JPH03135042A - ボンディングワイヤの接合方法およびそれに用いる被覆装置 - Google Patents

ボンディングワイヤの接合方法およびそれに用いる被覆装置

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JPH03135042A
JPH03135042A JP1273521A JP27352189A JPH03135042A JP H03135042 A JPH03135042 A JP H03135042A JP 1273521 A JP1273521 A JP 1273521A JP 27352189 A JP27352189 A JP 27352189A JP H03135042 A JPH03135042 A JP H03135042A
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JP
Japan
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bonding
wire
coating
capillary
terminal
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JP1273521A
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Takahide Ono
恭秀 大野
Kohei Tatsumi
宏平 巽
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Nippon Steel Corp
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Nippon Steel Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体ボンディングワイヤの接合方法、およ
びそれに用いるボンディングワイヤの被覆装置に関する
ものである。
(従来の技術) 従来、半導体装置の製造過程で用いられるボンディング
ワイヤは、例えば金(Au)、銅(Cu)またはアルミ
ニウム(Ai) )よりなる導電性のワイヤがそのまま
の状態で使用されている。
そのため、このようなワイヤを用いて半導体チップのポ
ンディングパッドと、リードフレームのインナーリード
のごとき外部出力端子への導電部とを、ボンディングす
る場合に、ボンディング不良、ショート不良を生ずると
いう問題がある。
特に、LSIにおける多ビン化により、チップとインナ
ーリードとの距離が大きくなる傾向に伴って、ワイヤの
スパンを長くする必要があるが、このような場合には、
ワイヤがカール現象を起こし、隣接するワイヤ等との接
触に起因するショート不良がより発生しやすくなってい
る。
このためワイヤ同志あるいはワイヤと他の導電部との接
触によるショート不良を防止することが試みられている
。すなわち予め絶縁材料をコ−ティングしたワイヤを用
いて接続する方法がそれであり、このことは、例えば、
特開昭59−154054号公報、特開昭80−224
255号公報、特開昭62−139217号公報等に開
示されている。
しかし、予め被覆したワイヤを接合することはきわめて
難しく、たとえ接合できたとしても、接合状態は裸のワ
イヤを接合する場合と比較して劣り、接合強度の低下を
招くか、接合能率の低下をもたらしている。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は、ボンディングワイヤの接合部分は裸のままと
し、ボンド間のみを絶縁被覆することによって、接合部
の強度は従来のままのものが得られ、しかも、ワイヤの
ショート等による不良発生を防止するボンディングワイ
ヤの接合方法およびその被覆装置を提供するものである
(課題を解決するための手段) 本発明は、半導体のリードフレームと半導体電極を接続
するボンディングワイヤの配線作業の際に、絶縁被覆用
材料をボンド間のボンディングワイヤにコーティングし
ながら配線することを特徴とするボンディングワイヤの
接合方法および、ボンド部とキャピラリー先端との間に
存在するボンディングワイヤに接近もしくは接触させて
、ボンディングワイヤ表面に絶縁被覆用材料をコーティ
ングする端子を設けたことを特徴とするボンディングワ
イヤの被覆装置である。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の接合方法による接合の過程を説明する。
第5図は、−船釣なワイヤのボンディング方法を図示し
たものである。ワイヤのボンディング方法では、ボンデ
ィングツールであるキャピラリー1の内部を通っている
ワイヤ2の先端を、アーク入熱で溶融させ、これを凝固
させてボール部10を形成し、このボール部10を、半
導体チップ4上に形成されたアルミニウムパッド(電極
)5に押しつけてポールボンディング(第1ボンデイン
グ)しだ後(第5図a)、キャピラリー1をインナーリ
ード部11に移動させ(第5図b)、ワイヤの他端側を
インナーリード11にスティッチボンディング(第2ボ
ンデイング)する(第5図C)。
このような接続過程において、本発明方法は、第3図に
図示するように、第1ボンドと第2ボンドの中間で、ボ
ンディングワイヤに外部から絶縁被覆用の材料である樹
脂6をコーティングする工程を挿入するものである。
この工程によってボンディングワイヤに絶縁被覆用飼料
を被覆する長さとしては、第1ボンド直後から第2ボン
ド直前までの領域か望ましいが、必ずしもその全領域を
被覆する必要はなく、ショート不良を発生しやすい部分
をコーティングすればよい。また被覆材料は有機樹脂か
望ましく、コーテイング後は絶縁性かあり、しかもワイ
ヤと密性性のよいものであることが必要である。
本発明のコーティング工程は、その−例を第3図の概念
図に示すように、第1ボンデイング後、ワイヤ2を移動
させるキャピラリー1の先端から、ワイヤ2にそって少
し出た位置に被覆(コーティング)用端子3を配置し、
ワイヤにコーティングをする。この際、キャピラリー1
に追従して被覆用端子3も移動できる構造としており、
ワイヤの必要な長さに、コーティング材料である絶縁性
樹脂6を、応答性よくコーティングする(第3図a)。
ワイヤ2の表面には、被覆用端子3と、キャピラリー1
との間に、第2ボンドの接合部となる非コーテイング部
15を残して〈必要長さコーティングを行い、その後被
覆用端子3を別の位置に逃避させ(第3図b)、キャピ
ラリー1をインナーリード部11に移動して第2ボンド
を打つ(第3図C)。
次に本発明を実施するための具体的な装置を図面に基づ
いて説明する。
例えば、第1図に示すように、ポールボンディングを行
う接合装置のキャピラリー1の先端より、ワイヤ2に沿
って少し出た位置にマイクロデイスペンサー8をとりつ
け、吐き出しコントローラー7により、絶縁用材料であ
る樹脂6を応答性良く必要な量を吐き出す機構になって
いる。
しかも、樹脂が飛散しないでワイヤにコーティングする
ように、マイクロデイスペンサー8の構造は工夫されて
いる。すなわち、その先端の形状は、例えば、第2図に
示すようなもので、吐き出した樹脂がワイヤに均一に塗
布され、また他に飛散しないため、吹き出し穴9を、リ
ング状(第2図a)か、もしくは近接して対向するノズ
ル1B先端に(第2図b)設けることが望ましい。場合
によっては、飛散したものを回収するための吸い込み装
置を近傍に設置しても良い。図中17は支持具である。
第1および、第2ボンドの接合時、ボール形成時などに
は、この先端のデイスペンサ一部が作業が邪魔にならな
いように、この場所から作業に支障のない別の位置へ移
動できるようになっている。
第2図aはリング状デイスペンサーが照合部18で開閉
又は分割可能な構造とし、ワイヤ位置から容易に取外す
ことができる。
また、第3図に示すように、キャピラリーが第1ボンド
の後、垂直に上がり、その際に必要な部分のワイヤに被
覆を行って、先端のデイスペンサ一部分を上方に逃がし
てもよい。
あるいはデイスペンサー装置で吹き付ける代わりに第4
図に示すように、被覆材を含浸できるスポンジ、フェル
ト13等を被覆用端子3として用いて、ワイヤに接触さ
せてコーテイング材を塗布する方法でも良い。例えば端
子3は二分割になっており、コーティングする場合はワ
イヤ2を両側から被覆用端子3ではさんで被覆材を塗布
する構造等を用いる。
絶縁用の被覆材として使用可能な樹脂は、例えば、ポリ
エステル、ポリプロピレン、ポリイミド、ポリウレタン
等の有機材料を必要に応じて、溶媒に溶かして使用する
また、樹脂以外にも、絶縁性を示す材料、例えば、酸化
物、硫化物を用いてもよい。その場合は、これらの物質
の粉末を流動性のある物質、例えば、有機接着材等と混
合して吐き出すことが必要である。使用する樹脂によっ
ては、コーテイング後キュアをした方がよい場合もある
以下、実施例によって説明する。
(実 施 例) 実施例 1 第1図の装置を使用して作成した半導体装置の例を示す
。254径の金ボンディングワイヤ2を用い、S】の半
導体チップ4上に接若したアルミニウムパッド5に第1
ボンドを行い、その5m5ec後にウレタン樹脂が5−
の厚みコーティングされるようにセットされたコーティ
ング装置で被覆をはじめ、第2ボンドの5m5ec前に
停止するようにセットした。
このようにして被覆したボンディングワイヤを用いて組
立てた半導体装置は、ショート不良がまったくなく、し
かも、接合不良および接合強度は裸のワイヤを用いた場
合とまったく同様であった。
(発明の効果) 上述のように、本発明によれば、ボンディングワイヤの
接合強度、接合不良とも従来の接合方法によるものと同
様のものが得られ、しかも絶縁性能の優れたボンディン
グが可能となった。これにより、接合強度が大きく、か
つショート不良がない半導体装置の製造が可能となった
【図面の簡単な説明】
第1図はボンディングワイヤの被覆装置を、第2図は第
1図のマイクロデイスペンサ一部の先端形状を示す。 第3図は被覆する工程の例を示す。第4図はワイヤに接
触させて被覆材料を塗布するための被覆用端子を示す。 第5図はワイヤボンディングの工程を示す説明図である
。 1・・・キャピラリー 2・・・ボンディングワイヤ 3・・・被覆用端子4・
・・半導体チップ(シリコンチップ)5・・・アルミニ
ウムバッド 6・・・樹 脂7・・・吹き出しコントロ
ーラー 8・・・マイクロデイスペンサー 9・・・吹き出し穴     10・・・ワイヤボール
部11・・・インナーリード 12・・・被覆用樹脂供給装置 13・・・披田樹脂塗4i用フエルト 14・・・被覆樹脂供給用パイプ 第1図 15・・・非被覆部 16・・・ノズル 17・・・支持具 出 願 人 新 日本製鐵株式会社 復代理人

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体のリードフレームと半導体電極を接続する
    ボンディングワイヤの配線作業の際に、絶縁被覆用材料
    を、ボンド間のボンディングワイヤにコーティングしな
    がら配線することを特徴とするボンディングワイヤの接
    合方法。
  2. (2)ボンド部とキャピラリー先端との間に存在するボ
    ンディングワイヤに接近もしくは接触させて、ボンディ
    ングワイヤ表面に絶縁被覆用材料をコーティングする端
    子を設けたことを特徴とするボンディングワイヤの被覆
    装置。
JP1273521A 1989-10-20 1989-10-20 ボンディングワイヤの接合方法およびそれに用いる被覆装置 Pending JPH03135042A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1083156C (zh) * 1995-05-31 2002-04-17 日本电气株式会社 制造半导体器件的方法及实施该方法的设备

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JPS5279657A (en) * 1975-12-25 1977-07-04 Mitsubishi Electric Corp Wire bonding device
JPS5538014A (en) * 1978-09-08 1980-03-17 Tdk Corp Wire bonding device

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