JPH03224213A - 低圧ｃｖｄ装置 - Google Patents
低圧ｃｖｄ装置Info
- Publication number
- JPH03224213A JPH03224213A JP33966889A JP33966889A JPH03224213A JP H03224213 A JPH03224213 A JP H03224213A JP 33966889 A JP33966889 A JP 33966889A JP 33966889 A JP33966889 A JP 33966889A JP H03224213 A JPH03224213 A JP H03224213A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- damper
- duct
- scavenger
- switch
- opening
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- Pending
Links
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- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 7
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置の製造に用いられる低圧ＣＶＤ装置
に関する。
に関する。
従来この種の低圧ＣＶＤ装置（以下ＬＰＣＶＤ装置とい
う）は、炉芯管の炉口部に連結されたスカベンジャーと
このスカベンジャーに接続されたダクトとを有し、炉芯
管内のガスをスカベンジャーを介してダクトへと排気す
るように構成されている。
う）は、炉芯管の炉口部に連結されたスカベンジャーと
このスカベンジャーに接続されたダクトとを有し、炉芯
管内のガスをスカベンジャーを介してダクトへと排気す
るように構成されている。
ところで従来ダクトへ引かれる排気量は、シーケンスプ
ログラムの進行車掌に一定であり、排気量を調整する場
合にはマニュアルにてダクト内のダンパーの開度を調整
していた。
ログラムの進行車掌に一定であり、排気量を調整する場
合にはマニュアルにてダクト内のダンパーの開度を調整
していた。
上述した従来のＬＰＣＶＤ装置は、ダクトの排気量がプ
ログラムの種類あるいはシーケンスの実行車掌に一定で
あるために、例えば炉芯管内へのウェハーの搬入時はダ
クトの排気量を絞り、スカベンジャー内でのごみの巻き
上げや酸素の巻き込みを減らす様にした方が望ましい場
合でも、このことを実行することが出来ないという欠点
があった。また有毒ガスによりウェハーをＣＶＤ処理し
た後の出炉時は、ダクトの排気量を増やし漏れを防ぐよ
うに努めることが望ましい場合でも、このことを実行す
ることが出来ないという欠点もあった。
ログラムの種類あるいはシーケンスの実行車掌に一定で
あるために、例えば炉芯管内へのウェハーの搬入時はダ
クトの排気量を絞り、スカベンジャー内でのごみの巻き
上げや酸素の巻き込みを減らす様にした方が望ましい場
合でも、このことを実行することが出来ないという欠点
があった。また有毒ガスによりウェハーをＣＶＤ処理し
た後の出炉時は、ダクトの排気量を増やし漏れを防ぐよ
うに努めることが望ましい場合でも、このことを実行す
ることが出来ないという欠点もあった。
本発明の目的は、プログラムの種類やシーケンスの内容
により自動的にダクトの排気量を適格に制御できるＬＰ
ＧＶＤ装置を提供することにある。
により自動的にダクトの排気量を適格に制御できるＬＰ
ＧＶＤ装置を提供することにある。
本発明の低圧ＣＶＤ装置は、炉芯管の炉口部に連結され
たスカベンジャーとこのスカベンジャーに接続されたダ
クトとを有し、炉芯管内のガスをスカベンジャーを介し
てダクトへ排気するように構成された低圧ＣＶＤ装置に
おいて、前記ダクト内に排気量調整用ダンパーを設置す
ると共にこのダンパーを開閉駆動するダンパー開閉器と
このダンパ開閉器に開閉度調整指令の信号を送る制御部
とを設けたものである。
たスカベンジャーとこのスカベンジャーに接続されたダ
クトとを有し、炉芯管内のガスをスカベンジャーを介し
てダクトへ排気するように構成された低圧ＣＶＤ装置に
おいて、前記ダクト内に排気量調整用ダンパーを設置す
ると共にこのダンパーを開閉駆動するダンパー開閉器と
このダンパ開閉器に開閉度調整指令の信号を送る制御部
とを設けたものである。
次に本発明の実施例について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の第１の実施例の模式断面図である。
第１図において、炉芯管１の炉口部２にはスカベンジャ
ー３が炉口部２を覆う様に連結されており、このスカベ
ンジャー３の一部にはダクト４が接続されている。ダク
ト４にはダクトの排気量調整用ダンパー５が取り付けら
れている。このダンパー５はダンパー開閉器６に連結さ
れ、さらにダンパー５の開度をプログラムシーケンスに
応じた開度に設定する指令信号をダンパー開閉器６に出
力する制御部７を装備している。
ー３が炉口部２を覆う様に連結されており、このスカベ
ンジャー３の一部にはダクト４が接続されている。ダク
ト４にはダクトの排気量調整用ダンパー５が取り付けら
れている。このダンパー５はダンパー開閉器６に連結さ
れ、さらにダンパー５の開度をプログラムシーケンスに
応じた開度に設定する指令信号をダンパー開閉器６に出
力する制御部７を装備している。
ＣＰＵやメモリー等からなる制御部７は、プログラムシ
ーケンスに応じた開度指令の信号をダンパー開閉器６に
出力するため、ダンパー開閉器６はこの駆動指令信号に
基いてダンパー５を駆動するため、その開度は自動的に
制御される。
ーケンスに応じた開度指令の信号をダンパー開閉器６に
出力するため、ダンパー開閉器６はこの駆動指令信号に
基いてダンパー５を駆動するため、その開度は自動的に
制御される。
第２図は本発明の第２の実施例の模式断面図である。
第１の実施例ではダンパー５の開度をプログラムシーケ
ンスに応じた開度に設定する様にしていたが、開度の設
定はプログラムのシーケンサ−との連動のみに限定はし
ない。本第２の実施例においては、ウェハー８をボート
９が支持し、そのボート９全体をボート上下動駆動部１
０により上下動させ、炉芯管１内へと導入する様に構成
されている。
ンスに応じた開度に設定する様にしていたが、開度の設
定はプログラムのシーケンサ−との連動のみに限定はし
ない。本第２の実施例においては、ウェハー８をボート
９が支持し、そのボート９全体をボート上下動駆動部１
０により上下動させ、炉芯管１内へと導入する様に構成
されている。
又ボート上下動駆動部１０よりボート９の位置信号を情
報として制御部７Ａは受は取り、その制御信号をダンパ
ー開閉器６に送り、ボートの位置に応じた最適な開度と
なる様にダンパー５を開閉する様に構成されている。こ
のため、シーケンサ−３複雑にすることなく、ボート９
の位置に応じた最適なダンパー５の開度になる機に制御
出来るという利点がある。
報として制御部７Ａは受は取り、その制御信号をダンパ
ー開閉器６に送り、ボートの位置に応じた最適な開度と
なる様にダンパー５を開閉する様に構成されている。こ
のため、シーケンサ−３複雑にすることなく、ボート９
の位置に応じた最適なダンパー５の開度になる機に制御
出来るという利点がある。
以上説明したように本発明は、ダンパーを開閉駆動する
ダンパー開閉器とこの開閉器を制御する制御部とを設け
ることにより、ＬＰＧＶＤ処理プログラムの進行にとも
ないダクトの排気量をそのプログラムシーケンスに適合
させて自動コントロールすることができるため、ウェハ
ーの搬入時のごみの巻き上げや酸素の巻き込みを最適に
抑えることが出来る。又出炉時の有毒ガスの漏れも防止
出来る。
ダンパー開閉器とこの開閉器を制御する制御部とを設け
ることにより、ＬＰＧＶＤ処理プログラムの進行にとも
ないダクトの排気量をそのプログラムシーケンスに適合
させて自動コントロールすることができるため、ウェハ
ーの搬入時のごみの巻き上げや酸素の巻き込みを最適に
抑えることが出来る。又出炉時の有毒ガスの漏れも防止
出来る。
第１図及び第２図は本発明の第１及び第２の実施例の模
式断面図である。 １・・・炉芯管、２・・・炉口部、３・・・スカベンジ
ャー、４・・・ダクト、５・・・ダンパー、６・・・ダ
ンパー開閉器、７，７Ａ・・・制御部、８・・・ウェハ
ー、９・・・ボート、１０・・・ボート上下動駆動部。
式断面図である。 １・・・炉芯管、２・・・炉口部、３・・・スカベンジ
ャー、４・・・ダクト、５・・・ダンパー、６・・・ダ
ンパー開閉器、７，７Ａ・・・制御部、８・・・ウェハ
ー、９・・・ボート、１０・・・ボート上下動駆動部。
Claims (1)
- 炉芯管の炉口部に連結されたスカベンジャーとこのスカ
ベンジャーに接続されたダクトとを有し、炉芯管内のガ
スをスカベンジャーを介してダクトへ排気するように構
成された低圧ＣＶＤ装置において、前記ダクト内に排気
量調整用ダンパーを設置すると共にこのダンパーを開閉
駆動するダンパー開閉器とこのダンパ開閉器に開閉度調
整指令の信号を送る制御部とを設けたことを特徴とする
低圧ＣＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33966889A JPH03224213A (ja) | 1989-12-26 | 1989-12-26 | 低圧ｃｖｄ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33966889A JPH03224213A (ja) | 1989-12-26 | 1989-12-26 | 低圧ｃｖｄ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03224213A true JPH03224213A (ja) | 1991-10-03 |
Family
ID=18329676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33966889A Pending JPH03224213A (ja) | 1989-12-26 | 1989-12-26 | 低圧ｃｖｄ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03224213A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015119042A (ja) * | 2013-12-18 | 2015-06-25 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置、基板処理装置の制御方法、および記録媒体 |
| JP2020155625A (ja) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法及びプログラム |
-
1989
- 1989-12-26 JP JP33966889A patent/JPH03224213A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015119042A (ja) * | 2013-12-18 | 2015-06-25 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置、基板処理装置の制御方法、および記録媒体 |
| WO2015093226A1 (ja) * | 2013-12-18 | 2015-06-25 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置、基板処理装置の制御方法、および記録媒体 |
| JP2020155625A (ja) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法及びプログラム |
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