JPH01135788A - テトラアルコキシシランの製造方法 - Google Patents
テトラアルコキシシランの製造方法Info
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- JPH01135788A JPH01135788A JP29431087A JP29431087A JPH01135788A JP H01135788 A JPH01135788 A JP H01135788A JP 29431087 A JP29431087 A JP 29431087A JP 29431087 A JP29431087 A JP 29431087A JP H01135788 A JPH01135788 A JP H01135788A
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- Japan
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- copper
- tetraalkoxysilane
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- alkali metal
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、テトラアルコキシシランの製造方法に関し、
特に常圧下の反応により、高収率及び高選択率でテトラ
アルコキシシランを得ることができるテトラアルコキシ
シランの製造方法に関する。
特に常圧下の反応により、高収率及び高選択率でテトラ
アルコキシシランを得ることができるテトラアルコキシ
シランの製造方法に関する。
けい素とアルキルアルコールからアルコキシシランを製
造する方法、特にけい素とエタノールからテトラエトキ
シシランを製造する方法は、従来、加圧下又は常圧下の
反応によって行われている。
造する方法、特にけい素とエタノールからテトラエトキ
シシランを製造する方法は、従来、加圧下又は常圧下の
反応によって行われている。
けい素とエタノールを加圧下で反応させる方法として、
特公昭62−17593号及び同62−36519号公
報に、アルカリ触媒の存在下、クラウンエーテル及び/
又は多価アルコールを反応系中に添加してオートクレー
ブ中で反応させる方法が記載されており、特開昭57−
183795号公報には、カルボン酸アルカリ金属塩を
触媒として、オートクレーブ中、300〜520psi
(20〜35atm)の高圧下で反応させる方法が記載
されている。
特公昭62−17593号及び同62−36519号公
報に、アルカリ触媒の存在下、クラウンエーテル及び/
又は多価アルコールを反応系中に添加してオートクレー
ブ中で反応させる方法が記載されており、特開昭57−
183795号公報には、カルボン酸アルカリ金属塩を
触媒として、オートクレーブ中、300〜520psi
(20〜35atm)の高圧下で反応させる方法が記載
されている。
一方、けい素とエタノールを常圧下に反応させる方法と
して、日本国特許登録第1159142号明細書に、け
い素粉束、塩化銅及び塩化ニッケルを熱媒体中に分散さ
せてなる分散反応系にアルキルアルコールを添加してア
ルコキシシランを製造する方法が記載され、特公昭62
−1956号公報には、銅活性化けい素にアルコールと
共にジメチルアミンを加え、流動床における反応によっ
てテトラアルコキシシランを製造する方法が記載されて
いる。
して、日本国特許登録第1159142号明細書に、け
い素粉束、塩化銅及び塩化ニッケルを熱媒体中に分散さ
せてなる分散反応系にアルキルアルコールを添加してア
ルコキシシランを製造する方法が記載され、特公昭62
−1956号公報には、銅活性化けい素にアルコールと
共にジメチルアミンを加え、流動床における反応によっ
てテトラアルコキシシランを製造する方法が記載されて
いる。
しかし、上記前者の加圧下の反応による方法は、100
%の選択率でテトラアルコキシシランを製造することが
できるが、耐圧性のある製造装置を必要とするため、製
造装置の大型化、連続化が困難となり、工業的規模での
テトラアルコキシシランの製造には適していない。また
、後者の常圧下の反応によ条方法は、製造装置の連続化
は容易であるが、副生物が生じるため、テトラアルコキ
シシランの違択率が低く、反応効率が悪いという欠点が
ある。従来、常圧下の反応により、高選択率、高収率で
テトラアルコキシシランを得ることができる製造方法は
なかった。
%の選択率でテトラアルコキシシランを製造することが
できるが、耐圧性のある製造装置を必要とするため、製
造装置の大型化、連続化が困難となり、工業的規模での
テトラアルコキシシランの製造には適していない。また
、後者の常圧下の反応によ条方法は、製造装置の連続化
は容易であるが、副生物が生じるため、テトラアルコキ
シシランの違択率が低く、反応効率が悪いという欠点が
ある。従来、常圧下の反応により、高選択率、高収率で
テトラアルコキシシランを得ることができる製造方法は
なかった。
そこで、本発明の目的は、常圧下の反応により、テトラ
アルコキシシランを高選択率および高収率で得ることが
できるテトラアルコキシシランの製造方法を提供するこ
とにある。
アルコキシシランを高選択率および高収率で得ることが
できるテトラアルコキシシランの製造方法を提供するこ
とにある。
本発明は、上記問題点を解決するものとして、けい素−
銅触体を、アルカリ金属及びアルカリ金属アルコキシド
から選ばれた少なくとも1種の存在下で、アルキルアル
コールと反応させる工程を有するテトラアルコキシシラ
ンの製造方法を提供するものである。
銅触体を、アルカリ金属及びアルカリ金属アルコキシド
から選ばれた少なくとも1種の存在下で、アルキルアル
コールと反応させる工程を有するテトラアルコキシシラ
ンの製造方法を提供するものである。
本発明の方法において使用されるけい素−銅触体は、金
属銅を担持したけい素であり、この触体は、いずれの方
法によって調製されたものでもよ(、特に限定されない
が、例えば銅とけい素とを水素雰囲気中で加熱処理する
方法によって調製することができる。該方法によってけ
い素−銅触体を調製する場合、使用される銅とけい素と
は、通常、けい素粉束と銅化合物の混合物、銅とけい素
の合金粉末などが使用できる。銅とけい素中の銅の含有
量は特に限定されないが、通常、1〜50モル%が好ま
しく、さらに好ましくは10〜20モル%である0w4
とけい素としてけい素粉束と銅化合物を使用する場合、
けい素粉束は一般市販品でよく特に制限されないが、平
均粒径が好ましくは100μ信以下、さらに60uIl
+以下であるものが好ましく、純度が80〜99%のも
のが使用される。銅化合物としては、水素によって還元
可能な銅化合物、例えば塩化第一銅、塩化第二銅、臭化
第一銅、臭化第二銅、ヨウ化第二銅、ヨウ化第二銅、酸
化第一銅、酸化第二銅、硫化第一銅、硫化第二銅などを
挙げることができ、これらは1種単独でも2種以上でも
用いることができる。
属銅を担持したけい素であり、この触体は、いずれの方
法によって調製されたものでもよ(、特に限定されない
が、例えば銅とけい素とを水素雰囲気中で加熱処理する
方法によって調製することができる。該方法によってけ
い素−銅触体を調製する場合、使用される銅とけい素と
は、通常、けい素粉束と銅化合物の混合物、銅とけい素
の合金粉末などが使用できる。銅とけい素中の銅の含有
量は特に限定されないが、通常、1〜50モル%が好ま
しく、さらに好ましくは10〜20モル%である0w4
とけい素としてけい素粉束と銅化合物を使用する場合、
けい素粉束は一般市販品でよく特に制限されないが、平
均粒径が好ましくは100μ信以下、さらに60uIl
+以下であるものが好ましく、純度が80〜99%のも
のが使用される。銅化合物としては、水素によって還元
可能な銅化合物、例えば塩化第一銅、塩化第二銅、臭化
第一銅、臭化第二銅、ヨウ化第二銅、ヨウ化第二銅、酸
化第一銅、酸化第二銅、硫化第一銅、硫化第二銅などを
挙げることができ、これらは1種単独でも2種以上でも
用いることができる。
けい素−銅触体の調製に銅とけい素として銅とけい素の
合金粉末を使用する場合には、該合金粉末としては、例
えば銅系触媒を使用して有機けい素化合物を製造する場
合に生じる廃触体、すなわち例えばメチルクロロシラン
の直接合成工程において生じる廃触体、トリアルコキシ
シランの直接合成工程において生じる廃触体などのいず
れをも使用することができる。この合金粉末の好ましい
粒径は、前記のけい素粉束と同様である。
合金粉末を使用する場合には、該合金粉末としては、例
えば銅系触媒を使用して有機けい素化合物を製造する場
合に生じる廃触体、すなわち例えばメチルクロロシラン
の直接合成工程において生じる廃触体、トリアルコキシ
シランの直接合成工程において生じる廃触体などのいず
れをも使用することができる。この合金粉末の好ましい
粒径は、前記のけい素粉束と同様である。
前記の銅とけい素とを水素雰囲気中で加熱処理すること
により、けい素−銅触体を調製することができるが、こ
の水素雰囲気は、反応器内に水素を充填して密閉した雰
囲気としてもよいが、反応器内に水素を常時、流通させ
て形成した方が、乾燥の点から好ましい。加熱温度は、
一般に200〜450℃、好ましくは250〜300℃
の範囲で選択されるが、けい素粉束と銅化合物を水素雰
囲気中で加熱処理してけい素−銅触体を調製する場合に
は、けい素粉束の粒子表面に、銅が担持されるように、
銅化合物の種類、量等に応じて適宜決定される。
により、けい素−銅触体を調製することができるが、こ
の水素雰囲気は、反応器内に水素を充填して密閉した雰
囲気としてもよいが、反応器内に水素を常時、流通させ
て形成した方が、乾燥の点から好ましい。加熱温度は、
一般に200〜450℃、好ましくは250〜300℃
の範囲で選択されるが、けい素粉束と銅化合物を水素雰
囲気中で加熱処理してけい素−銅触体を調製する場合に
は、けい素粉束の粒子表面に、銅が担持されるように、
銅化合物の種類、量等に応じて適宜決定される。
例えば、銅化合物として塩化第二銅を用いてけい素−銅
触体を調製する場合、加熱温度が250°C未満で加熱
処理して得られたけい素−銅触体を、本発明方法に使用
すると、トリアルコキシシランの副生により、テトラア
ルコキシシランの選択率が低下する。
触体を調製する場合、加熱温度が250°C未満で加熱
処理して得られたけい素−銅触体を、本発明方法に使用
すると、トリアルコキシシランの副生により、テトラア
ルコキシシランの選択率が低下する。
加熱時間は、通常2時間以上が好ましく、ざらに′3時
間以上が好ましい。
間以上が好ましい。
本発明で使用されるけい素−銅触体は、上記の調製方法
によって調製されたものに限定されるものではなく、他
の方法例えば特公昭62−1956号公報に記載の方法
によって調製されたものでもよい。
によって調製されたものに限定されるものではなく、他
の方法例えば特公昭62−1956号公報に記載の方法
によって調製されたものでもよい。
本発明の方法では、上記のけい素〜銅触体は、アルカリ
金属およびアルカリ金属アルコキシドから選ばれた少な
くとも1種の存在下で反応されるが、アルカリ金属及び
/又はアルカリ金属アルコキシドを添加する前に溶媒中
で加熱処理すると、けい素−銅触体の反応性が向上する
ので好ましい。
金属およびアルカリ金属アルコキシドから選ばれた少な
くとも1種の存在下で反応されるが、アルカリ金属及び
/又はアルカリ金属アルコキシドを添加する前に溶媒中
で加熱処理すると、けい素−銅触体の反応性が向上する
ので好ましい。
加熱は必要に応じて攪拌下で行う。使用される溶媒は、
特に制限されるものではなく、通常、沸点が250°C
以上、さらに300°C以上のものが好ましい。また、
通常、この加熱処理に引き続いて、液にアルカリ金属又
はアルカリ金属アルコキシドを添加してけい素−銅触体
は反応されるので、この反応温度において、アルカリ金
属又はアルカリ金属アルコキシドに対して不活性である
溶媒がよく、例えばアルキルナフタレン、アルキルビフ
ェニル等の多環式芳香族炭化水素類、ドデシルベンゼン
等のアルキルベンゼン類、テトラエチレングリコールジ
メチルエーテル、ジフェニルエーテル等のポリエーテル
類などが挙げられる。これらは1種単独でも2種以上で
も使用できる。この溶媒の使用量が少な過ぎると、けい
素−銅触体が十分に溶媒中に分散できず、攪拌が困難と
なるため、均一な反応が不可能となり、逆に使用量が多
過ぎると、過大な反応容積が必要となり、けい素−銅触
体とアルキルアルコールとが十分に接触することができ
ず、反応上不利となる。したがって、溶媒の使用量は、
通常、けい素−銅触体1gに対して1 ml−10Il
、さらに2〜101111が好ましい。このときの加熱
温度は、通常200℃以上が好ましく、さらに好ましく
は250℃以上であり、加熱時間は、通常30分〜1時
間で十分である。加熱時間をこれ以上長くしても反応性
の改善にあまり効果がない。
特に制限されるものではなく、通常、沸点が250°C
以上、さらに300°C以上のものが好ましい。また、
通常、この加熱処理に引き続いて、液にアルカリ金属又
はアルカリ金属アルコキシドを添加してけい素−銅触体
は反応されるので、この反応温度において、アルカリ金
属又はアルカリ金属アルコキシドに対して不活性である
溶媒がよく、例えばアルキルナフタレン、アルキルビフ
ェニル等の多環式芳香族炭化水素類、ドデシルベンゼン
等のアルキルベンゼン類、テトラエチレングリコールジ
メチルエーテル、ジフェニルエーテル等のポリエーテル
類などが挙げられる。これらは1種単独でも2種以上で
も使用できる。この溶媒の使用量が少な過ぎると、けい
素−銅触体が十分に溶媒中に分散できず、攪拌が困難と
なるため、均一な反応が不可能となり、逆に使用量が多
過ぎると、過大な反応容積が必要となり、けい素−銅触
体とアルキルアルコールとが十分に接触することができ
ず、反応上不利となる。したがって、溶媒の使用量は、
通常、けい素−銅触体1gに対して1 ml−10Il
、さらに2〜101111が好ましい。このときの加熱
温度は、通常200℃以上が好ましく、さらに好ましく
は250℃以上であり、加熱時間は、通常30分〜1時
間で十分である。加熱時間をこれ以上長くしても反応性
の改善にあまり効果がない。
本発明方法においては、けい素−銅触体は、アルカリ金
属及びアルカリ金属アルコキシドから選ばれた少なくと
も1種の存在下で反応される。例えば、溶媒中に投入し
たけい素−銅触体に、アルカリ金属及びアルカリ金属ア
ルコキシドから選ばれた少なくとも1種を添加し、撹拌
すればよい。
属及びアルカリ金属アルコキシドから選ばれた少なくと
も1種の存在下で反応される。例えば、溶媒中に投入し
たけい素−銅触体に、アルカリ金属及びアルカリ金属ア
ルコキシドから選ばれた少なくとも1種を添加し、撹拌
すればよい。
使用されるアルカリ金属又はアルカリ金属アルコキシド
としては、t、1SNa、 K 、 Rh又はこれらの
メトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド化
合物等を挙げることができ、好ましくはLi、Na、
K 、 Rb又はこれら金属と原料として使用されるア
ルキルアルコールとのアルカリ金属アルコキシドであり
、特に好ましくはアルキルアルコールとしてエタノール
を使用してテトラエトキシシランを製造する場合には、
アルカリ金属エトキシドを使用するとよい、このアルカ
リ金属又はアルカリ金属アルコキシドの使用量が少な過
ぎると、副生物であるトリアルコキシシランの生成反応
を十分に抑制することができず、テトラアルコキシシラ
ンの選択率が低下し、逆に使用量が過剰であっても、ト
リアルコキシシランの生成反応を抑制する効果に影響を
与えず、はぼ100%の選択率でテトラアルコキシシラ
ンが得られるので、経済的に有効でない。アルカリ金属
及び/又はアルカリ金属アルコキシドは、通常、けい素
−銅触体中のけい素1モルに対して0.05〜0.3モ
ル、さらに0.1〜0.15モル使用するのが好ましい
。
としては、t、1SNa、 K 、 Rh又はこれらの
メトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド化
合物等を挙げることができ、好ましくはLi、Na、
K 、 Rb又はこれら金属と原料として使用されるア
ルキルアルコールとのアルカリ金属アルコキシドであり
、特に好ましくはアルキルアルコールとしてエタノール
を使用してテトラエトキシシランを製造する場合には、
アルカリ金属エトキシドを使用するとよい、このアルカ
リ金属又はアルカリ金属アルコキシドの使用量が少な過
ぎると、副生物であるトリアルコキシシランの生成反応
を十分に抑制することができず、テトラアルコキシシラ
ンの選択率が低下し、逆に使用量が過剰であっても、ト
リアルコキシシランの生成反応を抑制する効果に影響を
与えず、はぼ100%の選択率でテトラアルコキシシラ
ンが得られるので、経済的に有効でない。アルカリ金属
及び/又はアルカリ金属アルコキシドは、通常、けい素
−銅触体中のけい素1モルに対して0.05〜0.3モ
ル、さらに0.1〜0.15モル使用するのが好ましい
。
このアルカリ金属又はアルカリ金属アルコキシドを加え
たのち、溶媒中にけい素−銅触体を十分に分散させるた
め、約1時間撹拌することが好ましい。
たのち、溶媒中にけい素−銅触体を十分に分散させるた
め、約1時間撹拌することが好ましい。
次に、けい素−銅触体をアルキルアルコールと反応させ
る0通常、上記で得られた反応液にアルキルアルコール
を加えて加熱すればよく、これによりアルキルアルコー
ルは、けい素−銅触体中のけい素と反応する。反応温度
が低過ぎると、テトラアルコキシシランの収率が低下し
、高過ぎると溶媒が反応生成物とともに反応系外に留出
し、溶媒が損失し、後で反応生成物と溶媒を分離する工
程が必要となるので、生産上不利となる。したがって、
反応温度は、使用される溶媒の沸点以下とすることが好
ましく、さらに好ましくは溶媒の沸点以下でかつ250
〜300℃の範囲である。
る0通常、上記で得られた反応液にアルキルアルコール
を加えて加熱すればよく、これによりアルキルアルコー
ルは、けい素−銅触体中のけい素と反応する。反応温度
が低過ぎると、テトラアルコキシシランの収率が低下し
、高過ぎると溶媒が反応生成物とともに反応系外に留出
し、溶媒が損失し、後で反応生成物と溶媒を分離する工
程が必要となるので、生産上不利となる。したがって、
反応温度は、使用される溶媒の沸点以下とすることが好
ましく、さらに好ましくは溶媒の沸点以下でかつ250
〜300℃の範囲である。
本発明方法は、アルキルアルコールを使用して、これら
のアルキルアルコールのアルキル基に対応するアルコキ
シ基を有するいずれのテトラアルコキシシランを製造す
る場合にも適用できるが、炭素原子数2〜5のアルキル
基を有するアルキルアルコール、例えばエタノール、1
−プロパツール、2−プロパツール、1−ブクノール、
1−ペンタノール等の製造に適し、特にエタノールを使
用してテトラエトキシシランを製造するのに有効である
。、これらのアルキルアルコールは、一般の市販品を特
に精製することなく、そのまま使用することができる。
のアルキルアルコールのアルキル基に対応するアルコキ
シ基を有するいずれのテトラアルコキシシランを製造す
る場合にも適用できるが、炭素原子数2〜5のアルキル
基を有するアルキルアルコール、例えばエタノール、1
−プロパツール、2−プロパツール、1−ブクノール、
1−ペンタノール等の製造に適し、特にエタノールを使
用してテトラエトキシシランを製造するのに有効である
。、これらのアルキルアルコールは、一般の市販品を特
に精製することなく、そのまま使用することができる。
このアルキルアルコールの使用量は、使用されるけい素
−銅触体中のけい素置に従って、適宜決定されるが、通
常けい素置に対する理論当量の1〜10倍量が好ましく
、さらに好ましくは2〜5倍量である。
−銅触体中のけい素置に従って、適宜決定されるが、通
常けい素置に対する理論当量の1〜10倍量が好ましく
、さらに好ましくは2〜5倍量である。
本発明方法においては、前記工程によって得られた反応
生成物を、常法に従って精製することにより、テトラア
ルコキシシランを得ることができる。
生成物を、常法に従って精製することにより、テトラア
ルコキシシランを得ることができる。
以下、実施例により本発明の詳細な説明する。
実施例1
アルコール導入管、温度計、撹拌器及び生成物留出管を
備えた、内容積500−の反応器に、けい素粉末(純度
98%、平均粒径60μm)を50g仕込み、攪拌しな
がら250″Cで乾燥させた。次に、塩化第二銅を2.
5g入れ、250℃で3時間、系内に水素ガスを流しな
がら攪拌した。水素ガスの流通を止めた後、炭化水素系
溶媒(SAS−296:日本石油化学■製)を220g
加えて、250℃で1時間攪拌した。
備えた、内容積500−の反応器に、けい素粉末(純度
98%、平均粒径60μm)を50g仕込み、攪拌しな
がら250″Cで乾燥させた。次に、塩化第二銅を2.
5g入れ、250℃で3時間、系内に水素ガスを流しな
がら攪拌した。水素ガスの流通を止めた後、炭化水素系
溶媒(SAS−296:日本石油化学■製)を220g
加えて、250℃で1時間攪拌した。
そののち、金属ナトリウムを7g添加し、攪拌しながら
、1時間加熱した。生成物留出管の出口には、冷却器を
取付け、留出してくる反応生成物及び未反応アルコール
を凝縮、捕集できるようにした。
、1時間加熱した。生成物留出管の出口には、冷却器を
取付け、留出してくる反応生成物及び未反応アルコール
を凝縮、捕集できるようにした。
次いで、アルコール導入管からエタノールヲ30d/h
の一定流量で供給し、反応温度を250〜255°Cの
範囲に保って10時間反応させたところ、225gの留
出物を得た。この留出物をガスクロマトグラフィーにか
けたところ、テトラエトキシシランが106 g含まれ
ていることがわかった。その結果、テトラエトキシシラ
ンの収率は47%、選択率は100%であった。
の一定流量で供給し、反応温度を250〜255°Cの
範囲に保って10時間反応させたところ、225gの留
出物を得た。この留出物をガスクロマトグラフィーにか
けたところ、テトラエトキシシランが106 g含まれ
ていることがわかった。その結果、テトラエトキシシラ
ンの収率は47%、選択率は100%であった。
実施例2
実施例1で使用したのと同じ反応器に、銅を5モル%含
んだけい素合、金粉末(純度93%、平均粒径50μ=
)を50g仕込み、250℃で3時間、系内に水素ガス
を流しながら攪拌した。水素ガスを止めた後、炭化水素
系溶媒(SMS−296:日本石油化学■製)を220
g入れて、250°Cで1時間撹拌した。
んだけい素合、金粉末(純度93%、平均粒径50μ=
)を50g仕込み、250℃で3時間、系内に水素ガス
を流しながら攪拌した。水素ガスを止めた後、炭化水素
系溶媒(SMS−296:日本石油化学■製)を220
g入れて、250°Cで1時間撹拌した。
そののち、金属ナトリウム7gを添加し、攪拌しながら
1時間加熱した。
1時間加熱した。
次に、アルコール導入管からエタノールを30!d/h
の一定流量で供給し、反応温度を250〜255°Cの
範囲に保って3時間反応させたところ、69gの留出物
を得た。
の一定流量で供給し、反応温度を250〜255°Cの
範囲に保って3時間反応させたところ、69gの留出物
を得た。
この留出物をガスクロマトグラフィーにかけたところテ
トラエトキシシランが24g、l−リエトキシシランが
0.3 g含まれていることがわかった。
トラエトキシシランが24g、l−リエトキシシランが
0.3 g含まれていることがわかった。
その結果、テトラエトキシシランの収率は35%、選択
率は98%であった。
率は98%であった。
比較例1
金属ナトリウムを添加しない以外は実施例1と同様にし
て218gの留出物を得た。この留出物をガスクロマト
グラフィーにかけたところ、テトラエトキシシランがL
og、)リエトキシシランが98g含まれていることが
わかった。その結果、テトラエトキシシランの収率は4
.6%、選択率は7.4%であった。
て218gの留出物を得た。この留出物をガスクロマト
グラフィーにかけたところ、テトラエトキシシランがL
og、)リエトキシシランが98g含まれていることが
わかった。その結果、テトラエトキシシランの収率は4
.6%、選択率は7.4%であった。
比較例2
実施例1で使用したものと同じ反応器に、けいけい素粉
末(純度98%、平均粒径60μl11)を50g、テ
トラエトキシシランを220g及び金属ナトリウムを7
g仕込み、撹拌しながら反応器内の温度を170 ’C
まで昇温させた。温度を170℃で1時間保持したのち
、エタノールを30d/hの一定流量で供給したが、反
応は進行せず、反応器内の温度が150°Cまで低下し
た。
末(純度98%、平均粒径60μl11)を50g、テ
トラエトキシシランを220g及び金属ナトリウムを7
g仕込み、撹拌しながら反応器内の温度を170 ’C
まで昇温させた。温度を170℃で1時間保持したのち
、エタノールを30d/hの一定流量で供給したが、反
応は進行せず、反応器内の温度が150°Cまで低下し
た。
比較例3
テトラエトキシシランの代わりに、炭化水素系溶媒(S
MS−296:日本石油化学■製)を用いた以外は、比
較例2と同様にして、反応温度250°Cで反応を試み
たところ、20gの留出物が得られた。この留出物をガ
スクロマトグラフィーにかけたところ、テトラエトキシ
シランが1.2g、エタノールが18.7 g含まれて
いた。その結果、テトラエトキシシランの収率は6%で
あった。
MS−296:日本石油化学■製)を用いた以外は、比
較例2と同様にして、反応温度250°Cで反応を試み
たところ、20gの留出物が得られた。この留出物をガ
スクロマトグラフィーにかけたところ、テトラエトキシ
シランが1.2g、エタノールが18.7 g含まれて
いた。その結果、テトラエトキシシランの収率は6%で
あった。
比較例4
実施例1で使用したものと同じ反応器に、炭化水素系溶
媒(SMS−296:日本石油化学■製)を200g、
けい素粉束(純度98%、平均粒径60μm)を100
g入れ、攪拌してけい素粉束を懸濁させた。
媒(SMS−296:日本石油化学■製)を200g、
けい素粉束(純度98%、平均粒径60μm)を100
g入れ、攪拌してけい素粉束を懸濁させた。
懸濁液を攪拌しながら加熱し、温度が約230°Cに到
ったところで、触媒として塩化第一銅を2.5g及び塩
化ニッケルを2.5g添加し、温度を230℃に5時間
保持した。次に、温度を230 ”Cに保持しながら、
エタノールを30d/hの一定流量で供給し、10時間
反応させたところ、220gの留出物を得た。この留出
物をガスクロマトグラフィーにかけたところ、テトラエ
トキシシランが51g、トリエトキシシランが63g含
まれていることがわかった。その結果、テトラエトキシ
シランの収率は23%、選択率は39%であった。
ったところで、触媒として塩化第一銅を2.5g及び塩
化ニッケルを2.5g添加し、温度を230℃に5時間
保持した。次に、温度を230 ”Cに保持しながら、
エタノールを30d/hの一定流量で供給し、10時間
反応させたところ、220gの留出物を得た。この留出
物をガスクロマトグラフィーにかけたところ、テトラエ
トキシシランが51g、トリエトキシシランが63g含
まれていることがわかった。その結果、テトラエトキシ
シランの収率は23%、選択率は39%であった。
本発明のテトラアルコキシシランの製造方法は常圧下の
反応により、高い収率及び選択率でテトラアルコキシシ
ランを得ることができる。装置、設備等の費用がかから
ない常圧反応器を使用することができ、高い生産性で連
続生産が可能となり、工業的な規模の生産において有効
である。
反応により、高い収率及び選択率でテトラアルコキシシ
ランを得ることができる。装置、設備等の費用がかから
ない常圧反応器を使用することができ、高い生産性で連
続生産が可能となり、工業的な規模の生産において有効
である。
代理人 弁理士 岩見谷 周志
Claims (1)
- けい素−銅触体を、アルカリ金属及びアルカリ金属アル
コキシドから選ばれた少なくとも1種の存在下で、アル
キルアルコールと反応させる工程を有するテトラアルコ
キシシランの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29431087A JPH01135788A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | テトラアルコキシシランの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29431087A JPH01135788A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | テトラアルコキシシランの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01135788A true JPH01135788A (ja) | 1989-05-29 |
Family
ID=17806039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29431087A Pending JPH01135788A (ja) | 1987-11-20 | 1987-11-20 | テトラアルコキシシランの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01135788A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1111926A (ja) * | 1997-06-20 | 1999-01-19 | Mitsui Chem Inc | 銅−珪素合金が珪素粉末表面に高度に分散した珪素粉末及びその製造方法 |
-
1987
- 1987-11-20 JP JP29431087A patent/JPH01135788A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1111926A (ja) * | 1997-06-20 | 1999-01-19 | Mitsui Chem Inc | 銅−珪素合金が珪素粉末表面に高度に分散した珪素粉末及びその製造方法 |
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