JPH03161358A - サーマルヘッド - Google Patents
サーマルヘッドInfo
- Publication number
- JPH03161358A JPH03161358A JP30137389A JP30137389A JPH03161358A JP H03161358 A JPH03161358 A JP H03161358A JP 30137389 A JP30137389 A JP 30137389A JP 30137389 A JP30137389 A JP 30137389A JP H03161358 A JPH03161358 A JP H03161358A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- heat generating
- heat insulating
- temperature keeping
- insulating layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 12
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229920002577 polybenzoxazole Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 54
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 7
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910004479 Ta2N Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002221 fluorine Chemical class 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007651 thermal printing Methods 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、感熱式印字装置等に組み込まれるサーマルヘ
ッドに関するものである. 〔従来の技術〕 従来より、サーマルヘッドについては、低消費電力化及
び印字の高速化が望まれている,このような特性はサー
マルヘッドを福成する基板の熱特性により大きく左右さ
れるため、これについての改善が種々提案されている。
ッドに関するものである. 〔従来の技術〕 従来より、サーマルヘッドについては、低消費電力化及
び印字の高速化が望まれている,このような特性はサー
マルヘッドを福成する基板の熱特性により大きく左右さ
れるため、これについての改善が種々提案されている。
第2図は従来のサーマルヘッドを示す概略断面図である
。同図に示されるように、従来のサーマルヘッドにおい
ては、絶縁性の基板11上に保温層12が備えられ、そ
の上に発熱抵抗体層13、給電体14aと14b、保護
層15が順に備えられている。そして、発熱抵抗体13
の導電体14aと14bの間の部分Aが発熱部となる。
。同図に示されるように、従来のサーマルヘッドにおい
ては、絶縁性の基板11上に保温層12が備えられ、そ
の上に発熱抵抗体層13、給電体14aと14b、保護
層15が順に備えられている。そして、発熱抵抗体13
の導電体14aと14bの間の部分Aが発熱部となる。
ところで、一般には、保温層12は熱伝導率3×10〜
9×10−3Ca1/CIl−S・℃ノカラステー3 構成されており、発熱抵抗体13で発生した熱が基板1
1に必要以上に逃げないようにしている。
9×10−3Ca1/CIl−S・℃ノカラステー3 構成されており、発熱抵抗体13で発生した熱が基板1
1に必要以上に逃げないようにしている。
そして、従来は、この保温層12の熟伝導率を、発熱抵
抗体13を挾んで反対に位置する保護層15(SiO
又はTa205等)の熱伝導率より2 小さくして、基板11に必要以上の放熱がなされないよ
うにするため、保温層12を厚く形成していた。
抗体13を挾んで反対に位置する保護層15(SiO
又はTa205等)の熱伝導率より2 小さくして、基板11に必要以上の放熱がなされないよ
うにするため、保温層12を厚く形成していた。
ところが、保温層12を厚く形戒した場合には、発熱抵
抗体13の通電をオフにした後の発熱部Aの放熟が速や
かになされなくなる.このため、印字繰返し周期が速い
場合には、発熱部Aの温度が十分に低下しないうちに次
の印字が開始され、発熱部Aの温度が上昇しすぎて、印
字品質が低下する問題が生じる。
抗体13の通電をオフにした後の発熱部Aの放熟が速や
かになされなくなる.このため、印字繰返し周期が速い
場合には、発熱部Aの温度が十分に低下しないうちに次
の印字が開始され、発熱部Aの温度が上昇しすぎて、印
字品質が低下する問題が生じる。
そこで、サーマルヘッドの保温層の熱伝導率を小さくす
るため保温層に多数の孔を有するガラスを用いたもの(
例えば、特開昭61−1554号公報に開示)が提案さ
れている.この保温層は熱伝導率が小さく保温性に優れ
、また、薄型に形成することにより良好な熱応答特性を
もたせることを可能にしている. 〔発明が解決しようとする課題〕 しかしながら、上記従来例に示されるような多孔質ガラ
ス層を製造するためには、焼成に際して設定する温度を
、例えば、設定温度の±2〜3℃の範囲内に維持しなけ
ればならず、このような温度制御は技術的に高度で、且
つ、困難であるという問題があった. また、焼成温度が適当に設定されていないことにより、
ガラス粉内部より発生する気泡の径が大きくばらつくた
め、サーマルヘッドの熟応答性にも製品ごとにばらつき
が生じる問題があった。
るため保温層に多数の孔を有するガラスを用いたもの(
例えば、特開昭61−1554号公報に開示)が提案さ
れている.この保温層は熱伝導率が小さく保温性に優れ
、また、薄型に形成することにより良好な熱応答特性を
もたせることを可能にしている. 〔発明が解決しようとする課題〕 しかしながら、上記従来例に示されるような多孔質ガラ
ス層を製造するためには、焼成に際して設定する温度を
、例えば、設定温度の±2〜3℃の範囲内に維持しなけ
ればならず、このような温度制御は技術的に高度で、且
つ、困難であるという問題があった. また、焼成温度が適当に設定されていないことにより、
ガラス粉内部より発生する気泡の径が大きくばらつくた
め、サーマルヘッドの熟応答性にも製品ごとにばらつき
が生じる問題があった。
さらに、気泡の径が大きすぎるときには、保温層のm械
的強度が弱くなる問題があった。
的強度が弱くなる問題があった。
さらにまた、気泡の径が大きすぎるときには、気泡が多
孔質ガラスの表面に露出して、表面が凹凸状になり、こ
のため、保温層上に形成される発熱抵抗体や導電体等の
微細加エバターンの形成(例えば、フォトリングラフィ
技術を用いる)が困難になり、また、印字品質に悪影響
を与える等の問題があった. そこで、本発明は上記したような従来技術の課題を解決
するためになされたもので、その目的とするところは、
保温層の熱伝導率が小さく、機械的強度が強く、良好な
印字品質を得ることができるサーマルヘッドを提供する
ことにある.〔課題を解決するための手段〕 本発明に係るサーマルヘッドは、絶縁基板と、上記絶縁
基板上に備えられた保温層と、上記保温層上に備えられ
た発熱抵抗体層とを有するサーマルヘッドにおいて、上
記保護層を含フッ素ポリベンゾオキサゾールにより形成
したことを特徴としている. 〔作 用〕 本発明においては、保温層を、耐熱性に優れた特性を持
ち、且つ、空孔を備えなくても熱伝導率を十分に低くで
きる特性を持つ材質である含フッ素ポリベンゾオキサゾ
ールにより形成している.この保温層は熱伝導率が低い
ために、空孔を形成する必要がなく、このため保温層の
機械的強度を強くでき、空孔の径のばらつきによる熱応
答性のばらつきをなくすることができ、また、空孔が表
面に露出することがないので、その上に形成される発熱
抵抗体等の平滑性を高くできる。
孔質ガラスの表面に露出して、表面が凹凸状になり、こ
のため、保温層上に形成される発熱抵抗体や導電体等の
微細加エバターンの形成(例えば、フォトリングラフィ
技術を用いる)が困難になり、また、印字品質に悪影響
を与える等の問題があった. そこで、本発明は上記したような従来技術の課題を解決
するためになされたもので、その目的とするところは、
保温層の熱伝導率が小さく、機械的強度が強く、良好な
印字品質を得ることができるサーマルヘッドを提供する
ことにある.〔課題を解決するための手段〕 本発明に係るサーマルヘッドは、絶縁基板と、上記絶縁
基板上に備えられた保温層と、上記保温層上に備えられ
た発熱抵抗体層とを有するサーマルヘッドにおいて、上
記保護層を含フッ素ポリベンゾオキサゾールにより形成
したことを特徴としている. 〔作 用〕 本発明においては、保温層を、耐熱性に優れた特性を持
ち、且つ、空孔を備えなくても熱伝導率を十分に低くで
きる特性を持つ材質である含フッ素ポリベンゾオキサゾ
ールにより形成している.この保温層は熱伝導率が低い
ために、空孔を形成する必要がなく、このため保温層の
機械的強度を強くでき、空孔の径のばらつきによる熱応
答性のばらつきをなくすることができ、また、空孔が表
面に露出することがないので、その上に形成される発熱
抵抗体等の平滑性を高くできる。
以下に本発明を図示の実施例に基づいて説明する.
衷旌殴1
第1図は本発明に係るサーマルヘッドの一実施例を示す
概略断面図である.同図に基づいて、本実施例の横戒を
説明すると、本実施例においては、絶縁性のアルミナ基
板1上に保温層2が備えられており、この保温層2上に
スパッタ法により形成されたTa2N等よりなる発熱抵
抗体層3が備えられている。そして、発熱抵抗体層3上
に蒸着法及びメッキ法により形成されたNiCr−Au
等よりなる給電体4aと4bが備えられ、さらにその上
にスパッタ法等により形成された8102等よりなる保
護層5が備えられている.ここで、発熱抵抗体3の給電
体4aと4bの間の部分Aが発熱部となる. そして、本実施例では上記保温層2を以下の化学式(1
)で示される含フッ素ポリベンゾオキサゾールにより形
威している.この含フッ素ポリベンゾオキサゾールは、
耐熱性に優れた特性(5%重量減少温度400℃以上)
を持ち、且つ、空孔を備えなくても熱伝導率が十分に低
い特性を持つ材質である. ・・・式(1) ここで、 Arは以下の41造を持つ. C F 3 CF3 また、上記保温層2を含フッ素ポリベンゾオキサゾール
としたサーマルヘッドは以下の手順により製造できる。
概略断面図である.同図に基づいて、本実施例の横戒を
説明すると、本実施例においては、絶縁性のアルミナ基
板1上に保温層2が備えられており、この保温層2上に
スパッタ法により形成されたTa2N等よりなる発熱抵
抗体層3が備えられている。そして、発熱抵抗体層3上
に蒸着法及びメッキ法により形成されたNiCr−Au
等よりなる給電体4aと4bが備えられ、さらにその上
にスパッタ法等により形成された8102等よりなる保
護層5が備えられている.ここで、発熱抵抗体3の給電
体4aと4bの間の部分Aが発熱部となる. そして、本実施例では上記保温層2を以下の化学式(1
)で示される含フッ素ポリベンゾオキサゾールにより形
威している.この含フッ素ポリベンゾオキサゾールは、
耐熱性に優れた特性(5%重量減少温度400℃以上)
を持ち、且つ、空孔を備えなくても熱伝導率が十分に低
い特性を持つ材質である. ・・・式(1) ここで、 Arは以下の41造を持つ. C F 3 CF3 また、上記保温層2を含フッ素ポリベンゾオキサゾール
としたサーマルヘッドは以下の手順により製造できる。
先ず、片面研磨した50X50X1mmのアルミナ基板
《高純度化学研究所製)上に、N−β(アミノエチル)
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業
製)1.5mjに純水150mNとイソブロビルアルコ
ール150mNとを加えて混合した溶液を4000rp
mで30秒間スピンコートし、100℃で30分間乾燥
させる. 次に、以下の化学式(2)で表される含フッ素ポリ一〇
一ハイド0キシアミドの10重量%シクロヘキサノン溶
液を1000rpmで30秒間スピンコートし、250
″Cで2時間熱処理して、上記化学式(1)に表される
10μm厚の含フッ素ポリベンザオキサゾール膜が得ら
れる.・・・式(2) そして、この保温層2上にスバッタ法によりTa2Nよ
りなる発熱抵抗体層3を形成し、その上に蒸着法及びメ
ッキ法によりNiCr−Auよりなる給電体4aと4b
を形成し、さらにその上にスパッタ法によりS102よ
りなる保護層5を形成している. 犬施盟l 第3図は本発明に係るサーマルヘッドの他の実施例を示
す概略断面図である.同図において、第1図の実施例と
同一の梢成部分には同一の符号を付して実施例の構成を
説明すると、第3図の実施例は保温層2と発熱抵抗体層
3の間にスバッタ法により0.1μm厚に形成された3
102等よりなる応力緩和層6を備えている点のみが第
1図の実施例と相違する.この応力緩和層6により、ス
バッタ法により形成されるT a 2 Nの発熱抵抗体
層3は高分子化合物である保温層2上に直接ではなく、
応力緩和層6を介して形成されることとなる。従って、
応力緩和層6は、保温層2がT a 2Nのスパッタに
よる熱応力の影響を受けにくくする働きを持つ。尚、上
記以外の構成は第1図の実施例と同一である. 上記実施例1と実施例2によるサーマルヘッドの性能を
確認するため、サーマルヘッドに与えらる電力を変化さ
せて感熱記録紙に全黒印字を行い、マクベス濃度計によ
り印字濃度を測定した.尚、比較のため以下に比較例1
、比較例2として示される梢戒のサーマルヘッドについ
ても同様の測定を行った. 塩虹週1 保温層の材質を厚さ10μmのグレーズガラスとしたこ
とのみが上記実施例1と異なり、これ以外は実施例1と
同一の梢或のサーマルヘッド.止校倒l 保温層の材質を厚さ40μmのグレーズガラスとしたこ
とのみが上記実施例2と異なり、これ以外は実施例2と
同一の楕成のサーマルヘッド.測定により、以下の表1
の結果が得られた.表 1 ここで、第4図は上記測定結果を示すグラフであり、A
,B,C,Dはそれぞれ実施例1、実施例2、比較例1
、・比較例2を示したものである。
《高純度化学研究所製)上に、N−β(アミノエチル)
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業
製)1.5mjに純水150mNとイソブロビルアルコ
ール150mNとを加えて混合した溶液を4000rp
mで30秒間スピンコートし、100℃で30分間乾燥
させる. 次に、以下の化学式(2)で表される含フッ素ポリ一〇
一ハイド0キシアミドの10重量%シクロヘキサノン溶
液を1000rpmで30秒間スピンコートし、250
″Cで2時間熱処理して、上記化学式(1)に表される
10μm厚の含フッ素ポリベンザオキサゾール膜が得ら
れる.・・・式(2) そして、この保温層2上にスバッタ法によりTa2Nよ
りなる発熱抵抗体層3を形成し、その上に蒸着法及びメ
ッキ法によりNiCr−Auよりなる給電体4aと4b
を形成し、さらにその上にスパッタ法によりS102よ
りなる保護層5を形成している. 犬施盟l 第3図は本発明に係るサーマルヘッドの他の実施例を示
す概略断面図である.同図において、第1図の実施例と
同一の梢成部分には同一の符号を付して実施例の構成を
説明すると、第3図の実施例は保温層2と発熱抵抗体層
3の間にスバッタ法により0.1μm厚に形成された3
102等よりなる応力緩和層6を備えている点のみが第
1図の実施例と相違する.この応力緩和層6により、ス
バッタ法により形成されるT a 2 Nの発熱抵抗体
層3は高分子化合物である保温層2上に直接ではなく、
応力緩和層6を介して形成されることとなる。従って、
応力緩和層6は、保温層2がT a 2Nのスパッタに
よる熱応力の影響を受けにくくする働きを持つ。尚、上
記以外の構成は第1図の実施例と同一である. 上記実施例1と実施例2によるサーマルヘッドの性能を
確認するため、サーマルヘッドに与えらる電力を変化さ
せて感熱記録紙に全黒印字を行い、マクベス濃度計によ
り印字濃度を測定した.尚、比較のため以下に比較例1
、比較例2として示される梢戒のサーマルヘッドについ
ても同様の測定を行った. 塩虹週1 保温層の材質を厚さ10μmのグレーズガラスとしたこ
とのみが上記実施例1と異なり、これ以外は実施例1と
同一の梢或のサーマルヘッド.止校倒l 保温層の材質を厚さ40μmのグレーズガラスとしたこ
とのみが上記実施例2と異なり、これ以外は実施例2と
同一の楕成のサーマルヘッド.測定により、以下の表1
の結果が得られた.表 1 ここで、第4図は上記測定結果を示すグラフであり、A
,B,C,Dはそれぞれ実施例1、実施例2、比較例1
、・比較例2を示したものである。
実施例1、2と比較例1、2の比較より、実施例1、2
のいずれも、比較例1、2より、少ない電力で高い濃度
が得られることが確認できた.尚、実施例1と実施例2
の比較より応力緩和層によりわずかに放熱量が増し、印
字濃度の低下が見られるが、その差は極めて小さく、性
能にほとんど悪影響を与えないことが確認できた. 上記した含フッ素ポリベンザオキサゾールにより形成さ
れた実施例1、2の保温層は、十分な保温性能があるの
で、保温層に空孔を形成する必要がなく、このため空孔
を有する従来のグレーズガラスのように焼成温度を厳密
に設定することが要求されず製作が簡単になり、しかも
、保温層2の機械的強度を強くできる。また、空孔を必
要としないので空孔の径のばらつきによる熱応答性のば
らつきをなくすることができる.さらに、空孔が表面に
露出することがないので表面の平滑性も高くでき、この
結果、その上に形成される層の平滑性を向上でき、印字
品質を良好にできる.〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明においては、保温層を耐熱
性に優れ熱伝導率の低い材質である含フッ素ポリベンザ
オキサゾールにより形成したので、保温層に空孔を形成
することなく十分な保温性能を持たせることができる.
また、保温層に空孔を形成する必要がないため、従来の
グレーズガラスのように焼成温度を厳密に設定すること
が要求されず製作が簡単になり、しかも、保温層の機械
的強度を強くできる.さらに、空孔の径のばらつきによ
る熱応答性のばらつきをなくすることができ、しかも、
保温層表面の平滑性を高めることによりその上に形成さ
れる層の平滑性を高めることにより、印字品質を良好に
できるという効果を有する.
のいずれも、比較例1、2より、少ない電力で高い濃度
が得られることが確認できた.尚、実施例1と実施例2
の比較より応力緩和層によりわずかに放熱量が増し、印
字濃度の低下が見られるが、その差は極めて小さく、性
能にほとんど悪影響を与えないことが確認できた. 上記した含フッ素ポリベンザオキサゾールにより形成さ
れた実施例1、2の保温層は、十分な保温性能があるの
で、保温層に空孔を形成する必要がなく、このため空孔
を有する従来のグレーズガラスのように焼成温度を厳密
に設定することが要求されず製作が簡単になり、しかも
、保温層2の機械的強度を強くできる。また、空孔を必
要としないので空孔の径のばらつきによる熱応答性のば
らつきをなくすることができる.さらに、空孔が表面に
露出することがないので表面の平滑性も高くでき、この
結果、その上に形成される層の平滑性を向上でき、印字
品質を良好にできる.〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明においては、保温層を耐熱
性に優れ熱伝導率の低い材質である含フッ素ポリベンザ
オキサゾールにより形成したので、保温層に空孔を形成
することなく十分な保温性能を持たせることができる.
また、保温層に空孔を形成する必要がないため、従来の
グレーズガラスのように焼成温度を厳密に設定すること
が要求されず製作が簡単になり、しかも、保温層の機械
的強度を強くできる.さらに、空孔の径のばらつきによ
る熱応答性のばらつきをなくすることができ、しかも、
保温層表面の平滑性を高めることによりその上に形成さ
れる層の平滑性を高めることにより、印字品質を良好に
できるという効果を有する.
第1図は本発明に係るサーマルヘッドの一実施例を示す
概略構成図、 第2図は従来のサーマルヘッドの概略構成図、第3図は
他の実施例を示す概略構成図、第4図は実施例1、2と
比較例1、2の印加電力・濃度特性を示すグラフである
。 1・・・アルミナ基板 2・・・保温層 3・・・発熱抵抗体層 4a,4b・・・給電体 5・・・保護層 6・・・応力緩和層 A・・・発熱部
概略構成図、 第2図は従来のサーマルヘッドの概略構成図、第3図は
他の実施例を示す概略構成図、第4図は実施例1、2と
比較例1、2の印加電力・濃度特性を示すグラフである
。 1・・・アルミナ基板 2・・・保温層 3・・・発熱抵抗体層 4a,4b・・・給電体 5・・・保護層 6・・・応力緩和層 A・・・発熱部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 絶縁基板と、 上記絶縁基板上に備えられた保温層と、 上記保温層上に備えられた発熱抵抗体層とを有するサー
マルヘッドにおいて、 上記保護層を含フッ素ポリベンゾオキサゾールにより形
成したことを特徴とするサーマルヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30137389A JPH03161358A (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | サーマルヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30137389A JPH03161358A (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | サーマルヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03161358A true JPH03161358A (ja) | 1991-07-11 |
Family
ID=17896092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30137389A Pending JPH03161358A (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | サーマルヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03161358A (ja) |
-
1989
- 1989-11-20 JP JP30137389A patent/JPH03161358A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH03161358A (ja) | サーマルヘッド | |
| JPH03161359A (ja) | サーマルヘッド | |
| JPH03288667A (ja) | サーマルヘッド | |
| JPH03183568A (ja) | サーマルヘッド | |
| JPS6042069A (ja) | サ−マルプリントヘツド | |
| JPH0416554A (ja) | 酸化ジルコニウム系固溶体およびそれを用いたサーマルヘッド | |
| JPH0267150A (ja) | サーマルヘッド用基板及びその製造方法 | |
| JPS6230114B2 (ja) | ||
| CN223390326U (zh) | 一种用于打印机的热敏电阻膜 | |
| JPS5887077A (ja) | サ−マルヘツド | |
| JP3074625B2 (ja) | サーマルプリントヘッド及びその製造方法 | |
| JPH01225568A (ja) | サーマルヘッド用基板及びその製造方法 | |
| JPH02150364A (ja) | サーマルヘッド用基板の製造方法 | |
| JPS6034802B2 (ja) | 熱記録装置用サーマルヘツド | |
| JPH0273520A (ja) | 磁気記録用アルマイト基板の表面処理方法 | |
| JPH0267149A (ja) | サーマルヘッド用基板及びその製造方法 | |
| JPH04234675A (ja) | サーマルヘッド | |
| JPH01222976A (ja) | サーマルヘッド | |
| JPS63257652A (ja) | サ−マルヘツド用基板 | |
| JPH0343013Y2 (ja) | ||
| JPH0585867A (ja) | グレーズ基板及びその製造方法 | |
| JPH01221260A (ja) | サーマルヘッド及びその製造方法 | |
| JPS63249380A (ja) | 薄膜太陽電池用基板の製造方法 | |
| JPH026156A (ja) | サーマルヘッド用基板及びその製造方法 | |
| JPH026157A (ja) | サーマルヘッド用基板の製造方法 |