JP7743546B2 - 計測方法、リソグラフィ方法、物品製造方法、およびリソグラフィ装置 - Google Patents

Description

本発明は、計測方法、リソグラフィ方法、物品製造方法、およびリソグラフィ装置に関する。

半導体デバイスやフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）などの製造工程で用いられるリソグラフィ装置の１つとして、ステージに搭載された原版のパターンを基板上に転写する露光装置がある。露光装置では、原版のパターンを基板上に精度よく転写するため、ステージに設けられた基準マークと原版に設けられた原版マークとをスコープで検出することにより、ステージに対する原版の位置ずれが計測されうる。

特開２００３－００７６０９号公報

露光装置では、様々な種類の原版をステージに搭載することが求められている。この場合、ステージに原版が搭載された状態における基準マークと原版マークとの相対位置が、原版の種類に応じて異なりうる。そのため、ステージに対する原版の位置ずれを、ステージに搭載される原版の種類に応じて精度よく計測することが求められる。

特許文献１には、原版の周辺部分を保持するホルダを用いることにより、ステージに搭載可能な原版の規定サイズよりも小さいサイズの原版をステージに搭載することが記載されている。特許文献１では、ホルダに設けられたマークとステージの基準マークとを検出することによりステージに対するホルダの位置ずれを計測し、その計測結果に基づいて、ステージに対する原版の位置ずれを求めている。しかしながら、ホルダを用いて原版をステージに搭載する際にホルダと原版との相対位置がずれることがあるため、特許文献１に記載された方法では、ステージに対する原版の位置ずれを精度よく計測することが不十分になりうる。

そこで、本発明は、ステージに対する原版の位置ずれを原版の種類に応じて精度よく計測するために有利な技術を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての計測方法は、ステージに搭載された原版のパターンを基板上に転写するリソグラフィ装置において、前記ステージに対する前記原版の位置ずれを計測する計測方法であって、前記ステージに前記原版が搭載された状態における前記ステージの基準マークと前記原版の原版マークとの設計上の相対位置を示す情報を取得する取得工程と、前記取得工程で取得された前記情報に応じて、前記基準マークおよび前記原版マークをスコープで検出するための複数のモードの中から１つのモードを選択する選択工程と、前記選択工程で選択された前記１つのモードにより前記基準マークおよび前記原版マークを前記スコープで検出し、その検出結果に基づいて前記位置ずれを決定する決定工程と、を含み、前記複数のモードは、前記基準マークおよび前記原版マークを前記スコープの視野内に同時に収めて検出する第１モードと、前記ステージと前記スコープとの相対的な移動を介して前記基準マークおよび前記原版マークを前記視野内に個別に収めて検出する第２モードとを含む、ことを特徴とする。

本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。

本発明によれば、例えば、ステージに対する原版の位置ずれを原版の種類に応じて精度よく計測するために有利な技術を提供することができる。

第１実施形態の露光装置の構成例を示す概略図 規定サイズの原版が原版ステージに搭載された例を示す図 （ａ）原版ステージにおける第１基準マークのレイアウト、（ｂ）規定サイズの原版における原版マークのレイアウトを示す図 規定サイズの原版がホルダを介して原版ステージに搭載された例を示す図 （ａ）原版ステージにおける第１基準マークのレイアウト、（ｂ）小型サイズの原版における原版マークのレイアウトを示す図 第１実施形態の露光装置の動作例を示すフローチャート 第１実施形態における第１モードでの計測処理を示すフローチャート 第１実施形態における第２モードでの計測処理を示すフローチャート （ａ）原版ステージにおける第１基準マークのレイアウト、（ｂ）小型サイズの原版における原版マークのレイアウト、（ｃ）基板ステージにおける第２基準マークのレイアウトを示す図 第２実施形態における第２モードでの計測処理を示すフローチャート 第３実施形態の露光装置の構成例を示す概略図

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

本明細書及び添付図面では、原版を保持する原版ステージの保持面に平行な面内で互いに直交する方向をＸ方向およびＹ方向とするＸＹＺ座標系で方向を示す。ＸＹＺ座標系におけるＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸のそれぞれに平行な方向をＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向とし、Ｘ軸周りの回転、Ｙ軸周りの回転及びＺ軸周りの回転のそれぞれを、θＸ、θＹ及びθＺとする。Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸に関する制御及び駆動（移動）は、それぞれ、Ｘ軸に平行な方向、Ｙ軸に平行な方向、Ｚ軸に平行な方向に関する制御又は駆動（移動）を意味する。また、θＸ軸、θＹ軸、θＺ軸に関する制御又は駆動は、それぞれ、Ｘ軸に平行な軸周りの回転、Ｙ軸に平行な軸周りの回転、Ｚ軸に平行な軸周りの回転に関する制御又は駆動を意味する。

＜第１実施形態＞
本発明に係る第１実施形態について説明する。半導体デバイスやフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）などの製造工程で用いられるリソグラフィ装置の１つとして露光装置が知られている。露光装置は、原版を介して基板を露光することで、原版に形成されたパターンを基板上に転写（形成）する露光処理を行う装置である。基板における複数のショット領域の各々に対して露光処理を行う方式には、ステップ・アンド・リピート方式とステップ・アンド・スキャン方式とがある。ステップ・アンド・リピート方式を採用する露光装置は、ステッパと呼ばれることがあり、原版のパターンを基板上に一括して転写する露光処理を基板の各ショット領域に対して順次行う。一方、ステップ・アンド・スキャン方式を採用する露光装置は、スキャナと呼ばれることがあり、原版と基板とを相対的に走査しながら原版のパターンを基板上に転写する露光処理を基板の各ショット領域に対して順次行う。本実施形態では、ステップ・アンド・スキャン方式を採用する露光装置を例示して説明し、当該露光装置における原版と基板との相対的な走査方向をＹ方向とする。

図１は、本実施形態の露光装置ＥＸＰの構成例を示す概略図である。露光装置ＥＸＰは、例えば、照明光学系１と、検出部２と、原版ステージ４（ステージ）と、投影光学系５と、基板ステージ７と、制御部１１とを備えうる。

照明光学系１は、超高圧水銀ランプ等の光源部（不図示）から射出された光を用いて原版３を照明する。例えば、照明光学系１は、波長選択フィルタ、レンズ群、シャッター等を有し、光源部からの光を、基板６の露光に適した波長および形状の露光光に整形して原版３を照明する。

原版３は、原版ステージ４に搭載される。原版ステージ４は、原版３を保持してＸＹ方向に移動可能に構成されており、制御部１１による制御下において原版駆動機構１２によりＸＹ方向に駆動される。本実施形態の場合、原版ステージ４は、露光処理において原版駆動機構１２によりＹ方向へ走査される。

原版ステージ４の位置は、第１計測部１３によって常時計測（監視）されうる。第１計測部１３は、例えばレーザ干渉計を含みうる。この場合、第１計測部１３は、原版ステージ４に設けられた反射鏡１３ａに計測光を照射し、反射鏡１３ａで反射された計測光に基づいて原版ステージ４の位置を計測する。これにより、制御部１１は、第１計測部１３で計測された原版ステージ４の位置に基づいて、原版ステージ４に搭載されている原版３の位置を制御することができる。また、制御部１１は、第１計測部１３で計測された原版ステージ４の位置の時間変化に基づいて、原版ステージ４に搭載されている原版３の速度を制御することができる。

投影光学系５は、ミラーやレンズなどから成る複数の光学素子を有する。投影光学系５は、原版３を通過した露光光を複数の光学素子で反射／屈折させることにより、原版３に形成されているパターンの像を所定の倍率で基板６上に投影する。

基板６は、基板ステージ７に搭載される。基板ステージ７は、基板６を保持してＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向、θＺ方向に移動可能に構成されており、制御部１１による制御下において基板駆動機構１４により各方向へ駆動される。本実施形態の場合、基板ステージ７は、露光処理において基板駆動機構１４によりＹ方向に走査される。

基板ステージ７の位置は、第２計測部１５によって常時計測（監視）されうる。第２計測部１５は、例えばレーザ干渉計を含みうる。この場合、第２計測部１５は、基板ステージ７に設けられた反射鏡１５ａに計測光を照射し、反射鏡１５ａで反射された計測光に基づいて基板ステージ７の位置を計測する。これにより、制御部１１は、第２計測部１５で計測された基板ステージ７の位置に基づいて、基板ステージ７に搭載されている基板６の位置を制御することができる。また、制御部１１は、第２計測部１５で計測された基板ステージ７の位置の時間変化に基づいて、基板ステージ７に搭載されている基板６の速度を制御することができる。

検出部２（アライメント検出部）は、原版ステージ４に設けられた基準マーク８、および、原版３に設けられた原版マーク１０を検出（撮像）するスコープを有する。また、検出部２は、原版３および投影光学系５を介して、基板ステージ７に設けられた基準マーク９、および／または、基板６に設けられたマーク（不図示）を検出する。検出部２は、フォーカス調整機構を有し、各マークのＺ方向の位置に応じてフォーカスを調整して各マークを検出することができる。なお、以下では、原版ステージ４に設けられた基準マーク８を「第１基準マーク８」、基板ステージ７に設けられた基準マーク９を「第２基準マーク９」と表記することがある。

また、検出部２は、ＸＹ方向に移動可能に構成されており、制御部１１による制御下において検出駆動機構１６によってＸＹ方向に駆動される。例えば、検出部２に第１基準マーク８および／または原版マーク１０を検出させる場合、検出部２（スコープ）の視野内に当該マークが配置されるように、検出駆動機構１６によって検出部２を駆動する（移動させる）。ここで、検出部２の視野内にマークを配置するための駆動（移動）は、原版駆動機構１２によって原版ステージ４（原版３）を駆動することで行われてもよい。或いは、検出駆動機構１６および原版駆動機構１２の双方によって原版ステージ４（原版３）と検出部２とを相対的に駆動することで行われてもよい。即ち、検出駆動機構１６および原版駆動機構１２は、原版ステージ４（原版３）と検出部２とを相対的に駆動する駆動機構を構成する。

制御部１１は、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）等のプロセッサやメモリ等の記憶部を含むコンピュータ（情報処理装置）で構成され、露光装置ＥＸＰの各部を制御することにより露光処理を制御する。例えば、制御部１１は、検出部２での検出結果から得られた各マークの位置情報に基づいて、露光処理における各駆動機構の駆動量を決定する処理部として機能する。本実施形態の場合、制御部１１は、データ記憶部１１ａ、駆動量演算部１１ｂおよび駆動指示部１１ｃを含みうる。データ記憶部１１ａは、制御部１１の記憶部の少なくとも一部を構成するものであり、各マークの位置情報、各種駆動軸の駆動オフセット、敏感度等の駆動パラメータ、露光装置ＥＸＰで取得した各種計測データなどを記憶する。駆動量演算部１１ｂは、制御部１１のプロセッサの少なくとも一部を構成するものであり、データ記憶部１１ａに記憶されている各種データに基づいて、露光処理における原版ステージ４や基板ステージ７等の各種駆動軸の駆動指示量を決定する。駆動指示部１１ｃは、制御部１１のプロセッサの少なくとも一部を構成するものであり、駆動量演算部１１ｂで決定された駆動指示量に基づいて、各駆動機構に対して駆動指示を出力する。

上記の露光装置ＥＸＰにおいて原版３のパターンを基板６上に精度よく転写するためには、原版ステージ４に搭載されている原版３を精度よく駆動することが重要である。前述したように、原版３の駆動は、第１計測部１３により計測された原版ステージ４の位置に基づいて、原版駆動機構１２により原版ステージ４を駆動することで行われる。したがって、原版ステージ４に搭載されている原版３の位置を精度よく制御するためには、原版ステージ４に対する原版３の位置ずれを示す情報を有しておくことが望ましい。それゆえ、露光装置ＥＸＰでは、原版ステージ４の第１基準マーク８と原版３の原版マーク１０とを検出部２で検出することによって原版ステージ４に対する原版３の位置ずれを計測する計測処理が行われる。

また、露光装置ＥＸＰでは、様々な種類の原版３を原版ステージ４に搭載することが求められている。例えば、露光装置ＥＸＰでは、通常、原版ステージ４に搭載可能な原版３の規定サイズが決まっているが、原版３の周縁部分を保持するホルダ２０を用いることで、規定サイズよりも小さいサイズの原版３も原版ステージ４に搭載されることがある。この場合において、露光装置ＥＸＰには、原版ステージ４に対する原版３の位置ずれを原版３の種類（例えばサイズ）に応じて精度よく計測することが望まれる。以下、本実施形態における原版ステージ４の構成例、および、原版ステージ４への各種の原版３の搭載について説明する。

図２は、規定サイズの原版３ａが原版ステージ４に搭載された例を示している。また、図３は、（ａ）原版ステージ４における第１基準マーク８のレイアウトと、（ｂ）規定サイズの原版３ａにおける原版マーク１０のレイアウトとを示している。

原版ステージ４は、本体部４ａとチャック４ｂとを含みうる。本体部４ａは、原版駆動機構１２によってＸＹ方向に駆動される部分であり、第１基準マーク８は本体部４ａに設けられている。チャック４ｂは、真空吸引力や静電吸引力等によって原版３ａを吸引して保持する機構である。また、原版ステージ４には、原版３ａの中央部分に設けられたパターンからの光を通過させるための開口部４ｃが設けられている。

規定サイズの原版３ａ（第１原版）には、原版マーク１０（第１マーク）が設けられている。原版マーク１０は、原版ステージ４に原版３ａが搭載された状態において原版ステージ４の第１基準マーク８と共に検出部２（スコープ）の視野内に収まるように原版３ａに配置されている。図３の例では、原版マーク１０は、原版ステージ４に原版３ａが搭載された状態において原版ステージ４の第１基準マーク８に少なくとも部分的に重なるように原版３ａに配置されている。そのため、検出部２は、原版ステージ４の第１基準マーク８および原版３ａの原版マーク１０を視野内に同時に収めた状態で、第１基準マーク８および原版マーク１０を検出することができる。

例えば、規定サイズの原版３ａには、図３に示すように、Ｘ方向に離隔された複数の（２個）の原版マーク１０ａ～１０ｂが設けられうる。この場合、制御部１１は、原版ステージ４と検出部２とを相対的に移動させることにより第１基準マーク８ａおよび原版マーク１０ａを検出部２の視野内に同時に収め、その状態で検出部２に第１基準マーク８ａおよび原版マーク１０ａを検出させる。同様に、制御部１１は、原版ステージ４と検出部２とを相対的に移動させることにより第１基準マーク８ｂおよび原版マーク１０ｂを検出部２の視野内に同時に収め、その状態で検出部２に第１基準マーク８ｂおよび原版マーク１０ｂを検出させる。これにより、制御部１１は、検出部２で検出された第１基準マーク８とそれに対応する原版マーク１０との相対位置を求め、求めた相対位置と設計上の相対位置との差分に基づいて、原版ステージ４に対する原版３ａの位置ずれを決定することができる。

図４は、規定サイズよりも小さいサイズ（以下、小型サイズと表記することがある）の原版３ｂがホルダ２０を介して原版ステージ４に搭載された例を示している。また、図５は、（ａ）原版ステージ４における第１基準マーク８のレイアウトと、（ｂ）ホルダ２０により保持されている小型サイズの原版３ｂにおける原版マーク１８のレイアウトとを示している。ここで、原版ステージ４の構成は、図２を用いて前述したとおりであるため、ここでの説明を省略する。

ホルダ２０は、原版ステージ４（チャック４ｂ）によって保持される第１部分２１と、第１部分に接続されて小型サイズの原版３ｂを保持（支持）する第２部分２２と、第２部分２２によって保持されている原版３ｂを固定する固定部材２３とを含みうる。ホルダ２０の第１部分２１および第２部分２２は、例えば金属など光を透過しない部材によって構成されうるが、光を透過する部材によって構成されてもよい。光を透過しない部材によって第１部分２１および第２部分２２が構成されている場合、ホルダ２０は、原版ステージ４に搭載された状態で第１基準マーク８と重なる位置（第１部分２１）に光透過部分２４を有する。ホルダ２０の光透過部分２４には、原版３を介して第１基準マーク８を検出する場合と光透過部分２４を介して第１基準マーク８を検出する場合とで検出部２のフォーカスが一致するように、原版３と同じ材質および同じ厚みの光透過部材が設けられるとよい。また、固定部材２３は、小型サイズの原版３ｂを第２部分２２に押し付けることで原版３ｂをホルダ２０（第２部分２２）に固定する部材であり、例えば板バネによって構成されうる。

小型サイズの原版３ｂ（第２原版）には、原版マーク１８（第２マーク）が設けられている。小型サイズの原版３ｂを用いる場合、ホルダ２０を介して原版ステージ４に原版３ｂが搭載された状態において原版ステージ４の第１基準マーク８および原版３ｂの原版マーク１８を検出部２（スコープ）の視野内に同時に収めることができない。そのため、検出部２は、原版ステージ４と検出部２との相対的な移動を介して原版ステージ４の第１基準マーク８および原版３ｂの原版マーク１８を検出部２の視野内に個別に収めて検出する。

例えば、小型サイズの原版３ｂには、図５に示すように、Ｘ方向に離隔された複数（２個）の原版マーク１８ａ～１８ｂが設けられうる。この場合、制御部１１は、原版ステージ４と検出部２とを相対的に移動させることにより、ホルダ２０の光透過部分２４を介して第１基準マーク８ａを検出部２の視野内に収め、その状態で検出部２に第１基準マーク８ａを検出させる。そして、制御部１１は、原版ステージ４と検出部２とを相対的に移動させることにより原版マーク１８ａを検出部２の視野内に収め、その状態で検出部２に原版マーク１８ａを検出させる。同様に、制御部１１は、原版ステージ４と検出部２とを相対的に移動させることによりホルダ２０の光透過部分２４を介して第１基準マーク８ｂを検出部２の視野内に収め、その状態で検出部２に第１基準マーク８ｂを検出させる。そして、制御部１１は、原版ステージ４と検出部２とを相対的に移動させることにより原版マーク１８ｂを検出部２の視野内に収め、その状態で検出部２に原版マーク１８ｂを検出させる。これにより、制御部１１は、検出部２で検出された第１基準マーク８とそれに対応する原版マーク１８との相対位置を求め、求めた相対位置と設計上の相対位置との差分に基づいて、原版ステージ４に対する原版３ｂの位置ずれを決定することができる。

次に、本実施形態における露光装置ＥＸＰの動作例（リソグラフィ方法、露光方法）について説明する。図６は、露光装置ＥＸＰの動作例を示すフローチャートである。図６のフローチャートは制御部１１によって実行されうる。ここで、図６のフローチャートにおけるステップＳ１２～Ｓ１５は、原版ステージ４に対する原版３の位置ずれを計測する計測処理として理解されてもよい。計測処理には、ステップＳ１２～Ｓ１５に加え、ステップＳ１１が含まれてもよい。

ステップＳ１１で、制御部１１は、不図示の原版搬送部によって原版ステージ４上に搬送される原版３の種類を特定する。例えば、制御部１１は、原版３に設けられた識別子（例えばバーコード）を読み取ることにより、原版ステージ４上に搬送される原版３の種類を特定することができる。

ステップＳ１２で、制御部１１は、ステップＳ１１で特定された原版３の種類に基づいて、原版ステージ４に原版３が保持された状態における原版ステージ４の第１基準マーク８と原版３の原版マークとの設計上の相対位置を示す情報を取得する（取得工程）。第１基準マーク８と原版マークとの設計上の相対位置とは、例えば、原版ステージ４の重心（中心）と原版３の重心（中心）とが一致するように原版ステージ４に原版３が搭載された場合における第１基準マーク８と原版マークとの設計上の相対位置のことである。なお、以下では、第１基準マーク８と原版マークとの設計上の相対位置を示す情報を「設計情報」と表記することがある。

ステップＳ１３で、制御部１１は、ステップＳ１２で取得された設計情報に応じて、原版ステージ４の第１基準マーク８および原版３の原版マークを検出するための複数のモードの中から１つのモードを選択する（選択工程）。複数のモードは、第１モードと第２モードとを含みうる。第１モードは、第１基準マーク８および原版マークを検出部２の視野内に同時に収めることによって第１基準マーク８および原版マークを検出するモードである。また、第２モードは、原版ステージ４と検出部２との相対的な移動を介して第１基準マーク８および原版マークを検出部２の視野内に個別に収めることによって第１基準マーク８および原版マークを検出するモードである。

制御部１１は、ステップＳ１２で取得された設計情報に基づいて、原版ステージ４に搭載される原版３の原版マークを第１基準マーク８と共に（同時に）検出部２の視野内に収めることができると判定した場合には第１モードを選択する。即ち、規定サイズの原版３ａが原版ステージ４に搭載される場合には第１モードが選択される。この場合、ステップＳ１４に進み、制御部１１は、第１モードによって第１基準マーク８および原版マークを検出部２に検出させ、その検出結果に基づいて、原版ステージ４に対する原版３の位置ずれを決定する（決定工程）。即ち、制御部１１は、第１モードでの計測処理を行う。第１モードステップＳ１４の詳細については後述する。

一方、制御部１１は、ステップＳ１２で取得された設計情報に基づいて、原版ステージ４に搭載される原版３の原版マークを第１基準マーク８と共に（同時に）検出部２の視野内に収めることができないと判定した場合には第２モードを選択する。即ち、小型サイズの原版３ｂが原版ステージ４に搭載される場合には第２モードが選択される。この場合、ステップＳ１５に進み、制御部１１は、第２モードによって第１基準マーク８および原版マークを検出部２に検出させ、その検出結果に基づいて、原版ステージ４に対する原版３の位置ずれを決定する（決定工程）。即ち、制御部１１は、第２モードでの計測処理を行う。ステップＳ１５の詳細については後述する。

ステップＳ１６で、制御部１１は、基板６を露光して原版３のパターンを基板６上に転写する露光処理を行う。露光処理では、ステップＳ１４またはＳ１５で決定された位置ずれに基づいて原版３と基板６との位置合わせが制御される。例えば、制御部１１は、第１計測部１３で計測された原版ステージ４の位置と、ステップＳ１４またはＳ１５で決定された位置ずれとに基づいて、原版ステージ４に搭載されている原版３の位置を制御することにより、原版３と基板６との位置合わせを制御する。

次に、上記のステップＳ１４の詳細について説明する。図７は、ステップＳ１４で行われる第１モードでの計測処理を示すフローチャートである。ここでは、原版ステージ４に搭載される原版３として規定サイズの原版３ａが用いられ、原版３ａに、複数（２個）の原版マーク１０ａ～１０ｂが設けられている例を説明する。

ステップＳ２１で、制御部１１は、原版ステージ４の第１基準マーク８および原版３ａの原版マーク１０が検出部２の視野内に同時に収まるように、原版ステージ４と検出部２とを相対的に駆動する（移動させる）。次いで、ステップＳ２２で、制御部１１は、第１基準マーク８および原版マーク１０が検出部２の視野内に同時に収まっている状態で、検出部２に第１基準マーク８および原版マーク１０を検出（撮像）させる。このとき、制御部１１は、検出部２のフォーカスが第１基準マーク８に合うように、フォーカス調整機構により検出部２のフォーカスを調整するとよい。

ステップＳ２３で、制御部１１は、ステップＳ２２の検出結果（即ち、撮像により得られた画像）に基づいて、第１基準マーク８と原版マーク１０との相対位置ずれを求める。当該相対位置ずれは、第１基準マーク８と原版マーク１０との設計上の相対位置からのずれのことである。次いで、ステップＳ２４で、制御部１１は、第１基準マーク８と原版マーク１０との全ての組について相対位置ずれを求めたか否かを判定する。第１基準マーク８と原版マーク１０との組とは、本実施形態の場合、第１基準マーク８ａと原版マーク１０ａとの組、および、第１基準マーク８ｂと原版マーク１０ｂとの組を含みうる。全ての組について相対位置ずれを求めた場合にはステップＳ２５に進む。一方、全ての組について相対位置ずれを求めていない場合にはステップＳ２１に進み、相対位置ずれを未だ求めていない組に対してステップＳ２１～Ｓ２３を行う。

例えば、１回目のステップＳ２１～Ｓ２２では、図２に示すように、第１基準マーク８ａおよび原版マーク１０ａが検出部２の視野内に同時に収まるように原版ステージ４と検出部２とを相対的に駆動する。そして、検出部２に第１基準マーク８ａおよび原版マーク１０ａを検出させる。これにより、ステップＳ２３において、第１基準マーク８ａと原版マーク１０ａとの相対位置ずれが得られる。同様に、２回目のステップＳ２１～Ｓ２２では、第１基準マーク８ｂおよび原版マーク１０ｂが検出部２の視野内に同時に収まるように原版ステージ４と検出部２とを相対的に駆動する。そして、検出部２に第１基準マーク８ｂおよび原版マーク１０ｂを検出させる。これにより、ステップＳ２３において、第１基準マーク８ｂと原版マーク１０ｂとの相対位置ずれが得られる。なお、図１に示すように露光装置ＥＸＰに複数の検出部２が設けられている場合には、各組に対するステップＳ２１～Ｓ２３が複数の検出部２により並行して行われてもよい。

ステップＳ２５で、制御部１１は、ステップＳ２３で求めた第１基準マーク８と原版マーク１０との相対位置ずれに基づいて、原版ステージ４に対する原版３ａの位置ずれを決定する。第１基準マーク８と原版マーク１０との組が複数ある場合には、複数の組についてそれぞれ得られた相対位置ずれの代表値（例えば、平均値、最頻値など）に基づいて、原版ステージ４に対する原版３ａの位置ずれを決定してもよい。

次に、上記のステップＳ１５の詳細について説明する。図８は、ステップＳ１５で行われる第２モードでの計測処理を示すフローチャートである。ここでは、原版ステージ４に搭載される原版３として小型サイズの原版３ｂが用いられ、原版３ｂに、複数（２個）の原版マーク１８ａ～１８ｂが設けられている例を説明する。

以下の説明では、原版ステージ４の第１基準マーク８ａ～８ｂの設計位置を、原版ステージ４の重心（中心）を原点とするＸＹ方向の位置として表しており、それぞれ（ＸＬ１，ＹＬ１）、（ＸＲ１，ＹＲ１）としている。また、小型サイズの原版３ｂの原版マーク１８ａ～１８ｂの設計位置を、原版３ｂの重心（中心）を原点とするＸＹ方向の位置として表しており、それぞれ（ＸＬ２，ＹＬ２）、（ＸＲ２，ＹＲ２）としている。但し、設計上では、原版ステージ４の重心と、ホルダ２０を介して原版ステージ４に搭載された小型サイズの原版３ｂの重心とが一致しているものとする。

ステップＳ３１で、制御部１１は、原版ステージ４の第１基準マーク８がホルダ２０の光透過部分２４を介して検出部２の視野内に収まるように、原版ステージ４と検出部２とを相対的に駆動する（移動させる）。次いで、ステップＳ３２で、制御部１１は、検出部２の視野内に収まっている第１基準マーク８を検出部２に検出（撮像）させる。このとき、制御部１１は、検出部２のフォーカスが第１基準マーク８に合うように、フォーカス調整機構により検出部２のフォーカスを調整するとよい。

ステップＳ３３で、制御部１１は、原版３ｂの原版マーク１８が検出部２の視野内に収まるように、原版ステージ４と検出部２とを相対的に駆動する（移動させる）。本実施形態では、原版ステージ４と検出部２との相対的な駆動量として、第１基準マーク８と原版マーク１８との設計上の相対距離が用いられうる。次いで、ステップＳ３４で、制御部１１は、検出部２の視野内に収まっている原版マーク１８を検出部２に検出（撮像）させる。このとき、制御部１１は、検出部２のフォーカスが原版マーク１８に合うように、フォーカス調整機構により検出部２のフォーカスを調整するとよい。

ステップＳ３５で、制御部１１は、ステップＳ３２、Ｓ３４の検出結果（即ち、撮像により得られた画像）に基づいて、第１基準マーク８と原版マーク１８との相対位置ずれを求める。当該相対位置ずれは、第１基準マーク８と原版マーク１８との設計上の相対位置からのずれのことである。次いで、ステップＳ３６で、制御部１１は、第１基準マーク８と原版マーク１８との全ての組について相対位置ずれを求めたか否かを判定する。第１基準マーク８と原版マーク１８との組は、本実施形態の場合、第１基準マーク８ａと原版マーク１８ａとの組、および、第１基準マーク８ｂと原版マーク１８ｂとの組を含みうる。全ての組について相対位置ずれを求めた場合にはステップＳ３７に進む。一方、全ての組について相対位置ずれを求めていない場合にはステップＳ３１に進み、相対位置ずれを未だ求めていない組に対してステップＳ３１～Ｓ３５を行う。

例えば、１回目のステップＳ３１～Ｓ３４では、図４に示すように、第１基準マーク８ａと原版マーク１８ａとが検出部２によって個別に検出される。この場合、ステップＳ３２では、検出部２の視野中心に対する第１基準マーク８ａのＸＹ方向の位置ずれが（ｄｘＬ１，ｄｙＬ１）として得られる。また、ステップＳ３３では、原版ステージ４と検出部２との相対的な駆動量として、第１基準マーク８ａと原版マーク１８ａとの設計上の相対距離（ＸＬ２－ＸＬ１，ＹＬ２－ＹＬ１）が用いられる。そして、ステップＳ３５では、検出部２の視野中心に対する原版マーク１８ａのＸＹ方向の位置ずれが（ｄｘＬ２，ｄｘＬ２）として得られる。これにより、ステップＳ３５において、第１基準マーク８ａと原版マーク１８ａとの相対位置ずれが（ｄｘＬ２－ｄｘＬ１，ｄｙＬ２－ｄｙＬ１）として得られる。

同様に、２回目のステップＳ３１～Ｓ３４では、第１基準マーク８ｂと原版マーク１８ｂとが検出部２によって個別に検出される。この場合、ステップＳ３２では、検出部２の視野中心に対する第１基準マーク８ｂのＸＹ方向の位置ずれが（ｄｘＲ１，ｄｙＲ１）として得られる。また、ステップＳ３３では、原版ステージ４と検出部２との相対的な駆動量として、第１基準マーク８ｂと原版マーク１８ｂとの設計上の相対距離（ＸＲ２－ＸＲ１，ＹＲ２－ＹＲ１）が用いられる。そして、ステップＳ３５では、検出部２の視野中心に対する原版マーク１８ａのＸＹ方向の位置ずれが（ｄｘＲ２，ｄｙＲ２）として得られる。これにより、ステップＳ３５において、第１基準マーク８ｂと原版マーク１８ｂとの相対位置ずれが（ｄｘＲ２－ｄｘＲ１，ｄｙＲ２－ｄｙＲ１）として得られる。

なお、図１に示すように露光装置ＥＸＰに複数の検出部２が設けられている場合には、各組に対するステップＳ３１～Ｓ３５が複数の検出部２により並行して行われてもよい。

ステップＳ３７で、制御部１１は、ステップＳ３５で求めた第１基準マーク８と原版マーク１８との相対位置ずれに基づいて、原版ステージ４に対する原版３ｂの位置ずれを決定する。第１基準マーク８と原版マーク１８との組が複数ある場合には、複数の組についてそれぞれ得られた相対位置ずれの代表値（例えば、平均値、最頻値など）に基づいて、原版ステージ４に対する原版３ｂの位置ずれを決定してもよい。

ここで、上記の計測処理では、第１基準マーク８と原版マーク１０、１８との相対位置ずれを求める際、基板ステージ７の位置は任意である。上記の計測処理は、スループットの観点から他の処理と並列で実施されることが好ましく、例えば、基板ステージ７上における基板６の交換中に実施されるとよい。

また、フォーカス調整機構により検出部２のフォーカスを調整する場合、マーク像が、Ｚ方向に変化するだけでなく、ＸＹ方向にシフトする可能性がある。そのため、フォーカス調整機構により検出部２のフォーカスを任意のピッチで変更させた場合におけるＸＹ方向のマーク像のシフト量を事前に計測しておき、その計測結果をテーブルや関数としてデータ記憶部１１ａに記憶させておくとよい。これにより、制御部１１は、フォーカス調整機構により検出部２の変更量（調整量）に応じたＸＹ方向のマーク像のシフト量に基づいて、第１基準マーク８および原版マーク１０、１８との相対位置ずれを精度よく検出することができる。マーク像のシフト量の計測は、図６のフローチャートを開始する前の任意のタイミングで実施されうる。

さらに、検出部２をＸＹ方向に駆動した場合、駆動指令値に対して実際の駆動位置がＸＹ方向にシフトする可能性がある。そのため、検出部２を任意のピッチでＸＹ方向に駆動した場合におけるＸＹ方向のシフト量（即ち、駆動誤差量）を事前に計測しておき、その計測結果をテーブルや関数としてデータ記憶部１１ａに記憶させておくとよい。これにより、制御部１１は、検出部２の駆動位置に応じたＸＹ方向のシフト量に基づいて、検出部２を精度よく駆動することができる。駆動位置のシフト量の計測は、図６のフローチャートを開始する前の任意のタイミングで実施されうる。

上述したように、本実施形態では、第１基準マーク８と原版マークとの設計上の相対位置を示す設計情報に基づいて、第１基準マーク８および原版マークを検出するための複数のモードの中から１つのモードを選択する。そして、選択した１つのモードにより第１基準マーク８および原版マークを検出した結果に基づいて、原版ステージ４に対する原版３の位置を決定する。複数のモードは、第１モードと第２モードとを含む。第１モードは、第１基準マーク８および原版マークを検出部２の視野内に同時に収めて検出するモードであり、規定サイズの原版３ａが原版ステージ４に搭載された場合に選択されうる。第２モードは、原版ステージ４と検出部２との相対的な移動を介して第１基準マーク８および原版マークを検出部２の視野内に個別に収めて検出するモードであり、小型サイズの原版３ｂがホルダ２０を介して原版ステージ４に搭載された場合に選択されうる。これにより、原版ステージ４に対する原版３の位置ずれを原版３の種類に応じて精度よく計測することができる。

＜第２実施形態＞
本発明に係る第２実施形態について説明する。本実施形態では、ステップＳ１５で行われる第２モードでの計測処理の変形例について説明する。なお、本実施形態は、第１実施形態を基本的に引き継ぐものであり、以下で言及する事項以外は第１実施形態に従いうる。

図９は、（ａ）原版ステージ４における第１基準マーク８のレイアウトと、（ｂ）ホルダ２０により保持されている小型サイズの原版３ｂにおける原版マーク１８のレイアウトと、（ｃ）基板ステージ７における第２基準マーク９のレイアウトとを示している。

以下の説明では、原版ステージ４の第１基準マーク８ａ～８ｂの設計位置を、原版ステージ４の重心（中心）を原点とするＸＹ方向の位置として表しており、それぞれ（ＸＬ１，ＹＬ１）、（ＸＲ１，ＹＲ１）としている。また、小型サイズの原版３ｂの原版マーク１８ａ～１８ｂの設計位置を、原版３ｂの重心（中心）を原点とするＸＹ方向の位置として表しており、それぞれ（ＸＬ２，ＹＬ２）、（ＸＲ２，ＹＲ２）としている。さらに、基板ステージ７の第２基準マーク９ａ～９ｂの設計位置を、基板ステージ７の重心（中心）を原点とするＸＹ方向の位置として表しており、それぞれ（ＸＬ３，ＹＬ３）、（ＸＲ３，ＹＲ３）としている。但し、設計上では、原版ステージ４の重心と、基板ステージ７の重心と、ホルダ２０を介して原版ステージ４に搭載された小型サイズの原版３ｂの重心とが一致しているものとする。ここで、基板ステージ７の第２基準マーク９ａ～９ｂは、原版３ｂの原版マーク１８ａ～１８ｂと同じ間隔で配置されている。サイズが互いに異なる複数の小型サイズの原版３ｂが用いられる場合、原版マーク１８の間隔の種類ごとに、基板ステージ７の第２基準マーク９を増やしてもよい。この場合においても、基板ステージ７の第２基準マーク９の間隔は、原版マーク１８の間隔と同一とする。

図１０は、ステップＳ１５で行われる第２モードでの計測処理を示すフローチャートである。本実施形態では、基板ステージ７の第２基準マーク９を基準として原版ステージ４の第１基準マーク８と原版３ｂの原版マーク１８との相対位置ずれを求める例を説明する。

ステップＳ４１で、制御部１１は、原版３ｂの原版マーク１８が検出部２の視野内に収まるように、原版ステージ４と検出部２とを相対的に駆動する（移動させる）。このとき、制御部１１は、基板ステージ７の第２基準マーク９が検出部の視野内および投影光学系５の投影領域内に収まるように基板ステージ７を駆動する。

ステップＳ４２で、制御部１１は、検出部２の視野内に収まっている原版マーク１８および第２基準マーク９を検出部２に検出（撮像）させる。第２基準マーク９は、投影光学系５を介して検出部２によって検出される。このとき、制御部１１は、検出部２のフォーカスが原版マーク１８および第２基準マーク９に合うように、フォーカス調整機構により検出部２のフォーカスを調整したり、基板ステージ７により第２基準マーク９のＺ方向の位置を調整したりするとよい。次いで、ステップＳ４３で、制御部１１は、ステップＳ４２の検出結果（即ち、撮像により得られた画像）に基づいて、第２基準マーク９に対する原版マーク１８の位置ずれを求める。このとき、制御部１１は、検出部２の視野中心に対する第２基準マーク９の位置ずれも求めておく。

ステップ４４で、制御部１１は、原版ステージ４の第１基準マーク８がホルダ２０の光透過部分２４を介して検出部２の視野内に収まるように、原版ステージ４と検出部２とを相対的に駆動する（移動させる）。本実施形態では、原版ステージ４と検出部２との相対的な駆動量として、第１基準マーク８と原版マーク１８との設計上の相対距離が用いられうる。

ステップＳ４５で、制御部１１は、検出部２の視野内に収まっている第１基準マーク８を検出部２に検出（撮像）させる。このとき、制御部１１は、検出部２のフォーカスが第１基準マーク８に合うように、フォーカス調整機構により検出部２のフォーカスを調整するとよい。次いで、ステップＳ４６で、制御部１１は、ステップＳ４５の検出結果（即ち、撮像により得られた画像）に基づいて、検出部２の視野中心に対する第１基準マーク８の位置ずれを求める。ここで、ステップＳ４４～Ｓ４６は、原版ステージ４と基板ステージ７との位置関係を求めるために実施される。そのため、１回目のステップＳ４４～Ｓ４６で「検出部２の視野中心に対する第１基準マーク８の位置ずれ」が得られた場合には、２回目以降のステップＳ４４～Ｓ４６を省略してもよい。

ステップＳ４７で、制御部１１は、第１基準マーク８と原版マーク１８との相対位置ずれを求める。相対位置ずれは、ステップＳ４３で求めた「第２基準マーク９に対する原版マーク１８の位置ずれ」、「視野中心に対する第２基準マーク９の位置ずれ」、並びにステップＳ４６で求めた「視野中心に対する第１基準マーク８の位置ずれ」から算出されうる。

ステップＳ４８で、制御部１１は、第１基準マーク８と第２基準マーク９と原版マーク１８との全ての組について相対位置ずれを求めたか否かを判定する。第１基準マーク８と第２基準マーク９と原版マーク１８との組は、本実施形態の場合、第１基準マーク８ａと第２基準マーク９ａと原版マーク１８ａとの組、および、第１基準マーク８ｂと第２基準マーク９ｂと原版マーク１８ｂとの組を含みうる。全ての組について相対位置ずれを求めた場合にはステップＳ４９に進む。一方、全ての組について相対位置ずれを求めていない場合にはステップＳ４１に進み、相対位置ずれを未だ求めていない組に対してステップＳ４１～Ｓ４７を行う。

例えば、１回目のステップＳ４１～Ｓ４７では、第１基準マーク８ａと原版マーク１８ａとが検出部２によって個別に検出される。この場合、ステップＳ４１では、基板ステージ７の駆動量として、Ｘ方向については「－（ＸＬ３＋ＸＲ３）／２」、Ｙ方向については「（ＹＬ３＋ＹＲ３）／２－（ＹＬ１＋ＹＲ１）／２」が用いられる。そして、ステップＳ４３では、第２基準マーク９ａに対する原版マーク１８ａの位置ずれが（ｄｘＬ３，ｄｙＬ３）として得られ、検出部２の視野中心に対する第２基準マーク９ａの位置ずれが（ｄｘＬ４，ｄｙＬ４）として得られる。また、ステップＳ４４では、原版ステージ４と検出部２との相対的な駆動量として、第１基準マーク８ａと原版マーク１８ａとの設計上の相対距離（ＸＬ１－ＸＬ２，ＹＬ１－ＹＬ２）が用いられる。そして、ステップＳ４６では、検出部２の視野中心に対する第１基準マーク８ａの位置ずれが（ｄｘＬ５，ｄｙＬ５）として得られる。これにより、ステップＳ４７において、第１基準マーク８ａと原版マーク１８ａとの相対位置ずれが（ｄｘＬ３＋ｄｘＬ４－ｄｘＬ５，ｄｙＬ３＋ｄｙＬ４－ｄｙＬ５）として得られる。

同様に、２回目のステップＳ４１～Ｓ４７では、第１基準マーク８ｂと原版マーク１８ｂとが検出部２によって個別に検出される。この場合、ステップＳ４３では、第２基準マーク９ｂに対する原版マーク１８ｂの位置ずれが（ｄｘＲ３，ｄｙＲ３）として得られ、検出部２の視野中心に対する第２基準マーク９ｂの位置ずれが（ｄｘＲ４，ｄｙＲ４）として得られる。また、ステップＳ４４では、原版ステージ４と検出部２との相対的な駆動量として、第１基準マーク８ａと原版マーク１８ａとの設計上の相対距離（ＸＲ１－ＸＲ２，ＹＲ１－ＹＲ２）が用いられる。そして、ステップＳ４６では、検出部２の視野中心に対する第１基準マーク８ｂの位置ずれが（ｄｘＲ５，ｄｙＲ５）として得られる。これにより、ステップＳ４７において、第１基準マーク８ｂと原版マーク１８ｂとの相対位置ずれが（ｄｘＲ３＋ｄｘＲ４－ｄｘＲ５，ｄｙＲ３＋ｄｙＲ４－ｄｙＲ５）として得られる。

なお、図１に示すように露光装置ＥＸＰに複数の検出部２が設けられている場合には、各組に対するステップＳ４１～Ｓ４７が複数の検出部２により並行して行われてもよい。

ステップＳ４９で、制御部１１は、ステップＳ４７で求めた第１基準マーク８と原版マーク１８との相対位置ずれに基づいて、原版ステージ４に対する原版３ｂの位置ずれを決定する。第１基準マーク８と原版マーク１８との組が複数ある場合には、複数の組についてそれぞれ得られた相対位置ずれの代表値（例えば、平均値、最頻値など）に基づいて、原版ステージ４に対する原版３ｂの位置ずれを決定してもよい。

本実施形態によっても、第１実施形態と同様に、原版ステージ４に対する原版３の位置ずれを原版３の種類に応じて精度よく計測することができる。ここで、第１基準マーク８と原版マーク１８との相対位置ずれを求める工程（ステップＳ４７）は、スループットの観点から他の処理を並列で実施されることが好ましく、例えば、基板ステージ７上における基板６の交換中に実施されるとよい。そのため、基板ステージ７の第２基準マーク９は、基板６の交換中における基板ステージ７の位置において原版マーク１０と少なくとも部分的に重なるように基板ステージ７に設けられているとよい。

＜第３実施形態＞
本発明に係る第３実施形態について説明する。本実施形態では、上記のステップＳ１１で原版３の種類を特定するための具体的な露光装置ＥＸＰの構成例について説明する。なお、本実施形態は、第１実施形態を基本的に引き継ぐものであり、以下で言及する事項以外は第１実施形態に従いうる。また、本実施形態では、第１実施形態における第２モードでの計測処理に代えて、第２実施形態における第２モードでの計測処理が適用されてもよい。

図１１は、本実施形態の露光装置ＥＸＰ’の構成例を示す概略図である。本実施形態の露光装置ＥＸＰ’は、第１実施形態の露光装置ＥＸＰに比べて、原版保管部５０と、原版搬送ロボット５１と、原版搬送ローダ５６とを更に備えうる。原版搬送ロボット５１および原版搬送ローダ５６は、原版保管部５０から原版ステージ４上に原版３を搬送する原版搬送部を構成する。

原版保管部５０は、原版３を保管するユニットである。原版保管部５０は、原版ストッカ５２、カセット開け装置５３、および原版カセット５４～５５を含みうる。原版は、原版搬送ロボット５１を用いて原版ストッカ５２から取り出され、カセット開け装置５３でカセットを開けた状態で原版搬送ローダ５６に受け渡される。その後、原版搬送ローダ５６が原版ステージ４上に原版を搬送する。原版は、原版ストッカ５２内に複数枚保持されている。図１１では、原版カセット５４から搬出されて原版ステージ４上に搭載されている原版３と、原版カセット５５内に格納されている原版５７とが例示されている。原版搬送ロボット５１には、各原版に設けられた識別子（例えばバーコード）を読み取る読取部５８が設けられている。読取部５８は、原版搬送ロボット５１による原版の搬送中に、当該原版（例えば側面部）に設けられた識別子を読み取る。これにより、制御部１１は、読取部５８で読み取られた識別子に基づいて、原版ステージ４上に搬送する原版の種類（例えばサイズ）を特定することができる。原版の種類に関する情報は、例えばデータ記憶部１１ａに記憶され、第１基準マーク８と原版マークとの設計上の相対位置を示す設計情報を取得するために使用される。

＜物品の製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態にかかる物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品製造方法は、上記のリソグラフィ方法（リソグラフィ装置）を用いて原版のパターンを基板上に転写する転写工程と、転写工程を経た基板を加工する加工工程と、加工工程を経た基板から物品を製造する製造工程とを含む。転写工程は、上記の露光方法（露光装置）を用いて基板を露光する工程として理解されてもよい。また、加工工程は、原版のパターンが潜像パターンとして転写された基板上の感光材（フォトレジスト）を現像する工程として理解されてもよい。更に、物品製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。

＜その他の実施形態＞
本発明は、上述の実施形態の１以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける１つ以上のプロセッサがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、１以上の機能を実現する回路（例えば、ＡＳＩＣ）によっても実現可能である。

＜実施形態のまとめ＞
本明細書の開示は、少なくとも以下の計測方法、リソグラフィ方法、物品製造方法、およびリソグラフィ装置を含む。
（項目１）
ステージに搭載された原版のパターンを基板上に転写するリソグラフィ装置において、前記ステージに対する前記原版の位置ずれを計測する計測方法であって、
前記ステージに前記原版が搭載された状態における前記ステージの基準マークと前記原版の原版マークとの設計上の相対位置を示す情報を取得する取得工程と、
前記取得工程で取得された前記情報に応じて、前記基準マークおよび前記原版マークをスコープで検出するための複数のモードの中から１つのモードを選択する選択工程と、
前記選択工程で選択された前記１つのモードにより前記基準マークおよび前記原版マークを前記スコープで検出し、その検出結果に基づいて前記位置ずれを決定する決定工程と、
を含み、
前記複数のモードは、前記基準マークおよび前記原版マークを前記スコープの視野内に同時に収めて検出する第１モードと、前記ステージと前記スコープとの相対的な移動を介して前記基準マークおよび前記原版マークを前記視野内に個別に収めて検出する第２モードとを含む、ことを特徴とする計測方法。
（項目２）
前記選択工程では、第１原版が前記ステージに搭載された場合に前記第１モードが選択され、第２原版が前記ステージに搭載された場合に前記第２モードが選択され、
前記第１原版は、前記ステージに前記第１原版が搭載された状態で前記基準マークと共に前記視野内に収まる第１マークを前記原版マークとして有し、
前記第２原版は、前記ステージに前記第２原版が搭載された状態で前記基準マークと共に前記視野内に収まらない第２マークを前記原版マークとして有する、ことを特徴とする項目１に記載の計測方法。
（項目３）
前記第２原版は、前記第１原版よりも小さいサイズを有し、前記第２原版の周縁部分を保持するホルダを介して前記ステージに搭載される、ことを特徴とする項目２に記載の計測方法。
（項目４）
前記第２モードでは、前記ホルダを介して前記基準マークが前記スコープで検出される、ことを特徴とする項目３に記載の計測方法。
（項目５）
前記ホルダは、前記ステージに搭載された状態で前記基準マークと重なる位置に光透過部分を有する、ことを特徴とする項目４に記載の計測方法。
（項目６）
前記ホルダは、前記ステージのチャックによって保持される第１部分と、前記第１部分に接続されて前記原版を保持する第２部分と、前記原版を前記第２部分に押し付けることで前記原版を固定する固定部材とを含む、ことを特徴とする項目３乃至５のいずれか１項目に記載の計測方法。
（項目７）
前記原版に設けられた識別子を読み取ることにより、前記ステージに搬送される前記原版の種類を特定する特定工程を更に含み、
前記取得工程では、前記特定工程で特定された前記原版の種類に基づいて前記情報を取得する、ことを特徴とする項目１乃至６のいずれか１項目に記載の計測方法。
（項目８）
ステージに搭載された原版のパターンを基板上に転写するリソグラフィ方法であって、
項目１乃至７のいずれか１項目に記載の計測方法を用いて、前記ステージに対する前記原版の位置ずれを計測する計測工程と、
前記原版のパターンを前記基板上に転写する転写工程と、
を含み、
前記転写工程では、前記計測工程で計測された前記位置ずれに基づいて、前記原版と前記基板との位置合わせが制御される、ことを特徴とするリソグラフィ方法。
（項目９）
項目８に記載のリソグラフィ方法を用いて、原版のパターンを基板上に転写する転写工程と、
前記転写工程を経た前記基板を加工する加工工程と、
前記加工工程を経た前記基板から物品を製造する製造工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
（項目１０）
原版のパターンを基板上に転写するリソグラフィ装置であって、
前記原版が搭載されるステージと、
前記ステージの基準マークと前記原版の原版マークとを検出するスコープと、
前記ステージに対する前記原版の位置ずれを決定する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記ステージに前記原版が搭載された状態における前記基準マークと原版マークとの設計上の相対位置を示す情報に応じて複数のモードの中から１つのモードを選択し、前記１つのモードにより前記基準マークおよび前記原版マークをスコープに検出させた結果に基づいて前記位置ずれを決定し、
前記複数のモードは、前記基準マークおよび前記原版マークを前記スコープの視野内に同時に収めて検出する第１モードと、前記ステージと前記スコープとの相対的な移動を介して前記基準マークおよび前記原版マークを前記視野内に個別に収めて検出する第２モードとを含む、ことを特徴とするリソグラフィ装置。

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。

１：照明光学系、２：検出部（スコープ）、３：原版、４：原版ステージ、５：投影光学系、６：基板、７：基板ステージ、８：第１基準マーク、９：第２基準マーク、１０，１８：原版マーク、１１：制御部、ＥＸＰ：露光装置（リソグラフィ装置）

Claims (10)

1. ステージに搭載された原版のパターンを基板上に転写するリソグラフィ装置において、前記ステージに対する前記原版の位置ずれを計測する計測方法であって、
   前記ステージに前記原版が搭載された状態における前記ステージの基準マークと前記原版の原版マークとの設計上の相対位置を示す情報を取得する取得工程と、
   前記取得工程で取得された前記情報に応じて、前記基準マークおよび前記原版マークをスコープで検出するための複数のモードの中から１つのモードを選択する選択工程と、
   前記選択工程で選択された前記１つのモードにより前記基準マークおよび前記原版マークを前記スコープで検出し、その検出結果に基づいて前記位置ずれを決定する決定工程と、
   を含み、
   前記複数のモードは、前記基準マークおよび前記原版マークを前記スコープの視野内に同時に収めて検出する第１モードと、前記ステージと前記スコープとの相対的な移動を介して前記基準マークおよび前記原版マークを前記視野内に個別に収めて検出する第２モードとを含む、ことを特徴とする計測方法。
2. 前記選択工程では、第１原版が前記ステージに搭載された場合に前記第１モードが選択され、第２原版が前記ステージに搭載された場合に前記第２モードが選択され、
   前記第１原版は、前記ステージに前記第１原版が搭載された状態で前記基準マークと共に前記視野内に収まる第１マークを前記原版マークとして有し、
   前記第２原版は、前記ステージに前記第２原版が搭載された状態で前記基準マークと共に前記視野内に収まらない第２マークを前記原版マークとして有する、ことを特徴とする請求項１に記載の計測方法。
3. 前記第２原版は、前記第１原版よりも小さいサイズを有し、前記第２原版の周縁部分を保持するホルダを介して前記ステージに搭載される、ことを特徴とする請求項２に記載の計測方法。
4. 前記第２モードでは、前記ホルダを介して前記基準マークが前記スコープで検出される、ことを特徴とする請求項３に記載の計測方法。
5. 前記ホルダは、前記ステージに搭載された状態で前記基準マークと重なる位置に光透過部分を有する、ことを特徴とする請求項４に記載の計測方法。
6. 前記ホルダは、前記ステージのチャックによって保持される第１部分と、前記第１部分に接続されて前記原版を保持する第２部分と、前記原版を前記第２部分に押し付けることで前記原版を固定する固定部材とを含む、ことを特徴とする請求項３に記載の計測方法。
7. 前記原版に設けられた識別子を読み取ることにより、前記ステージに搬送される前記原版の種類を特定する特定工程を更に含み、
   前記取得工程では、前記特定工程で特定された前記原版の種類に基づいて前記情報を取得する、ことを特徴とする請求項１に記載の計測方法。
8. ステージに搭載された原版のパターンを基板上に転写するリソグラフィ方法であって、
   請求項１乃至７のいずれか１項に記載の計測方法を用いて、前記ステージに対する前記原版の位置ずれを計測する計測工程と、
   前記原版のパターンを前記基板上に転写する転写工程と、
   を含み、
   前記転写工程では、前記計測工程で計測された前記位置ずれに基づいて、前記原版と前記基板との位置合わせが制御される、ことを特徴とするリソグラフィ方法。
9. 請求項８に記載のリソグラフィ方法を用いて、原版のパターンを基板上に転写する転写工程と、
   前記転写工程を経た前記基板を加工する加工工程と、
   前記加工工程を経た前記基板から物品を製造する製造工程と、
   を含むことを特徴とする物品製造方法。
10. 原版のパターンを基板上に転写するリソグラフィ装置であって、
    前記原版が搭載されるステージと、
    前記ステージの基準マークと前記原版の原版マークとを検出するスコープと、
    前記ステージに対する前記原版の位置ずれを決定する制御部と、
    を備え、
    前記制御部は、前記ステージに前記原版が搭載された状態における前記基準マークと原版マークとの設計上の相対位置を示す情報に応じて複数のモードの中から１つのモードを選択し、前記１つのモードにより前記基準マークおよび前記原版マークをスコープに検出させた結果に基づいて前記位置ずれを決定し、
    前記複数のモードは、前記基準マークおよび前記原版マークを前記スコープの視野内に同時に収めて検出する第１モードと、前記ステージと前記スコープとの相対的な移動を介して前記基準マークおよび前記原版マークを前記視野内に個別に収めて検出する第２モードとを含む、ことを特徴とするリソグラフィ装置。