JPH01173156U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH01173156U JPH01173156U JP6771288U JP6771288U JPH01173156U JP H01173156 U JPH01173156 U JP H01173156U JP 6771288 U JP6771288 U JP 6771288U JP 6771288 U JP6771288 U JP 6771288U JP H01173156 U JPH01173156 U JP H01173156U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- reactor
- core tube
- tube
- gas transport
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案のＣＶＤ装置の一例を示す縦断
面図、第２図、第３図は同装置の炉心管部分の他
例の説明図、第４図、第５図は従来のＣＶＤ装置
の説明図である。 １は反応炉、２は炉心管、３は原料加熱部、４
は原料ガス輸送部、５は原料管、６は反応炉加熱
用ヒータ、７は原料加熱用ヒータ。
面図、第２図、第３図は同装置の炉心管部分の他
例の説明図、第４図、第５図は従来のＣＶＤ装置
の説明図である。 １は反応炉、２は炉心管、３は原料加熱部、４
は原料ガス輸送部、５は原料管、６は反応炉加熱
用ヒータ、７は原料加熱用ヒータ。
Claims (1)
- 反応炉１に炉心管２が一体に形成され、同炉心
管２内に原料加熱部３と原料ガス輸送部４とが一
体化された原料管５が挿入され、反応炉１の外周
に反応炉加熱用ヒータ６が設けられ、炉心管２の
外周に原料加熱用ヒータ７が設けられ、前記原料
管５の原料ガス輸送部４を反応炉１の内側に突出
させて同ガス輸送部４が反応炉加熱用ヒータ６に
よつても保温されるようにしたことを特徴とする
ＣＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6771288U JPH01173156U (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6771288U JPH01173156U (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01173156U true JPH01173156U (ja) | 1989-12-08 |
Family
ID=31293071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6771288U Pending JPH01173156U (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01173156U (ja) |
-
1988
- 1988-05-23 JP JP6771288U patent/JPH01173156U/ja active Pending