JPH01119937A - 光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

光情報記録媒体の製造方法

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Publication number
JPH01119937A
JPH01119937A JP62277698A JP27769887A JPH01119937A JP H01119937 A JPH01119937 A JP H01119937A JP 62277698 A JP62277698 A JP 62277698A JP 27769887 A JP27769887 A JP 27769887A JP H01119937 A JPH01119937 A JP H01119937A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sputtering
recording film
hydrogen
recording
sputtering gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP62277698A
Other languages
English (en)
Inventor
Etsuji Akimoto
秋本 悦二
Nagayoshi Tsukane
永芳 塚根
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daicel Corp
Original Assignee
Daicel Chemical Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Daicel Chemical Industries Ltd filed Critical Daicel Chemical Industries Ltd
Priority to JP62277698A priority Critical patent/JPH01119937A/ja
Publication of JPH01119937A publication Critical patent/JPH01119937A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/16Making multilayered or multicoloured articles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/16Making multilayered or multicoloured articles
    • B29C45/1671Making multilayered or multicoloured articles with an insert
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01RELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
    • H01R43/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing, assembling, maintaining, or repairing of line connectors or current collectors or for joining electric conductors
    • H01R43/20Apparatus or processes specially adapted for manufacturing, assembling, maintaining, or repairing of line connectors or current collectors or for joining electric conductors for assembling or disassembling contact members with insulating base, case or sleeve
    • H01R43/24Assembling by moulding on contact members

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はV−デー光によって情報を記録再生することの
できる光情報記録媒体の製造方法に関し、さらに詳しく
は光情報記録媒体の記録膜の製造方法に関するものであ
る。
〔従来技術とその問題点〕
レーザー光によって情報を記録再生することのできる光
情報記録媒体の記録膜の製造法としては、近年再現性等
工業化技術としての優位性から、スパッタリング法が多
く用いられている。このスノ’?ツタリング法ではチャ
ンバーを排気して高真空′状態にして膜付けを行うが基
板その他から出てくる水分、酸素分子、モノマーに起因
する酸素が存在するため、記録薄膜中に酸素が含まれる
場合がある。特に近年光情報記録媒体の基板として、多
く用いられているプラスチックを使用した場合にはこの
酸素を完全に除去するのは難しい。
この膜中に入シ込んだ酸素は、Te −Ss系系膜膜記
録材料とする追記型光ディスクや、希土類系合金薄膜を
記録材料とする光磁気ディスクの記録膜を酸化し、CN
比等の記録特性を劣化させることが知られている。
〔発明の目的〕
本発明の目的は上記の欠点のない記録膜の製造方法を提
供することにある。すなわち、スパッタリング時の記録
膜の酸化劣化を防止し、記録再生特性に優れた記録膜の
製造方法を提供することにある。
〔問題点を解決する手段〕
本発明は、スパッタリングによって記録膜を形成する光
情報記録媒体の製造方法においてスパッタリングガス中
に水素を含むことを特徴としている。
本発明における記録膜は酸化によって、その記録再生特
性が劣化するものを対象としている。従って追記型光デ
ィスクまたは消去可能型光ディスクのどちらの型の薄膜
の製造方法にも適用される。
具体的には追記型の記録材料として、To系合金、例え
ばTe−Be、 Te−As) Te−8b、 To−
In。
Te −an 、 Te −Pb STe −Bi 、
 Ts −Ss −Ti。
Te −as −Ti −Ag)  To −As、 
 Te−Go:Toの分散物、例えばTe−C,Te−
C82:多層膜例えば・Sb −Se / Bi −T
o等を挙げることができる。
また消去可能型記録材料としては、希土類−遷移金属合
金の光磁気材料例えばTbFa 、 TbFeCo 。
GdTbFa 、 NdDyFeCo等を挙げることが
できる。本発明におけるスフ9ツタリングガスは特・に
制限はないが、経済性や適切なス/Jツタレートが得ら
れることなどの理由からアルゴンが好適である。
スパッタリングガス中に含まれる水素は、スパッタチャ
ンバー内にスパッタリングガスと別ラインで導入されて
も、混合ガスとして導入されてもどちらでも良い。
スパッタリングガス中の水素濃度には特に制限はないが
酸化防止効果と適切なスフ4ツタV−)を得ることを両
立させるという点から、0.1%〜20チが好適である
〔実施例〕
実施例1.比較例1 巾0.6μ、深さ700 X tピッチ1.6μのスノ
ぐイラル状案内溝を設けた直径130m、厚み1.2圏
のポリカーボネイト基板上に、 ArとH2ガスの流量
比が1:0.01であるスパッタリングガス中で、DC
スノ臂フッタリング法よシ、Ta 、 Ss 、 Ti
Agからなる四元合金を膜付した追記型ディスクを作成
した。830 nmの半導体レーザーを用いて出力6 
mWでI MHzの反復信号を線速6n4/secで案
内。
トラックのランド部に書き込み、出力1 mWでCN此
傭域30 kHz )とジッターを測定し友。CN比5
1 dB 、ジッター(標準偏差) 7. Oatre
eが得られた。
スパッタリングガスKArのみを用いる他は上記と全く
同条件の実験を行ない、CN比47 dB 、ジッター
(標準偏差) 10.2 n5eeを得た。
巾0.6μ、深さ700X、ピッチ1.6μのスフ9イ
ラル状案内溝を設けた直径130■、厚さ1.2閣のポ
リカーボネイト基板上に、Arガスを用いてRFマグネ
トロンスパッタリングにょシ、先ず無アルカリガラスで
あるコーニング7o59の層を500X形成させ、次に
この上に水素を含むスパッタリングがス(流量比Ar 
: H2= 1 : 0.01 )と合金ターグツトを
用いてTb25F@bscOyの光磁気記録膜1000
Xt−形成させ、さらにその上に上記と同じ方法でコー
ニング7059の層1000i、i形成させ次。
得られた光磁気ディスクのい比及びジッターを、830
nmの半導体レーザーを用い、パワー6mW 、 2 
MHz 、 duty 50 To 、線速5゜2rr
y’secでパルスを書込んだ後、1.OmW、帯域3
0 kHzで測定したところc/N46 dB 、ジッ
ター(標準偏差)5.3n secが得られた。
記録膜形成にArガスのみをスパッタリングガスとする
以外は同条件で、光磁気ディスクを製造。
書き込み、読み出しを行なりたところC/N 44 d
B pジッター7、2 n5ecを得た。
〔発明の効果〕
上述の実施例によシ本発明の効果は明らかである。スパ
ッタリングガス中への水素の導入によシ、記録膜の重要
な特性であるCAとジッターが改善される。導入された
水素がプラズマ中で活性化され、スノJ?ツタリング装
置の槽内に不純物として存在する酸素、酸素含有化合物
あるいはこれらのプラズマ中の反応中間生成物と反応し
てそれらを不活性化し、記録膜中への金属酸化物の混入
を防ぐと考えられる。勿論ここに考察されたメカニズム
、によシ本発明を限定するものではない。
折R仮屑り人

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)スパッタリングによって記録膜を形成する光情報
    記録媒体の製造方法において、スパッタリングガス中に
    水素を含むことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法
  2. (2)上記記録膜がTeを含む薄膜であることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の光情報記録媒体の製造
    方法。
  3. (3)上記記録膜が希土類金属と遷移金属の合金で構成
    されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の光情報記録媒体の製造方法。
JP62277698A 1987-11-02 1987-11-02 光情報記録媒体の製造方法 Pending JPH01119937A (ja)

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JP62277698A JPH01119937A (ja) 1987-11-02 1987-11-02 光情報記録媒体の製造方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5466522A (en) * 1992-06-26 1995-11-14 Eastman Kodak Company Cobalt platinum magnetic film and method of fabrication thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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