JPH02160021A - 光触媒による脱臭方法 - Google Patents

光触媒による脱臭方法

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JPH02160021A
JPH02160021A JP63314059A JP31405988A JPH02160021A JP H02160021 A JPH02160021 A JP H02160021A JP 63314059 A JP63314059 A JP 63314059A JP 31405988 A JP31405988 A JP 31405988A JP H02160021 A JPH02160021 A JP H02160021A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photocatalyst
substances
malodorous substances
gas
reaction
Prior art date
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Pending
Application number
JP63314059A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomoko Ikeda
知子 池田
Shuzo Tokumitsu
修三 徳満
Noboru Naruo
成尾 昇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP63314059A priority Critical patent/JPH02160021A/ja
Publication of JPH02160021A publication Critical patent/JPH02160021A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、家庭やオフィス内の悪臭(調理具。
食品具、たばこ臭2体臭、ペットおよびトイレの臭いな
ど)の脱臭方法に関するものである。
従来の技術 家庭やオフィス内で発生する悪臭(調理具9食吊具、た
ばこ臭2体臭、ペットおよびトイレ臭など)の成分は、
窒素化合物(アンモニア、アミン類、インドール、スカ
トールなど)、硫黄化合物(硫化水素、メチルメルカプ
タン、硫化メチル。
二硫化メチル、二硫化ジメチルなど)、アルデヒド類(
ホルムアルデヒド、アセトアルデヒドなど)、ケトン類
(アセトンなど)、アルコール類(メタノール、エタノ
ールなど)、脂肪酸及び芳香族化合物など、多種多様で
ある。
従来、この様な悪臭を脱臭する方法上して、悪臭物質と
薬剤とを化学反応させる方法、芳香剤で悪臭物質をマス
キングする方法、活性炭やゼオライトなどで悪臭物質を
吸着する方法、およびこれらの方法を組み合わせて用い
る方法があった。
以上の様に様々な脱臭方法が使用されているが、化学反
応させる薬剤、悪臭をマスキングする芳香剤共に、悪臭
と反応した後、再生はほとんど不可能である。また、吸
着剤の場合も、吸着容量が飽和すると脱臭性能は著しく
低下する。従って、どの場合においても、定期的に新し
いものとの交換が必要となってくる。
この様な煩わしい操作の頻度を大巾に減少あるいはこの
操作そのものが必要でなくなる脱臭方法として、酸化チ
タンなどの半導体に紫外線を照射し、それによって励起
された半導体が有機物などを酸化分解する光触媒の利用
が試みられている。
その従来例の1つを第3図、第4図に示す。
第3図は、従来例の脱臭装置の斜視図、第4図は第3図
に示された反応室の要部斜視図である。
図において、8は基台、9は紫外線を発生しうる電灯、
13は反応室、10a〜10eは案内フィン、11は送
風機、12はカバーである。反応室13の案内フィン1
0には半導体層が設けられている。この半導体層は、セ
ラミックペーパー、金属板などに半導体触媒を担持した
ものである。
発明が解決しようとする課題 上記のような光触媒を用いた脱臭方法では、−般的によ
く使用されている活性炭で脱臭が困難なアセトアルデヒ
ド類及びその他の悪臭物質を効果的に脱臭し、また、長
期間その性能を維持することが可能になった。
ところが、家庭及びオフィスなどで発生する悪臭は、ガ
ス成分と共に、たとえば、たばこの煙中に含まれる高分
子物質にコチン、その他アルカロイド、フェノール類、
炭化水素など)が混D6って存在する。これら高分子物
質は悪臭を発生しないものも多いが、光触媒反応をおこ
す触媒である金属酸化物表面に付着し、これをおおって
しまうため、触媒に紫外線照射することが不可能になり
、触媒がエネルギーを受けにくくなくなり先触゛媒反応
が低化し、反応劣化を引きおこす。
本発明は、光触媒反応をおこす物質に高分子物質や塵埃
が付着することなく、光触媒反応を継続させ、その高分
子物質をも光触媒反応で分解し低分子化することを目的
とするものである。
課題を解決するための手段 上記目的を達成するために、本発明の光触媒による脱臭
方法は、光触媒を均一に懸濁した水溶液に、悪臭物質を
含む気体を通過させながら、前記光触媒に紫外線を照射
するものである。
作   用 発明者等は、光触媒反応による悪臭分解、無臭化を研究
中であるが、以前よシ悪臭物質と共存することの多い高
分子物質(たばこの煙中のニコチン、その他のアルカロ
イド、フェノール類、炭化水素など)や塵埃が触媒表面
に付着し、紫外線照射がさえぎられることによる光触媒
反応の劣化に悩まされていた。本発明においては、上記
高分子物質の中で水溶性の物質は水に溶解され、不溶性
の物質は、気体に留った状態で水中を通過するため、触
媒表面がおおわれることなく、紫外線照射がさえぎられ
ることなく光触媒反応が進む。さらに水中に溶解した高
分子物質は、水中に留り触媒に接触する時間が増加する
ため、光触媒反応による分解がおこシやすくなシ、どん
どん低分子化されて気体化し、外部へ放出されると推定
できる。
従って、光触媒の懸濁している水溶液は、長時間安定し
た状態を維持することが可能になる。
実施例 以下、図面を参照しながら本発明の実施例について説明
する。
第1図において、1は反応槽、2は紫外線を発する光源
1.3はアルミ製の反射板、4は光触媒を懸濁した水溶
液、5は悪臭を吸引するポンプ、6は悪臭を含んだ気体
の入口、7は浄化された気体の出口である。
反応槽1は幅1Q0111×奥行50m+1 X高さ2
00酊のアルシミ製で光照射面二面に80HX180朋
×厚さ2.Ojlllの溶融石英板8をはめこんだもの
である。
光触媒としては、酸化チタン、酸化イツトリウム、酸化
スズ、酸化亜鉛あるいは酸化タングステン々どの半導体
金属酸化物や、これらに白金、パラジウムあるいはロジ
ウムなどの導電材料を担持したものがある。
ここでは粒径0.1ミクロンオーダーの酸化チタン、酸
化イツトリウムおよび酸化スズを使用した。
触媒使用量は、1gで蒸留水900 mlに懸濁し、マ
グネットスターラ9および攪拌子10で反応中に沈殿し
ない様に攪拌した。
光源2は、紫外線を照射しうるものであれば良く、紫外
線としては、遠紫外線でも近紫外線でも良い。この様な
光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀な
どがあるが、ここでは低圧水銀灯である10Wの殺菌灯
(三共電気製主波長254nm  、GL−1o 、紫
外線出力1.9W)2本を石英板8の面から15111
の距離のところに設置し使用した。
上記構成において、入口6から悪臭を吸引ポンプ5を用
いて1017m の速度で反応槽1に吸引し、光源2よ
シ発生する紫外線によシ励起された反応槽中の触媒4と
接触させることにより、その表面で酸化分解させる。そ
して脱臭された気体は出ロアより出す。
まず、密閉された10olのボックス中に、上記実施例
の脱臭装置のポンプ以外の部分をおき、反応槽1の出口
をホースでのばし、外部に設置したポンプにつないで作
動させポンプから出たホースを再びボックスに戻す。ボ
ックス中でたばこ(セブンスター)1本を燃焼させ60
分間放置した後、密閉ボックス内の空気をサンプリング
する。
その空気を6人のパネラ−によシ、三点比較式臭突法で
臭気濃度を測定する。この操作を6回くり返し、本発明
の脱臭性能変化をみた。
以上の操作を第1表に示す条件で比較しその結果を第2
図に示す。比較例1,2で使用した触媒は、金属酸化物
を30097m’ の割合で直径68.3鱈のセラミッ
クペーパに担持したものを、実施例同様1oOlの密閉
ボックス内に設置し、同じく1oWの殺菌灯(三共電気
製主波長254 m 。
GL−1o、紫外線出力1.8W)2本で照射しながら
、たばこを燃焼させ、60分後の臭気強度を測定した。
この場合1ool空気中にファンを設置し空間内の気体
を攪拌する。比較例3は、実施例と同じ方法で紫外線を
照射しない場合、比較例4は同じく、金属酸化物を懸濁
しない場合である。
第2図の横軸は燃焼させたたばこの本数、縦軸は三点比
較式臭突法により測定した残存しているたばこの臭気濃
度である。
発明の効果 本発明の脱臭方法は、従来、たばこの煙の様な悪臭物質
と共に含まれる高分子物質による光触媒反応の劣化を防
止し、長期使用にも耐えうるものである。
また、本発明は、触媒の劣化防止だけでなく、光触媒反
応の効率化にもすぐれている。すなわち悪臭物質中の水
溶性のもの、低級アミン類、低級脂肪酸などは、水に溶
けこみ濃縮されることにより、光触媒反応系中に滞留す
る時間が増加し、光触媒反応が効率良く行なわれるもの
である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本実施例の光触媒による脱臭装置の断面図、第
2図はたばこの煙による劣化を示す図、第3図は従来の
光触媒による脱臭装置の斜視図。 第4図は第3図の要部斜視図である。 1・・・・・・反応槽、2・・・・・・光源、4・・・
・・・光触媒を入れた水溶液、5・・・・・・吸引ポン
プ。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名0 
  q 1・−反発1 5−411丁ごシフ。 第 図 <A) ”鼎゛挽2て7’57’;+τ°乙不杖(α) 第 図 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 光触媒を均一に懸濁した水溶液に、悪臭物質を含む気体
    を通過させながら、前記光触媒に紫外線を照射する光触
    媒による脱臭方法。
JP63314059A 1988-12-13 1988-12-13 光触媒による脱臭方法 Pending JPH02160021A (ja)

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JP63314059A JPH02160021A (ja) 1988-12-13 1988-12-13 光触媒による脱臭方法

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000036695A (ko) * 2000-03-25 2000-07-05 임한진 광촉매를 이용한 습식 악취제거 장치
JP2006297170A (ja) * 2005-04-07 2006-11-02 Institute Of National Colleges Of Technology Japan 酸化亜鉛微細結晶体の光触媒ユニットとその製造方法
JP2008086994A (ja) * 2007-10-29 2008-04-17 Akira Kijihana 湿式排ガス処理装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60187322A (ja) * 1984-03-06 1985-09-24 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 廃棄物の浄化方法

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