JPH01300443A - 情報記録媒体用基板の製造方法およびこの方法により得られた基板 - Google Patents
情報記録媒体用基板の製造方法およびこの方法により得られた基板Info
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- JPH01300443A JPH01300443A JP13206088A JP13206088A JPH01300443A JP H01300443 A JPH01300443 A JP H01300443A JP 13206088 A JP13206088 A JP 13206088A JP 13206088 A JP13206088 A JP 13206088A JP H01300443 A JPH01300443 A JP H01300443A
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、光磁気記録媒体や光記録媒体等の情報記録媒
体に用いられる基板の製造方法およびこのb沫により得
られたU板に関する。
体に用いられる基板の製造方法およびこのb沫により得
られたU板に関する。
[従来の技術]
光磁気記録媒体や光記録媒体等の情報記録媒体には、こ
れら記録媒体に情報を書き込む際、あるいは、これら記
録媒体に記録された情報を読み取る際に、広ぎ込み手段
もしくは読み取り手段が記録媒体の所定の部位を正確に
走査(トラッキング)できるようにするため、これら記
録媒体を橘成する基板として、あらかじめ表面に案内用
の凹凸パターン(以下案内溝という)等を形成したもの
が用いられている。
れら記録媒体に情報を書き込む際、あるいは、これら記
録媒体に記録された情報を読み取る際に、広ぎ込み手段
もしくは読み取り手段が記録媒体の所定の部位を正確に
走査(トラッキング)できるようにするため、これら記
録媒体を橘成する基板として、あらかじめ表面に案内用
の凹凸パターン(以下案内溝という)等を形成したもの
が用いられている。
このような案内面を′4Fiづる情報記録媒体用基板の
製造す法としては従来、例えば、以下の2つの7+法が
あった。
製造す法としては従来、例えば、以下の2つの7+法が
あった。
第1の方法は、ダイレクトエツチング法と呼ばれるもの
であり、ガラス基板表面にレジスト膜(感光性樹脂膜)
を塗イわした後、該レジスト膜にレーザーカッティング
等の手段により、案内溝に対応づる潜像を形成し、次い
で該潜像を形成したレジスト膜を現像処理してレジスト
パターンを形成さゼ、しかる後、レジストパターン付き
ガラス!!根にドライエツチングを施した後、レジスト
剥Hすることにより、前記ガラス基板の表面に案内面が
形成された情報記録tR体用基板を得るものである(例
えば、特開昭59−210547号公報参照)。
であり、ガラス基板表面にレジスト膜(感光性樹脂膜)
を塗イわした後、該レジスト膜にレーザーカッティング
等の手段により、案内溝に対応づる潜像を形成し、次い
で該潜像を形成したレジスト膜を現像処理してレジスト
パターンを形成さゼ、しかる後、レジストパターン付き
ガラス!!根にドライエツチングを施した後、レジスト
剥Hすることにより、前記ガラス基板の表面に案内面が
形成された情報記録tR体用基板を得るものである(例
えば、特開昭59−210547号公報参照)。
また第2の方法は、いわゆる2Paと呼ばれるものであ
り、表面に案内面に対応する凹凸パターン等を形成した
金へ1((以下、スタンパ−という)の表面に液状の感
光性樹脂(フォトポリマー)をのせ、次に、ガラス基板
を前記スタンパ−の表面に押圧してスタンピングし、ガ
ラス基板とスタンパ−とで前記感光性樹脂を挟み込むよ
うにしてこの感光性樹脂が前記スタンパ−の凹凸パター
ンを完全に埋め尽くすとともに、前記カラス基板の表面
に一様に密着するようにし、次いで、前記ガラス基板の
裏面から紫外線を照剣して前記感光性樹脂を硬化させ、
しかる後、前記スタンパ−を剥離させて、ガラス基板表
面に凹凸パターンが形成された樹脂が密着された、2層
M4造の情報記録媒体用基板を寄るものである。
り、表面に案内面に対応する凹凸パターン等を形成した
金へ1((以下、スタンパ−という)の表面に液状の感
光性樹脂(フォトポリマー)をのせ、次に、ガラス基板
を前記スタンパ−の表面に押圧してスタンピングし、ガ
ラス基板とスタンパ−とで前記感光性樹脂を挟み込むよ
うにしてこの感光性樹脂が前記スタンパ−の凹凸パター
ンを完全に埋め尽くすとともに、前記カラス基板の表面
に一様に密着するようにし、次いで、前記ガラス基板の
裏面から紫外線を照剣して前記感光性樹脂を硬化させ、
しかる後、前記スタンパ−を剥離させて、ガラス基板表
面に凹凸パターンが形成された樹脂が密着された、2層
M4造の情報記録媒体用基板を寄るものである。
[弁明が解決しようとする課題]
しかしながら、前記第1の方法(タイレクトlップング
>1. )は、カラス11のコーツチングにより案内溝
が形成される1=めに、案内溝の底面を平滑にすること
が回動′であり、さらにレーザーカッティング、現像、
トライエツチング■稈を順次実施する必要があり、か゛
つこれらの工程を実施するための装置が高価であるので
作業性および1産コストの点て牝しく不利であるという
欠点を有している。
>1. )は、カラス11のコーツチングにより案内溝
が形成される1=めに、案内溝の底面を平滑にすること
が回動′であり、さらにレーザーカッティング、現像、
トライエツチング■稈を順次実施する必要があり、か゛
つこれらの工程を実施するための装置が高価であるので
作業性および1産コストの点て牝しく不利であるという
欠点を有している。
また、前記第2の方法(2P法)は、1qられた情報記
録媒体用基板について、耐熱性、硬度、耐久性、カラス
基板と感光性樹脂との接猶竹、スタンパ−からの剥離性
等の点で問題があり、記録密度の飛躍的増大が要請され
る近年において、それに十分にこたえる高品質の情報記
録媒体用基板を得ることは必ずしも容易ではないという
欠点を有している。またスタンパ−の作製に費用と時間
がかかるという欠点も有している。
録媒体用基板について、耐熱性、硬度、耐久性、カラス
基板と感光性樹脂との接猶竹、スタンパ−からの剥離性
等の点で問題があり、記録密度の飛躍的増大が要請され
る近年において、それに十分にこたえる高品質の情報記
録媒体用基板を得ることは必ずしも容易ではないという
欠点を有している。またスタンパ−の作製に費用と時間
がかかるという欠点も有している。
従って本発明の課題は、上記従来技術の欠点を解消し、
情報記録媒体用基板に要求される各種性質を満足する情
報記録媒体用基板を11良く低コス1〜で得ることが可
能な情報記録媒体用基板の製造り法およびこの方法によ
り寄られた情報記録媒体用基板を提供づることにある1
゜ [課題を解決するための手段] 本発明は上記の課題を達成づるためになされたものであ
り、本発明の情報記録媒体用基板の製造プ〕法は、透光
性基板上に感光性樹脂膜を形成し、次いで該感光性樹脂
膜に、最終的に得られる情報記録媒体用基板の東内佑に
対応Mる潜像を形成し、その後、該潜像を形成した感光
性樹脂膜を現像処理して感光性樹脂パターンを形成し、
該感光性樹脂パターンにより前記案内溝を形成すること
を特徴とする。
情報記録媒体用基板に要求される各種性質を満足する情
報記録媒体用基板を11良く低コス1〜で得ることが可
能な情報記録媒体用基板の製造り法およびこの方法によ
り寄られた情報記録媒体用基板を提供づることにある1
゜ [課題を解決するための手段] 本発明は上記の課題を達成づるためになされたものであ
り、本発明の情報記録媒体用基板の製造プ〕法は、透光
性基板上に感光性樹脂膜を形成し、次いで該感光性樹脂
膜に、最終的に得られる情報記録媒体用基板の東内佑に
対応Mる潜像を形成し、その後、該潜像を形成した感光
性樹脂膜を現像処理して感光性樹脂パターンを形成し、
該感光性樹脂パターンにより前記案内溝を形成すること
を特徴とする。
[0用]
従来のダイレクトエツチング法によれば、ガラス基板上
に設けられたレジスト膜(感光性樹脂膜)をレーザーカ
ッティングし、次いで現像処理することによりレジスト
パターンを得た後、該レジスドパターン付き基板に1−
ライエツチングを施し−で、前記レジストパターンの存
在しない部分のガラス基板をPli定の深さにエツチン
グしてガラスパターンを形成し、次いでレジストパター
ンを剥離づることにより、案内面がカラスパターンによ
って形成される情報記録媒体用基板が寄られていたが、
本発明の方法によれば、基板上に設けられた感光性樹脂
膜に、最終的に得られる情報記録媒体用基板の案内面に
対応づる潜像を形成し、その後、該潜像を現像すること
により得られた感光性樹脂パターンによって前記案内渦
を形成したので、ダイレクトエツチング法におけるドラ
イエツチング、レジストパターン剥離が不をとなり、■
程の簡略化による製品の早産化及び低コスト化が達成さ
れる。またダイレクトエツチング法によれば、ガラス基
板をエツチングするため、案内溝の底面を平泪にするこ
とが回動であったが、本発明の方法によれば、予め研磨
処理して表面平滑度を高めたガラス基板又は表面平NF
4度の高いプラスチック基板を案内溝の底面とすること
ができるので、情報記釘、媒(Aにおいて正確なi〜ラ
ッキングが切曲になる。
に設けられたレジスト膜(感光性樹脂膜)をレーザーカ
ッティングし、次いで現像処理することによりレジスト
パターンを得た後、該レジスドパターン付き基板に1−
ライエツチングを施し−で、前記レジストパターンの存
在しない部分のガラス基板をPli定の深さにエツチン
グしてガラスパターンを形成し、次いでレジストパター
ンを剥離づることにより、案内面がカラスパターンによ
って形成される情報記録媒体用基板が寄られていたが、
本発明の方法によれば、基板上に設けられた感光性樹脂
膜に、最終的に得られる情報記録媒体用基板の案内面に
対応づる潜像を形成し、その後、該潜像を現像すること
により得られた感光性樹脂パターンによって前記案内渦
を形成したので、ダイレクトエツチング法におけるドラ
イエツチング、レジストパターン剥離が不をとなり、■
程の簡略化による製品の早産化及び低コスト化が達成さ
れる。またダイレクトエツチング法によれば、ガラス基
板をエツチングするため、案内溝の底面を平泪にするこ
とが回動であったが、本発明の方法によれば、予め研磨
処理して表面平滑度を高めたガラス基板又は表面平NF
4度の高いプラスチック基板を案内溝の底面とすること
ができるので、情報記釘、媒(Aにおいて正確なi〜ラ
ッキングが切曲になる。
まlc従来の2P法によれば、案内溝の形成のために、
表面に案内溝に対応するパターンを形成したスタンバ−
によるスタンピングが必要であり、このスタンバ−の作
製に費用と時間を要していたが、本発明の方法は、案内
溝の形成のために、前記のスタンバ−よりも作製が容易
4T)it〜マスク等を用いることができる点ですぐれ
ている。また2P6iにおいては、ガラス基板どスタン
バ−との間の感光性樹脂の厚さが数μm〜数1μmと厚
くならざるを得ないので、該感光性樹脂の硬化すに発生
したカスが硬化樹脂内に吸蔵されやすく、硬化樹脂の物
性(例えば硬度、耐久性等)の低下を招き、また吸蔵さ
れたガスがその後徐々に放出されることによるガラス基
板と硬化樹脂との接着性の低下等を招いていたが、本発
明の方法によれば、感光性樹脂膜の厚さを薄くできるの
で、前記した2P法における問題は起らない。
表面に案内溝に対応するパターンを形成したスタンバ−
によるスタンピングが必要であり、このスタンバ−の作
製に費用と時間を要していたが、本発明の方法は、案内
溝の形成のために、前記のスタンバ−よりも作製が容易
4T)it〜マスク等を用いることができる点ですぐれ
ている。また2P6iにおいては、ガラス基板どスタン
バ−との間の感光性樹脂の厚さが数μm〜数1μmと厚
くならざるを得ないので、該感光性樹脂の硬化すに発生
したカスが硬化樹脂内に吸蔵されやすく、硬化樹脂の物
性(例えば硬度、耐久性等)の低下を招き、また吸蔵さ
れたガスがその後徐々に放出されることによるガラス基
板と硬化樹脂との接着性の低下等を招いていたが、本発
明の方法によれば、感光性樹脂膜の厚さを薄くできるの
で、前記した2P法における問題は起らない。
[実施例]
先ず、第1図を参照しつつ本発明の情報記録媒体用基板
の製造方法の一例を説明づる。
の製造方法の一例を説明づる。
ソータライムガラスからなる、外径13 Q #II+
lφ、内t¥15m+φ、厚さ”1.2mmのカラスデ
ィスクを、その山土表面を粕密仙巴した後、温度400
°Cに設定した硝酸カリウム溶融塩中に8開間浸漬して
化学強化処理を行なった後、これを大気中でヘキシメチ
ルジシラザン蒸気に晒してシラザン処理を行ない、中央
部に貫通孔2を右する透光性基板1(表面粗さ:40人
)を得た。
lφ、内t¥15m+φ、厚さ”1.2mmのカラスデ
ィスクを、その山土表面を粕密仙巴した後、温度400
°Cに設定した硝酸カリウム溶融塩中に8開間浸漬して
化学強化処理を行なった後、これを大気中でヘキシメチ
ルジシラザン蒸気に晒してシラザン処理を行ない、中央
部に貫通孔2を右する透光性基板1(表面粗さ:40人
)を得た。
この透光性基板1の上表面に、ノボラック系ポジ型フ7
11−レジスト(東京応化工業(株)1丁SMR890
0)を膜厚が1000人となるように塗イ5してポジ型
フォトレジストからなる感光性樹脂膜3を形成したく第
1図(の参照)。
11−レジスト(東京応化工業(株)1丁SMR890
0)を膜厚が1000人となるように塗イ5してポジ型
フォトレジストからなる感光性樹脂膜3を形成したく第
1図(の参照)。
次にこのポジ型゛ノAトレジスi〜からなる感光性樹脂
膜3を、最終的に1qられる情報記録媒体用基板の案内
溝に対応(るパターンを有する゛)A上マスク4および
紫外線5を用いた紫外線密巻露光法により、選択的に露
光して、案内溝に対応する潜像を形成したく第1図(ハ
)参照)。
膜3を、最終的に1qられる情報記録媒体用基板の案内
溝に対応(るパターンを有する゛)A上マスク4および
紫外線5を用いた紫外線密巻露光法により、選択的に露
光して、案内溝に対応する潜像を形成したく第1図(ハ
)参照)。
次に露光後の感光性樹脂膜3をアルカリ現像液(東京応
化工業(株)NMD−W)を用いて現像し、水洗、乾燥
処理をiうなって感光M樹脂パターン3aを得た後、ク
リーンオーブンを用いて人気中150’Cで熱処理を3
0分間1)ない、感光性樹脂パターン3a、3aとこれ
らの間の透光性基板1どにJ:って形成される案内溝6
を有(る、本発明の情報記録媒体用基板を19だ(第1
図(Q参照)。
化工業(株)NMD−W)を用いて現像し、水洗、乾燥
処理をiうなって感光M樹脂パターン3aを得た後、ク
リーンオーブンを用いて人気中150’Cで熱処理を3
0分間1)ない、感光性樹脂パターン3a、3aとこれ
らの間の透光性基板1どにJ:って形成される案内溝6
を有(る、本発明の情報記録媒体用基板を19だ(第1
図(Q参照)。
次に本実施例で肖られた案内溝イ]き情報記録媒体用基
板上に、ターゲットとして珪素、反応性ガスとして八r
とN2との混合ガス(△r/N2=2/1)、圧力とし
て10mTorr、高周波電力として1にKを用いる反
応性スパッタリング法により、膜厚800人の窒化I4
素膜からなる透光性0利層を先ず形成させ、その上に、
ターゲットとしてTbFeCo、ガスどしてAr、圧力
としテ10m 1orr、高周波電力として0.5に−
を用いるスパッタリング沫により、膜〜1000人のテ
ルビウム−鉄−コバルト膜からなる磁性体層を次いで形
成させ、さらにその上に、ターゲットとして珪素、反応
性カスとし−(A【゛とN2との混合カス(Ar、/N
2= 2/1 ) 、H力として10mTorr、高周
波電力として1にkを用いる反応性スパッタリング法に
より、膜厚2000人の窒化珪素暖からなる仮譚肱層を
形成させて、光磁気記録媒イホを得た。
板上に、ターゲットとして珪素、反応性ガスとして八r
とN2との混合ガス(△r/N2=2/1)、圧力とし
て10mTorr、高周波電力として1にKを用いる反
応性スパッタリング法により、膜厚800人の窒化I4
素膜からなる透光性0利層を先ず形成させ、その上に、
ターゲットとしてTbFeCo、ガスどしてAr、圧力
としテ10m 1orr、高周波電力として0.5に−
を用いるスパッタリング沫により、膜〜1000人のテ
ルビウム−鉄−コバルト膜からなる磁性体層を次いで形
成させ、さらにその上に、ターゲットとして珪素、反応
性カスとし−(A【゛とN2との混合カス(Ar、/N
2= 2/1 ) 、H力として10mTorr、高周
波電力として1にkを用いる反応性スパッタリング法に
より、膜厚2000人の窒化珪素暖からなる仮譚肱層を
形成させて、光磁気記録媒イホを得た。
冑られた光磁気記録媒体について、案内fi (qき草
根とその1に設置、−1らねだ光磁気配61.I19と
の密%竹を調べるために、スコッチテープ(米国3M社
製i−プの商品名)を貼り刊けた後、引き剥がす、ピー
ルテス1へを行なったが、膜はがれは発生しなかった。
根とその1に設置、−1らねだ光磁気配61.I19と
の密%竹を調べるために、スコッチテープ(米国3M社
製i−プの商品名)を貼り刊けた後、引き剥がす、ピー
ルテス1へを行なったが、膜はがれは発生しなかった。
さらに、前記光磁気記録媒体を低温側25°C1高温側
150℃、保持峙間各1時間、雰囲気臂渇・降溜1速度
50℃/分の条件でヒート勺イクルテスト(サイクル数
10回)を行なった後、前述と同様のビールテストを行
なった結果、膜はがれは発生せず、熱にも安定でM熱性
を有することが判明した。
150℃、保持峙間各1時間、雰囲気臂渇・降溜1速度
50℃/分の条件でヒート勺イクルテスト(サイクル数
10回)を行なった後、前述と同様のビールテストを行
なった結果、膜はがれは発生せず、熱にも安定でM熱性
を有することが判明した。
このようにして得られた光磁気配B、W体の磁気光学的
、記録再生特性は従来のダイレクトエツチング法により
得られた基板を用いた光磁気記録媒体と同等であること
が判明しIJ。
、記録再生特性は従来のダイレクトエツチング法により
得られた基板を用いた光磁気記録媒体と同等であること
が判明しIJ。
以上、本発明の一実施例を説明してきたが、本発明は上
記実施例に限定されるものではなく、下2の応用例及び
変形例を含むものである。
記実施例に限定されるものではなく、下2の応用例及び
変形例を含むものである。
(1) 透光性基板として、実施例ではソーダライム
ガラス基板を用いたが、ソーダライムガラス以外にアル
ミノボロシリケートガラス、ポロシリグー1〜ガラス、
石英ガラス等のガラス基板を用いても良い。また実施例
では、化学強化処理、次いでシラザン処理を行なったガ
ラス基板を用いたが、化学強化処理及びシラザン処理は
、必須ではなく、場合によりその一方及び両名を省略し
ても良い。
ガラス基板を用いたが、ソーダライムガラス以外にアル
ミノボロシリケートガラス、ポロシリグー1〜ガラス、
石英ガラス等のガラス基板を用いても良い。また実施例
では、化学強化処理、次いでシラザン処理を行なったガ
ラス基板を用いたが、化学強化処理及びシラザン処理は
、必須ではなく、場合によりその一方及び両名を省略し
ても良い。
透光性基板として、ガラス基板の代りにプラスチック基
板を用いても良く、その代表例として、ポリカーボネ−
1〜、ポリメチルメタクリレート、エポキシ樹脂等から
なる基板を挙げられる。またサファイアを基板とするこ
ともできる。
板を用いても良く、その代表例として、ポリカーボネ−
1〜、ポリメチルメタクリレート、エポキシ樹脂等から
なる基板を挙げられる。またサファイアを基板とするこ
ともできる。
(2) 透光性基板十に形成される感光性樹脂膜用材
料としては、実施例で用いられたノボラック系ボシ塑ノ
Aトレシスト以外の他のポジ型ノA1〜レジストや、ポ
リケイ皮酸ビニル系樹脂からなるネガ型フォトレジスト
賞のネガ型ノAトレジス1−が用いられる。
料としては、実施例で用いられたノボラック系ボシ塑ノ
Aトレシスト以外の他のポジ型ノA1〜レジストや、ポ
リケイ皮酸ビニル系樹脂からなるネガ型フォトレジスト
賞のネガ型ノAトレジス1−が用いられる。
また感光性樹脂膜〃は、所望づる案内溝の深さに対応し
て決定されるが、通m’ 300〜1500人とづるの
が良い。
て決定されるが、通m’ 300〜1500人とづるの
が良い。
(3) 感光性樹脂膜に、案内溝に対応する潜像を形
成するために、実施例では紫外線密着露光払を採用した
が、伯の紫外I2露光方式、例えば近接露光方式や投影
賃光方式でも良い。またレーザーカッティング法であっ
ても良い。
成するために、実施例では紫外線密着露光払を採用した
が、伯の紫外I2露光方式、例えば近接露光方式や投影
賃光方式でも良い。またレーザーカッティング法であっ
ても良い。
なお、フォトレジストを用いて潜像を形成づるに際して
用いられるフォトマスクのパターンは、感光性樹脂膜が
ポジ3+1フオトレジストの場合どネカ型フ7It〜レ
ジス1〜の場合とで異なり、前当のポジ型ノtトレジス
トでポジ型パターンを用いた場合には、後右のネガ型フ
ォトレジストの場合ネガ型パターンを使用する必要があ
る。
用いられるフォトマスクのパターンは、感光性樹脂膜が
ポジ3+1フオトレジストの場合どネカ型フ7It〜レ
ジス1〜の場合とで異なり、前当のポジ型ノtトレジス
トでポジ型パターンを用いた場合には、後右のネガ型フ
ォトレジストの場合ネガ型パターンを使用する必要があ
る。
(4) 潜像を形成した感光性樹脂膜を現像処理して
感光性樹脂パターンを形成Jるために、実施例ではアル
カリ現像液を用いる湿式現像処理を採用し・だが、湿式
現像に際して他の現像液を使用しても良い。感光性樹脂
膜の種類、性質に応じて適切な現像液を選択することが
できる1、また湿式現像処理の代りに、乾式現像処理を
用いても9い。
感光性樹脂パターンを形成Jるために、実施例ではアル
カリ現像液を用いる湿式現像処理を採用し・だが、湿式
現像に際して他の現像液を使用しても良い。感光性樹脂
膜の種類、性質に応じて適切な現像液を選択することが
できる1、また湿式現像処理の代りに、乾式現像処理を
用いても9い。
(5) 実施例では透光性基板が現像後にh出し、透
光性基板の表面が案内溝の底面を形成する情報記録媒体
用基板を智たが、紫外線露光がや現@都を調節すること
により、相対的に深さの浅い案内溝を形成しても良く、
この場合には感光性樹脂が案内溝の底面を形成する。
光性基板の表面が案内溝の底面を形成する情報記録媒体
用基板を智たが、紫外線露光がや現@都を調節すること
により、相対的に深さの浅い案内溝を形成しても良く、
この場合には感光性樹脂が案内溝の底面を形成する。
(6) 実施例では、現像処理し、水洗、乾燥処理後
の感光性樹脂パターンについて、これに含まれる有@溶
剤(例えばメチルセルソルブアセテート)や各種気体(
例えばH20,N2.02 。
の感光性樹脂パターンについて、これに含まれる有@溶
剤(例えばメチルセルソルブアセテート)や各種気体(
例えばH20,N2.02 。
CxHy)I1を蒸発、放出させて除去することを促進
するために150℃で30分間かけて熱処理を行なった
が、この熱処理は必須ではなく、場合により省略できる
。なお熱処理を行なう場合、その温度は100℃以上で
あるのが好ましいが、200″Cを超えると、熱による
感光ゼ[樹脂パターンの分解がML、くなるので好まし
くない。但し満内記釘方式では、200℃まで昇温して
も使用可能である。
するために150℃で30分間かけて熱処理を行なった
が、この熱処理は必須ではなく、場合により省略できる
。なお熱処理を行なう場合、その温度は100℃以上で
あるのが好ましいが、200″Cを超えると、熱による
感光ゼ[樹脂パターンの分解がML、くなるので好まし
くない。但し満内記釘方式では、200℃まで昇温して
も使用可能である。
[発明の効果]
以上、詳述したように、本発明によれば、情報記録媒体
用厚板としての特性にすぐれた情報記録媒体用基板を量
産性良く低コストで得ることが可能となった。
用厚板としての特性にすぐれた情報記録媒体用基板を量
産性良く低コストで得ることが可能となった。
第1図は本発明の方法におけるr程図を示づものである
。 1・・・透光性基板 2・・・貞通孔 3・・・感光性樹脂膜 3a・・・感光性樹脂パターン 4・・・フォトマスク 5・・・紫外線 6・・・案内溝
。 1・・・透光性基板 2・・・貞通孔 3・・・感光性樹脂膜 3a・・・感光性樹脂パターン 4・・・フォトマスク 5・・・紫外線 6・・・案内溝
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、透光性基板上に感光性樹脂膜を形成し、次いで該感
光性樹脂膜に、最終的に得られる情報記録媒体用基板の
案内溝に対応する潜像を形成し、その後、該潜像を形成
した感光性樹脂膜を現像処理して感光性樹脂パターンを
形成し、該感光性樹脂パターンにより前記案内溝を形成
することを特徴とする情報記録媒体用基板の製造方法。 2、請求項1に記載の方法により得られた、感光性樹脂
パターンにより案内溝が形成されている情報記録媒体用
基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13206088A JPH01300443A (ja) | 1988-05-30 | 1988-05-30 | 情報記録媒体用基板の製造方法およびこの方法により得られた基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13206088A JPH01300443A (ja) | 1988-05-30 | 1988-05-30 | 情報記録媒体用基板の製造方法およびこの方法により得られた基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01300443A true JPH01300443A (ja) | 1989-12-04 |
Family
ID=15072576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13206088A Pending JPH01300443A (ja) | 1988-05-30 | 1988-05-30 | 情報記録媒体用基板の製造方法およびこの方法により得られた基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01300443A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05258358A (ja) * | 1992-03-16 | 1993-10-08 | Pioneer Electron Corp | 光ディスク用フォトレジスト |
-
1988
- 1988-05-30 JP JP13206088A patent/JPH01300443A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05258358A (ja) * | 1992-03-16 | 1993-10-08 | Pioneer Electron Corp | 光ディスク用フォトレジスト |
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