JP7743380B2 - Solder composition and electronic substrate - Google Patents

Solder composition and electronic substrate

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Description

本発明は、はんだ組成物および電子基板に関する。 The present invention relates to a solder composition and an electronic substrate.

はんだ組成物は、はんだ粉末にフラックス組成物(ロジン系樹脂、活性剤および溶剤など)を混練してペースト状にした混合物である(特許文献1参照)。このはんだ組成物では、印刷性およびはんだ付性などとともに、粘度安定性(経時安定性とも称する)が求められる。
このように、印刷性と加熱時のダレ性を両立させることは困難である。
The solder composition is a paste-like mixture made by kneading a solder powder with a flux composition (rosin-based resin, activator, solvent, etc.) (see Patent Document 1). This solder composition is required to have viscosity stability (also called stability over time) in addition to printability and solderability.
As such, it is difficult to achieve both printability and resistance to sagging when heated.

特許第5887330号公報Patent No. 5887330

しかしながら、はんだ粉末を微細化すると、はんだ粉末の表面積が増大し、酸化が促進される。そのため、はんだ溶融時の挙動が悪くなり、不ぬれやはんだボールを発生させてしまう。これらの改善のためには、フラックス組成物中の活性剤の一つである有機酸やハロゲン系活性剤を多く添加し、はんだ粉表面の酸化膜除去反応を促進させなければならない。しかしながら、フラックス組成物中の活性剤が増えるということは、活性剤とはんだ粉との反応によって起こる酸化膜除去反応が進行し、はんだ組成物の経時安定性が悪化し、増粘の原因となってしまう。このように、はんだ粉末の微細化と、経時安定性とを両立させることは困難である。 However, when solder powder is made finer, its surface area increases, accelerating oxidation. This results in poor behavior during solder melting, leading to non-wetting and solder balls. To improve these issues, it is necessary to add large amounts of organic acids or halogen-based activators, which are activators in flux compositions, to promote the oxide film removal reaction on the solder powder surface. However, increasing the amount of activator in the flux composition accelerates the oxide film removal reaction caused by the reaction between the activator and the solder powder, reducing the stability of the solder composition over time and causing it to thicken. As such, it is difficult to achieve both finer solder powder and stability over time.

本発明は、十分に微細なはんだ粉末を用いる場合でも、経時安定性が優れるはんだ組成物、並びに、これを用いた電子基板を提供することを目的とする。 The present invention aims to provide a solder composition that exhibits excellent stability over time, even when using sufficiently fine solder powder, as well as an electronic substrate that uses the same.

本発明によれば、以下に示すはんだ組成物および電子基板が提供される。
[1] (A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)チクソ剤、および(D)ヒンダードフェノール系酸化防止剤を含有するフラックス組成物と、(E)はんだ粉末とを含有し、
前記(C)成分は、(C1)示差走査熱量測定(DSC)によるDSC曲線が、複数の吸熱ピークを有し、かつ、前記吸熱ピークの少なくとも1つが、130℃以上220℃以下の範囲にあるアミド化合物を含有し、
前記(E)成分は、IPC-J-STD-005Aのタイプ5、タイプ6、タイプ7、およびタイプ8以上のうちのいずれかに相当する粒子径分布である、
はんだ組成物。
[2] [1]に記載のはんだ組成物において、
前記(C1)成分は、(C11)DSC曲線が、複数の吸熱ピークを有し、かつ、前記吸熱ピークの少なくとも1つが、210℃以上220℃以下の範囲にあるアミド化合物と、(C12)DSC曲線が、複数の吸熱ピークを有し、かつ、前記吸熱ピークの少なくとも1つが、140℃以上160℃以下の範囲にあるアミド化合物とを含有する、
はんだ組成物。
[3] [1]または[2]に記載のはんだ組成物において、
前記(B)成分は、(B1)有機酸および(B2)アミン系活性剤を含有し、
前記(B2)成分は、(B21)ベンゾトリアゾール類、および(B22)イミダゾリン類からなる群から選択される少なくとも1つである、
はんだ組成物。
[4] [3]に記載のはんだ組成物において、
前記(B1)成分が、(B11)炭素数5以上9以下のジカルボン酸を含有する、
はんだ組成物。
[5] [1]~[4]のいずれかに記載のはんだ組成物を用いたはんだ付け部を備える、
電子基板。
According to the present invention, there are provided the following solder compositions and electronic substrates.
[1] A flux composition containing (A) a rosin-based resin, (B) an activator, (C) a thixotropic agent, and (D) a hindered phenol-based antioxidant, and (E) a solder powder,
The component (C) contains (C1) an amide compound whose DSC curve measured by differential scanning calorimetry (DSC) has a plurality of endothermic peaks, and at least one of the endothermic peaks is in the range of 130°C or higher and 220°C or lower;
The component (E) has a particle size distribution corresponding to any one of Type 5, Type 6, Type 7, and Type 8 or higher of IPC-J-STD-005A.
Solder composition.
[2] The solder composition according to [1],
The component (C1) contains (C11) an amide compound whose DSC curve has multiple endothermic peaks, with at least one of the endothermic peaks being in the range of 210°C or higher and 220°C or lower, and (C12) an amide compound whose DSC curve has multiple endothermic peaks, with at least one of the endothermic peaks being in the range of 140°C or higher and 160°C or lower.
Solder composition.
[3] The solder composition according to [1] or [2],
The component (B) contains an organic acid (B1) and an amine surfactant (B2),
The component (B2) is at least one selected from the group consisting of (B21) benzotriazoles and (B22) imidazolines.
Solder composition.
[4] The solder composition according to [3],
The component (B1) contains (B11) a dicarboxylic acid having 5 to 9 carbon atoms.
Solder composition.
[5] A soldered portion using the solder composition according to any one of [1] to [4].
Electronic board.

本発明によれば、十分に微細なはんだ粉末を用いる場合でも、経時安定性が優れるはんだ組成物、並びに、これを用いた電子基板を提供できる。 The present invention provides a solder composition that exhibits excellent stability over time, even when using sufficiently fine solder powder, as well as an electronic substrate that uses the same.

調製例1で得られたアミド化合物のDSC曲線を示すグラフである。1 is a graph showing a DSC curve of the amide compound obtained in Preparation Example 1. 調製例2で得られたアミド化合物のDSC曲線を示すグラフである。1 is a graph showing a DSC curve of the amide compound obtained in Preparation Example 2.

本実施形態に係るはんだ組成物は、(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)チクソ剤、および(D)ヒンダードフェノール系酸化防止剤を含有するフラックス組成物と、(E)はんだ粉末とを含有するものである。(C)チクソ剤は、(C1)示差走査熱量測定(DSC)によるDSC曲線が、複数の吸熱ピークを有し、かつ、前記吸熱ピークの少なくとも1つが、130℃以上220℃以下の範囲にあるアミド化合物を含有する。また、(E)はんだ粉末は、IPC-J-STD-005Aのタイプ5、タイプ6、タイプ7、およびタイプ8以上のうちのいずれかに相当する粒子径分布である。 The solder composition according to this embodiment contains a flux composition containing (A) a rosin-based resin, (B) an activator, (C) a thixotropic agent, and (D) a hindered phenol-based antioxidant, and (E) a solder powder. The (C) thixotropic agent contains (C1) an amide compound whose DSC curve obtained by differential scanning calorimetry (DSC) has multiple endothermic peaks, with at least one of the endothermic peaks being in the range of 130°C to 220°C. Furthermore, the (E) solder powder has a particle size distribution corresponding to any one of Type 5, Type 6, Type 7, and Type 8 or higher of IPC-J-STD-005A.

本実施形態によれば、(E)成分のような十分に微細なはんだ粉末を用いる場合でも、経時安定性が優れるはんだ組成物が得られる。この理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推察する。
すなわち、(C1)示差走査熱量測定(DSC)によるDSC曲線が、複数の吸熱ピークを有し、かつ、前記吸熱ピークの少なくとも1つが、130℃以上220℃以下の範囲にあるアミド化合物によれば、印刷性などを維持しつつ、加熱時のダレ性を向上でき、また、この(C1)成分が経時安定性に悪影響を与えることはない。
さらに、(D)成分により、Snイオン生成量が減少させることができ、(A)成分や(B)成分と(E)成分との反応を抑制できる。そのため、はんだ組成物の経時安定性を向上できる。なお、この効果は、(B)成分として、有機酸やアミン系活性剤などのように、経時安定性に悪影響を与えやすい活性剤で、特に有効であることが分かった。以上のようにして、上記本発明の効果が達成されるものと本発明者らは推察する。
According to this embodiment, even when a sufficiently fine solder powder such as component (E) is used, a solder composition having excellent stability over time can be obtained. The reason for this is not entirely clear, but the inventors speculate as follows.
That is, by using (C1) an amide compound whose DSC curve measured by differential scanning calorimetry (DSC) has a plurality of endothermic peaks, with at least one of the endothermic peaks being in the range of 130°C or higher and 220°C or lower, it is possible to improve sagging resistance during heating while maintaining printability and the like, and further, this component (C1) does not adversely affect stability over time.
Furthermore, component (D) can reduce the amount of Sn ions generated, thereby suppressing the reaction between component (A) or (B) and component (E). This improves the stability of the solder composition over time. This effect is particularly effective when component (B) is an activator that is likely to adversely affect stability over time, such as an organic acid or an amine-based activator. The inventors believe that the effects of the present invention are achieved in this manner.

[フラックス組成物]
まず、本実施形態に用いるフラックス組成物について説明する。本実施形態に用いるフラックス組成物は、はんだ組成物におけるはんだ粉末以外の成分であり、以下説明する(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)チクソ剤、および(D)ヒンダードフェノール系酸化防止剤を含有するものである。
[Flux composition]
First, the flux composition used in this embodiment will be described. The flux composition used in this embodiment is the component other than the solder powder in the solder composition, and contains (A) a rosin-based resin, (B) an activator, (C) a thixotropic agent, and (D) a hindered phenol-based antioxidant, which will be described below.

[(A)成分]
本実施形態に用いる(A)ロジン系樹脂としては、ロジン類およびロジン系変性樹脂が挙げられる。ロジン類としては、ガムロジン、ウッドロジンおよびトール油ロジンなどが挙げられる。ロジン系変性樹脂としては、不均化ロジン、重合ロジン、水素添加ロジンおよびこれらの誘導体などが挙げられる。水素添加ロジンとしては、完全水添ロジン、部分水添ロジン、並びに、不飽和有機酸((メタ)アクリル酸などの脂肪族の不飽和一塩基酸、フマル酸、マレイン酸などのα,β-不飽和カルボン酸などの脂肪族不飽和二塩基酸、桂皮酸などの芳香族環を有する不飽和カルボン酸など)の変性ロジンである不飽和有機酸変性ロジンの水素添加物(「水添酸変性ロジン」ともいう)などが挙げられる。これらのロジン系樹脂は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
[Component (A)]
The rosin-based resin (A) used in this embodiment includes rosins and rosin-modified resins. Examples of rosins include gum rosin, wood rosin, and tall oil rosin. Examples of rosin-modified resins include disproportionated rosin, polymerized rosin, hydrogenated rosin, and derivatives thereof. Examples of hydrogenated rosins include fully hydrogenated rosin, partially hydrogenated rosin, and hydrogenated products of unsaturated organic acid-modified rosins (also referred to as "hydrogenated acid-modified rosin"), which are rosins modified with unsaturated organic acids (e.g., aliphatic unsaturated monobasic acids such as (meth)acrylic acid, aliphatic unsaturated dibasic acids such as α,β-unsaturated carboxylic acids such as fumaric acid and maleic acid, and unsaturated carboxylic acids having an aromatic ring such as cinnamic acid). These rosin-based resins may be used alone or in combination of two or more.

(A)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、20質量%以上70質量%以下であることが好ましく、30質量%以上60質量%以下であることがより好ましい。(A)成分の配合量が前記下限以上であれば、はんだ付ランドの銅箔面の酸化を防止してその表面に溶融はんだを濡れやすくする、いわゆるはんだ付け性を向上でき、はんだボールを十分に抑制できる。また、(A)成分の配合量が前記上限以下であれば、フラックス残さ量を十分に抑制できる。 The blending amount of component (A) is preferably 20% by mass or more and 70% by mass or less, and more preferably 30% by mass or more and 60% by mass or less, based on 100% by mass of the flux composition. When the blending amount of component (A) is above the lower limit, oxidation of the copper foil surface of the soldering land is prevented, making the surface more easily wetted by molten solder, thereby improving solderability and sufficiently suppressing solder balls. Furthermore, when the blending amount of component (A) is below the upper limit, the amount of flux residue can be sufficiently suppressed.

[(B)成分]
本実施形態に用いる(B)活性剤としては、有機酸、非解離性のハロゲン化化合物からなる非解離型活性剤(ハロゲン系活性剤)、およびアミン系活性剤などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。また、これらの中でも、(B1)有機酸を含有することが好ましい。また、(B)成分は、(B2)アミン系活性剤をさらに含有することが好ましい。
(B1)成分としては、モノカルボン酸、ジカルボン酸などの他に、その他の有機酸が挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
モノカルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ブチリック酸、バレリック酸、カプロン酸、エナント酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ツベルクロステアリン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸、リグノセリン酸、およびグリコール酸などが挙げられる。
ジカルボン酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、およびジグリコール酸などが挙げられる。これらの中でも、活性作用の観点から、炭素数5以上9以下のジカルボン酸が好ましい。
その他の有機酸としては、3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、ダイマー酸、トリマー酸、レブリン酸、乳酸、アクリル酸、安息香酸、サリチル酸、アニス酸、クエン酸、およびピコリン酸などが挙げられる。
[(B) Component]
Examples of the (B) activator used in this embodiment include organic acids, non-dissociative activators (halogen-based activators) made of non-dissociative halogenated compounds, and amine-based activators. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, it is preferable to include an (B1) organic acid. It is also preferable that the (B) component further includes an (B2) amine-based activator.
Examples of the component (B1) include monocarboxylic acids, dicarboxylic acids, and other organic acids. These may be used alone or in combination of two or more.
Monocarboxylic acids include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid, tuberculostearic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, and glycolic acid.
Examples of dicarboxylic acids include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, fumaric acid, maleic acid, tartaric acid, and diglycolic acid. Among these, dicarboxylic acids having 5 to 9 carbon atoms are preferred from the viewpoint of activity.
Other organic acids include 3-hydroxy-2-naphthoic acid, dimer acid, trimer acid, levulinic acid, lactic acid, acrylic acid, benzoic acid, salicylic acid, anisic acid, citric acid, and picolinic acid.

(B1)成分の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、1質量%以上10質量%以下であることが好ましく、1.5質量%以上7.5質量%以下であることがより好ましく、2質量%以上5質量%以下であることがさらにより好ましい。(B1)成分の配合量が前記下限以上であれば、活性作用を向上できる傾向にあり、他方、前記上限以下であれば、フラックス組成物の絶縁性を維持できる傾向にある。 The blending amount of component (B1) is preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 1.5% by mass or more and 7.5% by mass or less, and even more preferably 2% by mass or more and 5% by mass or less, based on 100% by mass of the flux composition. If the blending amount of component (B1) is above the lower limit, the activation effect tends to be improved, while if it is below the upper limit, the insulating properties of the flux composition tend to be maintained.

(B2)成分としては、(B21)ベンゾトリアゾール類(ベンゾトリアゾール、および2-(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)など)、(B22)イミダゾリン類(2-フェニルイミダゾリン、および2-ベンジルイミダゾリンなど)、アミン類(エチレンジアミンなどのポリアミンなど)、アミン塩類(トリメチロールアミン、シクロヘキシルアミン、ジエチルアミンなどのアミンやアミノアルコールなどの有機酸塩や無機酸塩(塩酸、硫酸、臭化水素酸など))、アミノ酸類(グリシン、アラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、バリンなど)、アミド系化合物などが挙げられる。これらの中でも、活性作用の観点から、(B21)ベンゾトリアゾール類、または(B22)イミダゾリン類が好ましく、(B21)成分および(B22)成分を併用することが特に好ましい。
また、(B1)成分と(B2)成分とを併用することが好ましく、(B1)成分と、(B21)成分と、(B22)成分とを併用することが特に好ましい。
Examples of component (B2) include (B21) benzotriazoles (benzotriazole, 2-(2-hydroxy-5-methylphenyl), etc.), (B22) imidazolines (2-phenylimidazoline, 2-benzylimidazoline, etc.), amines (polyamines such as ethylenediamine, etc.), amine salts (organic acid salts or inorganic acid salts (hydrochloric acid, sulfuric acid, hydrobromic acid, etc.) of amines such as trimethylolamine, cyclohexylamine, diethylamine, and amino alcohols), amino acids (glycine, alanine, aspartic acid, glutamic acid, valine, etc.), and amide compounds. Among these, from the viewpoint of activity, (B21) benzotriazoles or (B22) imidazolines are preferred, and it is particularly preferred to use the components (B21) and (B22) in combination.
It is also preferable to use the component (B1) and the component (B2) in combination, and it is particularly preferable to use the component (B1), the component (B21), and the component (B22) in combination.

(B2)成分の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、1質量%以上10質量%以下であることが好ましく、2質量%以上5質量%以下であることがより好ましい。(B2)成分の配合量が前記下限以上であれば、活性作用を向上できる傾向にあり、他方、前記上限以下であれば、フラックス組成物の絶縁性を維持できる傾向にある。
(B21)成分および(B22)成分を併用する場合、(B21)成分と(B22)成分との質量比((B21)成分/(B22)成分)は、1/20以上1/5以下であることが好ましく、1/15以上1/8以下であることがより好ましい。
The blending amount of component (B2) is preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less, and more preferably 2% by mass or more and 5% by mass or less, based on 100% by mass of the flux composition. If the blending amount of component (B2) is equal to or more than the lower limit, the activation action tends to be improved, while if it is equal to or less than the upper limit, the insulating properties of the flux composition tend to be maintained.
When the component (B21) and the component (B22) are used in combination, the mass ratio of the component (B21) to the component (B22) (component (B21)/component (B22)) is preferably 1/20 or more and 1/5 or less, and more preferably 1/15 or more and 1/8 or less.

(B)成分の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、1質量%以上15質量%以下であることが好ましく、1.5質量%以上10質量%以下であることがより好ましく、2質量%以上7質量%以下であることが特に好ましい。(B)成分の配合量が前記下限以上であれば、活性作用を向上できる傾向にあり、他方、前記上限以下であれば、フラックス組成物の絶縁性を維持できる傾向にある。 The blending amount of component (B) is preferably 1% by mass or more and 15% by mass or less, more preferably 1.5% by mass or more and 10% by mass or less, and particularly preferably 2% by mass or more and 7% by mass or less, relative to 100% by mass of the flux composition. If the blending amount of component (B) is above the lower limit, the activation effect tends to be improved, while if it is below the upper limit, the insulating properties of the flux composition tend to be maintained.

[(C)成分]
本実施形態に用いる(C)チクソ剤は、(C1)示差走査熱量測定(DSC)によるDSC曲線が、複数の吸熱ピークを有し、かつ、前記吸熱ピークの少なくとも1つが、130℃以上220℃以下の範囲にあるアミド化合物を含有することが必要である。このような(C1)成分であれば、印刷性を維持しつつ、加熱時のダレ性を向上でき、また、この(C1)成分が経時安定性に悪影響を与えることはない。ここで、DSC曲線は、適宜公知の示差走査熱量計を用いて測定でき、例えば、セイコーインスツル社製の示差走査熱量計「DSC6200」を用いて測定できる。
[(C) Component]
The thixotropic agent (C) used in this embodiment must contain an amide compound (C1) whose DSC curve obtained by differential scanning calorimetry (DSC) has multiple endothermic peaks, with at least one of the endothermic peaks being in the range of 130°C to 220°C. Such a component (C1) can improve sagging during heating while maintaining printability, and the component (C1) does not adversely affect stability over time. The DSC curve can be measured using a known differential scanning calorimeter, for example, a DSC6200 differential scanning calorimeter manufactured by Seiko Instruments Inc.

DSC曲線が、複数の吸熱ピークを有さない場合、印刷性と加熱時のダレ性との両立はできない。
DSC曲線は、同様の観点から、3つ以上の吸熱ピークを有することが好ましく、印刷時のダレ性と加熱時のダレ性とのバランスの観点から、3つの吸熱ピークを有することが特に好ましい。
吸熱ピークの少なくとも1つが、130℃以上220℃以下の範囲にない場合には、加熱時のダレを抑制できない。
If the DSC curve does not have multiple endothermic peaks, it is not possible to achieve both printability and resistance to sagging during heating.
From the same viewpoint, the DSC curve preferably has three or more endothermic peaks, and from the viewpoint of the balance between sagging during printing and sagging during heating, it is particularly preferable that the DSC curve has three endothermic peaks.
If at least one of the endothermic peaks is not in the range of 130° C. or higher and 220° C. or lower, sagging during heating cannot be suppressed.

(C1)成分は、同様の観点から、(C11)DSC曲線が、複数の吸熱ピークを有し、かつ、前記吸熱ピークの少なくとも1つが、210℃以上220℃以下の範囲にあるアミド化合物と、(C12)DSC曲線が、複数の吸熱ピークを有し、かつ、前記吸熱ピークの少なくとも1つが、140℃以上160℃以下の範囲にあるアミド化合物とを含有することが好ましい。
(C11)成分および(C12)成分を併用する場合、(C11)成分と(C12)成分との質量比((C11)成分/(C12)成分)は、1/10以上10以下であることが好ましく、1/2以上2以下であることがより好ましい。
From a similar viewpoint, the component (C1) preferably contains (C11) an amide compound whose DSC curve has multiple endothermic peaks, at least one of which is in the range of 210°C or higher and 220°C or lower, and (C12) an amide compound whose DSC curve has multiple endothermic peaks, at least one of which is in the range of 140°C or higher and 160°C or lower.
When the component (C11) and the component (C12) are used in combination, the mass ratio of the component (C11) to the component (C12) (component (C11)/component (C12)) is preferably 1/10 or more and 10 or less, and more preferably 1/2 or more and 2 or less.

(C11)成分において、吸熱ピークのうち、最も低い温度にある吸熱ピークは、印刷時のダレをより確実に抑制するという観点から、120℃以上150℃以下の範囲にあることが好ましく、125℃以上140℃以下の範囲にあることがより好ましく、125℃以上135℃以下の範囲にあることが特に好ましい。 In component (C11), the endothermic peak at the lowest temperature is preferably in the range of 120°C or higher and 150°C or lower, more preferably in the range of 125°C or higher and 140°C or lower, and particularly preferably in the range of 125°C or higher and 135°C or lower, from the viewpoint of more reliably suppressing sagging during printing.

(C11)成分において、DSC曲線が、複数の吸熱ピークを3つ有する場合、低温側から2つ目の吸熱ピークは、150℃以上190℃以下の範囲にあることが好ましい。このような吸熱ピークを有することにより、印刷時のダレ性と加熱時のダレ性とのバランスをとることができる。また、同様の観点から、低温側から2つ目の吸熱ピークは、160℃以上180℃以下の範囲にあることが好ましく、165℃以上175℃以下の範囲にあることが特に好ましい。 For component (C11), if the DSC curve has three endothermic peaks, the second endothermic peak from the low temperature side is preferably in the range of 150°C or higher and 190°C or lower. Having such an endothermic peak allows for a balance between sagging during printing and sagging during heating. From the same perspective, the second endothermic peak from the low temperature side is preferably in the range of 160°C or higher and 180°C or lower, and particularly preferably in the range of 165°C or higher and 175°C or lower.

(C11)成分において、印刷性を維持しつつ、加熱時のダレ性を向上するという観点で特に好適なDSC曲線は、次の条件を満たすことが好ましい。すなわち、DSC曲線が、3つの吸熱ピークを有し、かつ、低温側から1つ目の吸熱ピークは、125℃以上135℃以下の範囲にあり、低温側から2つ目の吸熱ピークは、165℃以上175℃以下の範囲にあり、低温側から3つ目の吸熱ピークは、210℃以上220℃以下の範囲にあることが好ましい。 For component (C11), a DSC curve that is particularly suitable from the perspective of improving sagging resistance during heating while maintaining printability preferably satisfies the following conditions: That is, the DSC curve preferably has three endothermic peaks, with the first endothermic peak from the low temperature side being in the range of 125°C to 135°C, the second endothermic peak from the low temperature side being in the range of 165°C to 175°C, and the third endothermic peak from the low temperature side being in the range of 210°C to 220°C.

この(C1)成分は、例えば、ヒドロキシ脂肪族モノカルボン酸を含んでもよい炭素数2から22の脂肪族モノカルボン酸、炭素数2から12の脂肪族ジカルボン酸、および、炭素数2から16のジアミンを縮合させることで作製できる。
炭素数2から22の脂肪族モノカルボン酸の中でも、炭素数の少ないものを用いるほど、(C1)成分のDSC曲線における吸熱ピークの温度が低くなる傾向にある。
炭素数2から12の脂肪族ジカルボン酸の中でも、炭素数の少ないものを用いるほど、(C1)成分のDSC曲線における吸熱ピークの温度が低くなる傾向にある。
炭素数2から16のジアミンの中でも、炭素数の少ないものを用いるほど、(C1)成分のDSC曲線における吸熱ピークの温度が低くなる傾向にある。
This component (C1) can be prepared, for example, by condensing an aliphatic monocarboxylic acid having 2 to 22 carbon atoms, which may include a hydroxyaliphatic monocarboxylic acid, an aliphatic dicarboxylic acid having 2 to 12 carbon atoms, and a diamine having 2 to 16 carbon atoms.
Among aliphatic monocarboxylic acids having 2 to 22 carbon atoms, the use of one having fewer carbon atoms tends to result in a lower endothermic peak temperature in the DSC curve of component (C1).
Among aliphatic dicarboxylic acids having 2 to 12 carbon atoms, the use of one having fewer carbon atoms tends to result in a lower endothermic peak temperature in the DSC curve of component (C1).
Among diamines having 2 to 16 carbon atoms, the use of one having fewer carbon atoms tends to result in a lower endothermic peak temperature in the DSC curve of component (C1).

炭素数2から22の脂肪族モノカルボン酸に対する炭素数2から12の脂肪族ジカルボン酸の配合量が多いほど、(C1)成分のDSC曲線における最も低い温度にある吸熱ピークの温度範囲が高くなる傾向にある。
炭素数2から22の脂肪族モノカルボン酸と、炭素数2から12の脂肪族ジカルボン酸の合計のカルボキシル基の量と、炭素数2から16のジアミンのアミノ基の量は、等しいことが好ましい。これらの量が等しいときには、縮合反応が進行しやすい。
The greater the amount of aliphatic dicarboxylic acid having 2 to 12 carbon atoms relative to the aliphatic monocarboxylic acid having 2 to 22 carbon atoms, the higher the temperature range of the lowest endothermic peak in the DSC curve of component (C1).
It is preferable that the total amount of carboxyl groups in the aliphatic monocarboxylic acid having 2 to 22 carbon atoms and the aliphatic dicarboxylic acid having 2 to 12 carbon atoms is equal to the amount of amino groups in the diamine having 2 to 16 carbon atoms. When these amounts are equal, the condensation reaction proceeds easily.

縮合反応時の温度は、100℃以上250℃以下であることが好ましく、120℃以上210℃以下であることがより好ましく、150℃以上190℃以下であることが特に好ましい。この温度が高いほど、(C1)成分のDSC曲線における最も低い温度にある吸熱ピークの温度範囲が高くなる傾向にある。
縮合反応にかける時間は、1時間以上15時間以下であることが好ましく、3時間以上11時間以下であることがより好ましく、5時間以上8時間以下であることが特に好ましい。この時間が長いほど、(C1)成分のDSC曲線における最も低い温度にある吸熱ピークの温度範囲が高くなる傾向にある。
すなわち、(C1)成分のDSC曲線における吸熱ピークの数、最も高い温度にある吸熱ピークの温度範囲、並びに、最も低い温度にある吸熱ピークの温度範囲は、(i)(C1)成分の原料の種類および配合量を調整すること、(ii)縮合反応時の温度を調整すること、並びに、(iii)縮合反応にかける時間を調整することなどにより、適宜調整することができる。
The temperature during the condensation reaction is preferably from 100° C. to 250° C., more preferably from 120° C. to 210° C., and particularly preferably from 150° C. to 190° C. The higher this temperature, the higher the temperature range of the lowest endothermic peak in the DSC curve of component (C1) tends to be.
The time required for the condensation reaction is preferably from 1 to 15 hours, more preferably from 3 to 11 hours, and particularly preferably from 5 to 8 hours. The longer this time, the higher the temperature range of the lowest endothermic peak in the DSC curve of component (C1) tends to be.
In other words, the number of endothermic peaks in the DSC curve of component (C1), the temperature range of the highest endothermic peak, and the temperature range of the lowest endothermic peak can be appropriately adjusted by (i) adjusting the types and amounts of raw materials for component (C1), (ii) adjusting the temperature during the condensation reaction, and (iii) adjusting the time spent on the condensation reaction.

(C1)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、0.1質量%以上25質量%以下であることが好ましく、1質量%以上20質量%以下であることがより好ましく、2質量%以上16質量%以下であることがさらに好ましく、3質量%以上12質量%以下であることが特に好ましい。(C1)成分の配合量が前記下限以上であれば、印刷時のダレおよび加熱時のダレを抑制できる。(C1)成分の配合量が前記上限以下であれば、チクソ性が高すぎることはなく、印刷不良を抑制できる。 The blending amount of component (C1) is preferably 0.1% by mass or more and 25% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less, even more preferably 2% by mass or more and 16% by mass or less, and particularly preferably 3% by mass or more and 12% by mass or less, based on 100% by mass of the flux composition. When the blending amount of component (C1) is above the lower limit, sagging during printing and sagging during heating can be suppressed. When the blending amount of component (C1) is below the upper limit, thixotropy is not too high, and printing defects can be suppressed.

(C)成分は、(C1)成分以外のチクソ剤(以下、(C2)成分)を含有していてもよい。(C2)成分としては、硬化ひまし油、(C1)成分以外のアミド類、カオリン、コロイダルシリカ、有機ベントナイト、およびガラスフリットなどが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
ただし、経時安定性に悪影響を与えないという観点から、(C)成分は、(C1)成分のみからなることが特に好ましい。また、同様の観点から、(C1)成分の配合量は、(C)成分100質量%に対して、70質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましい。
Component (C) may contain a thixotropic agent other than component (C1) (hereinafter referred to as component (C2)). Examples of component (C2) include hydrogenated castor oil, amides other than component (C1), kaolin, colloidal silica, organic bentonite, and glass frit. These may be used alone or in combination of two or more.
However, from the viewpoint of not adversely affecting stability over time, it is particularly preferable that component (C) consists solely of component (C1). From the same viewpoint, the blending amount of component (C1) is preferably 70% by mass or more, and more preferably 90% by mass or more, based on 100% by mass of component (C).

(C)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、1質量%以上25質量%以下であることが好ましく、3質量%以上20質量%以下であることがより好ましく、5質量%以上16質量%以下であることがさらに好ましく、6質量%以上12質量%以下であることが特に好ましい。(C)成分の配合量が前記下限以上であれば、チクソ性が得られ、印刷時のダレを抑制できる。(C)成分の配合量が前記上限以下であれば、チクソ性が高すぎることはなく、印刷不良を抑制できる。 The blending amount of component (C) is preferably 1% by mass or more and 25% by mass or less, more preferably 3% by mass or more and 20% by mass or less, even more preferably 5% by mass or more and 16% by mass or less, and particularly preferably 6% by mass or more and 12% by mass or less, relative to 100% by mass of the flux composition. When the blending amount of component (C) is above the lower limit, thixotropy is achieved and sagging during printing can be suppressed. When the blending amount of component (C) is below the upper limit, thixotropy is not too high and printing defects can be suppressed.

[(D)成分]
本実施形態に用いる(D)ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、ヒンダードフェノール化合物であり、酸化防止剤として作用するものである。この(D)成分より、はんだ組成物の経時安定性を向上できる。なお、ヒンダードフェノール系以外の酸化防止剤では、はんだ組成物の経時安定性を向上できない。
(D)成分としては、ペンタエリトリトールテトラキス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオナート]、ビス[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オキシエチレン)]、N,N’-ビス[2-[2-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)エチルカルボニルオキシ]エチル]オキサミド、N,N’-ビス{3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニル}ヒドラジン、2,2’-メチレンビス[6-(1-メチルシクロヘキシル)-p-クレゾール]、1,3,5-トリス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、N,N’-ヘキサメチレンビス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパンアミド]、1,6-ヘキサンジオールビス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオナート]、2,2’-メチレンビス(6-tert-ブチル-p-クレゾール)、2,2’-メチレンビス(6-tert-ブチル-4-エチルフェノール)、2,4-ビス-(n-オクチルチオ)-6-(4-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチルアニリノ)-1,3,5-トリアジン、2,2-チオ-ジエチレンビス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル-3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシベンジルフォスフォネート-ジエチルエステル、および、1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)ベンゼンなどが挙げられる。
[(D) Component]
The hindered phenol-based antioxidant (D) used in this embodiment is a hindered phenol compound that acts as an antioxidant. This component (D) can improve the stability over time of the solder composition. However, antioxidants other than hindered phenol-based antioxidants cannot improve the stability over time of the solder composition.
Examples of the component (D) include pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], bis[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionic acid][ethylenebis(oxyethylene)], N,N'-bis[2-[2-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)ethylcarbonyloxy]ethyl]oxamide, N,N '-Bis{3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyl}hydrazine, 2,2'-methylenebis[6-(1-methylcyclohexyl)-p-cresol], 1,3,5-tris(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)isocyanurate, N,N'-hexamethylenebis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanamide], 1,6-hexamethylenebis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanamide], xanediol bis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], 2,2'-methylenebis(6-tert-butyl-p-cresol), 2,2'-methylenebis(6-tert-butyl-4-ethylphenol), 2,4-bis-(n-octylthio)-6-(4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino)-1,3,5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis[3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], octadecyl-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylphosphonate-diethyl ester, and 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)benzene.

(D)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、0.5質量%以上15質量%以下であることが好ましく、1質量%以上12質量%以下であることがより好ましく、1.5質量%以上9質量%以下であることがさらに好ましく、2質量%以上6質量%以下であることが特に好ましい。(D)成分の配合量が前記下限以上であれば、十分な経時安定性を確保できる。(C)成分の配合量が前記上限以下であれば、チクソ性が高すぎることはなく、印刷不良を抑制できる。 The blending amount of component (D) is preferably 0.5% by mass or more and 15% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 12% by mass or less, even more preferably 1.5% by mass or more and 9% by mass or less, and particularly preferably 2% by mass or more and 6% by mass or less, based on 100% by mass of the flux composition. If the blending amount of component (D) is above the lower limit, sufficient stability over time can be ensured. If the blending amount of component (C) is below the upper limit, thixotropy will not be too high, and printing defects can be suppressed.

[溶剤]
本実施形態のフラックス組成物においては、印刷性などの観点から、さらに溶剤を含有することが好ましい。ここで用いる溶剤としては、公知の溶剤を適宜用いることができる。このような溶剤としては、沸点170℃以上の溶剤を用いることが好ましい。また、グリコール系溶剤が好ましい。
このような溶剤としては、例えば、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、ヘキシルジグリコール、1,5-ペンタンジオール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、2-エチルヘキシルジグリコール(EHDG)、オクタンジオール、フェニルグリコール、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、およびジブチルマレイン酸などが挙げられる。これらの溶剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
[solvent]
The flux composition of this embodiment preferably further contains a solvent from the viewpoint of printability, etc. As the solvent used here, a known solvent can be appropriately used. As such a solvent, it is preferable to use a solvent with a boiling point of 170°C or higher. In addition, a glycol-based solvent is preferable.
Examples of such solvents include diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, hexylene glycol, hexyl diglycol, 1,5-pentanediol, methyl carbitol, butyl carbitol, 2-ethylhexyl diglycol (EHDG), octanediol, phenyl glycol, diethylene glycol monohexyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, and dibutyl maleic acid. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

溶剤を用いる場合、その配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、10質量%以上60質量%以下であることが好ましく、20質量%以上50質量%以下であることがより好ましい。溶剤の配合量が前記範囲内であれば、得られるはんだ組成物の粘度を適正な範囲に適宜調整できる。 When a solvent is used, its amount is preferably 10% by mass or more and 60% by mass or less, and more preferably 20% by mass or more and 50% by mass or less, relative to 100% by mass of the flux composition. If the amount of solvent is within this range, the viscosity of the resulting solder composition can be adjusted appropriately within an appropriate range.

[他の成分]
本実施形態に用いるフラックス組成物には、(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分、および溶剤の他に、必要に応じて、その他の添加剤、更には、その他の樹脂を加えることができる。その他の添加剤としては、消泡剤、改質剤、つや消し剤、および発泡剤などが挙げられる。これらの添加剤の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、0.01質量%以上5質量%以下であることが好ましい。その他の樹脂としては、アクリル系樹脂などが挙げられる。
[Other ingredients]
In addition to the components (A), (B), (C), and (D), and the solvent, the flux composition used in this embodiment may contain other additives and even other resins as needed. Examples of other additives include antifoaming agents, modifiers, matting agents, and foaming agents. The amount of these additives added is preferably 0.01% by mass or more and 5% by mass or less, based on 100% by mass of the flux composition. Examples of other resins include acrylic resins.

[はんだ組成物]
次に、本実施形態に係るはんだ組成物について説明する。本実施形態に係るはんだ組成物は、前述の本実施形態に用いるフラックス組成物と、以下説明する(E)はんだ粉末とを含有するものである。
フラックス組成物の配合量は、はんだ組成物100質量%に対して、5質量%以上35質量%以下であることが好ましく、7質量%以上15質量%以下であることがより好ましく、8質量%以上12質量%以下であることが特に好ましい。フラックス組成物の配合量が5質量%未満の場合(はんだ粉末の配合量が95質量%を超える場合)には、バインダーとしてのフラックス組成物が足りないため、フラックス組成物とはんだ粉末とを混合しにくくなる傾向にあり、他方、フラックス組成物の配合量が35質量%を超える場合(はんだ粉末の配合量が65質量%未満の場合)には、得られるはんだ組成物を用いた場合に、十分なはんだ接合を形成できにくくなる傾向にある。
[Solder Composition]
Next, the solder composition according to this embodiment will be described. The solder composition according to this embodiment contains the flux composition used in this embodiment described above and the solder powder (E) described below.
The amount of the flux composition is preferably 5% by mass or more and 35% by mass or less, more preferably 7% by mass or more and 15% by mass or less, and particularly preferably 8% by mass or more and 12% by mass or less, relative to 100% by mass of the solder composition. If the amount of the flux composition is less than 5% by mass (if the amount of the solder powder exceeds 95% by mass), there is insufficient flux composition as a binder, making it difficult to mix the flux composition and the solder powder. On the other hand, if the amount of the flux composition is more than 35% by mass (if the amount of the solder powder is less than 65% by mass), it tends to be difficult to form a sufficient solder joint when using the resulting solder composition.

[(E)成分]
本実施形態に用いる(E)はんだ粉末は、IPC-J-STD-005Aのタイプ5、タイプ6、タイプ7、およびタイプ8以上のうちのいずれかに相当する粒子径分布であるはんだ粉末である。この(E)成分を用いる場合には、安定性が低下する傾向にあるが、前述のフラックス組成物を用いることで、経時安定性が優れるはんだ組成物が得られる。
はんだ粉末は、鉛フリーはんだ粉末のみからなることが好ましいが、有鉛のはんだ粉末であってもよい。また、このはんだ粉末におけるはんだ合金は、スズ(Sn)、銅(Cu)、亜鉛(Zn)、銀(Ag)、アンチモン(Sb)、鉛(Pb)、インジウム(In)、ビスマス(Bi)、ニッケル(Ni)、コバルト(Co)およびゲルマニウム(Ge)からなる群から選択される少なくとも1種を含有することが好ましい。
このはんだ粉末におけるはんだ合金としては、スズを主成分とする合金が好ましい。また、このはんだ合金は、スズ、銀および銅を含有することがより好ましい。さらに、このはんだ合金は、添加元素として、アンチモン、ビスマスおよびニッケルのうちの少なくとも1つを含有してもよい。本実施形態のフラックス組成物によれば、アンチモン、ビスマスおよびニッケルなどの酸化しやすい添加元素を含むはんだ合金を用いた場合でも、ボイドの発生を抑制できる。
ここで、鉛フリーはんだ粉末とは、鉛を添加しないはんだ金属または合金の粉末のことをいう。ただし、鉛フリーはんだ粉末中に、不可避的不純物として鉛が存在することは許容されるが、この場合に、鉛の量は、300質量ppm以下であることが好ましい。
[(E) component]
The solder powder (E) used in this embodiment is a solder powder having a particle size distribution corresponding to any one of IPC-J-STD-005A Type 5, Type 6, Type 7, and Type 8 or higher. When this component (E) is used, stability tends to decrease, but by using the above-mentioned flux composition, a solder composition with excellent stability over time can be obtained.
The solder powder is preferably made of lead-free solder powder alone, but may be lead-containing solder powder. The solder alloy in the solder powder preferably contains at least one element selected from the group consisting of tin (Sn), copper (Cu), zinc (Zn), silver (Ag), antimony (Sb), lead (Pb), indium (In), bismuth (Bi), nickel (Ni), cobalt (Co), and germanium (Ge).
The solder alloy in this solder powder is preferably an alloy containing tin as a main component. Furthermore, this solder alloy more preferably contains tin, silver, and copper. Furthermore, this solder alloy may contain at least one of antimony, bismuth, and nickel as an additive element. According to the flux composition of this embodiment, even when using a solder alloy containing easily oxidized additive elements such as antimony, bismuth, and nickel, the generation of voids can be suppressed.
Here, lead-free solder powder refers to a powder of solder metal or alloy to which no lead is added. However, although the presence of lead as an unavoidable impurity in the lead-free solder powder is permitted, in this case, the amount of lead is preferably 300 mass ppm or less.

鉛フリーのはんだ粉末の合金系としては、具体的には、Sn-Ag-Cu系、Sn-Cu系、Sn-Ag系、Sn-Bi系、Sn-Ag-Bi系、Sn-Ag-Cu-Bi系、Sn-Ag-Cu-Ni系、Sn-Ag-Cu-Bi-Sb系、Sn-Ag-Bi-In系、Sn-Ag-Cu-Bi-In-Sb系などが挙げられる。 Specific alloy systems for lead-free solder powder include Sn-Ag-Cu, Sn-Cu, Sn-Ag, Sn-Bi, Sn-Ag-Bi, Sn-Ag-Cu-Bi, Sn-Ag-Cu-Ni, Sn-Ag-Cu-Bi-Sb, Sn-Ag-Bi-In, and Sn-Ag-Cu-Bi-In-Sb systems.

(E)成分の平均粒子径は、はんだ付けパッドのピッチが狭い電子基板にも対応するという観点から、1μm以上20μm以下であることがより好ましく、2μm以上15μm以下であることがさらにより好ましい。なお、平均粒子径は、動的光散乱式の粒子径測定装置により測定できる。 From the perspective of compatibility with electronic boards with narrow solder pad pitches, the average particle diameter of component (E) is preferably 1 μm or more and 20 μm or less, and even more preferably 2 μm or more and 15 μm or less. The average particle diameter can be measured using a dynamic light scattering particle size analyzer.

[はんだ組成物の製造方法]
本実施形態に係るはんだ組成物は、上記説明したフラックス組成物と上記説明した(E)はんだ粉末とを上記所定の割合で配合し、撹拌混合することで製造できる。
[Method for producing solder composition]
The solder composition according to this embodiment can be produced by blending the above-described flux composition and the above-described (E) solder powder in the predetermined ratio, and stirring and mixing them.

[電子基板]
次に、本実施形態に係る電子基板について説明する。本実施形態に係る電子基板は、以上説明したはんだ組成物を用いたはんだ付け部を備えることを特徴とするものである。本発明の電子基板は、前記はんだ組成物を用いて電子部品を電子基板(プリント配線基板など)に実装することで製造できる。
ここで用いる塗布装置としては、スクリーン印刷機、メタルマスク印刷機、ディスペンサー、およびジェットディスペンサーなどが挙げられる。
また、前記塗布装置にて塗布したはんだ組成物上に電子部品を配置し、リフロー炉により所定条件にて加熱して、前記電子部品をプリント配線基板に実装するリフロー工程により、電子部品を電子基板に実装できる。
[Electronic board]
Next, the electronic substrate according to this embodiment will be described. The electronic substrate according to this embodiment is characterized by having a soldered portion using the solder composition described above. The electronic substrate of the present invention can be produced by mounting electronic components on an electronic substrate (such as a printed wiring board) using the solder composition.
Examples of the coating device used here include a screen printer, a metal mask printer, a dispenser, and a jet dispenser.
Furthermore, an electronic component can be mounted on an electronic board by a reflow process in which an electronic component is placed on the solder composition applied by the application device, and heated under predetermined conditions in a reflow furnace to mount the electronic component on a printed wiring board.

リフロー工程においては、前記はんだ組成物上に前記電子部品を配置し、リフロー炉により所定条件にて加熱する。このリフロー工程により、電子部品およびプリント配線基板の間に十分なはんだ接合を行うことができる。その結果、前記電子部品を前記プリント配線基板に実装することができる。
リフロー条件は、はんだの融点に応じて適宜設定すればよい。例えば、プリヒート温度は、140℃以上200℃以下であることが好ましく、150℃以上160℃以下であることがより好ましい。プリヒート時間は、60秒間以上120秒間以下であることが好ましい。ピーク温度は、230℃以上270℃以下であることが好ましく、240℃以上255℃以下であることがより好ましい。また、220℃以上の温度の保持時間は、20秒間以上60秒間以下であることが好ましい。
In the reflow process, the electronic component is placed on the solder composition and heated in a reflow furnace under predetermined conditions. This reflow process allows for sufficient solder bonding between the electronic component and the printed wiring board. As a result, the electronic component can be mounted on the printed wiring board.
The reflow conditions may be set appropriately depending on the melting point of the solder. For example, the preheat temperature is preferably 140°C or higher and 200°C or lower, and more preferably 150°C or higher and 160°C or lower. The preheat time is preferably 60 seconds or higher and 120 seconds or lower. The peak temperature is preferably 230°C or higher and 270°C or lower, and more preferably 240°C or higher and 255°C or lower. The holding time at a temperature of 220°C or higher is preferably 20 seconds or higher and 60 seconds or lower.

また、本実施形態のはんだ組成物および電子基板は、前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良などは本発明に含まれるものである。
例えば、前記電子基板では、リフロー工程により、プリント配線基板と電子部品とを接着しているが、これに限定されない。例えば、リフロー工程に代えて、レーザー光を用いてはんだ組成物を加熱する工程(レーザー加熱工程)により、プリント配線基板と電子部品とを接着してもよい。この場合、レーザー光源としては、特に限定されず、金属の吸収帯に合わせた波長に応じて適宜採用できる。レーザー光源としては、例えば、固体レーザー(ルビー、ガラス、YAGなど)、半導体レーザー(GaAs、およびInGaAsPなど)、液体レーザー(色素など)、並びに、気体レーザー(He-Ne、Ar、CO、およびエキシマーなど)が挙げられる。
Furthermore, the solder composition and electronic substrate of the present embodiment are not limited to the above-described embodiment, and modifications and improvements within the scope of achieving the object of the present invention are included in the present invention.
For example, in the electronic substrate, the printed wiring board and the electronic component are bonded by a reflow process, but this is not limiting. For example, instead of the reflow process, the printed wiring board and the electronic component may be bonded by a process of heating the solder composition using laser light (laser heating process). In this case, the laser light source is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the wavelength that matches the absorption band of the metal. Examples of laser light sources include solid-state lasers (ruby, glass, YAG, etc.), semiconductor lasers (GaAs, InGaAsP, etc.), liquid lasers (dye, etc.), and gas lasers (He—Ne, Ar, CO 2 , excimer, etc.).

次に、本発明を実施例および比較例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、実施例および比較例にて用いた材料を以下に示す。
((A)成分)
ロジン系樹脂A:水添酸変性ロジン(軟化点:124~134℃、酸価:230~245mgKOH/g)、商品名「パインクリスタルKE-604」、荒川化学工業社製
ロジン系樹脂B:完全水添ロジン(軟化点:79~88℃、酸価:158~173mgKOH/g)、商品名「フォーラルAX」、理化ファインテク社製
((B1)成分)
有機酸A:グルタル酸
有機酸B:スベリン酸
有機酸C:アゼライン酸
((B21)成分)
ベンゾトリアゾール類:ベンゾトリアゾール
((B22)成分)
イミダゾリン類:2-フェニルイミダゾリン
((C11)成分)
アミド化合物A:下記調製例1で得られたアミド化合物(ヒドロキシ基を有する、DSC曲線において、低温側から1つ目の吸熱ピーク温度が128℃であり、2つ目の吸熱ピーク温度が170℃であり、3つ目の吸熱ピーク温度が216℃である)
((C12)成分)
アミド化合物B:下記調製例2で得られたアミド化合物(ヒドロキシ基を有さない、DSC曲線における低温側から1つ目の吸熱ピーク温度が86℃であり、2つ目の吸熱ピーク温度が123℃であり、3つ目の吸熱ピーク温度が147℃である)
((D)成分)
ヒンダードフェノール系酸化防止剤A:ビス[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オキシエチレン)]、商品名「イルガノックス245」、BASF社製
ヒンダードフェノール系酸化防止剤B:N,N’-ビス{3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニル}ヒドラジン、商品名「イルガノックスMD1024」、BASF社製
ヒンダードフェノール系酸化防止剤C:ペンタエリトリトールテトラキス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオナート]、商品名「ANOX20」、白石カルシウム社製
ヒンダードフェノール系酸化防止剤D:N,N’-ビス[2-[2-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)エチルカルボニルオキシ]エチル]オキサミド、商品名「ナウガードXL-1」、白石カルシウム社製
(他の成分)
溶剤:ジエチレングリコールモノ-2-エチルヘキシルエーテル(2-エチルヘキシルジグリコール(EHDG)、沸点:272℃)、日本乳化剤社製
((E)成分)
はんだ粉末A:合金組成はSn-3.0Ag-0.5Cu、粒子径分布は15~25μm(IPC-J-STD-005Aのタイプ5に相当)、はんだ融点は217~220℃
はんだ粉末B:合金組成はSn-3.0Ag-0.5Cu、粒子径分布は5~20μm(IPC-J-STD-005Aのタイプ6に相当)、はんだ融点は217~220℃
(他の成分)
はんだ粉末C:合金組成はSn-3.0Ag-0.5Cu、粒子径分布は20~38μm(IPC-J-STD-005Aのタイプ4に相当)、はんだ融点は217~220℃
The present invention will now be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. The materials used in the examples and comparative examples are listed below.
(Component (A))
Rosin-based resin A: hydrogenated acid-modified rosin (softening point: 124 to 134°C, acid value: 230 to 245 mgKOH/g), trade name "Pine Crystal KE-604", manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. Rosin-based resin B: fully hydrogenated rosin (softening point: 79 to 88°C, acid value: 158 to 173 mgKOH/g), trade name "Foral AX", manufactured by Rika Finetech Co., Ltd. (component (B1)).
Organic acid A: glutaric acid Organic acid B: suberic acid Organic acid C: azelaic acid (component (B21))
Benzotriazoles: Benzotriazole (component (B22))
Imidazolines: 2-phenylimidazoline ((C11) component)
Amide compound A: an amide compound obtained in Preparation Example 1 below (having a hydroxy group; in a DSC curve, the first endothermic peak temperature, from the low temperature side, is 128°C, the second endothermic peak temperature is 170°C, and the third endothermic peak temperature is 216°C).
((C12) component)
Amide compound B: an amide compound obtained in Preparation Example 2 below (having no hydroxy group, and having a first endothermic peak temperature of 86°C, a second endothermic peak temperature of 123°C, and a third endothermic peak temperature of 147°C from the low temperature side in a DSC curve).
((D) component)
Hindered phenolic antioxidant A: bis[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionic acid][ethylenebis(oxyethylene)], trade name "Irganox 245", manufactured by BASF. Hindered phenolic antioxidant B: N,N'-bis{3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyl}hydrazine, trade name "Irganox MD1024", manufactured by BASF. Phenolic antioxidant C: pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], trade name "ANOX20", manufactured by Shiraishi Calcium Co., Ltd. Hindered phenolic antioxidant D: N,N'-bis[2-[2-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)ethylcarbonyloxy]ethyl]oxamide, trade name "Nauguard XL-1", manufactured by Shiraishi Calcium Co., Ltd. (Other ingredients)
Solvent: Diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether (2-ethylhexyl diglycol (EHDG), boiling point: 272°C), manufactured by Nippon Nyukazai Co., Ltd. (component (E))
Solder powder A: Alloy composition is Sn-3.0Ag-0.5Cu, particle size distribution is 15 to 25 μm (equivalent to Type 5 of IPC-J-STD-005A), solder melting point is 217 to 220°C
Solder powder B: alloy composition Sn-3.0Ag-0.5Cu, particle size distribution 5-20 μm (equivalent to Type 6 of IPC-J-STD-005A), solder melting point 217-220°C
(Other ingredients)
Solder powder C: Alloy composition is Sn-3.0Ag-0.5Cu, particle size distribution is 20 to 38 μm (equivalent to Type 4 of IPC-J-STD-005A), solder melting point is 217 to 220°C

[調製例1]
攪拌器、温度計、および分水器を備えた反応装置に、水素添加ひまし油脂肪酸由来の12-ヒドロキシステアリン酸、および炭素数2から12の脂肪族ジカルボン酸を、それぞれ所定量ずつ加え、80~100℃に加温して溶融させた。その後、所定量のヘキサメチレンジアミンを加え、温度150℃~190℃で、窒素雰囲気下にて、5~8時間、脱水しながら縮合反応を行いアミド化させ、酸価5mgKOH/g以下のアミド化合物Aを得た。
[Preparation Example 1]
A predetermined amount of 12-hydroxystearic acid derived from hydrogenated castor oil fatty acid and an aliphatic dicarboxylic acid having 2 to 12 carbon atoms were each added to a reaction apparatus equipped with a stirrer, a thermometer, and a water divider, and the mixture was melted by heating to 80 to 100° C. Thereafter, a predetermined amount of hexamethylenediamine was added, and a condensation reaction was carried out while dehydrating at a temperature of 150 to 190° C. under a nitrogen atmosphere for 5 to 8 hours to effect amidation, yielding an amide compound A having an acid value of 5 mgKOH/g or less.

[調製例2]
使用する脂肪族モノカルボン酸の種類および配合量、並びに、使用する炭素数2から12の脂肪族ジカルボン酸の種類および配合量を変更するとともに、縮合反応時の温度および時間を変更した以外は、調製例1と同様にして、酸価5mgKOH/g以下のアミド化合物Bを得た。
[Preparation Example 2]
An amide compound B having an acid value of 5 mgKOH/g or less was obtained in the same manner as in Preparation Example 1, except that the type and amount of the aliphatic monocarboxylic acid used, and the type and amount of the aliphatic dicarboxylic acid having 2 to 12 carbon atoms used were changed, and the temperature and time during the condensation reaction were changed.

[アミド化合物の示差走査熱量測定(DSC)]
調製例1および2で得られたアミド化合物のDSC曲線を、示差走査熱量計により、測定した。なお、測定時の条件については下記のとおりである。得られた結果を図1および図2にそれぞれに示す。
・示差走査熱量計:DSC6200(セイコーインスツル社製)
・試料:10mg・測定雰囲気:窒素雰囲気・測定温度:30℃から250℃・昇温速度:20℃/min
[Differential scanning calorimetry (DSC) of amide compounds]
The DSC curves of the amide compounds obtained in Preparation Examples 1 and 2 were measured using a differential scanning calorimeter under the following measurement conditions. The results are shown in Figures 1 and 2, respectively.
Differential scanning calorimeter: DSC6200 (Seiko Instruments Inc.)
Sample: 10 mg Measurement atmosphere: nitrogen atmosphere Measurement temperature: 30°C to 250°C Temperature rise rate: 20°C/min

[実施例1]
ロジン系樹脂A35質量%、ロジン系樹脂B10質量%、有機酸A2.4質量%、溶剤39.6質量%、ヒンダードフェノール系酸化防止剤A3質量%、アミド化合物A4質量%、およびアミド化合物B6質量%を容器に投入し、プラネタリーミキサーを用いて混合してフラックス組成物を得た。
その後、得られたフラックス組成物11質量%、およびはんだ粉末89質量%(合計で100質量%)を容器に投入し、プラネタリーミキサーにて混合することではんだ組成物を調製した。
[Example 1]
35 mass % of rosin-based resin A, 10 mass % of rosin-based resin B, 2.4 mass % of organic acid A, 39.6 mass % of solvent, 3 mass % of hindered phenol-based antioxidant A, 4 mass % of amide compound A, and 6 mass % of amide compound B were charged into a container and mixed using a planetary mixer to obtain a flux composition.
Thereafter, 11% by mass of the obtained flux composition and 89% by mass of solder powder (total of 100% by mass) were placed in a container and mixed with a planetary mixer to prepare a solder composition.

[実施例2~12]
表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして、はんだ組成物を得た。
[比較例1~5]
表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして、はんだ組成物を得た。
[Examples 2 to 12]
A solder composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that the materials were mixed according to the composition shown in Table 1.
[Comparative Examples 1 to 5]
A solder composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that the materials were mixed according to the composition shown in Table 1.

<はんだ組成物の評価>
はんだ組成物の評価(保存時の粘度変化、使用時の粘度変化)を以下のような方法で行った。得られた結果を表1に示す。
(1)保存時の粘度変化
まず、はんだ組成物を試料として、粘度を測定する。その後、試料を密封容器に入れ、温度30℃の恒温槽に投入し、30日間保管し、保管した試料の粘度を測定する。そして、初期の粘度値(η1)に対する、温度30℃にて30日間保管後の粘度値(η2)との差(η2-η1)を求め、増粘率[{(η2-η1)/η1}×100](単位:%)を算出する。なお、粘度測定は、スパイラル方式の粘度測定(マルコム社製、PCU-II型、測定温度:25℃、回転速度:10rpm)によりを行う。
(2)使用時の粘度変化
まず、はんだ組成物を試料として、粘度を測定する。その後、試料を、粘度計にセットして、回転数を10rpm、温度を25℃にして、24時間ローターを回転させ、この試料の粘度を測定する。そして、初期の粘度値(η1)に対する、24時間経過後の粘度値(η3)との差(η3-η1)を求め、増粘率[{(η3-η1)/η1}×100](単位:%)を算出する。なお、粘度測定は、スパイラル方式の粘度測定(マルコム社製、PCU-II型、測定温度:25℃、回転速度:10rpm)によりを行う。また、粘度値(η3)を測定できなかった場合には、「不能」とした。
<Evaluation of Solder Composition>
The solder compositions were evaluated (viscosity changes during storage and use) by the following methods. The results are shown in Table 1.
(1) Viscosity Change During Storage First, the viscosity of a solder composition sample is measured. The sample is then placed in a sealed container, placed in a thermostatic bath at 30°C, and stored for 30 days, and the viscosity of the stored sample is measured. The difference (η2 - η1) between the initial viscosity value (η1) and the viscosity value (η2) after 30 days of storage at 30°C is calculated, and the viscosity increase rate [{(η2 - η1)/η1} x 100] (unit: %) is calculated. The viscosity measurement is performed using a spiral viscosity measurement device (PCU-II model, manufactured by Malcom, measurement temperature: 25°C, rotation speed: 10 rpm).
(2) Viscosity Change During Use First, the viscosity of a solder composition sample was measured. The sample was then placed in a viscometer, and the rotor was rotated at 10 rpm and 25°C for 24 hours to measure the viscosity of the sample. The difference (η3-η1) between the initial viscosity value (η1) and the viscosity value (η3) after 24 hours was calculated, and the viscosity increase rate [{(η3-η1)/η1} x 100] (unit: %) was calculated. The viscosity was measured using a spiral viscosity meter (PCU-II model, manufactured by Malcom, measurement temperature: 25°C, rotation speed: 10 rpm). If the viscosity value (η3) could not be measured, the result was recorded as "impossible."

表1に示す結果からも明らかなように、本発明のはんだ組成物(実施例1~12)は、保存時の粘度変化、および使用時の粘度変化の全ての結果が良好であることが確認された。
従って、本発明のはんだ組成物によれば、十分に微細なはんだ粉末を用いる場合でも、経時安定性が優れることが確認された。
As is clear from the results shown in Table 1, it was confirmed that the solder compositions of the present invention (Examples 1 to 12) showed good results in all of the viscosity changes during storage and during use.
Therefore, it was confirmed that the solder composition of the present invention has excellent stability over time even when a sufficiently fine solder powder is used.

本発明のはんだ組成物は、電子機器のプリント配線基板などの電子基板に電子部品を実装するための技術として好適に用いることができる。 The solder composition of the present invention can be suitably used as a technique for mounting electronic components on electronic substrates such as printed wiring boards for electronic devices.

Claims (4)

(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)チクソ剤、および(D)ヒンダードフェノール系酸化防止剤を含有するフラックス組成物と、(E)はんだ粉末とを含有し、
前記(C)成分は、(C1)示差走査熱量測定(DSC)によるDSC曲線が、複数の吸熱ピークを有し、かつ、前記吸熱ピークの少なくとも1つが、130℃以上220℃以下の範囲にあるアミド化合物を含有し、
前記(C1)成分は、(C11)DSC曲線が、3つの吸熱ピークを有し、かつ、低温側から1つ目の吸熱ピークが、125℃以上135℃以下の範囲にあり、低温側から2つ目の吸熱ピークが、165℃以上175℃以下の範囲にあり、低温側から3つ目の吸熱ピークが、210℃以上220℃以下の範囲にあるアミド化合物と、(C12)DSC曲線が、複数の吸熱ピークを有し、かつ、前記吸熱ピークの少なくとも1つが、140℃以上160℃以下の範囲にあるアミド化合物とを含有し、
前記(E)成分は、IPC-J-STD-005Aのタイプ5、タイプ6、タイプ7、およびタイプ8以上のうちのいずれかに相当する粒子径分布である、
はんだ組成物。
A flux composition containing (A) a rosin-based resin, (B) an activator, (C) a thixotropic agent, and (D) a hindered phenol-based antioxidant, and (E) a solder powder,
The component (C) contains (C1) an amide compound whose DSC curve measured by differential scanning calorimetry (DSC) has a plurality of endothermic peaks, and at least one of the endothermic peaks is in the range of 130°C or higher and 220°C or lower;
The component (C1) comprises: (C11) an amide compound whose DSC curve has three endothermic peaks, the first endothermic peak from the low temperature side being in the range of 125°C or higher and 135°C or lower, the second endothermic peak from the low temperature side being in the range of 165°C or higher and 175°C or lower, and the third endothermic peak from the low temperature side being in the range of 210°C or higher and 220°C or lower; and (C12) an amide compound whose DSC curve has multiple endothermic peaks, at least one of the endothermic peaks being in the range of 140°C or higher and 160°C or lower;
The component (E) has a particle size distribution corresponding to any one of Type 5, Type 6, Type 7, and Type 8 or higher of IPC-J-STD-005A.
Solder composition.
請求項に記載のはんだ組成物において、
前記(B)成分は、(B1)有機酸および(B2)アミン系活性剤を含有し、
前記(B2)成分は、(B21)ベンゾトリアゾール類、および(B22)イミダゾリン類からなる群から選択される少なくとも1つである、
はんだ組成物。
The solder composition according to claim 1 ,
The component (B) contains an organic acid (B1) and an amine surfactant (B2),
The component (B2) is at least one selected from the group consisting of (B21) benzotriazoles and (B22) imidazolines.
Solder composition.
請求項に記載のはんだ組成物において、
前記(B1)成分が、(B11)炭素数5以上9以下のジカルボン酸を含有する、
はんだ組成物。
The solder composition according to claim 2 ,
The component (B1) contains (B11) a dicarboxylic acid having 5 to 9 carbon atoms.
Solder composition.
請求項1または請求項2に記載のはんだ組成物を用いたはんだ付け部を備える、
電子基板。
A soldered portion using the solder composition according to claim 1 or 2.
Electronic board.
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