JPH0279234A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はカセットに挿着しないで使用するいわゆるカセ
ットフリータイプの光ディスクに関するものである。

〔従来の技術〕

近年、高密度大容量記憶、非接触の記録再生。

アクセスの容易さ等の観点より光ディスクが注目されて
いる。この光ディスクの基板は案内用のグループ、プレ
フォーマットを有しており、量産性の点からインジェク
ション法によるプラスチック基板が用いられるのが一般
的である。基板に使用されるプラスチック材料としては
、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、エポ
キシ樹脂等が挙げられるが、これらは一般に傷つきやす
い性質を有する。ところが、基板面から非常に絞ったレ
ーザー光を照射して記録再生を行うので、多少の傷があ
ってもすぐには問題とならず、また通常はカセットに入
れて使用するので問題は少ない。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、上記カセットタイプの光ディスクはその
メディアコストの占める割合が非常に高いという欠点が
ある。

そこで、カセットを用いないカセットフリータイプの光
ディスクとすることが考えられるが、このタイプの光デ
ィスクでは、手で直接取扱うため、誤って落下させたり
固い物体と接触させたりして基板表面に傷をつけてしま
う可能性が大きい、この場合、ある程度以上のひどい傷
がつくと、それに起因してビット・エラーが発生するよ
うになる。

また、それ程ひどい傷でなくても細かな傷が長期にわた
って集積される“と傷の部分に入り込んだゴミによる影
響で乱反射が起き、記録面上でのレーザーパワーが減少
する事態が発生する。この場合、記録媒体としてのみか
け上の感度が低下し、ビット・エラー・レートが増加し
てしまう。

本発明はこのような従来技術の欠点を解消するためにな
されたもので、プラスチック基板表面の傷つきを防止し
、ビット・エラーの起きにくい低コストのカセットフリ
ータイプの光ディスクを提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明によれば、上記目的を達成するため、プラスチッ
ク基板上に直接又は中間層を介して記録膜を設け、必要
に応じてその上に保護膜さらにカバー層を設けて構成さ
れ、カセットに挿着しないで直接取扱われるタイプの光
ディスクにおいて。

記録膜が設けられている面と反対側のプラスチック基板
面上に、モース硬度で４度以上の透明な材質からなる耐
傷性保護膜を設けたことを特徴とする光ディスクが提供
される。

次に本発明の光ディスクを図面により詳細に説明する。

第１図は本発明の光ディスクの基本構成を示す断面図で
１図中１はプラスチック基板、２は記録膜、３は耐傷性
保護膜である。プラスチック基板１を構成する材料とし
ては、ポリメチルメタクリレート。

ポリカーボネート、エポキシ樹脂、オレフィン樹脂、フ
ェノール樹脂等の材料が挙げられる。記録膜２を構成す
る材料としては、追記形光ディスク（Ｗｒｊ、ｔｓ　０
ｎｃｅ　００）の場合、ビット式では、　Ｔｅ系金属膜
、有機色素膜等、相変化タイプでは、ＴｅＯｘ系等が使
用され、また書換形光ディスク（ＥｒａｓａｂｌａＯＤ
）の場合、光磁気タイプではＴｂＦｅＣｏ、　ＴｂＤｙ
ＦｅＣｏ、ＴｂＮｂＦｅＣｏ等、相変化タイプではＴｅ
Ｏｘ系、ＩｎＳｅ系。

５ｂＳｅ系等の材料が挙げられる。耐傷性保護膜３を構
成する材料としては、ガラス（Ｓｉｎ、−ＡらＱ３−Ｈ
！＋１）０−Ｍ’″’ｏ、：Ｍ’１′：アルカリ金属、
Ｍ１″ｌ；アルカリ土類金属）、フェライト（ガーネッ
ト、スピネル、六方晶系）等のモース硬度で４度以上の
材料が挙げられ、これらをスパッタあるいは蒸着により
成膜する。また、オルガノシロキサンをスピナーで塗布
した後、乾燥させてもよい。

次に本発明による両面記録型の光ディスクの構造例につ
いて述べる。先ず、ピット式の追記形光ディスクでは、
プラスチック基板の一方の面に記録膜を設けるとともに
他方の面に耐傷性保護膜を設けてなる一対の媒体を、記
録膜側を内側にして。

内周及び外周スペーサを挾んで接着剤で接合したいわゆ
るエアーサンドインチ型構造とする。相変化タイプの追
記形光ディスクでは、上記一対の媒体を直接又はカバー
層を介して接着剤で接合した構造とする。この場合、一
般に記録膜の上に保護膜を設ける。光磁気タイプ及び相
変化タイプの書換形光ディスクも上記一対の媒体を直接
又はカバー層を介して接着剤で接合した構造とする。

第２図に両面記録型の光磁気ディスクの構造例を断面図
で示す、この光磁気ディスクは、プラスチック基板１の
一方の面に中間層４を介して例えば非晶質磁性合金膜よ
りなる記録膜２を設け、さらにその上に保護膜５、カバ
ー層６を設けるとともに。

他方の面に耐傷性保護膜３を設けてなる一対の媒体を、
記録膜２側を内側にして、接着層７により接合した構造
となっている。

以上、両面記録型の光ディスクの構造について述べてき
たが１本発明によれば、片面記録型すなわち単板構成の
光ディスクとすることもできる。

この場合、一般に、プラスチック基板の一方の面上に中
間層を介して記録膜を設けるとともに、他方の面上に耐
傷性保護膜を設けた構造となる。

〔実施例〕

以下に実施例をあげて本発明をさらに説明するが１本発
明はこれら実施例のみに限定されるものではない。

実施例１ プラスチック基板としてポリカーボネート基板（直径１
３０ｍ、厚さ１．２園）を用い、高周波マグネトロンス
パッタ装置において硼硅酸ガラスをターゲットとし、到
達真空度１０−’Ｔｏｒｒ、　Ａｒガス圧１ｍＴｏｒｒ
にて上記基板上に厚さ７０００人の耐傷性保護膜をスパ
ッタリングにより成膜した。この保護膜表面のモース硬
度を測定したところ５〜６度であった。

その後、この耐傷性保護膜を設けた基板を用い。

該保護膜形成面とは反対の基板面に、中間層として厚さ
８００人のＳｉＮ膜を、記録膜として厚さ８００人のＴ
ｂＦｅＣｏ磁性膜を、保護膜として厚さ１０００人のＳ
ｉＮ膜を高周波マグネトロンスパッタ装置で順次形成し
た。さらに、ＳｉＮ保護膜の上に紫外線硬化型樹脂を１
０１Ｊａの厚さにコーティングし、単板型光磁気ディス
クを作成した。

実施例２ プラスチック基板としてポリカーボネート基板（直径８
６ｍ、厚さ１　、２　ｍ　）を用い、耐傷性保護膜とし
てガス溶射による低温溶射法によりＡｎ、０３−ＴｉＯ
２膜を５癖の厚さで上記基板上に形成した。この保護膜
表面のモース硬度を測定したところ６度であった。後は
実施例１と同様にして単板型光磁気ディスクを作成した
。

〔発明の効果〕

以上詳細に説明したように１本発明によれば、記録膜の
形成面とは反対側の面上にモース硬度で４度以上の透明
な材質からなる耐傷性保護膜を設けたので、以下のよう
な効果が得られる。

■カセットフリータイプであるにもかかわらず、基板表
面に傷がつきにくく、傷によるビット・エラーが起きに
くくなる。

■従来、カセットフリータイプにすると細かな傷による
汚れによりレーザー光の透過量が減少し。

これによりみかけ上の感度が低下してビット・エラー・
レートが上昇するという事態が生じる場合があったが、
本発明によればこのような原因によるビット・エラー・
レートの上昇を抑えることが可能となる。

■耐傷性保護膜の形成によるコストアップはカセットを
使用した場合のコストアップに比べ非常に少ない、特に
スパッタ、蒸着により耐傷性保護膜を形成する場合には
他の膜形成に使用するスパッタ装置又は蒸着装置を使用
できるため、耐傷性保護膜形成によるコストアップは特
に少なくなる。

このため、カセットタイプの光ディスクと比べ、コスト
が大幅に低減した光ディスクの提供が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光ディスクの基本構成を示す断面図、
第２図は本発明による両面記録型の光磁気ディスクの構
造例を示す断面図である。 １・・・プラスチック基板　　２・・・記録膜３・・・
耐傷性保護膜　　　　４・・・中間層５・・・保護膜　
　　　　　　６・・・カバー層７・・・接着層 特許出願人　株式会社　リ　　コ　　−第１図 第２図 １−プーツスツーソク＠＊　　　５−＃＊ノ１１ツ；。 ２；″１；乙４シ糺ｌｉｔ　　　　　　　　　　ｓ−ａ
ノぐ一７＾：１・３：員トＩ□ａシコｔａ阻　７二Ｊ痛
）、１４４：中間眉

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）プラスチック基板上に直接又は中間層を介して記
   録膜を設け、必要に応じてその上に保護膜さらにカバー
   層を設けて構成され、カセットに挿着しないで直接取扱
   われるタイプの光ディスクにおいて、記録膜が設けられ
   ている面と反対側のプラスチック基板面上に、モース硬
   度で４度以上の透明な材質からなる耐傷性保護膜を設け
   たことを特徴とする光ディスク。