JPH02218774A - flexible wiring board - Google Patents

flexible wiring board

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JPH02218774A
JPH02218774A JP4137389A JP4137389A JPH02218774A JP H02218774 A JPH02218774 A JP H02218774A JP 4137389 A JP4137389 A JP 4137389A JP 4137389 A JP4137389 A JP 4137389A JP H02218774 A JPH02218774 A JP H02218774A
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diisocyanate
wiring board
polyamide
flexible wiring
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裕紀 松浦
Isao Kamioka
上岡 勇夫
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Abstract

PURPOSE:To obtain the subject wiring board excellent in heat resistance, free from curling and having an excellent workability in circuit work by forming a polyamide-imide resin layer composed of a specified aromatic diisocyanate, etc., and a trimellitic anhydride on a metallic foil. CONSTITUTION:The objective wiring board produced by forming a polyamide- imide resin layer represented by formula I (R<1> and R<2> are H, halogen, alkyl or alkoxy) composed of a diisocyanate component consisting of an aromatic diisocyanate (preferably compound of formula II) and another aromatic diisocyanate (e.g. diphenylmethane-4,4'-diisocyanate) and trimellitic anhydride (derivative) directly or through an adhesives layer on a metallic foil.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ポリアミドイミド樹脂層を金属箔面に直接あ
るいは接着層を介して密着形成したフレキシブル配線基
板に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a flexible wiring board in which a polyamide-imide resin layer is closely formed on a metal foil surface either directly or via an adhesive layer.

〔従来の技術と問題点〕[Conventional technology and problems]

フレキシブル配線基板は、電子回路のフレキシブル性、
小型軽量性、簡略性等を可能にし電子機器に多用されて
いる。
Flexible wiring boards improve the flexibility of electronic circuits,
It is often used in electronic equipment because it is small, lightweight, and simple.

このフレキシブル配線基板は、金属箔とポリイミドフィ
ルムを接着剤を用いてラミネートしたものである。しか
しながら、接着剤層の耐熱性がポリイミドフィルムのそ
れと較べ大きく劣るため、この手法によるフレキシブル
配線基板では、ポリイミドフィルム特有の耐熱性が活か
されず、耐熱性に乏しいという問題がある。
This flexible wiring board is made by laminating metal foil and polyimide film using an adhesive. However, since the heat resistance of the adhesive layer is significantly inferior to that of polyimide film, flexible wiring boards manufactured by this method do not take advantage of the heat resistance peculiar to polyimide film, and have a problem of poor heat resistance.

そこで上記問題に対し、金属箔上にポリイミド前駆体溶
液あるいは、ポリアミドイミド溶液を、直接塗布流延し
加熱処理することによりポリイミド樹脂層あるいは、ポ
リアミドイミド樹脂層を形成し、フレキシブル配線基板
を製造する方法が検討されている。
Therefore, in order to solve the above problem, a polyimide resin layer or a polyamide-imide resin layer is formed by directly coating and casting a polyimide precursor solution or a polyamide-imide solution on a metal foil and heat-treating it, thereby manufacturing a flexible wiring board. Methods are being considered.

しかしながら、ポリイミド樹脂層あるいはポリアミドイ
ミド樹脂層を金属箔上に直接形成する方法で得られたフ
レキシブル配線基板には、ポリイミド樹脂層あるいは、
ポリアミドイミド樹脂層を内側にしてフレキシブル配線
基板がそるカールという現象が生じる。
However, flexible wiring boards obtained by directly forming a polyimide resin layer or a polyamide-imide resin layer on metal foil do not have a polyimide resin layer or a polyamide-imide resin layer.
A phenomenon called curling occurs in which the flexible wiring board is warped with the polyamide-imide resin layer on the inside.

このようなカールは、加工時の取り扱い性等で非常に大
きな障害となる。
Such curls pose a very serious problem in handling during processing.

発明の構成 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者らは、上記問題を解決するために、アミドイミ
ド樹脂層の原料である芳香族ジイソシアネートに着目し
、鋭意検討を重ねた結果、構造式が式(1)で表わされ
る芳香族ジイソシアネートとOCN        N
C0 (R1,R2は、水素、ハロゲン、アルキル基、アルコ
キシ基を示す。) 他の芳香族ジイソシアネートからなるジインシアネート
成分とトリメリット酸無水物または、その誘導体から成
るポリアミドイミド樹脂層を金属箔上に直接あるいは接
着層を介して形成することにより、カールの小さいフレ
キシブル配線基板を発明した。
Structure of the Invention [Means for Solving the Problems] In order to solve the above problems, the present inventors focused on aromatic diisocyanate, which is a raw material for the amide-imide resin layer, and as a result of intensive studies, the structural formula Aromatic diisocyanate represented by formula (1) and OCN N
C0 (R1 and R2 represent hydrogen, halogen, alkyl group, and alkoxy group.) A polyamide-imide resin layer consisting of a diincyanate component consisting of another aromatic diisocyanate and trimellitic acid anhydride or a derivative thereof is placed on a metal foil. We have invented a flexible wiring board with less curl by forming it directly or through an adhesive layer.

以下、本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

本発明で用いる構造式(1)で表わされる芳香族ジイソ
シアネートとしては、例えば、 ジフェニル−4,47−ジインシアネートジフエニルー
3.37−ジインシアネートジフエニルー3.4′−ジ
イソシアネート3.37−シクロロジフエニルー4,4
′−ジイソシアネート2.2′−ジクロロジフェニル−
4,4′−ジイソシアネート3.3′−ジブロモジフェ
ニル−4,4′−ジインシアネート2.27−ジプロモ
ジフエニルー4.47−ジインシアネート3.37−シ
メチルジフエニルー4.47−ジイソシアネート2.2
7−シメチルジフエニルー4.47−ジイソシアネート
2.37−シメチルジフエニルー4.4′−ジイソシア
ネート3.3′−ジエチルジフェニル−4,47−ジイ
ソシアネート2.2′−ジエチルジフェニル−4,47
−ジインシアネート2.3′−ジエチルジフェニル−4
,47−ジイソシアネート3.3′−ジメトキシジフェ
ニル−4,4′−ジイソシアネート2.2′−ジメトキ
シジフェニル−4,47−ジインシアネート2.3′−
ジメトキシジフェニル−4,4′−ジインシアネート3
.37−ジェトキシジフェニル−4,4′−ジイソシア
ネート2.2′−ジェトキシジフェニル−4,4′−ジ
インシアネート2.3′−ジェトキシジフェニル−4,
4′−ジイソシアネートなどが挙げられるが、8.8’
−ジメチルジフェニル−4,4’−ジイソシアネートが
金属箔あるいは、絶縁層との密着力、材料の入手のしや
すさ等から最も好ましい。
Examples of the aromatic diisocyanate represented by the structural formula (1) used in the present invention include diphenyl-4,47-diincyanate diphenyl-3,37-diincyanate diphenyl-3,4'-diisocyanate 3.37- cyclodiphenyl-4,4
'-diisocyanate 2.2'-dichlorodiphenyl-
4,4'-diisocyanate 3.3'-dibromodiphenyl-4,4'-diincyanate 2.27-dibromodiphenyl-4,47-diincyanate 3.37-dimethyldiphenyl-4,47-diisocyanate 2 .2
7-dimethyldiphenyl-4,47-diisocyanate 2.37-dimethyldiphenyl-4.4'-diisocyanate 3.3'-diethyldiphenyl-4,47-diisocyanate 2.2'-diethyldiphenyl-4, 47
-diincyanate 2.3'-diethyldiphenyl-4
,47-diisocyanate 3.3'-dimethoxydiphenyl-4,4'-diisocyanate 2.2'-dimethoxydiphenyl-4,47-diincyanate 2.3'-
Dimethoxydiphenyl-4,4'-diincyanate 3
.. 37-jethoxydiphenyl-4,4'-diisocyanate 2.2'-jethoxydiphenyl-4,4'-diincyanate 2.3'-jethoxydiphenyl-4,
Examples include 4'-diisocyanate, but 8.8'
-Dimethyldiphenyl-4,4'-diisocyanate is most preferred from the viewpoint of adhesion to the metal foil or insulating layer, ease of material availability, and the like.

本発明において、使用される他の芳香族ジイソシアネー
トとしては、 ジフェニルメタン−4,47−ジインシアネートジフエ
ニルメタンー3.37−ジインシアネートジフエニルメ
タンー3.47−ジインシアネートジフエニルエーテル
ー4.47−ジイツシ゛アネートベンゾフェノン−4,
4′−ジインシアネートジフェニルスルホン−4,47
−ジインシアネート2・4−トリレンジインシアネート 2・6−トリレンジイソシアネート m−キシリレンジイソシアネート P−キシリレンジイソシアネート などが挙げられる。
In the present invention, other aromatic diisocyanates used include: diphenylmethane-4,47-diincyanate diphenylmethane-3.37-diincyanate diphenylmethane-3.47-diincyanate diphenyl ether 4.47 - Dicyanate benzophenone-4,
4'-Diincyanate diphenyl sulfone-4,47
-diincyanate 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, P-xylylene diisocyanate, and the like.

これらは各々単独もしくは混合して使用される。These may be used alone or in combination.

これらのジインシアネートのうち、ジフェニルメタン−
4,47−ジイソシアネート、ジフェニルエーテル−4
,47−ジイソシアネートが好ましい。
Among these diincyanates, diphenylmethane
4,47-diisocyanate, diphenyl ether-4
,47-diisocyanate is preferred.

本発明において、式(1)で表わされる芳香族ジイソシ
アネートと、他の芳香族ジインシアネートのモル比は、
80 :70〜90:10が好ましい。これは、式(1
)で表わされる芳香族ジインシアネートが30%以下に
なると、フレキシブル配線基板が、ポリアミドイミド樹
脂層を内側にしてカールが生じてしまい、逆に90%以
上になると、ポリアミドイミド樹脂の可とう性が減少し
、ポリアミドイミド樹脂層の伸び、強度が十分でなくな
るためである。
In the present invention, the molar ratio of the aromatic diisocyanate represented by formula (1) and other aromatic diisocyanate is as follows:
80:70 to 90:10 is preferred. This is the formula (1
) If the content of aromatic diincyanate is less than 30%, the flexible wiring board will curl with the polyamide-imide resin layer inside, and if it is more than 90%, the flexibility of the polyamide-imide resin will deteriorate. This is because the elongation and strength of the polyamide-imide resin layer become insufficient.

本発明におけるポリアミドイミド塗料の製造法は特に限
定はなく、例えば、略化学量論量のトリメリット酸無水
物または、その誘導体とジイソシアネート成分とを有機
極性溶媒中で0〜180℃の温度範囲で1〜24時間反
応させポリアミドイミド塗料とすることにより行なわれ
る。
The method for producing the polyamide-imide paint according to the present invention is not particularly limited. For example, approximately stoichiometric amounts of trimellitic anhydride or its derivatives and a diisocyanate component are mixed in an organic polar solvent at a temperature in the range of 0 to 180°C. This is carried out by reacting for 1 to 24 hours to form a polyamide-imide paint.

前記有機極性溶剤としては、N−メチル−2−ビロリド
ン、N、N’−ジメチルホルムアミド、N、N’−ジメ
チルアセトアミドなどが挙げられ、これらを単独あるい
は、混合して使用することができる。
Examples of the organic polar solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, N,N'-dimethylformamide, N,N'-dimethylacetamide, and the like, and these can be used alone or in combination.

以上のようにして得られたポリアミドイミド塗料を金属
箔上に直接あるいは接着層を介して、塗布流延し加熱処
理を行いポリアミドイミド樹脂層を形成する。
The polyamide-imide coating material obtained as described above is coated and cast on a metal foil directly or via an adhesive layer, and then heat-treated to form a polyamide-imide resin layer.

前記金属箔としては、銅、アルミニウム、鉄、金、銀、
Pd 、Ni 、Cr +Moや、これらの合金が挙げ
られる。銅箔を用いる場合は電解銅箔、圧延銅箔あるい
はこれらを表面処理したものを用いるとポリアミドイミ
ド樹脂と金属箔との接着をより強くするため好ましい。
The metal foil includes copper, aluminum, iron, gold, silver,
Examples include Pd, Ni, Cr + Mo, and alloys thereof. When copper foil is used, it is preferable to use electrolytic copper foil, rolled copper foil, or a surface-treated version of these in order to strengthen the adhesion between the polyamide-imide resin and the metal foil.

前記接着層としては、金属箔と強固に接着するものが好
ましく、構造式が式(2)で表わされるポリアミドイミ
ド樹脂層が最も好ましい。
The adhesive layer is preferably one that firmly adheres to the metal foil, and most preferably a polyamide-imide resin layer whose structural formula is represented by formula (2).

塗布方法としては、ナイフコーク−リバースコーターテ
ィップコーク−フローコーク−など公知の手段を利用す
ることができる。
As a coating method, known means such as knife caulk, reverse coater tip caulk, flow caulk, etc. can be used.

以下、実施例に基づき本発明をより詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in more detail based on Examples.

〔実施例1〕 くポリアミドイミド塗料の合成〉 温度計、冷却管、塩化カルシウム、攪拌器、Ng吹込み
口を取りつけたフラスコに毎分150m1!のN2を流
しながら、84.7 gのトリメリット酸無水物(以下
TMAと略記する)と93.2gの3.3′−ジメチル
ジフェニル−4,47−ジインシアネート(以下TOD
Iと略記する)と22.1gのジフェニルメタン−4,
4′−ジイソシアネート(以下MDIと略記する)とを
フラスコに投入した後、800gのN−メチル−2−ピ
ロリドンを入れ80°Cで3時間反応させ、さらに20
°C/ hr の割合で昇温させ170℃で加熱を止め
保温し30°CのB型粘度が2000〜3000cps
になったところで加熱を終了し濃度20%のポリアミド
イミド塗料を得た。このポリアミドイミド塗料を厚さ3
5μmの電解銅箔上にドクターナイフを用いて流延塗布
し、100℃×30分。
[Example 1] Synthesis of polyamide-imide paint> A flask equipped with a thermometer, cooling tube, calcium chloride, stirrer, and Ng inlet was heated at 150 m1 per minute! While flowing N2 of
(abbreviated as I) and 22.1 g of diphenylmethane-4,
After putting 4'-diisocyanate (hereinafter abbreviated as MDI) into a flask, 800 g of N-methyl-2-pyrrolidone was added and reacted at 80°C for 3 hours.
Raise the temperature at a rate of °C/hr, stop heating at 170 °C, keep warm, and type B viscosity at 30 °C is 2000 to 3000 cps.
Heating was terminated when the temperature reached 20%, and a polyamide-imide paint with a concentration of 20% was obtained. Apply this polyamide-imide paint to a thickness of 3
Cast coating on 5 μm electrolytic copper foil using a doctor knife at 100°C for 30 minutes.

200’CX30分、280°C×30分加熱し、厚さ
25μmのポリアミドイミド樹脂を形成しフレキシブル
配線基板を得た。
Heating was performed at 200°C for 30 minutes and at 280°C for 30 minutes to form a polyamide-imide resin with a thickness of 25 μm to obtain a flexible wiring board.

〔実施例2〕 実施例1のジイソシアネート成分子ODI /MDIの
モル比を7/3に変え、実施例1と同様にして、フレキ
シブル配線基板を得た。
[Example 2] A flexible wiring board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the molar ratio of the diisocyanate components ODI/MDI in Example 1 was changed to 7/3.

〔実施例3〕 実施例1のジイソシアネート成分子ODI/MDIのモ
ル比を4/6に変え、実施例1と同様にしてフレキシブ
ル配線基板を得た。
[Example 3] A flexible wiring board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the molar ratio of the diisocyanate components ODI/MDI in Example 1 was changed to 4/6.

〔比較例1〕 実施例1のジイソシアネート成分子ODI/MDIのモ
ル比を1070に変え、実施例1と同様にしてフレキシ
ブル配線基板を得た。
[Comparative Example 1] A flexible wiring board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the molar ratio of the diisocyanate components ODI/MDI in Example 1 was changed to 1070.

〔比較例2〕 実施例1のジインシアネート成分子ODI/MDIのモ
ル比を278に変え、実施例1と同様にしてフレキシブ
ル配線基板を得た。
[Comparative Example 2] A flexible wiring board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the molar ratio of diincyanate component ODI/MDI in Example 1 was changed to 278.

〔実施例4〕 実施例1のジインシアネート成分のうち、MDIヲ、ジ
フェニルエーテル−4,47−ジイソシアネート(以下
EDIと略記する)に変え、TODI/EDIのモル比
を9/1にし、実施例1と同様にしてフレキシブル配線
基板を得た。
[Example 4] Among the diincyanate components of Example 1, MDI was changed to diphenyl ether-4,47-diisocyanate (hereinafter abbreviated as EDI), and the molar ratio of TODI/EDI was set to 9/1. A flexible wiring board was obtained in the same manner as above.

〔実施例5〕 実施例5のジインシアネート成分子ODI/EDIのモ
ル比を7/3に変え、実施例1と同様にしてフレキシブ
ル配線基板を得た。
[Example 5] A flexible wiring board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the molar ratio of diincyanate component ODI/EDI in Example 5 was changed to 7/3.

〔実施例6〕 実施例5のジインシアネート成分子ODI /EDIの
モル比を4/6に変え、実施例1と同様にしてフレキシ
ブル配線基板を得た。
[Example 6] A flexible wiring board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the molar ratio of diincyanate components ODI/EDI in Example 5 was changed to 4/6.

〔比較例3〕 実施例5のジイソシアネート成分子ODI /EDIの
モル比を2/8に変え、実施例1と同様にしてフレキシ
ブル配線基板を得た。
[Comparative Example 3] A flexible wiring board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the molar ratio of the diisocyanate components ODI/EDI in Example 5 was changed to 2/8.

〔実施例7〕 温度計、冷却管、塩化カルシウム、攪拌器、N2吹込み
口を取りつけたフラスコに毎分150nl!のN2を流
しながら、108.6gのTMAと、141.4 gの
MDIとをフラスコに投入した後、1000gのN−メ
チル−2−ピロリドンを入れ80’Cで3時間反応させ
、さらに20°C/ hrの割合で昇温させ170’C
で加熱を止め保温し30℃のB型粘度が2000〜30
00cpsになったところで加熱を終了し濃度20%の
式(2)で表わされるポリアミドイミド塗料を得た。
[Example 7] A flask equipped with a thermometer, cooling tube, calcium chloride, stirrer, and N2 inlet was heated at 150 nl per minute! After introducing 108.6 g of TMA and 141.4 g of MDI into a flask while flowing N2, 1000 g of N-methyl-2-pyrrolidone was added and reacted at 80'C for 3 hours, and further heated at 20°C. Raise the temperature to 170'C at a rate of C/hr.
Stop heating and keep warm until the B type viscosity at 30℃ is 2000~30.
Heating was terminated when the temperature reached 00 cps, and a polyamide-imide paint represented by formula (2) with a concentration of 20% was obtained.

このポリアミドイミド塗料を厚さ35μmの電解銅箔上
にドクターナイフを用いで流延塗布し、ioo℃で15
分、180℃でio分分熱熱、厚さ5.c+mの式(2
)で表わされるポリアミドイミド樹脂を形成した。
This polyamide-imide paint was cast onto an electrolytic copper foil with a thickness of 35 μm using a doctor knife, and
minutes, heat at 180℃ for io minutes, thickness 5. The formula of c+m (2
) was formed.

さらに、実施例2で合成されたポリアミドイミド塗料を
同様にドクターナイフを用いて流延塗布し、100℃で
30分、200℃で30分、280°C×30分加熱し
、厚さ20μmのポリアミドイミド樹脂を持つフレキシ
ブル配線基板を得た。
Furthermore, the polyamide-imide paint synthesized in Example 2 was similarly cast using a doctor knife, heated at 100°C for 30 minutes, 200°C for 30 minutes, and 280°C x 30 minutes to form a film with a thickness of 20 μm. A flexible wiring board with polyamide-imide resin was obtained.

〔実施例8〕 実施例7において用いたところの実施例2で合成された
ポリアミドイミド塗料を、実施例3で合成されたポリア
ミドイミド塗料に変え、実施例7と同様にしてフレキシ
ブル配線基板を得た。
[Example 8] The polyamide-imide paint synthesized in Example 2 used in Example 7 was replaced with the polyamide-imide paint synthesized in Example 3, and a flexible wiring board was obtained in the same manner as in Example 7. Ta.

〔実施例9〕 実施例7において用いたところの、実施例2で合成され
たポリアミドイミド塗料を、実施例5で合成されたポリ
アミドイミド塗料に変え、実施例7と同様にしてフレキ
シブル配線基板を得た。
[Example 9] The polyamide-imide paint synthesized in Example 2 used in Example 7 was replaced with the polyamide-imide paint synthesized in Example 5, and a flexible wiring board was manufactured in the same manner as in Example 7. Obtained.

〔比較例4〕 市販の25μmのポリイミドフィルムを接着剤を用いて
35μmの電解銅箔ヘラミネートしてフレキシブル配線
基板を得た。
[Comparative Example 4] A commercially available 25 μm polyimide film was laminated with a 35 μm electrolytic copper foil using an adhesive to obtain a flexible wiring board.

以上の実施例及び比較例から得られたフレキシブル配線
基板について以下の測定方法により特性評価を行った結
果を表1に示す。
Table 1 shows the results of characteristic evaluation of the flexible wiring boards obtained from the above Examples and Comparative Examples using the following measurement method.

曲率半径 :縦・横5cmのフレキシブル基板を図1に
示すようにポリイミド樹脂 層がガラス側となるようにガラス 板上静置した後、ひずみ量δ(cm)。
Radius of curvature: amount of strain δ (cm) after a flexible substrate measuring 5 cm in length and width is placed on a glass plate with the polyimide resin layer facing the glass side as shown in FIG.

a(an)を測定し次式より曲率半径 P(an)を求め、カールの程度を評 価した。Measure a(an) and calculate the radius of curvature from the following formula: Find P(an) and evaluate the degree of curl. I valued it.

ラフにて引張り速度50an/分の条 件で測定した。Rough tensile speed 50an/min Measured at

フィルム伸び率 :幅5皿、チャック間20 mmの試
料を作成し、オー、トゲラフにて引張 り速度50 mm /分の条件で測定した。
Film elongation rate: Samples with a width of 5 pans and a chuck distance of 20 mm were prepared, and measured using an O-Toge Ruff at a tensile speed of 50 mm/min.

熱老化性 :恒温槽にて200℃で240時間放置した
後、銅箔との接着力を測定し た。
Heat aging property: After being left at 200° C. for 240 hours in a constant temperature bath, the adhesive strength with copper foil was measured.

耐屈曲性: JIS P−8115に準拠し、折り曲げ
面の屈曲半径0.4n+m+制止重量0.5kgの条件
で測定した。
Bending resistance: Measured in accordance with JIS P-8115 under the conditions of bending radius of the bending surface of 0.4 n+m + restraining weight of 0.5 kg.

半田耐熱性 : JIS C−6481に準拠し、30
0℃にて層間剥離、ふくれ、ボイドの 発生する所要時間を測定した。
Soldering heat resistance: Based on JIS C-6481, 30
The time required for delamination, blistering, and voids to occur was measured at 0°C.

銅箔との接着力 :  JIS  C−6481に準拠
し、幅10a+mの試料を180度剥離させオートグ フレキシブル配線基板の特性値として、曲率半径1oa
n以上好ましくは20an以上、銅箔との接着力1.0
kg/am以上、フィルム伸度10%以上耐油曲性20
0回以上、半田耐熱性300℃60秒にて剥離、フクレ
なし熱老化性初期銅箔との接着力の50%以上かつ0.
86)Cg/an以上ならば、実用上なんら問題は生じ
ない。
Adhesive strength with copper foil: In accordance with JIS C-6481, a sample with a width of 10a+m was peeled off at 180 degrees and a radius of curvature of 1oa was determined as a characteristic value of an autog flexible wiring board.
n or more, preferably 20an or more, adhesive strength with copper foil 1.0
kg/am or more, film elongation 10% or more, oil bending resistance 20
0 times or more, soldering heat resistance, peeling at 300°C for 60 seconds, no blistering, heat aging, 50% or more of adhesive strength with initial copper foil, and 0.
86) If it is above Cg/an, no practical problem will occur.

表1に示されているように、ポリアミドイミド樹脂層と
銅箔との間に接着剤層が存在する比較例4のフレキシブ
ル配線基板に較べ、接着剤層を有さない7レキシプル配
線基板は、半田耐熱性、熱老化性に優れることがわかる
As shown in Table 1, compared to the flexible wiring board of Comparative Example 4 in which an adhesive layer is present between the polyamide-imide resin layer and the copper foil, the 7 lexiple wiring board without an adhesive layer has It can be seen that it has excellent soldering heat resistance and heat aging resistance.

実施例1〜6、比較例1〜3より、TODIの割合が増
すにつれカールが小さくなり、接着力、フィルムの伸び
率、耐屈曲性、熱老化性が劣・りてくる。従って、TO
DIとMDIあるいはEDIのモル比が80:70〜9
0:10の範囲において上記特性をすべて満足するフレ
キシブル配線基板が得られることがわかる。
From Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3, as the proportion of TODI increases, the curl becomes smaller and the adhesive strength, film elongation rate, bending resistance, and heat aging resistance become worse. Therefore, T.O.
The molar ratio of DI and MDI or EDI is 80:70-9
It can be seen that in the range of 0:10, a flexible wiring board that satisfies all of the above characteristics can be obtained.

また、実施例7〜9においては、絶縁層を介して、ポリ
アミドイミド樹脂を形成しても何ら問題は生ぜず、絶縁
層として、金属箔と強固に接着する樹脂を使用すること
により接着力°を大きく向上させることができる。
Furthermore, in Examples 7 to 9, no problem occurred even if the polyamide-imide resin was formed through the insulating layer, and the adhesive strength was improved by using a resin that firmly adheres to the metal foil as the insulating layer. can be greatly improved.

発明の効果 以上のように本発明のフレキシブル配線基板はポリアミ
ドイミド樹脂層と金属箔との間に接着剤層が存在しない
ため、種々特性のうち、特に耐熱性にすぐれ高温条件下
での使用に効果的である。
Effects of the Invention As described above, since the flexible wiring board of the present invention does not have an adhesive layer between the polyamide-imide resin layer and the metal foil, it has excellent heat resistance among various properties and is suitable for use under high temperature conditions. Effective.

また、カールがほとんど生じないため、回路加工時の作
業性に優れるという利点を有している。
Furthermore, since almost no curling occurs, it has the advantage of excellent workability during circuit processing.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、曲率半径の測定方法を示す概略図である。 (1)金属箔 (2)  ポリイミド樹脂層 (3)ガラス板 図 FIG. 1 is a schematic diagram showing a method for measuring the radius of curvature. (1) Metal foil (2) Polyimide resin layer (3) Glass plate figure

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)構造式が式(1)で表わされる芳香族ジイソシア
ネートと ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(1) (R_1,R_2は水素、ハロゲン、アルキル基、アル
コキシ基を示す。) 他の芳香族ジイソシアネートからなるジイソシアネート
成分とトリメリット酸無水物または、その誘導体とから
成るポリアミドイミド樹脂層を金属箔上に直接あるいは
接着剤層を介して、形成することを特徴とするフレキシ
ブル配線基板。
(1) Aromatic diisocyanate whose structural formula is represented by formula (1) ▲ There are numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼... (1) (R_1 and R_2 represent hydrogen, halogen, alkyl group, and alkoxy group. ) A flexible wiring characterized in that a polyamide-imide resin layer consisting of a diisocyanate component consisting of another aromatic diisocyanate and trimellitic acid anhydride or a derivative thereof is formed on a metal foil directly or via an adhesive layer. substrate.
(2)式(1)で表わされる芳香族ジイソシアネートと
他の芳香族ジイソシアネートのモル比が30:70〜9
0:10である請求項1記載のフレキシブル配線基板。
(2) The molar ratio of aromatic diisocyanate represented by formula (1) to other aromatic diisocyanate is 30:70 to 9
The flexible wiring board according to claim 1, wherein the ratio is 0:10.
(3)式(1)で表わされる芳香族ジイソシアネートが
▲数式、化学式、表等があります▼である 請求項1記載のフレキシブル配線基板。
(3) The flexible wiring board according to claim 1, wherein the aromatic diisocyanate represented by formula (1) has a formula, a chemical formula, a table, etc.
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