JPH03227091A - 光半導体装置 - Google Patents
光半導体装置Info
- Publication number
- JPH03227091A JPH03227091A JP2023490A JP2349090A JPH03227091A JP H03227091 A JPH03227091 A JP H03227091A JP 2023490 A JP2023490 A JP 2023490A JP 2349090 A JP2349090 A JP 2349090A JP H03227091 A JPH03227091 A JP H03227091A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- optical fiber
- output
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- dielectric film
- Prior art date
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- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 30
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
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- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4204—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms
- G02B6/4207—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms with optical elements reducing the sensitivity to optical feedback
Landscapes
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Optical Communication System (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光半導体装置に関し、特に光通信用、光計測
用低出力レーザダイオードモジュールに関する。
用低出力レーザダイオードモジュールに関する。
従来、この種のレーザダイオードモジュールは構成され
る光半導体発光素子の特性及び光学部品の設計により光
ファイバからの光出力はほぼ決定される。しかもその設
計はできる限り大出力を得ることを目的としたものであ
った。そのため最大出力値の数%〜数10%の低出力を
得る場合は、第2図に示すように光学系2で集光された
光ビーム3のビームウェスト6から光ファイバ4の端面
を遠ざけることにより光出力を低下させていた。
る光半導体発光素子の特性及び光学部品の設計により光
ファイバからの光出力はほぼ決定される。しかもその設
計はできる限り大出力を得ることを目的としたものであ
った。そのため最大出力値の数%〜数10%の低出力を
得る場合は、第2図に示すように光学系2で集光された
光ビーム3のビームウェスト6から光ファイバ4の端面
を遠ざけることにより光出力を低下させていた。
上述した従来の低出力レーザダイオードモジュールは、
光出力がドライブ電流の変化及びレーザダイオードの温
度変化により異常な振舞いをするものが発生するという
欠点が有る。これはビームウェストから遠く離れた位置
で光ファイバに結合しているためで、ファーフィールド
バタン(FFP)の変動の影響を受けるためである。こ
の現象は光出力の低減率を大きくすればするほど顕著に
なるため50%程度の低減率が限界であった。また、5
0%低減させると、不具合品の発生率は20%程度であ
り、大きな問題であった。この不具合を解決するために
はビームウェスト近傍で光ファイバに結合しなければな
らない。
光出力がドライブ電流の変化及びレーザダイオードの温
度変化により異常な振舞いをするものが発生するという
欠点が有る。これはビームウェストから遠く離れた位置
で光ファイバに結合しているためで、ファーフィールド
バタン(FFP)の変動の影響を受けるためである。こ
の現象は光出力の低減率を大きくすればするほど顕著に
なるため50%程度の低減率が限界であった。また、5
0%低減させると、不具合品の発生率は20%程度であ
り、大きな問題であった。この不具合を解決するために
はビームウェスト近傍で光ファイバに結合しなければな
らない。
本発明の光半導体装置は、先端が斜めに研磨されかつ先
端に高い反射率を有する誘電体膜が蒸着された光ファイ
バと、光半導体発光素子と、この光半導体発光素子から
放射される光ビームを集光する光学系とを有しており、
光ファイバ端は光ビームウェスト近傍に固定されている
。
端に高い反射率を有する誘電体膜が蒸着された光ファイ
バと、光半導体発光素子と、この光半導体発光素子から
放射される光ビームを集光する光学系とを有しており、
光ファイバ端は光ビームウェスト近傍に固定されている
。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の概略構成図である。
半導体発光素子1より放射された光ビーム3は光学系で
集光されビームウェスト6を形成する。光ファイバ4の
先端は反射戻り光を考慮して約9゜に傾けて研磨されて
いる。さらに光ファイバ4の先端には誘電体膜5が蒸着
されている。所望の光出力を得るためこの反射率は任意
に選定することができる。例えば、誘電体膜5が無いと
きの光出力が1mW得られるとき、10μWを得ないと
きは誘電体膜5の反射率は約99%とすればよく、10
0μWを得たいときは約90%とすれば良い、また、光
フアイバ先端の斜め研磨角度については6°〜20°の
範囲が有効である。
集光されビームウェスト6を形成する。光ファイバ4の
先端は反射戻り光を考慮して約9゜に傾けて研磨されて
いる。さらに光ファイバ4の先端には誘電体膜5が蒸着
されている。所望の光出力を得るためこの反射率は任意
に選定することができる。例えば、誘電体膜5が無いと
きの光出力が1mW得られるとき、10μWを得ないと
きは誘電体膜5の反射率は約99%とすればよく、10
0μWを得たいときは約90%とすれば良い、また、光
フアイバ先端の斜め研磨角度については6°〜20°の
範囲が有効である。
以上説明したように本発明は、光フアイバ先端を斜めに
研磨し反射率の高い誘電体膜を蒸着することにより、フ
ァフィールドバタンの変動の影響を受けることなく、光
フアイバ出力を低減させることができる効果がある。こ
れにより光出力は数%〜数十%まで広い範囲で任意に低
減できかつ、FFPの影響を全く受けないため光出力が
変動する不具合の発生もなく安定して高い歩留で製造で
きる利点がある。
研磨し反射率の高い誘電体膜を蒸着することにより、フ
ァフィールドバタンの変動の影響を受けることなく、光
フアイバ出力を低減させることができる効果がある。こ
れにより光出力は数%〜数十%まで広い範囲で任意に低
減できかつ、FFPの影響を全く受けないため光出力が
変動する不具合の発生もなく安定して高い歩留で製造で
きる利点がある。
第1図は本発明の一実施例の概略構成図、第2図は従来
の光半導体装置の概略構成図である。 1・・・光半導体発光素子、2・・・光学系、3・・・
光ビーム、4・・・光ファイバ、5・・・誘電体膜、6
・・・ビームウェスト。
の光半導体装置の概略構成図である。 1・・・光半導体発光素子、2・・・光学系、3・・・
光ビーム、4・・・光ファイバ、5・・・誘電体膜、6
・・・ビームウェスト。
Claims (1)
- 光半導体発光素子と、この光半導体発光素子より放出
される光線を集光する光学系と、光ファイバとを有する
光半導体装置において、前記光ファイバの端部が斜めに
研磨されかつ高い反射率を有する誘電体膜が蒸着されて
いることを特徴とする光半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023490A JPH03227091A (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 | 光半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023490A JPH03227091A (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 | 光半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03227091A true JPH03227091A (ja) | 1991-10-08 |
Family
ID=12111952
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023490A Pending JPH03227091A (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 | 光半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03227091A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111884039A (zh) * | 2020-08-26 | 2020-11-03 | 广东瑞谷光网通信股份有限公司 | 一种新型光发射激光器、光发射组件及其组装方法 |
-
1990
- 1990-01-31 JP JP2023490A patent/JPH03227091A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111884039A (zh) * | 2020-08-26 | 2020-11-03 | 广东瑞谷光网通信股份有限公司 | 一种新型光发射激光器、光发射组件及其组装方法 |
| CN111884039B (zh) * | 2020-08-26 | 2021-10-29 | 广东瑞谷光网通信股份有限公司 | 一种光发射激光器、光发射组件及其组装方法 |
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