JPH0115958Y2 - - Google Patents
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- JPH0115958Y2 JPH0115958Y2 JP1982157991U JP15799182U JPH0115958Y2 JP H0115958 Y2 JPH0115958 Y2 JP H0115958Y2 JP 1982157991 U JP1982157991 U JP 1982157991U JP 15799182 U JP15799182 U JP 15799182U JP H0115958 Y2 JPH0115958 Y2 JP H0115958Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diaphragm
- fixed
- main body
- seal plate
- edge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Diaphragms And Bellows (AREA)
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、差圧伝送器等の受圧素子やレンジス
プリング等として用いられるダイアフラムを機器
本体に固定する構造に関する。[Detailed Description of the Invention] The present invention relates to a structure for fixing a diaphragm used as a pressure receiving element such as a differential pressure transmitter or a range spring to a device body.
周知のように、差圧伝送器や圧力伝送器等にお
いては、被測定流体の圧力を受圧するための受圧
素子や被測定圧力を検出するためのレンジスプリ
ング等として、弾性変形可能なダイアフラムが用
いられている。 As is well known, in differential pressure transmitters, pressure transmitters, etc., elastically deformable diaphragms are used as pressure receiving elements to receive the pressure of the fluid to be measured, range springs to detect the pressure to be measured, etc. It is being
この種のダイアフラムを用いた機器の一例とし
て、第1図に半導体式差圧伝送器を示す。図につ
いて説明すると、符号1は本体、2a,2bは受
圧ダイアフラム、3はセンターダイアフラム、4
は半導体感圧素子である。 As an example of a device using this type of diaphragm, FIG. 1 shows a semiconductor differential pressure transmitter. To explain the figures, reference numeral 1 is the main body, 2a and 2b are pressure receiving diaphragms, 3 is a center diaphragm, and 4 is a center diaphragm.
is a semiconductor pressure sensitive element.
本体1は、円柱状の胴部1aとこの胴部1aの
外周部に穿設された首部1bとからなつている。
胴部1aは、一側部に断面円形状の凹部5aが形
成された第1の部材5と、この凹部5aに嵌合さ
れた第2の部材6とからなつている。これら第1
及び第2の部材5,6の対向する面には、それぞ
れ波状の凹部5b,6bが形成されており、前記
センターダイアフラム3は、これら凹部5b,6
bの間に配置され、その周縁部で本体1に固定さ
れている。そして、胴部1aの内部には、センタ
ーダイアフラム3により区画された一対の受圧室
8a,8bが形成されている。 The main body 1 consists of a cylindrical body 1a and a neck 1b bored in the outer periphery of the body 1a.
The body portion 1a includes a first member 5 having a recess 5a having a circular cross section formed in one side thereof, and a second member 6 fitted into the recess 5a. These first
Wave-like recesses 5b, 6b are formed on opposing surfaces of the second members 5, 6, respectively, and the center diaphragm 3 is formed in these recesses 5b, 6.
b, and is fixed to the main body 1 at its peripheral edge. A pair of pressure receiving chambers 8a and 8b partitioned by a center diaphragm 3 are formed inside the body portion 1a.
また、胴部1aの両側部には、それぞれ凹状の
波状ネスト9a,9bが形成され、更にこれらの
ネスト9a,9bを塞ぐように前記受圧ダイアフ
ラム2a,2bがそれぞれの周縁部で本体1に固
定されている。そして、受圧ダイアフラム2a,
2bにより閉塞されたネスト9a,9bの内部と
前記受圧室8a,8bとの間が、それぞれ導圧孔
10a,10bにより連通されている。 Furthermore, concave wavy nests 9a and 9b are formed on both sides of the body 1a, and the pressure receiving diaphragms 2a and 2b are fixed to the main body 1 at their respective peripheral edges so as to close these nests 9a and 9b. has been done. And the pressure receiving diaphragm 2a,
The insides of the nests 9a, 9b closed by the nests 2b are communicated with the pressure receiving chambers 8a, 8b through pressure guiding holes 10a, 10b, respectively.
また、前記首部1bの内部には、圧力検出素子
として半導体感圧素子4が設けられると共に、こ
の半導体感圧素子4によつて区画された一対の感
圧室12a,12bが形成されている。これらの
感圧室12a,12bは、本体1に形成された導
圧路13a,13bによつてそれぞれ前記各受圧
室8a,8bと連通されている。 Further, inside the neck portion 1b, a semiconductor pressure sensitive element 4 is provided as a pressure detection element, and a pair of pressure sensitive chambers 12a and 12b partitioned by the semiconductor pressure sensitive element 4 are formed. These pressure sensing chambers 12a, 12b are communicated with the pressure receiving chambers 8a, 8b, respectively, through pressure guiding paths 13a, 13b formed in the main body 1.
そして、本体1内部の受圧ダイアフラム2a,
2bにより閉塞された空間には、圧力伝達媒体と
して非圧縮性の封入流体が充填されている。 A pressure receiving diaphragm 2a inside the main body 1,
The space closed by 2b is filled with an incompressible sealed fluid as a pressure transmission medium.
上記の差圧伝送器における従来のダイアフラム
の固定構造を、センターダイアフラム3を例とし
て説明する。第2図は、第1図中の2点鎖線で囲
んだ部分Aの拡大図である。この図に示すよう
に、センターダイアフラム3は、第1の部材5の
凹部5bの周縁部に密接された状態で、凹部5b
の端縁から所定寸法外方を電子ビーム溶接等によ
り固定されている。 A conventional diaphragm fixing structure in the above differential pressure transmitter will be explained using the center diaphragm 3 as an example. FIG. 2 is an enlarged view of a portion A surrounded by a two-dot chain line in FIG. As shown in this figure, the center diaphragm 3 is in close contact with the peripheral edge of the recess 5b of the first member 5, and
A predetermined distance outward from the edge is fixed by electron beam welding or the like.
しかして、上記の差圧伝送器において、受圧ダ
イアフラム2a,2bに被測定圧力PH,PLが加
えられると、これらの圧力PH,PLは封入流体を
介してセンターダイアフラム3の両面にそれぞれ
伝達される。これに伴つてセンターダイアフラム
3が上記圧力PH,PLの差圧に対応する量だけ弾
性変形し、各受圧室8a,8b内部が、それぞれ
上記圧力PH,PLとなる。これと同時に、圧力PH,
PLは導圧路13a,13bを通して半導体感圧
素子4の両面にそれぞれ伝達され、この感圧素子
4によつて上記圧力PH,PLの差圧が検出される。 Therefore, in the differential pressure transmitter described above, when the measured pressures P H and P L are applied to the pressure receiving diaphragms 2a and 2b, these pressures P H and P L are applied to both sides of the center diaphragm 3 via the sealed fluid. Each is transmitted. As a result, the center diaphragm 3 is elastically deformed by an amount corresponding to the pressure difference between the pressures P H and PL , and the pressures P H and PL are applied to the interiors of the pressure receiving chambers 8a and 8b, respectively. At the same time, the pressure P H ,
P L is transmitted to both sides of the semiconductor pressure sensing element 4 through the pressure guiding paths 13a and 13b, and the pressure sensing element 4 detects the differential pressure between the pressures P H and PL .
ところで、上記のような差圧伝送器に用いられ
ているセンターダイアフラム3は、上述のように
測定動作において弾性変形する。ところが、従来
のダイアフラムの固定構造によると、第2図に示
すようにセンターダイアフラム3が第1の部材5
の凹部5bに向けて変形する場合には、その動作
の支点が凹部5bの端縁(図中のB点)となり、
一方第2の部材6の凹部6bに向けて変形する場
合には、支点が溶接部分(図中のC点)となる。
このため、センターダイアフラム3の動作の支点
が変位方向によつて異なり、センターダイアフラ
ム3が中立位置近傍で変位するときの差圧伝送器
の出力のリニアリテイが悪くなるという欠点があ
つた。 By the way, the center diaphragm 3 used in the differential pressure transmitter described above is elastically deformed during the measurement operation as described above. However, according to the conventional diaphragm fixing structure, the center diaphragm 3 is attached to the first member 5 as shown in FIG.
When deforming toward the recess 5b, the fulcrum of the movement is the edge of the recess 5b (point B in the figure),
On the other hand, when deforming toward the recess 6b of the second member 6, the fulcrum becomes the welded portion (point C in the figure).
Therefore, the fulcrum of the operation of the center diaphragm 3 differs depending on the direction of displacement, resulting in a drawback that the linearity of the output of the differential pressure transmitter deteriorates when the center diaphragm 3 is displaced near the neutral position.
本考案は、上記従来のダイアフラムの固定構造
の欠点を除去し、ダイアフラムの変位動作の支点
が変位方向によらずに一定となる固定構造を提供
することを目的としてなされたものである。 The present invention has been made for the purpose of eliminating the drawbacks of the conventional diaphragm fixing structure and providing a fixing structure in which the fulcrum of the diaphragm displacement operation is constant regardless of the direction of displacement.
以下、本考案の実施例を図面を参照して説明す
る。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第3図は、本考案を第1図に示す差圧伝送器の
センターダイアフラム3に適用した場合の実施例
を示す図である。この図において、第1図及び第
2図と同一構成要素には、同一符号を付してその
説明を省略する。 FIG. 3 is a diagram showing an embodiment in which the present invention is applied to the center diaphragm 3 of the differential pressure transmitter shown in FIG. 1. In this figure, the same components as in FIGS. 1 and 2 are given the same reference numerals and their explanations will be omitted.
第3図に示す固定構造と第2図に示す構造との
異なる点は、センターダイアフラム3がその周縁
部をシールプレート30と本体1との間に挾み込
まれた状態でシールプレート30と共に本体1に
溶接固定されている点である。 The difference between the fixing structure shown in FIG. 3 and the structure shown in FIG. 1 is fixed by welding.
このシールプレート30は、金属により環状に
形成されたものであつて、その内周縁部が、前記
センターダイアフラム3を固定するための固定端
縁部30aとなされ、本体1の凹部5bの開口縁
部の形状と合致するように形成されており、か
つ、この内周縁部に、固定端縁部30aより内方
へ向けて延設された薄肉のつば部31が形成され
ている。 The seal plate 30 is annularly formed of metal, and its inner peripheral edge serves as a fixed edge 30a for fixing the center diaphragm 3, and the opening edge of the recess 5b of the main body 1 A thin collar portion 31 is formed on the inner circumferential edge thereof and extends inward from the fixed end edge portion 30a.
そしてこのシールプレート30は、充分な剛性
を有しており、第3図に示すように同シールプレ
ート30と本体1の第1の部材5との間にセンタ
ーダイアフラム3を挾み込んだ状態で配設され、
シールプレート30の外側面から本体1に向け、
かつ、固定端縁部30aに沿つて施される電子ビ
ーム溶接によつて前記センターダイアフラム3と
ともに前記本体1へ固定されている。 This seal plate 30 has sufficient rigidity, and as shown in FIG. arranged,
From the outer surface of the seal plate 30 toward the main body 1,
Moreover, it is fixed to the main body 1 together with the center diaphragm 3 by electron beam welding along the fixed end edge 30a.
このような溶接固定操作に際し、つば部31に
より、シールプレート30の内周部に溶接時のダ
レの発生防止作用と、電子ビームがセンターダイ
アフラム3に直接照射されてしまうことを防止す
る作用が得られる。 During such a welding and fixing operation, the flange portion 31 has the effect of preventing the inner peripheral portion of the seal plate 30 from sagging during welding and the effect of preventing the center diaphragm 3 from being directly irradiated with the electron beam. It will be done.
しかして、本実施例のダイアフラムの固定構造
によれば、センターダイアフラム3は、その変位
動作の支点が、本体1の凹部5bの開口縁部とシ
ールプレート30の固定端縁部30aとにより挾
まれた部分として明確に定められることとなる。 According to the diaphragm fixing structure of this embodiment, the fulcrum of the displacement movement of the center diaphragm 3 is sandwiched between the opening edge of the recess 5b of the main body 1 and the fixed end edge 30a of the seal plate 30. This will be clearly defined as a part of the
したがつて、本実施例が適用された差圧伝送器
においては、センターダイアフラム3がその中立
位置近傍で安定に動作し、安定した出力特性が得
られる。 Therefore, in the differential pressure transmitter to which this embodiment is applied, the center diaphragm 3 operates stably near its neutral position, and stable output characteristics can be obtained.
また、つば部31の作用により、溶接ダレの発
生が防止され、かつ、電子ビームのセンターダイ
アフラム3への直接的な照射が防止されることか
ら、溶接位置をセンターダイアフラム3の支点に
極力近付けることができるから、高い固定強度が
得られると共に、支点位置が一層明確化に定めら
れる。 In addition, the action of the flange portion 31 prevents welding sag from occurring and prevents direct irradiation of the electron beam to the center diaphragm 3, so the welding position should be placed as close to the fulcrum of the center diaphragm 3 as possible. As a result, high fixing strength can be obtained and the fulcrum position can be more clearly defined.
なお、上記実施例においは、本考案を差圧伝送
器のセンターダイアフラム3に対して適用した例
について説明したが、本体1の側部に固定される
受圧ダイアフラム2a,2bに対して適用するこ
ともでき、また、差圧伝送器に限らず圧力伝送器
や他のダイアフラムを使用する機器にも適用でき
ることは言うまでもない。 In the above embodiment, the present invention is applied to the center diaphragm 3 of a differential pressure transmitter, but it can also be applied to pressure receiving diaphragms 2a and 2b fixed to the side of the main body 1. Needless to say, the present invention can be applied not only to differential pressure transmitters but also to pressure transmitters and other devices using diaphragms.
以上説明したように、本考案によるダイアフラ
ムの固定構造は、ダイアフラムを、機器本体の開
口部の周縁部と、固定端縁部の形状が前記孔部ま
たは凹部の開口部の形状と合致するように形成さ
れ、かつ、その内周部に前記固定端縁部より内方
へ向けて薄肉つば部が延設されたシールプレート
との間に挾み込み、前記シールプレートと前記ダ
イアフラムとを前記本体にシールプレートの固定
端縁部に沿つて電子ビーム溶接により固定したも
のであるから次のような優れた効果を奏する。 As explained above, the diaphragm fixing structure according to the present invention fixes the diaphragm so that the shape of the peripheral edge of the opening of the device body and the shape of the fixed edge match the shape of the opening of the hole or recess. and a seal plate having a thin-walled flange extending inward from the fixed end edge on the inner periphery thereof, and the seal plate and the diaphragm are attached to the main body. Since the seal plate is fixed along the fixed edge portion by electron beam welding, the following excellent effects can be achieved.
ダイアフラムの変位動作の支点が前記凹部また
は孔部の開口部とシールプレート内周の固定端縁
部とに挾まれた位置に定まり、したがつて、ダイ
アフラムの変位方向によらずに支点が定まつて、
中立位置近傍でも動作が安定する。 The fulcrum of the displacement movement of the diaphragm is determined at a position sandwiched between the opening of the recess or hole and the fixed end edge of the inner periphery of the seal plate, and therefore the fulcrum is determined regardless of the direction of displacement of the diaphragm. hand,
Operation is stable even near the neutral position.
この結果、本考案を適用した差圧伝送器等の機
器においては、高精度の出力特性を得ることがで
きる。 As a result, highly accurate output characteristics can be obtained in devices such as differential pressure transmitters to which the present invention is applied.
また、シールプレートの内周部に形成したつば
部の作用により、シールプレート、ダイアフラム
および本体との溶接固定位置を、ダイアフラムの
支点に近付けることができ、これによつて、固定
強度の向上を図ることができ、さらに、シールプ
レートへの要求剛性を小さくして、その薄肉化を
可能とする。 In addition, due to the action of the flange formed on the inner circumference of the seal plate, the welding and fixing position of the seal plate, diaphragm, and main body can be moved closer to the fulcrum of the diaphragm, thereby improving the fixing strength. Furthermore, the rigidity required for the seal plate can be reduced, making it possible to make the seal plate thinner.
第1図は、ダイアフラムを用いた機器の一例と
しての差圧伝送器を示す断面図、第2図は第1図
中の2点鎖線で囲んだ部分Aの拡大図であつて、
従来の固定構造を示す要部断面図、第3図は本考
案の一実施例を示す要部断面図である。
1……本体(機器本体)、3……センターダイ
アフラム(ダイアフラム)、5b,6b……凹部、
30……シールプレート、30a……固定端縁
部、31……つば部(薄肉つば部)。
FIG. 1 is a sectional view showing a differential pressure transmitter as an example of a device using a diaphragm, and FIG. 2 is an enlarged view of a portion A surrounded by a two-dot chain line in FIG.
FIG. 3 is a sectional view of a main part showing a conventional fixing structure, and FIG. 3 is a sectional view of a main part showing an embodiment of the present invention. 1... Main body (equipment main body), 3... Center diaphragm (diaphragm), 5b, 6b... Recessed part,
30...Seal plate, 30a...Fixed edge portion, 31...Brim portion (thin brim portion).
Claims (1)
を閉塞するように配設されたダイアフラムを、前
記開口部の周縁部に沿つて前記本体に固定してな
るダイアフラムの固定構造において、前記ダイア
フラムを、前記開口部の周縁部と、固定端縁部の
形状が前記孔部または凹部の開口部の形状と合致
するように形成され、かつ、その内周部に前記固
定端縁部より内方へ向けて薄肉つば部が延設され
たシールプレートとの間に挾み込み、前記シール
プレートと前記ダイアフラムとを前記本体にシー
ルプレートの固定端縁部に沿つて電子ビーム溶接
により固定してなることを特徴とするダイアフラ
ムの固定構造。 A diaphragm fixing structure in which a diaphragm arranged to close an opening of a hole or a recess bored in a device main body is fixed to the main body along a peripheral edge of the opening, wherein the diaphragm is formed such that the shape of the peripheral edge of the opening and the fixed edge match the shape of the opening of the hole or recess, and that the inner circumference is formed so that the shape of the fixed edge is inward from the fixed edge. and a seal plate having a thin flange extending toward the main body, and the seal plate and the diaphragm are fixed to the main body by electron beam welding along the fixed edge of the seal plate. A fixed diaphragm structure characterized by:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15799182U JPS5962357U (en) | 1982-10-19 | 1982-10-19 | Diaphragm fixed structure |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15799182U JPS5962357U (en) | 1982-10-19 | 1982-10-19 | Diaphragm fixed structure |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5962357U JPS5962357U (en) | 1984-04-24 |
| JPH0115958Y2 true JPH0115958Y2 (en) | 1989-05-11 |
Family
ID=30348168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15799182U Granted JPS5962357U (en) | 1982-10-19 | 1982-10-19 | Diaphragm fixed structure |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5962357U (en) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5017655U (en) * | 1973-06-12 | 1975-02-26 |
-
1982
- 1982-10-19 JP JP15799182U patent/JPS5962357U/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5962357U (en) | 1984-04-24 |
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