JPH0157116B2 - - Google Patents

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JPH0157116B2
JPH0157116B2 JP55149112A JP14911280A JPH0157116B2 JP H0157116 B2 JPH0157116 B2 JP H0157116B2 JP 55149112 A JP55149112 A JP 55149112A JP 14911280 A JP14911280 A JP 14911280A JP H0157116 B2 JPH0157116 B2 JP H0157116B2
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JP
Japan
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formula
compound
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JP55149112A
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Japanese (ja)
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JPS5772986A (en
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Junichi Nakazawa
Masanao Kaneko
Takeo Myaoka
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Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
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Priority to CH6792/81A priority patent/CH649088A5/en
Priority to IT68386/81A priority patent/IT1144849B/en
Priority to NL8104831A priority patent/NL8104831A/en
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Publication of JPH0157116B2 publication Critical patent/JPH0157116B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/577-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with a further substituent in position 7, e.g. cephamycines

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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は微生物の醗酵によつて得られるセフア
マイシンCすなわち7β―(D―5―アミノ―5
―カルボキシバレルアミド―7α―メトキシ―3
―カルバモイルオキシメチル―3―セフエム―4
―カルボン酸の7位側鎖アミノ基を保護し、つい
で3位をS―ヘテロ環に変換し4位カルボン酸を
エステル化した化合物を原料として、7位側鎖を
目的とするアシル基に変換し、ついで酸処理して
エステルを脱離する方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides cefamycin C, 7β-(D-5-amino-5
-Carboxyvaleramide-7α-methoxy-3
-Carbamoyloxymethyl-3-cephem-4
-Using a compound in which the 7-position side chain amino group of a carboxylic acid is protected, the 3-position is converted to an S-heterocycle, and the 4-position carboxylic acid is esterified as a raw material, the 7-position side chain is converted to the desired acyl group. The present invention relates to a method in which the ester is then removed by acid treatment.

このような目的のための従来法としては、モレ
キユラーシーブ又はゼオライトを触媒として用い
アシル交換する方法(特開昭50−105687号)、シ
リル化を行つた後アシル交換する方法(特開昭50
−85386号)、さらにこのようなシリル化処理を行
わず、又は触媒を使用しない方法として特開昭55
−20723号等がある。このようなアシル交換を行
う場合はセフアマイシン誘導体のカルボキシル基
を保護する必要がある。
Conventional methods for this purpose include a method of acyl exchange using molecular sieves or zeolites as catalysts (Japanese Patent Application Laid-open No. 105687/1983), and a method of silylation followed by acyl exchange (Japanese Patent Laid-open No. 105687). 50
-85386), and as a method that does not perform such silylation treatment or use a catalyst, JP-A No. 55
-20723 etc. When performing such acyl exchange, it is necessary to protect the carboxyl group of the cefamycin derivative.

そのための保護基として特開昭55−20723号に
は、特に好適なものはフエナシル基、ベンツヒド
リル基であると記述されているが、原料としてセ
フアマイシンCの3位がヘテロチオメチル基を有
するフエナシルエステル誘導体の場合、アシル交
換を行つた後このフエナシルエステルを脱離する
方法としてチオフエノールのカリウムまたはナト
リウム塩を用いると△2異性体を多量に生じ、又
亜鉛と酸による脱離反応によつてはエキソメチレ
ン体を生じ、目的とする△3―セフエム―4―カ
ルボン酸の収率は著しく低下する。又ベンツヒド
リルエステルは工業的大量生産の点に問題があ
る。そこで本発明者等はこの直接アシル交換法と
エステルの種類について種々検討した結果、アル
キルオキシメチルエステル、またはアラルキルオ
キシメチルエステルが有効である事、また溶媒と
して使用するハロゲン化炭化水素中に1当量以上
の水が存在する事、さらに又脱酸剤としてエポキ
サイド系の化合物を用いる事などの条件を組合せ
る事により目的物が好収率で得られる事を見出
し、本発明を完成した。すなわち本発明は、 一般式 「式中、R1は芳香族アシルアミド基を示し、
R2は低級アルキル基またはアラルキル基を示し、
R3は置換基を有してもよい1H―テトラゾール―
5―イル基、1,3,4―チアジアゾール―2―
イル基または1H―1,2,3―トリアゾール―
5―イル基を示す。]で表わされる化合物を少く
とも一般式()に対し1当量以上の水を含有す
るハロゲン化炭化水素系溶媒中 一般式 (式中、R4はアリールオキシアルキル基を示
す。)および 一般式 R5−X () (式中、R5は置換基を有するアセチル基を示
し、Xはハロゲン原子を示す。)で表わされる化
合物と反応させ、ついで酸処理することを特徴と
する一般式 (式中、R3およびR5は前述したものと同意義
を有する。)で表わされるセフアロスポリン誘導
体およびその薬理上許容される塩を製造する方法
に関する。
JP-A No. 55-20723 describes that particularly suitable protecting groups are phenacyl group and benzhydryl group, but as a starting material phenacyl group and benzhydryl group are used. In the case of phenacyl ester derivatives, if potassium or sodium salts of thiophenol are used to eliminate the phenacyl ester after acylation, a large amount of △ 2 isomer will be produced, and the elimination reaction with zinc and acid will cause As a result, an exomethylene compound is produced, and the yield of the desired △ 3 -cephem-4-carboxylic acid is significantly reduced. Furthermore, benzhydryl ester has problems in industrial mass production. As a result of various studies on this direct acyl exchange method and the types of esters, the present inventors found that alkyloxymethyl esters or aralkyloxymethyl esters are effective, and that 1 equivalent is added to the halogenated hydrocarbon used as a solvent. The present invention was completed based on the discovery that the desired product could be obtained in good yield by combining the above conditions such as the presence of water and the use of an epoxide compound as a deoxidizing agent. That is, the present invention has the general formula "In the formula, R 1 represents an aromatic acylamido group,
R 2 represents a lower alkyl group or an aralkyl group,
R 3 is 1H-tetrazole- which may have a substituent
5-yl group, 1,3,4-thiadiazole-2-
yl group or 1H-1,2,3-triazole-
Indicates a 5-yl group. ] in a halogenated hydrocarbon solvent containing at least 1 equivalent of water based on the general formula (). (In the formula, R 4 represents an aryloxyalkyl group.) and the general formula R 5 -X () (In the formula, R 5 represents an acetyl group having a substituent, and X represents a halogen atom.) A general formula characterized by reacting with a compound that is The present invention relates to a method for producing a cephalosporin derivative represented by the formula (wherein R 3 and R 5 have the same meanings as defined above) and a pharmacologically acceptable salt thereof.

本発明の原料として使用される一般式()を
有する化合物は、セフアマイシンCの7位側鎖の
アミノ基を保護し、3位のカルバモイルオキシメ
チル基をヘテロチオメチル基に変換し、7位側鎖
のカルボキシル基及び4位のカルボキシル基をア
ルキルオキシメチル又はアラルキルオキシメチル
エステル化する事により得られる。
The compound having the general formula () used as a raw material of the present invention protects the amino group of the 7-position side chain of cefamycin C, converts the 3-position carbamoyloxymethyl group to a heterothiomethyl group, and It is obtained by converting the carboxyl group of the chain and the carboxyl group at the 4-position into an alkyloxymethyl or aralkyloxymethyl ester.

本発明の方法を用いれば微生物の培養によつて
得られるセフアマイシンCの3位及び7位を連続
して目的とする基に変換する事ができ、より抗菌
力の強い化合物を製造し得て、工業的に極めて有
用な方法を提供するものである。
By using the method of the present invention, it is possible to successively convert the 3- and 7-positions of cefamycin C obtained by culturing microorganisms into the desired group, and it is possible to produce a compound with stronger antibacterial activity. This provides an industrially extremely useful method.

前記一般式()で示される7β―(D―5―
アミノ―5―カルボキシバレルアミド)―7α―
メトキシ―3―置換チオメチル―3―セフエム―
4―カルボン酸誘導体の置換基R1に含まれるア
ミノ基の保護基としては、ベンゾイル、p―ニト
ロベンゾイル、3,5―ジニトロベンゾイル、ト
ルオイル、p―クロルベンゾイル、3,5―ジク
ロルベンゾイル、p―ブロムベンゾイルまたはp
―ターシヤリーブチルベンゾイルのような芳香族
アシル基があげられるが、特に好ましい基として
はp―ニトロベンゾイル基、p―クロルベンゾイ
ル基である。
7β-(D-5-
Amino-5-carboxyvaleramide)-7α-
Methoxy-3-substituted thiomethyl-3-cephem-
As the protecting group for the amino group contained in the substituent R 1 of the 4-carboxylic acid derivative, benzoyl, p-nitrobenzoyl, 3,5-dinitrobenzoyl, toluoyl, p-chlorobenzoyl, 3,5-dichlorobenzoyl, p-Brombenzoyl or p
Examples include aromatic acyl groups such as -tert-butylbenzoyl, and particularly preferred groups are p-nitrobenzoyl and p-chlorobenzoyl.

又3位の置換チオメチル基の置換基としては1
―メチル―1H―テトラゾール―5―イル基、1
―ジメチルアミノエチル―1H―テトラゾール―
5―イル基、5―メチル、1,3,4―チアジア
ゾール―2―イル基または1―メチル―1H―1,
2,3―トリアゾール―5―イル基があげられ
る。又7位側鎖のカルボキシル基及び4位のカル
ボキシル基の保護基はメトキシメチル、エトキシ
メチル、ベンジルオキシメチルまたはp―ニトロ
若しくはp―クロルベンジルオキシメチルのよう
なエステル形成基があげられるが、好適にはメト
キシメチル又はベンジルオキシメチルエステルで
ある。
Also, as a substituent for the substituted thiomethyl group at the 3-position, 1
-Methyl-1H-tetrazol-5-yl group, 1
-Dimethylaminoethyl-1H-tetrazole-
5-yl group, 5-methyl, 1,3,4-thiadiazol-2-yl group or 1-methyl-1H-1,
A 2,3-triazol-5-yl group is mentioned. The protecting group for the carboxyl group at the 7-position side chain and the carboxyl group at the 4-position includes ester-forming groups such as methoxymethyl, ethoxymethyl, benzyloxymethyl, or p-nitro or p-chlorobenzyloxymethyl, but these are preferred. For example, methoxymethyl or benzyloxymethyl ester.

そのエステル化法は通常の方法により容易に得
られる。すなわち原料とクロルメチルアルキルエ
ーテルまたはクロルメチルアラルキルエーテルを
混合し塩基を加える方法が好ましい。
The esterification method can be easily obtained by a conventional method. That is, a preferred method is to mix the raw material and chloromethyl alkyl ether or chloromethyl aralkyl ether and then add a base.

本発明の方法に於て7位アシル基交換反応は、
前記一般式()を有する化合物と前記一般式
()及び()を有する化合物を含水ハロゲン
化炭化水素系溶媒中接触させる事により容易に実
施することができる。このようなハロゲン化炭化
水素系溶媒としてはジクロロメタン、クロロホ
ム、トリクレンがあげられるが、1,2―ジクロ
ロエタンが最も好ましい。またこの場合、溶媒の
含水量としては、前記一般式()に対して1乃
至3.0当量であるが、好ましくは1,2乃至2.5当
量である。前記一般式()を有するエポキサイ
ド系脱酸剤としては、スチレンオキサイド、1,
2―エポキシ―3―フエノキシプロパン、1,2
―エポキシ―3―(p―トリルオキシ)プロパ
ン、1,2―エポキシ―3―(p―クロルフエノ
キシ)プロパン等があげられるが、好ましいのは
1,2―エポキシ―3―フエノキシプロパンであ
り、その使用量は化合物()に対し、3〜7モ
ル比である。前記一般式()におけるR5で示
される置換基を有するアセチル基としては、チエ
ニルアセチル基、モノクロル若しくはジクロルア
セチル基、モノブロム若しくはジブロムアセチル
基、シアノメチルチオアセチル基であり、又Xで
示されるハロゲン原子としてはクロル又はブロム
があげられる。カルボン酸ハライド()の使用
量は化合物()に対して1〜15モル比である
が、5〜12モル比が好ましい。反応温度は通常50
〜100℃である。反応の進行状況は薄層クロマト
グラフイーによつて追跡する事ができる。反応に
要する時間は数十分乃至10時間である。
In the method of the present invention, the 7-position acyl group exchange reaction is
This can be easily carried out by bringing the compound having the general formula () into contact with the compounds having the general formulas () and () in a hydrous halogenated hydrocarbon solvent. Examples of such halogenated hydrocarbon solvents include dichloromethane, chloroform, and trichlene, and 1,2-dichloroethane is most preferred. In this case, the water content of the solvent is 1 to 3.0 equivalents, preferably 1.2 to 2.5 equivalents, relative to the general formula (). Examples of the epoxide deoxidizer having the general formula () include styrene oxide, 1,
2-epoxy-3-phenoxypropane, 1,2
-Epoxy-3-(p-tolyloxy)propane, 1,2-epoxy-3-(p-chlorophenoxy)propane, etc., but 1,2-epoxy-3-phenoxypropane is preferred; The amount used is 3 to 7 molar ratio to the compound (). The acetyl group having a substituent represented by R 5 in the general formula () is a thienyl acetyl group, a monochloro or dichloroacetyl group, a monobromo or dibromoacetyl group, a cyanomethylthioacetyl group, and a cyanomethylthioacetyl group represented by Examples of the halogen atom include chlorine and bromine. The amount of carboxylic acid halide () to be used is 1 to 15 molar ratio to the compound (2), preferably 5 to 12 molar ratio. The reaction temperature is usually 50
~100℃. The progress of the reaction can be followed by thin layer chromatography. The time required for the reaction is several tens of minutes to 10 hours.

このようにして7位アシル交換後、反応混合物
より溶媒を留去し残留物を水と混合する溶媒、例
えばメタノール、エタノール、アセトン、テトラ
ヒドロフランまたはアセトニトリル等の中何れか
の溶媒に置きかえ、酸処理する事により容易にメ
トキシメチルエステルを脱離する事ができる。こ
の場合、酸の種類としては塩酸又は硫酸のような
鉱酸が適当である。又酸の使用量は原料の0.2〜
1.0倍量である。反応温度は0〜30℃、反応時間
は数十分乃至2時間である。
After the 7-position acyl exchange in this manner, the solvent is distilled off from the reaction mixture, and the residue is replaced with a solvent that is mixed with water, such as methanol, ethanol, acetone, tetrahydrofuran, or acetonitrile, and treated with an acid. The methoxymethyl ester can be easily eliminated. In this case, mineral acids such as hydrochloric acid or sulfuric acid are suitable as the type of acid. Also, the amount of acid used is 0.2 to 0.2 of the raw material.
1.0 times the amount. The reaction temperature is 0 to 30°C, and the reaction time is several tens of minutes to 2 hours.

本反応によつて得られる前記一般式()の化
合物は常法により採取する事ができる。反応混合
物から溶媒を留去し残留物にイソプロピルエーテ
ルを加え得られた粗製物に適当な塩基例えばジシ
クロヘキシルアミン、ジメチルベンジルアミン、
ピコリン、ルチジン等のうち何れかの塩基を加え
て結晶として単離するか、又は各種クロマトグラ
フイーによつて精製することができる。
The compound of the general formula () obtained by this reaction can be collected by a conventional method. The solvent is distilled off from the reaction mixture, isopropyl ether is added to the residue, and the resulting crude product is treated with a suitable base such as dicyclohexylamine, dimethylbenzylamine,
It can be isolated as crystals by adding any base such as picoline, lutidine, etc., or it can be purified by various chromatography methods.

また好適な後処理法としては脱エステル反応を
行つた後、反応混合物を酸の存在する状態でメタ
ノールと接触させる事により副生したアシルアミ
ノアジピン酸のみをジメチルエステルに変換させ
て、目的物を塩基性水溶液として分離する方法が
あげられ、ついでこの水溶液を酸性とし酢酸エチ
ルのような有機溶媒で抽出する事により容易に高
純度の目的物を遊離型として得る事ができる。
In addition, a suitable post-treatment method is to carry out a de-esterification reaction and then contact the reaction mixture with methanol in the presence of an acid to convert only the by-produced acylaminoadipic acid into dimethyl ester, thereby obtaining the desired product. One method is to separate the product as a basic aqueous solution, and then acidify this aqueous solution and extract with an organic solvent such as ethyl acetate to easily obtain the target product in free form with high purity.

なお、本発明の目的化合物()は必要に応じ
て常法に従つて薬理上許容される塩の形にするこ
ができる。そのような塩としては、リチウム、ナ
トリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム
のような無機金属の塩あるいはアンモニウム、シ
クロヘキシルアンモニウム、ジイソプロピルアン
モニウム、トリエチルアンモニウムのようなアン
モニウム塩類をあげることができるが、好適には
ナトリウム塩およびカリウム塩である。
In addition, the object compound () of the present invention can be converted into a pharmacologically acceptable salt form according to a conventional method, if necessary. Examples of such salts include salts of inorganic metals such as lithium, sodium, potassium, calcium, and magnesium, and ammonium salts such as ammonium, cyclohexylammonium, diisopropylammonium, and triethylammonium, preferably sodium salts. salt and potassium salt.

次に実施例をあげて本発明を具体的に説明す
る。
Next, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.

実施例 1 7β―(D―5′―p―ニトロベンゾイルアミノ―
5′―カルボキシバレルアミド)―7α―メトキシ―
3―(1―メチル―1H―テトラゾール―5―イ
ル)チオメチル―3―セフエム―4―カルボン
酸・酢酸エチル付加体3gを75mlのアセトンに溶
解し、氷水浴中3℃に冷却し、クロルメチルメチ
ルエーテル0.7mlを加えて撹拌しながら、トリエ
チルアミン1.16mlをアセトン10mlにとかした溶液
を滴加する。滴加時間20分、滴下後更に20分撹拌
し析出したトリエチルアミン塩酸塩を去し、結
晶をアセトンで洗浄し液と洗液を合し、減圧濃
縮する。残留した油状物に酢酸エチル50mlを加
え、室温で約15分撹拌すると、更に少量のトリエ
チルアミン塩酸塩が析出するのでこれを去し、
結晶を酢酸エチルで洗浄し、液と洗液を合し減
圧濃縮凝固すると、3.2gのジメトキシメチルエ
ステル体が得られる。これに水120mgを含有する
1,2―ジクロルエタン90mlを加えて溶解せし
め、1,2―エポキシ―3―フエノキシプロパン
3.0mlおよびモノクロロアセチルクロライド4.5ml
を加え撹拌しながら3時間還流する。ついで減圧
濃縮し、残留物にイソプロピルエーテル60mlを加
えよくかきまぜ上澄液をデカントにより除去す
る。残留した油状物にアセトン60mlおよび濃塩酸
3.0mlを加え45分室温で撹拌する。ついでメタノ
ール20mlを加え更に1時間撹拌する。ついで溶媒
を減圧濃縮し水40mlおよび酢酸エチル50mlを加
え、撹拌しながら重炭酸ソーダの粉末を少量ずつ
加え水層のPHを6.5〜7.0とする。分液し酢酸エチ
ル層を飽和食塩水で抽出し、水層と合する。この
水層に酢酸エチル50mlを加え塩酸で水層のPHを
1.8とする。よく振盪し酢酸エチル層を分離し、
更に水層を2回酢酸エチルで抽出する。酢酸エチ
ル層を減圧濃縮し残留物にイソプロピルエーテル
を加えかきまぜると、粉末化するので集し、イ
ソプロピルエーテルで洗浄後乾燥すると、1.5g
の7β―クロロアセタミド―7α―メトキシ―3―
(1―メチル―1H―テトラゾール―5―イル)チ
オメチル―3―セフエム―4―カルボン酸が得ら
れる。
Example 1 7β-(D-5′-p-nitrobenzoylamino-
5′-carboxyvaleramide)-7α-methoxy-
Dissolve 3 g of 3-(1-methyl-1H-tetrazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid/ethyl acetate adduct in 75 ml of acetone, cool to 3°C in an ice-water bath, and add chloromethyl Add 0.7 ml of methyl ether and dropwise add a solution of 1.16 ml of triethylamine in 10 ml of acetone while stirring. The dropwise addition time was 20 minutes, and after the dropwise addition, the mixture was stirred for an additional 20 minutes to remove the precipitated triethylamine hydrochloride, the crystals were washed with acetone, the liquid and the washing liquid were combined, and the mixture was concentrated under reduced pressure. Add 50 ml of ethyl acetate to the remaining oil and stir at room temperature for about 15 minutes, and a small amount of triethylamine hydrochloride precipitates out, which is removed.
The crystals are washed with ethyl acetate, and the liquid and washing liquid are combined and concentrated and solidified under reduced pressure to obtain 3.2 g of dimethoxymethyl ester. To this was added 90 ml of 1,2-dichloroethane containing 120 mg of water to dissolve 1,2-epoxy-3-phenoxypropane.
3.0ml and monochloroacetyl chloride 4.5ml
and reflux for 3 hours while stirring. Then, concentrate under reduced pressure, add 60 ml of isopropyl ether to the residue, stir well, and remove the supernatant by decantation. Add 60ml of acetone and concentrated hydrochloric acid to the remaining oil.
Add 3.0ml and stir at room temperature for 45 minutes. Next, add 20 ml of methanol and stir for an additional hour. Then, the solvent is concentrated under reduced pressure, 40 ml of water and 50 ml of ethyl acetate are added, and while stirring, sodium bicarbonate powder is added little by little to adjust the pH of the aqueous layer to 6.5-7.0. Separate the layers, extract the ethyl acetate layer with saturated brine, and combine with the aqueous layer. Add 50ml of ethyl acetate to this aqueous layer and adjust the pH of the aqueous layer with hydrochloric acid.
Set it to 1.8. Shake well and separate the ethyl acetate layer.
The aqueous layer is further extracted twice with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was concentrated under reduced pressure, and when the residue was mixed with isopropyl ether, it turned into powder, which was collected, washed with isopropyl ether, and dried to give 1.5 g.
7β-chloroacetamide-7α-methoxy-3-
(1-Methyl-1H-tetrazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid is obtained.

nmrスペクトル δppm(重アセトン) 3.5(一重線、3H) 3.67(一重線、2H) 3.98(一重線、3H) 4.42(ブロード一重線、2H) 5.08(一重線、1H) 実施例 2 実施例1と同様にして合成したジメトキシメチ
ルエステル体3.2gに水100mgを含有する1,2―
ジクロロエタン90mlを加えて溶解せしめ、1,2
―エポキシ―3―p―メチルフエノキシプロパン
3.0mlおよびシアノメチルチオアセチルクロライ
ド5.0mlを加え、撹拌しながら2時間還流せしめ
る。ついで実施例1と同様に処理すると、1.4g
の7β―シアノメチルチオアセタミド―7α―メト
キシ―3―(1―メチル―1H―テトラゾール―
5―イル)チオメチル―3―セフエム―4―カル
ボン酸が得られる。
nmr spectrum δppm (heavy acetone) 3.5 (singlet, 3H) 3.67 (singlet, 2H) 3.98 (singlet, 3H) 4.42 (broad singlet, 2H) 5.08 (singlet, 1H) Example 2 Example 1 and A 1,2-
Add 90ml of dichloroethane and dissolve 1,2
-Epoxy-3-p-methylphenoxypropane
Add 3.0 ml and 5.0 ml of cyanomethylthioacetyl chloride, and reflux for 2 hours with stirring. Then, when treated in the same manner as in Example 1, 1.4g
7β-cyanomethylthioacetamide-7α-methoxy-3-(1-methyl-1H-tetrazole-
5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid is obtained.

nmrスペクトル δppm(重アセトン) 3.50(一重線、3H) 3.60(一重線、2H) 3.5〜3.7(四重線、2H) 3.70(一重線、2H) 3.98(一重線、3H) 4.3〜4.6(四重線、2H) 5.10(一重線、1H) 実施例 3 7―β―(D―5′―p―ニトロベンゾイルアミ
ノ―5′―カルボキシバレルアミド)―7α―メトキ
シ―3―(1―メチル―1H―テトラゾール―5
―イル)チオメチル―3―セフエム―4―カルボ
ン酸・酢酸エチル付加体2.6gをアセトン50mlに
溶解し、氷水溶液中撹拌しながらクロロメチルベ
ンジルエーテル1.21gを加え、ついでトリエチル
アミン1mlをアセトン10mlにとかした溶液を滴加
する。滴加時間30分。滴加後30分撹拌し、実施例
1の如く処理すると、3.12gのジベンジルオキシ
メチルエステル体が得られる。これに水100mgを
含有する1,2―ジクロロエタン90mlを加えて溶
解し、1,2―エポキシ―3―フエノキシプロパ
ン2.6ml及びモノクロロアセチルクロライド3.9ml
を加えて3時間還流する。ついで実施例1の如く
処理すると、7―β―クロロアセタミド―7α―
メトキシ―3―(1―メチル―1H―テトラゾー
ル―5―イル)チオメチル―3―セフエム―4―
カルボン酸1.1gが得られる。
nmr spectrum δppm (heavy acetone) 3.50 (singlet, 3H) 3.60 (singlet, 2H) 3.5-3.7 (quartet, 2H) 3.70 (singlet, 2H) 3.98 (singlet, 3H) 4.3-4.6 (quadruplet, 2H) Double line, 2H) 5.10 (Singlet line, 1H) Example 3 7-β-(D-5′-p-nitrobenzoylamino-5′-carboxyvaleramide)-7α-methoxy-3-(1-methyl- 1H-tetrazole-5
-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid/ethyl acetate adduct (2.6 g) was dissolved in 50 ml of acetone, and while stirring in an ice-water solution, 1.21 g of chloromethyl benzyl ether was added, and then 1 ml of triethylamine was dissolved in 10 ml of acetone. Add the solution dropwise. Addition time: 30 minutes. After the dropwise addition, the mixture was stirred for 30 minutes and treated as in Example 1 to obtain 3.12 g of dibenzyloxymethyl ester. Add 90 ml of 1,2-dichloroethane containing 100 mg of water to this and dissolve, 2.6 ml of 1,2-epoxy-3-phenoxypropane and 3.9 ml of monochloroacetyl chloride.
and reflux for 3 hours. Then, when treated as in Example 1, 7-β-chloroacetamide-7α-
Methoxy-3-(1-methyl-1H-tetrazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-
1.1 g of carboxylic acid is obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 [式中、R1は芳香物アシルアミド基を示し、
R2は低級アルキル基またはアラルキル基を示し、
R3は置換基を有してもよい1H―テトラゾール―
5―イル基、1,3,4―チアジアゾール―2―
イル基または1H―1,2,3―トリアゾール―
5―イル基を示す。] で表わされる化合物を少なくとも一般式()を
有する化合物に対し1当量以上の水を含有するハ
ロゲン化炭化水素溶媒中 一般式 [式中、R4はアリールオキシアルキル基を示
す。]および 一般式 R5X [式中、R5は置換基を有するアセチル基を示
し、Xはハロゲン原子を示す。]で表わされる化
合物と反応させ、ついで、酸処理することを特徴
とする 一般式 [式中、R3およびR5は前述したものと同意義
を示す。]で表わされるセフアロスポリン誘導体
およびその薬理上許容される塩の製法。
[Claims] 1. General formula [In the formula, R 1 represents an aromatic acylamide group,
R 2 represents a lower alkyl group or an aralkyl group,
R 3 is 1H-tetrazole- which may have a substituent
5-yl group, 1,3,4-thiadiazole-2-
yl group or 1H-1,2,3-triazole-
Indicates a 5-yl group. ] in a halogenated hydrocarbon solvent containing at least 1 equivalent of water to the compound having the general formula () [In the formula, R 4 represents an aryloxyalkyl group. ] and the general formula R 5 X [wherein R 5 represents an acetyl group having a substituent, and X represents a halogen atom. A general formula characterized by reacting with a compound represented by ] and then treating with an acid. [In the formula, R 3 and R 5 have the same meanings as described above. ] A method for producing a cephalosporin derivative and a pharmacologically acceptable salt thereof.
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