JPH03163495A - アウトライン文字展開装置 - Google Patents

アウトライン文字展開装置

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JPH03163495A
JPH03163495A JP1302930A JP30293089A JPH03163495A JP H03163495 A JPH03163495 A JP H03163495A JP 1302930 A JP1302930 A JP 1302930A JP 30293089 A JP30293089 A JP 30293089A JP H03163495 A JPH03163495 A JP H03163495A
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JP
Japan
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outline
coordinate
character
value
working memory
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Pending
Application number
JP1302930A
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English (en)
Inventor
Minako Kageyama
影山 美奈子
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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  • Controls And Circuits For Display Device (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 アウトライン文字を展開して作或するアウトライン文字
展開装置に関し、 アウトライン文字を高速に展開できるアウトライン文字
展開装置の実現を目的とし、 アウトライン文字の座標データが格納されるアウトライ
ン文字データ格納メモリと、文字をフルドットパターン
により展開する作業メモリと、前記座標データのX座標
とY座標のそれぞれについて最大値および最小値を検出
して、それぞれの最大値より最小値を減算した値により
面塗り領域を設定する面塗り領域設定手段と、前記アウ
トライン文字データ格納メモリより座標値データを読み
出してX座標とY座標のそれぞれについて前記最小値を
減算した座標値を作業メモリ上に展開して直線で結ぶこ
とにより閉曲線を生成するベクトル展開手段と、前記作
業メモリ上の前記面塗り領域の内部を走査して前記閉曲
線の内部を塗り潰す面塗り手段とにより構成される. 〔産業上の利用分野〕 本発明はアウトライン文字を展開して作或するアウトラ
イン文字展開装置に関する。
文字の描画には、文字をフルドットパターンで作業メモ
リ上に展開するラスク文字が一般的に用いられてきた.
このラスク文字は文字展開処理は簡単であるが、文字デ
ータ量が多いためメモリ使用効率が悪く、また拡大・縮
小や変形等の文字の加工が行ないにくいという欠点があ
る.特に近年の文書作戒の電子化に伴い、文字品質に対
する要求が高まると共に、ワードプロセッサやデスクト
ップバプ1Jツシング等の一システムで明朝体やゴシッ
ク体、教科書体等の複数の書体を使用可能とすることが
要求されている.このため文字データ量が少なく、また
文字品質が拡大・縮小処理によって劣化しないアウトラ
イン文字が多用されつつある。
しかしアウトライン文字は文字展開処理が低速であるた
め、高速処理が可能であるアウトライン文字展開装置の
実現が望まれている. 〔従来の技術〕 従来のアウトライン文字展開装置の構威を第5図に示す
図中、2はベクトル展開手段であり、作業メモリ上に座
標値データを展開し、展開した座標点を結合して閉曲線
を生成するものである。3は面塗り手段であり、作業メ
モリ上の閉曲線内を黒(値゛l′)として塗り潰すもの
である。4はアウトライン文字データが格納されている
アウトライン文字データ格納メモリである.5はアウト
ライン文字が展開され生威される作業メモリである.第
6図は上記のアウトライン文字データを示す図であり、
一文字分のデータは閉曲線グループ情報と、その閉曲線
の屈曲点となる座標値データが閉曲線ごとに格納されて
いる. このアウトライン文字展開装置では、まずベクトル展開
手段2はアウトライン文字データ格納メモリ4に格納さ
れているアウトライン文字の屈曲点の座標値データを作
業メモリ5上に展開する.つづいてベクトル展開手段2
は閉曲線グループ情報に基づいて作業メモリ5上に展開
された同一グループの屈曲点を直線で結び、文字の輪郭
である閉曲線を生威する.この作業メモリ5上において
閉曲線が生成された状態を第7図に示す.全ての閉曲線
を結び文字の輪郭が形威されると面塗り手段3が文字内
部に当たる部分を塗り潰す。これは閉曲線が描かれた作
業メモリをX方向に走査し、発見される゛1′のドット
から次に発見される゜1゛のドットまでのドット′0゜
を文字の内部と判断して、この間を全て゜1゜にして塗
り潰すものである.この処理をY方向に1ラインづつイ
ンクリメントして作業メモリの全ての走査を終了するま
で繰り返す.(例えば、特公昭53−41017号公報
参照) 上記の処理により展開されたアウトライン文字は図示し
ない表示メモリ等に転送してディスプレイ表示かあるい
は紙面印刷に使用される.〔発明が解決しようとする課
題〕 上記のアウトライン文字展開装置での展開処理において
は、作業メモリ上の閉曲線内を塗り潰す面塗り処理が展
開処理のほとんどの時間を占める.面塗り処理の対象と
なる領域は文字のサイズ分(例えば60X60ドット)
となるため、上記の゛l”ビットの判断および文字内部
の”l゛の書き込む時間の総和は特に文字サイズが大き
い場合は非常に大きくなってしまい、処理速度を遅くす
る原因となっていた. 本発明はアウトライン文字を高速に展開できるアウトラ
イン文字展開装置の実現を目的とする.〔課題を解決す
る手段〕 以上の課題を解決するために、本発明のアウトライン文
字展開装置は第1図に示すように、アウトライン文字の
座標データが格納されるアウトライン文字データ格納メ
モリ(4)と、文字をフルドットパターンで展開する作
業メモリ  ( 5 )  と、 罰記座標データのX座標とY座標のそれぞれについて最
大値および最小値を検出して、それぞれの最大値より最
小値を減算した値により面塗り領域を設定する面塗り領
域設定手段(1)と、前記アウトライン文字データ格納
メモリ(4)より座標値データを読み出してX座標とY
座標のそれぞれについて前記最小値を減算した座標値を
作業メモリ(5)上に展開して直線で結ぶことにより閉
曲線を生成するベクトル展開手段(2)と前記作業メモ
リ(5)上の前記面塗り領域の内部を走査して前記閉曲
線の内部を塗り潰す面塗り手段(3)とを備える構戒と
したものである。
?作 用〕 アウトライン文字の文字パターンのほとんどは文字輪郭
の閉曲線が作業メモリ上を一杯に占めるわけではない。
作業メモリ上に占める文字パターンの閉曲線の領域は例
えばひらがなは概して漢字に比べて小さく、またアルフ
ァベットの場合は大文字より小文字の方が小さいなど文
字の種類によっても異なる. 第7図(a). (b)の文字パターンの例でいえば、
第7図(a)のアルファベットの小文字「n」は第7図
(ロ)の大文字rH」と比較して展開される文字輪郭の
閉゛曲線の占める領域は明らかに小さい。そこで第7図
中の一点鎖線で示すように各文字パターンのX座標の最
大値X@IX+最小{+1!X−t。とY方向の最大値
Y■8.最小値Yofiを組合せてできる4点の座標を
頂点とする矩形を作或すると、面塗?処理はこの矩形内
で行えば良く、矩形外の部分のドットは全て白である値
′0゜ とすれば良い。
そこで本発明のアウトライン文字展開装置では新たに設
けた面塗り領域設定手段1がアウトライン文字データ格
納メモリより一文字分の座標値データを読み出してこの
座標値データのX,Y座標値の最大値、最小値である上
記XヨmX +  X*in Xwax +  Yaj
nを求める。このうちXain+Ystnはオフセット
値として記憶され、またX ss+tよりX m 1 
nを引いた値を面塗り領域のX方向サイズであるX 1
1ge、Y.■よりY.ifiを引いた値を面塗り領域
のY方向のサイズであるY s1geを求めてこの値を
面塗り処理部3に送信する。
上記の各値が算出されると、再びアウトライン文字デー
タ格納メモリ4より座標値データを読み出してこれより
オフセット値を減算した値をベクトル展開手段2に送信
して、ベクトル展開手段2はこの減算された値に対応す
る作業メモリ5上のドットを値゛1゛  とする。
また、面塗り処理においては、面塗り手段3は?業メモ
リ5上の面塗り処理を面塗り領域Xslヨ。
、Y■。の内部で行なう.このため面塗り処理を行なう
領域が小さくできるため、作業メモリの走査量が少なく
なり、アウトライン文字の展開を高速に行なうことが可
能となる. 〔実施例〕 以下、第3図および第4図を参照して本発明の一実施例
を説明する。
第3図は本発明の一実施例のアウトライン文字展開装置
の構威を示すブロック図であり、第4図は一実施例のア
ウトライン文字展開処理を示すフローチャートである。
第3図中、第1図と同一の構或部位は同一の参照符号を
付してこれを示す.4のアウトライン文字データ格納メ
モリに格納されている文字データは第6図に示したもの
と同様である。10は文字データの座標値の最大値,最
小値を検出して面塗り領域を設定する面塗り領域設定回
路であり、20は作業メモリ5上にアウトライン文字デ
ータを展開するベクトル展開回路であり、30は作業メ
モリ5上に生威された閉曲線の内部の面塗り処理を行な
う面塗り回路であり、60は作業メモリ5上に展開され
たアウトライン文字の黒を示すドットの座標値に、前記
文字データの座標値の最大値、最小値を加算して表示メ
モリに送出する座標値復元回路である。また、7は装置
全体を制御する制御部であり、8は作業メモリ5上に展
開され作威された文字データを画面上あるいは紙面上と
同様に配置する表示メモリであり、81は表示メモU 
B上の文字データを画面に表示するディスプレイであり
、82は表示メモリ7上の文字データを印刷するプリン
タである。
以下、第4図のフローチャートに基づいて本実施例の動
作を説明する. ■ 面塗り領域設定回路10は、アウトライン文字デー
タ格納メモリ4に格納されている文字データのうち一文
字分の座標値データを読み出し、X座標およびY座標の
それぞれの最大値、最小値であるX maw +  X
sln * Ywa*x + Y*1nを検出して内部
テーブル11に格納する.これは最初に読み出した座標
値データをX,Y座標のそれぞれの最大値、最小値とし
て格納し、順次座標値データを読み出して内部テーブル
l1に格納された値と比較して最大値より大きい座標値
または最小値より小さい座標値が検出された場合はこの
座標値により内部テーブル11を更新する。
■ 面塗り領域設定回路10は一文字分の座標値データ
を読み終わった時点で内部テーブル11に格納されてい
るX +sax + Xsta * Y@@X + Y
ahtnより面塗り領域の範囲を設定する.すなわちX
 +mmX mimを面塗り領域のX方向のサイズであ
るX s1ge、Y wax  Yminを面塗り領域
のY方向のサイズであるY18.を算出してこの値を面
塗り回路30に送出する.またX sin 、Ywai
nはX, Y方向のオフセット値となる. ■ 面塗り領域設定手段10は再びアウトライン文字デ
ータ格納メモリ4より座標値データを読み出し、座標値
データのX座標よりX方向のオフセット値X sin 
s Y座標よりY方向のオフセット値? m I nを
減算した値をベクトル展開回路20に転送する. ■ ベクトル展開回路20は面塗り領域設定回路10よ
り送出される入力座標値と対応する作業メモリ5上のド
ットを値゛1゛  とする.■ さらにベクトル展開回
路20は閉曲線グループ情報に基づき同一グループの座
標点を直線でむすび閉曲線を生成する。
■ 全ての閉曲線が生成されると、面塗り回路30によ
り作業メモリ5上の閉局線の内部を面塗りする。
この閉曲線の内部を面塗りするには従来技術と同様に作
業メモリ上をX方向に走査して、走査中のラインの最初
の”l゛ のドットを発見してから次の゛1′のドット
までの”0′ のドットを全て゜1゛にして塗り潰し、
この処理をY座標方向に1ラインづつインクリメントし
ながら繰り返すものである.しかし本実施例においては
上記処理は設定した面塗り領域の範囲でのみ行なう。す
なわちX座標方向の走査はX座標がX■1。に達したと
きにY座?を1ラインだけインクリメントし、Y座標が
Y■..であるラインの走査と塗り潰しを終了した時に
面塗り処理を終了する。
■ 一文字分の面塗りが終了して作業メモリ5上にアウ
トライン文字が生成されると、作業メモリ5は黒を示す
ドットの座標値を座標値復元回路60に送出する.座標
値復元回路60はこの入力された各座標値にオフセット
値Xm1n+Y*inを加算した値をドットパターンと
して表示メモリ8に送出する。
表示メモリ8はこのドットパターンを画面上または紙面
上と同様に配置して、これを表示するディスプレイ81
または印刷を行なうプリンタ82に送信する。
なお本発明の原理構威図!ある第1図における面塗り領
域設定手段1、ベクトル展開手段2、面塗り手段3、座
標値復元手段6は本実施例ではそれぞれ専用の回路(具
体的にはLSI等)を用いたが、上記の手段は1つのC
PUによりソフトウェアで処理する構成にしてもよい. 〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明によれば、アウトライン文
字展開処理の大半の時間を費やす面塗り処理を行なう領
域を小さくできるため、高速に文字を展開できるアウト
ライン文字展開装置が実現できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理説明図、 第2図は第1図中の作業メモリ5を示す図、第3図は本
発明の一実施例の構戒を示すブロック図、 第4図は本発明の一実施例の文字展開処理を示すフロー
チャート、 第5図は従来技術によるアウトライン文字展開装置の説
明図、 第6図はアウトライン文字データを示す図、第7図は作
業メモリ上に展開されるアウトライン文字の例を示す図
である。 図において、 l ・・・ 面塗り領域設定手段、 2 ・・・ ベクトル展開手段、 3 ・・・ 面塗り手段、 4 ・・・ アウトライン文字格納メモリ、5 ・・・
 作業メモリ。 6 ・・・ 座標値復元手段。 本発明の片裡構八国 !l  図 T 第1図中のイ乍薬メモリを示す図 第 2 図 本発明の一寅施@IMI.図 第 3 図 実施例のアウトライン女宇展開処理Σ示■フロー千イ+
第 4 図 夜来のアウトフイン7:.子展開装置の構八図第  5
  図 アウトラうン文〒テ゛一夕S7r.″t図第  6  

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)アウトライン文字を展開し生成するアウトライン
    文字展開装置であって、 アウトライン文字の座標データが格納されるアウトライ
    ン文字データ格納メモリ(4)と、文字をドットパター
    ンにより展開する作業メモリ(5)と、 前記座標データのX座標とY座標のそれぞれについて最
    大値および最小値を検出して、それぞれの最大値より最
    小値を減算した値により面塗り領域を設定する面塗り領
    域設定手段(1)と、前記アウトライン文字データ格納
    メモリ(4)より座標値データを読み出してX座標とY
    座標のそれぞれについて前記最小値を減算した座標値を
    作業メモリ(5)上に展開して直線で結ぶことにより閉
    曲線を生成するベクトル展開手段(2)と、前記作業メ
    モリ(5)上の前記面塗り領域の内部を走査して前記閉
    曲線の内部を塗り潰す面塗り手段(3)とを備えること
    を特徴とするアウトライン文字展開装置。
  2. (2)作業メモリ(5)上に展開されたアウトライン文
    字を前記X座標およびY座標の最小値分オフセットして
    送出する座標値復元手段(6)を有することを特徴とす
    る請求項1に記載のアウトライン文字展開装置。
JP1302930A 1989-11-21 1989-11-21 アウトライン文字展開装置 Pending JPH03163495A (ja)

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