JPH01119937A - 光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents
光情報記録媒体の製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 12
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 18
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 4
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 abstract description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 abstract 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 abstract 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L sulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])[O-] QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 1
- WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N alstonine Natural products C1=CC2=C3C=CC=CC3=NC2=C2N1C[C@H]1[C@H](C)OC=C(C(=O)OC)[C@H]1C2 WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N 0.000 description 1
- 230000003064 anti-oxidating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007806 chemical reaction intermediate Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000000415 inactivating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 229910002059 quaternary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/16—Making multilayered or multicoloured articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/16—Making multilayered or multicoloured articles
- B29C45/1671—Making multilayered or multicoloured articles with an insert
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01R—ELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
- H01R43/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing, assembling, maintaining, or repairing of line connectors or current collectors or for joining electric conductors
- H01R43/20—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing, assembling, maintaining, or repairing of line connectors or current collectors or for joining electric conductors for assembling or disassembling contact members with insulating base, case or sleeve
- H01R43/24—Assembling by moulding on contact members
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
できる光情報記録媒体の製造方法に関し、さらに詳しく
は光情報記録媒体の記録膜の製造方法に関するものであ
る。
情報記録媒体の記録膜の製造法としては、近年再現性等
工業化技術としての優位性から、スパッタリング法が多
く用いられている。このスノ’?ツタリング法ではチャ
ンバーを排気して高真空′状態にして膜付けを行うが基
板その他から出てくる水分、酸素分子、モノマーに起因
する酸素が存在するため、記録薄膜中に酸素が含まれる
場合がある。特に近年光情報記録媒体の基板として、多
く用いられているプラスチックを使用した場合にはこの
酸素を完全に除去するのは難しい。
録材料とする追記型光ディスクや、希土類系合金薄膜を
記録材料とする光磁気ディスクの記録膜を酸化し、CN
比等の記録特性を劣化させることが知られている。
供することにある。すなわち、スパッタリング時の記録
膜の酸化劣化を防止し、記録再生特性に優れた記録膜の
製造方法を提供することにある。
情報記録媒体の製造方法においてスパッタリングガス中
に水素を含むことを特徴としている。
性が劣化するものを対象としている。従って追記型光デ
ィスクまたは消去可能型光ディスクのどちらの型の薄膜
の製造方法にも適用される。
ばTe−Be、 Te−As) Te−8b、 To−
In。
Ts −Ss −Ti。
Te−Go:Toの分散物、例えばTe−C,Te−
C82:多層膜例えば・Sb −Se / Bi −T
o等を挙げることができる。
金の光磁気材料例えばTbFa 、 TbFeCo 。
できる。本発明におけるスフ9ツタリングガスは特・に
制限はないが、経済性や適切なス/Jツタレートが得ら
れることなどの理由からアルゴンが好適である。
ンバー内にスパッタリングガスと別ラインで導入されて
も、混合ガスとして導入されてもどちらでも良い。
酸化防止効果と適切なスフ4ツタV−)を得ることを両
立させるという点から、0.1%〜20チが好適である
。
ぐイラル状案内溝を設けた直径130m、厚み1.2圏
のポリカーボネイト基板上に、 ArとH2ガスの流量
比が1:0.01であるスパッタリングガス中で、DC
スノ臂フッタリング法よシ、Ta 、 Ss 、 Ti
。
した。830 nmの半導体レーザーを用いて出力6
mWでI MHzの反復信号を線速6n4/secで案
内。
傭域30 kHz )とジッターを測定し友。CN比5
1 dB 、ジッター(標準偏差) 7. Oatre
eが得られた。
同条件の実験を行ない、CN比47 dB 、ジッター
(標準偏差) 10.2 n5eeを得た。
ラル状案内溝を設けた直径130■、厚さ1.2閣のポ
リカーボネイト基板上に、Arガスを用いてRFマグネ
トロンスパッタリングにょシ、先ず無アルカリガラスで
あるコーニング7o59の層を500X形成させ、次に
この上に水素を含むスパッタリングがス(流量比Ar
: H2= 1 : 0.01 )と合金ターグツトを
用いてTb25F@bscOyの光磁気記録膜1000
Xt−形成させ、さらにその上に上記と同じ方法でコー
ニング7059の層1000i、i形成させ次。
nmの半導体レーザーを用い、パワー6mW 、 2
MHz 、 duty 50 To 、線速5゜2rr
y’secでパルスを書込んだ後、1.OmW、帯域3
0 kHzで測定したところc/N46 dB 、ジッ
ター(標準偏差)5.3n secが得られた。
以外は同条件で、光磁気ディスクを製造。
B pジッター7、2 n5ecを得た。
ッタリングガス中への水素の導入によシ、記録膜の重要
な特性であるCAとジッターが改善される。導入された
水素がプラズマ中で活性化され、スノJ?ツタリング装
置の槽内に不純物として存在する酸素、酸素含有化合物
あるいはこれらのプラズマ中の反応中間生成物と反応し
てそれらを不活性化し、記録膜中への金属酸化物の混入
を防ぐと考えられる。勿論ここに考察されたメカニズム
、によシ本発明を限定するものではない。
Claims (3)
- (1)スパッタリングによって記録膜を形成する光情報
記録媒体の製造方法において、スパッタリングガス中に
水素を含むことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法
。 - (2)上記記録膜がTeを含む薄膜であることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の光情報記録媒体の製造
方法。 - (3)上記記録膜が希土類金属と遷移金属の合金で構成
されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の光情報記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62277698A JPH01119937A (ja) | 1987-11-02 | 1987-11-02 | 光情報記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62277698A JPH01119937A (ja) | 1987-11-02 | 1987-11-02 | 光情報記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01119937A true JPH01119937A (ja) | 1989-05-12 |
Family
ID=17587061
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62277698A Pending JPH01119937A (ja) | 1987-11-02 | 1987-11-02 | 光情報記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01119937A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5466522A (en) * | 1992-06-26 | 1995-11-14 | Eastman Kodak Company | Cobalt platinum magnetic film and method of fabrication thereof |
-
1987
- 1987-11-02 JP JP62277698A patent/JPH01119937A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5466522A (en) * | 1992-06-26 | 1995-11-14 | Eastman Kodak Company | Cobalt platinum magnetic film and method of fabrication thereof |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20040206 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20040210 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040407 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050405 |
|
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