ－イミダゾール－４－イル｝ニコチンアミド
Figure 0007123809000093
 実施例５６の化合物（１３ｍｇ）のＴＨＦ（０．５ｍＬ）／メタノール（０．５ｍＬ）懸濁液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．０３１ｍＬ）を加え、６０℃で３時間撹拌し、９０℃でさらに６．５時間撹拌した。室温に冷却後、反応混合物に水を加え、室温で５分間撹拌した。析出した固体をろ取し、水で洗浄後、５０℃で減圧乾燥して表題化合物（７ｍｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 392.2/0.647
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)δ10.79 (1H, s), 8.29 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.72-7.68 (3H, m), 7.64-7.581 (2H, m), 7.43 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.42 (1H, d, J = 1.8 Hz), 5.36 (2H, s), 5.30 (2H, s), 5.18 (1H, t, J = 5.5 Hz), 4.52 (2H, d, J = 5.5 Hz)
実施例５９
実施例５８に記載の方法に準じ、実施例５７の化合物から実施例５９の化合物を得た。
Figure 0007123809000094
実施例６０
（Ｅ）－２－メトキシ－５－（３－オキソ－３－（（１－（３－（トリフルオロメチル）ベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル）アミノ）プロプ－１－エン－１－イル）フェノールアセテート
Figure 0007123809000095
 （Ｅ）－３－（３－アセトキシ－４－メトキシフェニル）アクリル酸（７１．０ｍｇ）のジクロロエタン（２ｍＬ）溶液にオキサリルクロリド（３９μＬ）、ＤＭＦ（２μＬ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮して乾燥して酸クロリドを得た。参考例１の化合物（７０．０ｍｇ）のジクロロメタン（５ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（１０５μＬ）を加えた、上記の酸クロリドを滴下した。終夜撹拌し、水を加え、クロロホルムにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール）にて精製し、表題化合物（３０ｍｇ）を得た。
LC-MS, 条件B ([M+H]＋/Rt (min))： 460.2/1.01
試験例１：がん細胞スフィア形成能抑制試験
がん幹細胞（ＣＳＣ）の特性の一つである、細胞の自己複製能の測定法として確立され信頼できる手法として、血清非存在下、非接着状態でのがん細胞スフィア形成能測定が挙げられる（Cancer Res 65, 5506-5511 (2005)）。HCT-116細胞はアメリカ培養細胞系統保存機関(ATCC)より入手した。HCT-116細胞は10% ウシ胎児血清（FBS）、１００Ｕ／ｍｌペニシリン、１００μｇ/ｍｌストレプトマイシンMcCoy’s 5a培地を用い、37℃、5% CO2存在下にて培養した。HCT-116細胞を、2% B27 supplement(GIBCO)、20 ng/mL 上皮細胞成長因子(EGF) (peprotech)、10 ng/mL 塩基性線維芽細胞増殖因子(bFGF) (peprotech)、5 μg/mL インスリン(Sigma)、1% ペニシリン/ストレプトマイシンを含むDMEM/F12培地にて、350-800 cells/well となるように384 Well Black Clear Bottom Ultra-Low Attachment Microplate (Corning Cat. No.3827)に播種した。DMSO終濃度が0.1%となるように被験物質を添加し4日間培養した。その後、CellTiter-Glo（登録商標） Luminescent Cell Viability Assay（Promega）を用いて生細胞数を計測し、各被験物質の５０％細胞増殖を抑制する濃度（Sphere IC50値；μmol/L）を算出した。
実施例で得られた各化合物について、試験例１に示す試験を行った。各被験物質の５０％細胞増殖を抑制する濃度（Sphere IC50値；μmol/L）について下表に示す。％で示した値は、１ μmol/Lでの（１００％－細胞増殖抑制率）を示す。
Figure 0007123809000096
試験例２：iPS細胞に対する細胞傷害活性の評価
ヒトiPS細胞を、Scientific Reports, 4, 3594 (2014)に記載の方法に準じてフィーダーフリー培養した。フィーダーフリー培地としてはStemFit培地（AK03N、味の素社製）、フィーダーフリー足場にはLaminin511-E8（ニッピ社製）を用いた。
サブコンフレントになったヒトiPS細胞を、PBSにて洗浄後、TrypLE Select（Life Technologies社製）を用いて単一細胞へ分散した。その後、このヒトiPS細胞を、Laminin511-E8にてコートしたプラスチック培養ディッシュに播種し、Y27632（ROCK阻害物質、10 μmol/L）存在下、StemFit培地にて37℃、5% CO2でフィーダーフリー培養した。この時、プラスチック培養ディッシュとして、96ウェルプレート（BD社製、細胞培養用、培養面積0.35 cm2）を用い、単一細胞へ分散されたヒトiPS細胞の播種細胞数は0.03 x 104とした。播種した1日後に、Y27632を含まないStemFit培地に交換した。以降、1日～2日に一回Y27632を含まないStemFit培地にて培地交換した。その後、サブコンフレント（培養面積の6割が細胞に覆われる程度）になるまで培養した。
このヒトiPS細胞に、DMSOにて融解した実施例１－２、１０－２および２２の化合物を終濃度10、1、0.1および0.01 μmol/Lとなるように、Stem Fit培地（AK03;味の素社製）に加えて２４時間培養した。
また、本試験例では、陰性対照として、分化細胞であるヒト子宮頸癌由来細胞HeLa細胞を用いた。HeLa細胞の培養は、非動済10% ウシ胎児血清（MP Biomedicals社製）を含むDMEM培地(ライフテクノロジーズ社製)を用いて、37℃、5% CO2で24時間培養し、前述のヒトiPS細胞の場合と同様に、実施例１－２、１０－２および２２の化合物を含む培地で、24時間培養した。
24時間後、培地を除去し、4% パラホルムアルデヒドにて4oC、15分固定した後、DAPI（シグマ社製）を含むPBS溶液を加えて核染色を行い、倒立型蛍光顕微鏡（キーエンス社製、BIOREVO）にて観察した。さらに、DAPI陽性面積を、同顕微鏡の定量ソフトを用いて算出した。
その結果、実施例１－２の化合物では、0.1 μmol/LからヒトiPS細胞に対して細胞傷害活性が認められ、実施例１－２の化合物で処理していない時の生存率と比較すると、0.1 μmol/Lで53%、1 μmol/Lで25%、10 μmol/Lで14%であった（図１、図４）。また、実施例１０－２の化合物は、1 μmol/Lで37%、10 μmol/Lで17%であった(図２、図４）。また、実施例２２の化合物は、0.1 μmol/Lで51%、1 μmol/Lで31%であった(図３、図４）。
試験例３：本発明化合物の分化誘導した細胞凝集塊に対する効果の評価
まず、分化誘導した細胞凝集塊を以下の手順で作製した。
試験例２と同様に、フィーダーフリー培養したサブコンフレント1日前のヒトiPS細胞を、SB431542 （TGFβシグナル伝達経路阻害物質（TGFβR-i）、5 μmol/L）の存在下で、Stem Fit培地（AK03;味の素社製）を用いて、1日間フィーダーフリー培養した。この時、プラスチック培養ディッシュとして、6ウェルプレート（イワキ社製、細胞培養用、培養面積9.4 cm2）を用い、単一細胞へ分散させたヒトiPS細胞の播種細胞数は1.0 x 104とした。この細胞を、TrypLE Select（Life Technologies社製）を用いて細胞分散液で処理し、さらにピペッティング操作により単一細胞に分散した。その後、非細胞接着性の96穴培養プレート（PrimeSurface 96V底プレート，住友ベークライト社製）の1ウェルあたり1.0 x 104細胞になるように100μlの無血清培地に浮遊させ、37℃、5% CO2で浮遊培養した。その際の無血清培地（gfCDM+KSR）には、F-12培地とIMDM培地の1：1混合液に10％ KSR、450μmol/L 1-モノチオグリセロール、1 x Chemically defined lipid concentrateを添加した無血清培地を用いた。遊培養開始時（浮遊培養開始後0日目）に、前記無血清培地にY27632（終濃度20 μmol/L）を加え、さらにWntシグナル伝達経路阻害物質（IWR-1e, 3μmol/L）を含む培地で培養した。
37℃、5% CO2で24時間培養した後、本発明化合物を終濃度0.1 μmol/Lおよび1 μmol/L、また等量のDMSOを含む無血清培地に交換し、さらに24時間培養した。24時間後、これらの凝集塊を4% パラホルムアルデヒドで固定し、凍結切片を作製した。これらの凍結切片に関し、アポトーシスマーカーの1つであるCleaved Caspase-3（抗Cleaved Caspase-3抗体、Cell Signaling社、Mouse）、および未分化マーカーの1つであるOct3/4（抗Oct3/4抗体、Santa Cruz社製, Rabbit）について免疫染色を行った。さらにDAPI（シグマ社製）を用いて核染色を行い、これらの免疫染色された切片を、倒立型蛍光顕微鏡（キーエンス社製、BIOREVO）を用いて観察した。さらにCleaved Caspase-3の陽性面積をNIH Image-Jソフトにて定量した。
その結果、本試験例で用いた分化誘導した細胞凝集塊は、未分化マーカーであるOct3/4を発現しており、これらの凝集塊中にiPS細胞が残存していることが確認できた。さらに、実施例１－２および１０－２の化合物で処理した凝集塊では、化合物未処理ではCleaved Caspase-3の陽性面積の割合が19%であったのに対し、実施例１－２の化合物で処理した際には0.1 μmol/Lで24%、1 μmol/Lで27%であった（図５、図７－実施例１－２の化合物）。また、実施例１０－２の化合物では、1 μmol/Lで暴露した際に26%であった（図６、図７－実施例１０－２の化合物）。
以上のように、本発明化合物は分化誘導した細胞凝集塊中のCleaved Caspase-3の陽性面積の割合を増加させ、その増加は分化誘導した細胞凝集塊内部においても認められた。尚、本試験例の分化誘導した細胞凝集塊をＷＯ２０１６／０６３９８５に記載の方法で培養することにより、視細胞を含む細胞凝集塊を得ることができる。
本発明化合物は、優れたがん細胞スフィア形成能抑制作用を示し、iPS細胞の増殖抑制および細胞死を誘導することから、iPS細胞の除去剤として有用である。

Claims (18)

  1. 式（１）：
    Figure 0007123809000097
     ［式中、Ｑ１は、置換されていてもよいＣ６－１０アリール、置換されていてもよいＣ６－１０アリールオキシ、置換されていてもよいＣ６－１０アリールチオ、置換されていてもよいＣ３－１０シクロアルキル、または置換されていてもよい５員～１０員のヘテロアリールを表し；
    Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、またはＣ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）を表し；
    Ｗ１は、Ｃ１－４アルキレン（該基は、１～３個のフッ素原子またはＣ３－７シクロアルキルで置換されていてもよい）を表し；
    Ｗ２－Ｑ２は、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）－Ｑ２、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）Ｏ－Ｑ２、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）ＯＣＨ２－Ｑ２、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）ＮＲ３ｂ－Ｑ２、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）ＮＲ３ｂＣＨ２－Ｑ２、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）ＣＨ２Ｏ－Ｑ２、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）ＣＨ２－Ｑ２、－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２－Ｑ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３ａ－Ｑ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３ａＣＨ２－Ｑ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３ａＣＨ２ＣＨ２－Ｑ２、または－ＮＲ３ａＣ（Ｏ）－ＣＲ ３ｃ ＝ＣＲ ３ｄ －Ｑ２（ここにおいて、Ｒ３ａおよびＲ３ｂは、それぞれ独立して、水素原子またはＣ１－６アルキルを表し；Ｒ３ｃおよびＲ３ｄは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、またはＣ１－６アルキルを表す）を表し；
    環Ｑ２は、置換されていてもよいＣ６－１０アリール、または置換されていてもよい５員～１０員のヘテロアリールを表す]で表される化合物またはその塩を含有する、iPS細胞の除去剤。
  2. Ｑ１がフェニル（該基は、
    （１）ハロゲン原子、
    （２）Ｃ１－６アルキル（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、
    （３）Ｃ１－６アルコキシ（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、Ｃ１－６アルコキシおよびフェニルからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、
    （４）アミノ（該基は同種または異種の１～２個のＣ１－６アルキルで置換されていてもよい）、
    （５）Ｃ６－１０アリール（該基は、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、
    （６）Ｃ６－１０アリールオキシ（該基は、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、
    （７）５員～１０員のヘテロアリール（該基は、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、および
    （８）Ｃ１－６アルコキシ－カルボニル
    からなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）である、請求項１に記載の除去剤。
  3. Ｑ１がフェニル（該基は、ハロゲン原子、およびＣ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）からなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）である、請求項１または２に記載の除去剤。
  4. Ｗ２－Ｑ２が、－ＮＨＣ（Ｏ）－Ｑ２、－ＮＨＣ（Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－Ｑ２、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－Ｑ２、または－ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２Ｏ－Ｑ２である、請求項１～３のいずれか一項に記載の除去剤。
  5. Ｗ１がメチレンである、請求項１～４のいずれか一項に記載の除去剤。
  6. 環Ｑ２が、
    （１）フェニル（該基は、
    （ａ）ハロゲン原子、
    （ｂ）Ｃ１－６アルキル（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、
    （ｃ）Ｃ１－６アルコキシ（該基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ、およびＣ１－６アルコキシからなる群から選択される同種または異種の１～３個の基で置換されていてもよい）、
    （ｄ）Ｃ３－７シクロアルキル、
    （ｅ）Ｃ２－６アルケニル、
    （ｆ）シアノ、
    （ｇ）アミノ（該基は同種または異種の１～２個のＣ１－６アルキルで置換されていてもよい）、および
    （ｈ）Ｃ１－６アルキル－カルボニルアミノ
    からなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、
    （２）５員～１０員のヘテロアリール（該基は、本項中の前記（１）の（ａ）～（ｈ）からなる群から選択される同種または異種の１～４個の基で置換されていてもよい）、または
    （３）下記式（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５）、または（１６）：
    Figure 0007123809000098
     （式中、環Ｑ３は、置換されていてもよいベンゼン環、置換されていてもよいピリジン環、置換されていてもよいピリミジン環、置換されていてもよいピリダジン環、または置換されていてもよいピラジン環を表し；
    環Ｑ４は、置換されていてもよい５員のヘテロアリール環を表し；
    ｎおよびｍは、それぞれ独立して、０、１または２を表し；
    ここにおいて、ｎおよびｍが同時に０であることはなく；
    ＸおよびＺは、それぞれ独立して、ＮＲ５、－ＮＲ３ｅＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３ｅ－、またはＯを表し（ここにおいて、Ｒ５は、水素原子、Ｃ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）、またはＣ１－６アルキルカルボニルを表し；Ｒ３ｅは、水素原子またはＣ１－６アルキルを表す）；
    ｐは、１、２、３、４または５を表し；
    Ｒ４は、複数ある場合はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ、オキソ、Ｃ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）、またはＣ１－６アルコキシ（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）を表す）で表される基である、請求項１～５のいずれか一項に記載の除去剤。
  7. 環Ｑ２が、
    （１）フェニル（該基は、ヒドロキシで置換されていてもよいＣ１－６アルコキシおよびＣ１－６アルキル－カルボニルアミノからなる群から選択される同種または異種の１～２個の基で置換されていてもよい）、
    （２）下記式（２）：
    Figure 0007123809000099
     （式中、
    Ｒ１１、Ｒ１２、およびＲ１３は、それぞれ独立して、
    （ａ）水素原子、
    （ｂ）ハロゲン原子、
    （ｃ）Ｃ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のフッ素原子で置換されていてもよい）、または
    （ｄ）アミノ（該基は同種または異種の１～２個のＣ１－６アルキルで置換されていてもよい）を表す）
    で表される基、または
    （３）下記式（２１）：
    Figure 0007123809000100
     （式中、Ｘ１は、ＮまたはＣＲ１４を表し；
    Ｘ２は、ＮまたはＣＲ１５を表し；
    Ｘ３は、ＮまたはＣＲ１６を表し；
    ここにおいて、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３が同時にＮであることはなく；
    Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、それぞれ独立して、
    （ａ）水素原子、
    （ｂ）ハロゲン原子、
    （ｃ）Ｃ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）、または
    （ｄ）Ｃ１－６アルコキシ（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）を表し；
    ｎおよびｍは、それぞれ独立して、０、１または２を表し；
    ここにおいて、ｎおよびｍが同時に０であることはなく；
    ｐは、１、２、３、４または５を表し；
    Ｒ４ａは、複数ある場合はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、またはＣ１－６アルキル（該基は同種または異種の１～３個のハロゲン原子で置換されていてもよい）を表す）
    で表される基である、請求項１～６のいずれか一項に記載の除去剤。
  8. Ｗ２－Ｑ２が、－ＮＨＣ（Ｏ）－Ｑ２、または－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－Ｑ２であり；
    環Ｑ２が、式（２）または（２１）で表される基である、請求項７に記載の除去剤。
  9. Ｒ１１、およびＲ１２がいずれも水素原子であり；
    Ｒ１３が水素原子、Ｃ１－４アルキル（該基は１～３個のフッ素原子で置換されていてもよい）、またはアミノであり；
    Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり、
    ｎが１であり；
    ｍが０または１であり；
    ｐが１または２であり；
    Ｒ４ａが、複数ある場合はそれぞれ独立して、水素原子またはメチルである、請求項７または８に記載の除去剤。
  10. Ｗ２－Ｑ２が、－ＮＨＣ（Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－Ｑ２であり；
    環Ｑ２が、フェニル（該基は、ヒドロキシで置換されていてもよいＣ１－６アルコキシおよびＣ１－６アルキル－カルボニルアミノからなる群から選択される同種または異種の１～２個の基で置換されていてもよい）である、請求項１～７のいずれか一項に記載の除去剤。
  11. Ｒ１およびＲ２がいずれも水素原子である、請求項１～１０のいずれか一項に記載の除去剤。
  12. 以下の化合物から選択される、請求項１に記載の式（１）で表される化合物、またはその塩を含有する、iPS細胞の除去剤：
    （２Ｅ）－３－［４－（アセチルアミノ）フェニル］－Ｎ－（１－［３－（トリフルオロメチル）ベンジル］－１Ｈ－イミダゾール－４－イル）プロプ－２－エナミド、
    Ｎ－［１－（３－クロロベンジル）－１Ｈ－イミダゾール－４－イル］－３，４－ジメトキシベンズアミド、および
    ６－（ヒドロキシメチル）－Ｎ－｛１－［３－（トリフルオロメチル）ベンジル］－１Ｈ－イミダゾール－４－イル｝ニコチンアミド。
  13. iPS細胞およびiPS由来細胞を含む培養液に、請求項１～１２のいずれか一項に記載の式（１）で表される化合物またはその塩を添加する工程を含む、iPS細胞の除去方法。
  14. iPS細胞を材料として作製した細胞塊を含む培養液に、請求項１～１２のいずれか一項に記載の式（１）で表される化合物またはその塩を添加する工程を含む、iPS細胞の除去方法。
  15. iPS細胞を材料として作製した細胞塊の内部に存在するiPS細胞を除去するための、請求項１～１２のいずれか一項に記載の式（１）で表される化合物またはその塩の生体外での使用。
  16. iPS細胞を含まないiPS由来細胞集団を製造するための、請求項１～１２のいずれか一項に記載の式（１）で表される化合物またはその塩の生体外での使用。
  17. 請求項１～１２のいずれか一項に記載の式（１）で表される化合物またはその塩とiPS細胞由来細胞集団とを接触させる工程を含む、生体外におけるiPS細胞を含まないiPS細胞由来細胞集団の製造方法。
  18. 以下の工程：
    （１）iPS細胞を含む細胞集団を分化誘導する工程；及び
    （２）工程（１）で得られる細胞集団を、請求項１～１２のいずれか一項に記載の式（１）で表される化合物またはその塩と接触させる工程；
    を含む、生体外における多能性を維持する細胞を含まないiPS細胞由来細胞集団の製造方法。
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