JPH03282423A - 液晶デバイス及びその製造方法 - Google Patents
液晶デバイス及びその製造方法Info
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- JPH03282423A JPH03282423A JP8088690A JP8088690A JPH03282423A JP H03282423 A JPH03282423 A JP H03282423A JP 8088690 A JP8088690 A JP 8088690A JP 8088690 A JP8088690 A JP 8088690A JP H03282423 A JPH03282423 A JP H03282423A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、大面積になし得る液晶デバイス及びそり製造
方法に関するもので、本発明液晶デバイスは、視野の遮
断、開放及び明りもしくは照明光の透過制限、遮断、透
過を電気的または熱的に操作し得るものであって、建物
の窓やショーウィンドウなどで視野遮断のスクリーンや
、採光コントロールのカーテンに利用されると共に、単
純ドツトマトリクス形の電極構成で文字や図形を表示し
、高速応答性を以って電気的に表示を切り換えることに
よって、ハイインフォーメーション表示体広告板、案内
板、装飾表示板等の表示用デバイスとして利用される。
方法に関するもので、本発明液晶デバイスは、視野の遮
断、開放及び明りもしくは照明光の透過制限、遮断、透
過を電気的または熱的に操作し得るものであって、建物
の窓やショーウィンドウなどで視野遮断のスクリーンや
、採光コントロールのカーテンに利用されると共に、単
純ドツトマトリクス形の電極構成で文字や図形を表示し
、高速応答性を以って電気的に表示を切り換えることに
よって、ハイインフォーメーション表示体広告板、案内
板、装飾表示板等の表示用デバイスとして利用される。
〈従来の技術〉
液晶デバイスは、従来、ネマチック液晶を使用したTN
型やSTN型のものが実用されている。
型やSTN型のものが実用されている。
また強誘電性液晶を利用したものも提案されている。こ
れらは偏光板を要するものであり、また配向処理を要す
るものでもある。一方また、それらを要さず、明るくコ
ントラストの良い、大型で廉価な液晶デバイスを製造す
る方法として、液晶のカプセル化により、ポリマー中に
液晶層を分散させ、そのポリマーをフィルム化する方法
がしられている。ここでカプセル化物質としては、ゼラ
チン、アラビアゴム、ポリビニルアルコール等が提案さ
れている(特表昭58−501631号公報、USP4
435047号公報)。
れらは偏光板を要するものであり、また配向処理を要す
るものでもある。一方また、それらを要さず、明るくコ
ントラストの良い、大型で廉価な液晶デバイスを製造す
る方法として、液晶のカプセル化により、ポリマー中に
液晶層を分散させ、そのポリマーをフィルム化する方法
がしられている。ここでカプセル化物質としては、ゼラ
チン、アラビアゴム、ポリビニルアルコール等が提案さ
れている(特表昭58−501631号公報、USP4
435047号公報)。
上記明細書で開示された技術においては、ポリビニルア
ルコールでカプセル化された液晶分子は、それが薄層中
で正の誘電率異方性を有するものであれば、電界の存在
下でその液晶分子が電界の方向に配列し、液晶の屈折率
n。とポリマーの屈折率n9が等しいときには、透明性
を発現する。電界が除かれると、液晶分子はランダム配
列に戻り、液晶層の屈折率がnoよりずれるため、液晶
層はその境界面で光を散乱し、光の透過率を遮断するの
で、薄層体は白濁する。この様にカプセル化された液晶
を分散包蔵したポリマーを薄膜としている技術は、上記
のもの以外にもいくつか知られており、例えば、特表昭
61−502128号公報には、液晶エポキシ樹脂中に
分散したもの、特開昭62−2231号公報には、特殊
な紫外線硬化ポリマー中に液晶が分散したもの、特開昭
63−271233号公報には、光硬化性ビニル系化合
物と液晶との溶解物において、上記光硬化性ビニル系化
合物の光硬化に供う液晶物質の相分離を利用し調光層を
形成させた技術等が開示されている。
ルコールでカプセル化された液晶分子は、それが薄層中
で正の誘電率異方性を有するものであれば、電界の存在
下でその液晶分子が電界の方向に配列し、液晶の屈折率
n。とポリマーの屈折率n9が等しいときには、透明性
を発現する。電界が除かれると、液晶分子はランダム配
列に戻り、液晶層の屈折率がnoよりずれるため、液晶
層はその境界面で光を散乱し、光の透過率を遮断するの
で、薄層体は白濁する。この様にカプセル化された液晶
を分散包蔵したポリマーを薄膜としている技術は、上記
のもの以外にもいくつか知られており、例えば、特表昭
61−502128号公報には、液晶エポキシ樹脂中に
分散したもの、特開昭62−2231号公報には、特殊
な紫外線硬化ポリマー中に液晶が分散したもの、特開昭
63−271233号公報には、光硬化性ビニル系化合
物と液晶との溶解物において、上記光硬化性ビニル系化
合物の光硬化に供う液晶物質の相分離を利用し調光層を
形成させた技術等が開示されている。
また、この様なポリマー中に液晶層を分散させ調光層を
形成せしめる技術とは別に、特開平1−198725号
公報には液晶材料を連続層に、ポリマーを三次元網目構
造に形成せしめ、液晶デバイスの低電圧駆動を可能にし
た技術が開示されている。
形成せしめる技術とは別に、特開平1−198725号
公報には液晶材料を連続層に、ポリマーを三次元網目構
造に形成せしめ、液晶デバイスの低電圧駆動を可能にし
た技術が開示されている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしこれら従来技術のうち、ポリマー中に液晶層を分
散させた液晶デバイスは、液晶層がポリマー中に分散し
ているので、電界を印加した場合、液晶層にはポリマー
を介して電界が及ぶので、液晶分子の配列に変化を与え
るためには、高い駆動電圧を必要とするため、実用上程
々の障害となる欠点を有する。
散させた液晶デバイスは、液晶層がポリマー中に分散し
ているので、電界を印加した場合、液晶層にはポリマー
を介して電界が及ぶので、液晶分子の配列に変化を与え
るためには、高い駆動電圧を必要とするため、実用上程
々の障害となる欠点を有する。
また電界を印加した際十分な透明性を達成するためには
、液晶の屈折率とポリマーの屈折率とが近似したものと
なる様、それぞれを十分選択しなければならないわずら
れしさがある。
、液晶の屈折率とポリマーの屈折率とが近似したものと
なる様、それぞれを十分選択しなければならないわずら
れしさがある。
更にまた、大面積のデバイスの特徴を生かしてマルチプ
レックス駆動による大型表示を行うに当たって、それを
可能とさせる上で必要なしきい値が存在しないので、そ
の実施が困難である。
レックス駆動による大型表示を行うに当たって、それを
可能とさせる上で必要なしきい値が存在しないので、そ
の実施が困難である。
一方、ポリマーが三次元網目構造をとり、液晶層が連続
相を形成してなる液晶デバイスは、その駆動電圧は低電
圧であると云えどもその駆動し得る電圧の範囲は10〜
30Vであり、汎用の液晶表示装置駆動用の1. C
ドライバーを使用するには極めて困難であった。
相を形成してなる液晶デバイスは、その駆動電圧は低電
圧であると云えどもその駆動し得る電圧の範囲は10〜
30Vであり、汎用の液晶表示装置駆動用の1. C
ドライバーを使用するには極めて困難であった。
本発明の目的は従来の大型液晶デバイスよりも遥かに低
電圧で駆動し、且、高コントラスト画像が得られ、明確
なしきい値電圧と急峻性を有しており時分割駆動も可能
で然も偏光板を必要としない明るく大型化可能な液晶デ
バイスを提供すること、並びに製造することにある。
電圧で駆動し、且、高コントラスト画像が得られ、明確
なしきい値電圧と急峻性を有しており時分割駆動も可能
で然も偏光板を必要としない明るく大型化可能な液晶デ
バイスを提供すること、並びに製造することにある。
く課題を解決するための手段〉
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果本発明を解決する
に至った。即ち本発明は電極層を有していてもよい少な
くとも一方が透明な2枚の基板とこの基板間に支持され
た調光層を有し、該調光層が液晶材料の連続相中に透明
性高分子物質が3次元ネットワーク構造を形成して成る
液晶デバイスにおいて、 前記ネ・ノドワークが液晶材料を除去した場合、調光層
の断面において空隙面積比率が60〜95%の範囲であ
り、その空隙間隔が0.3ミクロン以上調光層の層厚の
30%以下(但し、調光層の厚さは、5〜30ミクロン
である)の範囲に入る空隙部分が全空隙面積に対し80
%以上を占め、且つ、前記透明性高分子物質が下記一般
式(III)で表わされるアクリレート誘導体を含有す
る重合性組成物を重合せしめることにより成ることを特
徴とする液晶デバイス。
に至った。即ち本発明は電極層を有していてもよい少な
くとも一方が透明な2枚の基板とこの基板間に支持され
た調光層を有し、該調光層が液晶材料の連続相中に透明
性高分子物質が3次元ネットワーク構造を形成して成る
液晶デバイスにおいて、 前記ネ・ノドワークが液晶材料を除去した場合、調光層
の断面において空隙面積比率が60〜95%の範囲であ
り、その空隙間隔が0.3ミクロン以上調光層の層厚の
30%以下(但し、調光層の厚さは、5〜30ミクロン
である)の範囲に入る空隙部分が全空隙面積に対し80
%以上を占め、且つ、前記透明性高分子物質が下記一般
式(III)で表わされるアクリレート誘導体を含有す
る重合性組成物を重合せしめることにより成ることを特
徴とする液晶デバイス。
CH。
A−0−X CHz CCfh X’−0−A
(III)CH3 1 CI(30CHl3 (II) CH3 A−OCHz C、CHz OC−fC)h→1*
1 CH30 CH3 傘−C−0−CH2−CH−C)1.−0−A
(I[[)■ OC1(3 (式中、Aは−c−CH=CH2またはCH3 −CC=CHzを、Xは−+ C)12CH20+r、
CHl +CHz CHO+Tまたは+−f CHz−+TC’
−F□1 CH。
(III)CH3 1 CI(30CHl3 (II) CH3 A−OCHz C、CHz OC−fC)h→1*
1 CH30 CH3 傘−C−0−CH2−CH−C)1.−0−A
(I[[)■ OC1(3 (式中、Aは−c−CH=CH2またはCH3 −CC=CHzを、Xは−+ C)12CH20+r、
CHl +CHz CHO+Tまたは+−f CHz−+TC’
−F□1 CH。
を、X′は+0CHzCHz→r、+0−CH−CH2
→■または +o−c−+cn1袷→)を表わし、iお
よびmは0〜8の整数を、nは3〜8の整数を夫々独立
的に表わす。) 即ち、空隙密度を大きくしかつ、空隙の大きさを一定の
範囲にそろえるような調光層を有する液晶デバイス及び
その製造方法を提供するものである。
→■または +o−c−+cn1袷→)を表わし、iお
よびmは0〜8の整数を、nは3〜8の整数を夫々独立
的に表わす。) 即ち、空隙密度を大きくしかつ、空隙の大きさを一定の
範囲にそろえるような調光層を有する液晶デバイス及び
その製造方法を提供するものである。
即ち、本発明は3次元ネットワーク構造にかかわるもの
であり、ネットワークの空隙密度を高め、ネットワーク
の空隙径の大きさを一定の範囲にそろえる事により今迄
にない高いコントラストを有し、低電圧駆動が可能とな
り明確なしきい値を示す液晶デバイスに関するものであ
る。
であり、ネットワークの空隙密度を高め、ネットワーク
の空隙径の大きさを一定の範囲にそろえる事により今迄
にない高いコントラストを有し、低電圧駆動が可能とな
り明確なしきい値を示す液晶デバイスに関するものであ
る。
ネットワーク空隙密度、即ち、調光層における液晶材料
を除去した場合の調光層断面に対する空隙面積比率が6
0〜95%、好ましくは70〜90%であることにより
液晶材料は連続相を全面にわたって形成し得る。その為
液晶デバイスの駆動電圧は10 Vr、、以下と従来に
比べきわめて低い電圧となる。
を除去した場合の調光層断面に対する空隙面積比率が6
0〜95%、好ましくは70〜90%であることにより
液晶材料は連続相を全面にわたって形成し得る。その為
液晶デバイスの駆動電圧は10 Vr、、以下と従来に
比べきわめて低い電圧となる。
又、空隙密度が高いにもかかわらずネットワークの空隙
間隔を可視光域の数ミクロンと細かい空隙間隔範囲に分
布状態を均一化させることにより明確なしきい値を有す
るように出来、さらに網目密度が高いため液晶材料と透
明性固体物質の界面が従来の液晶分散型と比べ飛躍的に
増大している。
間隔を可視光域の数ミクロンと細かい空隙間隔範囲に分
布状態を均一化させることにより明確なしきい値を有す
るように出来、さらに網目密度が高いため液晶材料と透
明性固体物質の界面が従来の液晶分散型と比べ飛躍的に
増大している。
その為、無電圧印加時の光の散乱即ち、白濁不透明性を
大巾に大きくすることが出来る。
大巾に大きくすることが出来る。
そのような空隙間隔分布としては、調光層断面において
空隙間隔が0,3ミクロン以上調光層の層厚の30%以
下の範囲に入る空隙部分の面積が全空隙面積比80%以
上であり、好ましくは90%以上である。但し、調光層
の層厚は、5〜30ミクロンである。
空隙間隔が0,3ミクロン以上調光層の層厚の30%以
下の範囲に入る空隙部分の面積が全空隙面積比80%以
上であり、好ましくは90%以上である。但し、調光層
の層厚は、5〜30ミクロンである。
従来技術では調光層の厚みが10ミクロン以下では、白
濁性が小さくコントラストが充分でなかったが、本発明
では光散乱性が大きい為10ミクロン以下の調光層の厚
さの場合でも充分な白濁度を有する液晶デバイスを提供
することが出来、さらに駆動電圧を低く出来る。
濁性が小さくコントラストが充分でなかったが、本発明
では光散乱性が大きい為10ミクロン以下の調光層の厚
さの場合でも充分な白濁度を有する液晶デバイスを提供
することが出来、さらに駆動電圧を低く出来る。
尚、本発明において、ネットワークの空隙間隔、空隙密
度、空隙間隔分布等の測定に当っては、本発明の液晶デ
バイスを液体窒素により冷凍して液晶材料を固化し、ま
たネットワークポリマーの粘弾性を抑制した上でデバイ
スの法線方向に破断し、液晶材料を真空蒸発除去した上
でその不定形破断面を走査型電子顕微鏡にて観察しなが
ら計測するものとする。また一方の基板を剥離し、その
剥離面を観察しても良い。
度、空隙間隔分布等の測定に当っては、本発明の液晶デ
バイスを液体窒素により冷凍して液晶材料を固化し、ま
たネットワークポリマーの粘弾性を抑制した上でデバイ
スの法線方向に破断し、液晶材料を真空蒸発除去した上
でその不定形破断面を走査型電子顕微鏡にて観察しなが
ら計測するものとする。また一方の基板を剥離し、その
剥離面を観察しても良い。
ネットワークの空隙間隔が0.3ミクロンと下廻る比率
が増大してくると、ネットワーク間隔が狭くなりすぎる
ため、液晶分子の動きを制御するためか又は透明性固体
物質の量的増大のためか、駆動電圧が高(なってしまう
。又空隙間隔が調光層の層厚の30%以上(但し、調光
層の層厚は5〜30ミクロンである)の比率が増大する
と、液晶と透明性固体物質の界面が小さくなってしまう
ためか、無電圧印加時の光散乱性が減少し、白濁性を悪
くするとともに液晶分子が動きやすくなりすぎるために
“しきい値”が不明瞭となってしまう。
が増大してくると、ネットワーク間隔が狭くなりすぎる
ため、液晶分子の動きを制御するためか又は透明性固体
物質の量的増大のためか、駆動電圧が高(なってしまう
。又空隙間隔が調光層の層厚の30%以上(但し、調光
層の層厚は5〜30ミクロンである)の比率が増大する
と、液晶と透明性固体物質の界面が小さくなってしまう
ためか、無電圧印加時の光散乱性が減少し、白濁性を悪
くするとともに液晶分子が動きやすくなりすぎるために
“しきい値”が不明瞭となってしまう。
本発明になる液晶デバイスは調光層中に占める液晶材料
の比率が高く連続相を形成しているため、電圧印加時の
透明性が高い。
の比率が高く連続相を形成しているため、電圧印加時の
透明性が高い。
さらに光散乱度合が大きいため調光層の厚さを10ミク
ロン以下と薄くでき、その為電圧印加時の透明性をさら
に向上出来る利点を有する。
ロン以下と薄くでき、その為電圧印加時の透明性をさら
に向上出来る利点を有する。
そのような点より本発明に成る液晶デバイスの調光層の
厚さは5〜30ミクロンの間より選択でき、好ましくは
8〜15ミクロンの間より選ばれる。
厚さは5〜30ミクロンの間より選択でき、好ましくは
8〜15ミクロンの間より選ばれる。
基板は、堅固な材料、例えば、ガラス、金属等であって
も良く、柔軟性を有する材料、例えば、プラスチックフ
ィルムの如きものであっても良い。
も良く、柔軟性を有する材料、例えば、プラスチックフ
ィルムの如きものであっても良い。
そして基板は、2枚が対向して適当な間隔を隔て得るも
のである。また、その少なくとも一方は、透明性を有し
、その2枚の間に挟持される調光層を外界から視覚させ
るものでなければならない。
のである。また、その少なくとも一方は、透明性を有し
、その2枚の間に挟持される調光層を外界から視覚させ
るものでなければならない。
但し、完全な透明性を必須とするものではない。
もし、この液晶デバイスが、デバイスの一方の側から他
方の側へ通過する光に対して作用させるために使用され
る場合は、2枚の基板は共に適宜な透明性が与えられる
。この基板には、目的に応じて透明、不透明の適宜な電
極が、その全面または部分的に配置されても良い。
方の側へ通過する光に対して作用させるために使用され
る場合は、2枚の基板は共に適宜な透明性が与えられる
。この基板には、目的に応じて透明、不透明の適宜な電
極が、その全面または部分的に配置されても良い。
但し、プラスチックフィルムの如き柔軟性を有する材料
の場合は堅固な材料、例えば、ガラス、金属等に固定し
て、本発明の製造方法を用いることが出来る。
の場合は堅固な材料、例えば、ガラス、金属等に固定し
て、本発明の製造方法を用いることが出来る。
2枚の基板間には液晶材料及び透明性高分子物質から成
る調光層が介在される。尚、2枚の基板間には、通常、
周知の液晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを
介在させるのが望ましい。
る調光層が介在される。尚、2枚の基板間には、通常、
周知の液晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを
介在させるのが望ましい。
スペーサーとしては、例えばマイラー、アルミナ等種々
の液晶セル用のものを用いることが出来るが、ロンドタ
イプのガラスファイバーが好適である。
の液晶セル用のものを用いることが出来るが、ロンドタ
イプのガラスファイバーが好適である。
液晶材料は、単一の液晶性化合物であることを要しない
のは勿論で、2種以上の液晶化合物や液晶化合物以外の
物質も含んだ混合物であっても良く、通常この技術分野
で液晶材料として認識されるものであれば良く、そのう
ちの正の誘電率異方性を有するものが好ましい。用いら
れる液晶としは、ネマチック液晶、スメクチック液晶、
コレステリック液晶が好ましく、ネマチック液晶が特に
好ましい。その性能を改善するためにコレステリンク液
晶、カイラルネマチック液晶、カイラルスメクチック液
晶等、カイラル化合物や2色性染料等が適宜含まれてい
てもよい。
のは勿論で、2種以上の液晶化合物や液晶化合物以外の
物質も含んだ混合物であっても良く、通常この技術分野
で液晶材料として認識されるものであれば良く、そのう
ちの正の誘電率異方性を有するものが好ましい。用いら
れる液晶としは、ネマチック液晶、スメクチック液晶、
コレステリック液晶が好ましく、ネマチック液晶が特に
好ましい。その性能を改善するためにコレステリンク液
晶、カイラルネマチック液晶、カイラルスメクチック液
晶等、カイラル化合物や2色性染料等が適宜含まれてい
てもよい。
ネマチック液晶としては、正の誘電率異方性をもち誘電
率異方性;Δεが8以上であり、複屈折率;Δnの大き
さが0.1以上であればよく、好ましくはΔεが10以
上で、Δnは0.2以上のネマチック液晶である。Δn
は白濁性を高めコントラストを大きくし、急峻性を高め
るには出来るだけ大きい方が好ましい。
率異方性;Δεが8以上であり、複屈折率;Δnの大き
さが0.1以上であればよく、好ましくはΔεが10以
上で、Δnは0.2以上のネマチック液晶である。Δn
は白濁性を高めコントラストを大きくし、急峻性を高め
るには出来るだけ大きい方が好ましい。
液晶分散型の液晶デバイスにおいて問題となる液晶とポ
リマーの屈折率の差に関しては、本発明においては液晶
成分が多量であるためかあまり気にすることな(広範囲
の液晶及び重合体の組合せが可能となる。このような液
晶材料は第1表に示す化合物群より構成される配合組成
物であり、液晶材料の特性、即ち、等方性液体と液晶の
相転移温度、融点、粘度、Δn、Δε、及び重合性組成
物等との溶解性等を改善することを目的として適宜選択
して配合して用いる。
リマーの屈折率の差に関しては、本発明においては液晶
成分が多量であるためかあまり気にすることな(広範囲
の液晶及び重合体の組合せが可能となる。このような液
晶材料は第1表に示す化合物群より構成される配合組成
物であり、液晶材料の特性、即ち、等方性液体と液晶の
相転移温度、融点、粘度、Δn、Δε、及び重合性組成
物等との溶解性等を改善することを目的として適宜選択
して配合して用いる。
調光層中に占める液晶材料の比率は60〜95重量%以
上、好ましくは70〜90重量%である。
上、好ましくは70〜90重量%である。
(以下、%は重量%を意味する)
この液晶材料の連続相中に介在する3次元ネットワーク
構造の透明性高分子物質は堅固なものに困らず、目的に
応じ得る限り可撓性、柔軟性、弾性を有するものであっ
ても良い。
構造の透明性高分子物質は堅固なものに困らず、目的に
応じ得る限り可撓性、柔軟性、弾性を有するものであっ
ても良い。
これらの液晶デバイスの製造方法は次のようにして行う
ことが出来る。
ことが出来る。
即ち、電極層を有していてもよい少なくとも一方が透明
性を有する2枚の基板間に液晶材料、重合性組成物、重
合開始剤及び任意成分として、連鎖移動側、光増感剤、
染料、架橋剤、その他よりなる調光層構成材料を介在さ
せ、重合用玉名ルギーを供給し、前記重合性組成物を重
合硬化させることによって液晶材料を連続相とし、その
連続相中に3次元ネットワーク状の透明性高分子物質を
析出させ形成することより成る液晶デバイスの製造方法
である。
性を有する2枚の基板間に液晶材料、重合性組成物、重
合開始剤及び任意成分として、連鎖移動側、光増感剤、
染料、架橋剤、その他よりなる調光層構成材料を介在さ
せ、重合用玉名ルギーを供給し、前記重合性組成物を重
合硬化させることによって液晶材料を連続相とし、その
連続相中に3次元ネットワーク状の透明性高分子物質を
析出させ形成することより成る液晶デバイスの製造方法
である。
調光層構成材料を2枚の基板間に介在させるには、この
調光層構成材料を基板間に注入しても良いが、一方の基
板上に適当な溶液塗布機やスピンコーター等を用い均一
に塗布し、次いで他方の基板を重ね合せ圧着させても良
い。
調光層構成材料を基板間に注入しても良いが、一方の基
板上に適当な溶液塗布機やスピンコーター等を用い均一
に塗布し、次いで他方の基板を重ね合せ圧着させても良
い。
又、一方の基板上に調光層構成材料を均一な厚さに塗布
し、重合性組成物を重合硬化させ調光層を形成後、他方
の基板をはり合せる事に成る液晶デバイス製造方法も又
有効である。
し、重合性組成物を重合硬化させ調光層を形成後、他方
の基板をはり合せる事に成る液晶デバイス製造方法も又
有効である。
重合用エネルギーとしては、重合体が適切な3次元ネッ
トワークを形成するものであればよく、例えば、紫外線
、電子線等の放射線や熱等が挙げられる。
トワークを形成するものであればよく、例えば、紫外線
、電子線等の放射線や熱等が挙げられる。
特に紫外線照射による重合方法は好適である。
紫外線照射による重合性組成物の液晶材料中での重合に
おいて光照射強度及び照射量も一定の強さ以上を必要と
するが、それは重合性組成物の反応性及び重合開始剤の
種類、濃度によって左右され、適切な光強度の選択によ
り3次元ネットワークの形成及びその網目の大きさを均
一化をはかることが出来る。さらに好ましくは光照射方
法として時間的、平面的に均一に照射することは基板間
に介在する重合性組成物を瞬間的に強い光をあて重合を
進行させ、その為網目の大きさを均一化をはかる上で効
果的である。即ち、適切な光強度でパルス状に照射する
ことにより均一な3次元ネットワークの重合体を液晶相
中に実現でき、その為出来る液晶デバイスは明確なしき
い値と急峻性良好なものとなり、時分割駆動が出来るよ
うになる。
おいて光照射強度及び照射量も一定の強さ以上を必要と
するが、それは重合性組成物の反応性及び重合開始剤の
種類、濃度によって左右され、適切な光強度の選択によ
り3次元ネットワークの形成及びその網目の大きさを均
一化をはかることが出来る。さらに好ましくは光照射方
法として時間的、平面的に均一に照射することは基板間
に介在する重合性組成物を瞬間的に強い光をあて重合を
進行させ、その為網目の大きさを均一化をはかる上で効
果的である。即ち、適切な光強度でパルス状に照射する
ことにより均一な3次元ネットワークの重合体を液晶相
中に実現でき、その為出来る液晶デバイスは明確なしき
い値と急峻性良好なものとなり、時分割駆動が出来るよ
うになる。
重合性組成物は下記一般式(III) (II)
(II[)で表わされるネオペンチルグリコール類のジ
(メタ)アクリレートを必須成分の重合体形成性モノマ
ーとして含んでおり、任意成分の重合体形成性モノマー
若しくはオリゴマー及び必要に応じ重合開始剤等を含む
ものである。
(II[)で表わされるネオペンチルグリコール類のジ
(メタ)アクリレートを必須成分の重合体形成性モノマ
ーとして含んでおり、任意成分の重合体形成性モノマー
若しくはオリゴマー及び必要に応じ重合開始剤等を含む
ものである。
CH。
A−0−χ−Cth CCHz X’ 0−A
(III)CH3 CH,CFI3 A O−X CCOCHz CC)It
X’ OA)I CH30C1h (II) Hff A OC1(2CC!(z OC−+CHz→1*
1 F13 CI(。
(III)CH3 CH,CFI3 A O−X CCOCHz CC)It
X’ OA)I CH30C1h (II) Hff A OC1(2CC!(z OC−+CHz→1*
1 F13 CI(。
本−COCHz CH−C)h OA1
o CH3
(I[[)
(式中、Aは=CC)l=ctLzまたはCI(:l
=C−C=C)I2を、Xは+CHzCHzO”’)T
、CI(3 を、X′は+0CI(2CH2→r 、+0−CH−C
I(2→下または +O−C−(CH2÷「十、を表わ
し、iおよびmはO〜8の整数を、nは3〜8の整数を
夫々独立的に表わす。) 任意成分の重合体形成性モノマーとしては、例えばスチ
レン、クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジビニル
ベンゼン:置換基としては、メチル、エチル、プロピル
、ブチル、アミル、2−エチルヘキシル、オクチル、ノ
ニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロ
ヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル
、フェノキシエチル、アルリル、メタリル、グリシジル
、2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、3
−クロロ−2−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエ
チル、ジエチルアミノエチル等のごとき基を有するアク
リレート、メタクリレート又はフマレート;エチレング
リコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、1,3−ブチレング
リコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレン
グリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロール
プロパン、グリセリン及びペンタエリスリトール等のモ
ノ(メタ)アクリレート又はポリ(メタ)アクリレート
;酢酸ビニル、酢酸ビニル又は安息香酸ビニル、アクリ
ロニトリル、セチルビニルエーテル、リモネン、シクロ
ヘキセン、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレー
ト、2−13−又は4−ビニルピリジン、アクリル酸、
メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、N
−ヒドロキシメチルアクリルアミド又はN−ヒドロキシ
エチルメタクリルアミド及びそれらのアルキルエーテル
化合物、トリメチロールプロパン、1モルに3モル以上
のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを
付加して得たトリオールのジ又はトリ(メタ)アクリレ
ート、ネオペンチルグリコール1モルに2モル以上のエ
チレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加
して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート1モルとフェニルイ
ソシアネート若しくはn−ブチルイソシアネート1モル
との反応生成物、ジペンタエリスリトールのポリ (メ
タ)アクリレート、トリス−(ヒドロキシエチル)−イ
ソシアヌル酸のポリ(メタ)アクリレート、トリス−(
ヒドロキシエチル)−りん酸のポリ (メタ)アクリレ
ート、ジ(ヒドロキシエチル)−ジシクロペンタジェン
のモノ(メタ)アクリレート又はジ(メタ)アクリレー
ト等を挙げることができる。
、CI(3 を、X′は+0CI(2CH2→r 、+0−CH−C
I(2→下または +O−C−(CH2÷「十、を表わ
し、iおよびmはO〜8の整数を、nは3〜8の整数を
夫々独立的に表わす。) 任意成分の重合体形成性モノマーとしては、例えばスチ
レン、クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジビニル
ベンゼン:置換基としては、メチル、エチル、プロピル
、ブチル、アミル、2−エチルヘキシル、オクチル、ノ
ニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロ
ヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル
、フェノキシエチル、アルリル、メタリル、グリシジル
、2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、3
−クロロ−2−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエ
チル、ジエチルアミノエチル等のごとき基を有するアク
リレート、メタクリレート又はフマレート;エチレング
リコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、1,3−ブチレング
リコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレン
グリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロール
プロパン、グリセリン及びペンタエリスリトール等のモ
ノ(メタ)アクリレート又はポリ(メタ)アクリレート
;酢酸ビニル、酢酸ビニル又は安息香酸ビニル、アクリ
ロニトリル、セチルビニルエーテル、リモネン、シクロ
ヘキセン、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレー
ト、2−13−又は4−ビニルピリジン、アクリル酸、
メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、N
−ヒドロキシメチルアクリルアミド又はN−ヒドロキシ
エチルメタクリルアミド及びそれらのアルキルエーテル
化合物、トリメチロールプロパン、1モルに3モル以上
のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを
付加して得たトリオールのジ又はトリ(メタ)アクリレ
ート、ネオペンチルグリコール1モルに2モル以上のエ
チレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加
して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート1モルとフェニルイ
ソシアネート若しくはn−ブチルイソシアネート1モル
との反応生成物、ジペンタエリスリトールのポリ (メ
タ)アクリレート、トリス−(ヒドロキシエチル)−イ
ソシアヌル酸のポリ(メタ)アクリレート、トリス−(
ヒドロキシエチル)−りん酸のポリ (メタ)アクリレ
ート、ジ(ヒドロキシエチル)−ジシクロペンタジェン
のモノ(メタ)アクリレート又はジ(メタ)アクリレー
ト等を挙げることができる。
重合体形成性オリゴマーとしては、例えば、(III)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸
、更に場合によりヤシ油脂肪酸等の長鎖脂肪酸をエステ
ル化させて得たエポキシ(メタ)アクリレートあるいは
その長鎖脂肪酸変性物、水酸基を有するエポキシ(メタ
)アクリレートに二塩基酸無水物、四塩基酸ジ無水物、
無水トリメリット酸を付加して得たカルボキシル基を有
するエポキシ(メタ)アクリレートの如きエポキシ(メ
タ)アクリレート及びその変性物。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸
、更に場合によりヤシ油脂肪酸等の長鎖脂肪酸をエステ
ル化させて得たエポキシ(メタ)アクリレートあるいは
その長鎖脂肪酸変性物、水酸基を有するエポキシ(メタ
)アクリレートに二塩基酸無水物、四塩基酸ジ無水物、
無水トリメリット酸を付加して得たカルボキシル基を有
するエポキシ(メタ)アクリレートの如きエポキシ(メ
タ)アクリレート及びその変性物。
(2)英国特許筒1.147,732号明細書(特開昭
51−37193号公報及び特開昭51138797号
公報)に記載されているようなジイソシアナート化合物
とポリオールとを予め反応させて得られる末端イソシア
ナート化合物に更にβ−ヒドロキシアルキルアクリレー
ト及び/又はメタクリレートを反応せしめることによっ
て得られる分子内に2個以上のアクリロイロキシ基及び
/又はメタクリロイロキシ基をもった付加重合性化合物
。
51−37193号公報及び特開昭51138797号
公報)に記載されているようなジイソシアナート化合物
とポリオールとを予め反応させて得られる末端イソシア
ナート化合物に更にβ−ヒドロキシアルキルアクリレー
ト及び/又はメタクリレートを反応せしめることによっ
て得られる分子内に2個以上のアクリロイロキシ基及び
/又はメタクリロイロキシ基をもった付加重合性化合物
。
(3)特公昭47−3262号公報に記載されているよ
うな無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサ
ヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、ある
いは無水ヘッド酸のような二塩基酸無水物とグリシジル
アクリレート及び/又はグリシジルメタクリレートを開
環重合して得られるアクリロイロキシ基及び/又はメタ
クリロイロキシ基を多数ペンダントにもった直線状ポリ
エステル化合物。
うな無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサ
ヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、ある
いは無水ヘッド酸のような二塩基酸無水物とグリシジル
アクリレート及び/又はグリシジルメタクリレートを開
環重合して得られるアクリロイロキシ基及び/又はメタ
クリロイロキシ基を多数ペンダントにもった直線状ポリ
エステル化合物。
(4)特公昭47−23661号公報に記載されている
ような隣接炭素原子に少くとも3個のエステル化可能な
ヒドロキシル基を有する多価アルコールと、°アクリル
酸及び/又はメタクリル酸と、ジカルボン酸およびその
無水物からなる群から選択されたジカルボン酸類との共
エステル化によって製造された重合可能なエステル類。
ような隣接炭素原子に少くとも3個のエステル化可能な
ヒドロキシル基を有する多価アルコールと、°アクリル
酸及び/又はメタクリル酸と、ジカルボン酸およびその
無水物からなる群から選択されたジカルボン酸類との共
エステル化によって製造された重合可能なエステル類。
(5)英国特許筒628.150号明細書、米国特許筒
3.020,255号明細書および月刊誌「マクロモレ
キュールズ」第4巻、第5号、第630〜632頁(I
II971年)に記載されているごときメラミンまたは
ベンゾグアナミンにホルムアルデヒド、メチルアルコー
ルおよびβ−ヒドロキシアルキルアクリレート(または
メタクリレート)等を反応せしめて得られるポリアクリ
ル(またはポリメタクリル)変性トリアジン系樹脂。
3.020,255号明細書および月刊誌「マクロモレ
キュールズ」第4巻、第5号、第630〜632頁(I
II971年)に記載されているごときメラミンまたは
ベンゾグアナミンにホルムアルデヒド、メチルアルコー
ルおよびβ−ヒドロキシアルキルアクリレート(または
メタクリレート)等を反応せしめて得られるポリアクリ
ル(またはポリメタクリル)変性トリアジン系樹脂。
(6)米国特許筒3,377.406号明細書に記載さ
れているようなポリヒドロキシ化合物のグリシジルエー
テル化物にアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて
得られる不飽和ポリエステル樹脂。
れているようなポリヒドロキシ化合物のグリシジルエー
テル化物にアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて
得られる不飽和ポリエステル樹脂。
(7)米国特許筒3,455,801号明細書及び米国
特許筒3,455.802号明細書に記載されている一
般式(ここにおいてRは炭素原子数2〜10個の2価の
飽和又は不飽和脂肪族炭化水素基を示し、R′は炭素原
子数2〜10個の2個の飽和脂肪族炭化水素基を示し、
R′は水素原子又はメチル基を示し、nは1〜14の整
数である。) で示される両末端にアクリロイロキシ基又はメタクリロ
イロキシ基を有するポリエステル化合物。
特許筒3,455.802号明細書に記載されている一
般式(ここにおいてRは炭素原子数2〜10個の2価の
飽和又は不飽和脂肪族炭化水素基を示し、R′は炭素原
子数2〜10個の2個の飽和脂肪族炭化水素基を示し、
R′は水素原子又はメチル基を示し、nは1〜14の整
数である。) で示される両末端にアクリロイロキシ基又はメタクリロ
イロキシ基を有するポリエステル化合物。
(8)米国特許第3,483.104号明細書及び米国
特許第3,470,079号明細書に記載されている一
般式(ここにおいてAは一〇−又は−NH−を示し、1
分子中で少なくとも2個は−N)l−であるものとし、
Rは二価の飽和脂肪族または不飽和脂肪族炭化水素基を
示し、R′は二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環
状炭化水素を示し、R′は水素原子又はアルキル基を示
し、nは1〜14の整数であるものとする。) で示されるジアクリル変性(またはジメタクリル変性)
ポリアミド化合物。
特許第3,470,079号明細書に記載されている一
般式(ここにおいてAは一〇−又は−NH−を示し、1
分子中で少なくとも2個は−N)l−であるものとし、
Rは二価の飽和脂肪族または不飽和脂肪族炭化水素基を
示し、R′は二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環
状炭化水素を示し、R′は水素原子又はアルキル基を示
し、nは1〜14の整数であるものとする。) で示されるジアクリル変性(またはジメタクリル変性)
ポリアミド化合物。
(9)特公昭48−37246号明細書に記載されてい
る一般式 (ここにおいてXは水素原子又はアシル基を示し、Rは
二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環状炭化水素基
を示し、R′は二価の脂肪族炭化水素基を示し、R2は
水素原子又はアルキル基を示すものとし、Aは一〇−又
は、−N)l−を示し、1分子中で少なくとも2個は−
NH−であるものとし、nは1〜14の整数である。) て示されるジアクリル変性(またはジメタクリル変性)
ポリアミド化合物。
る一般式 (ここにおいてXは水素原子又はアシル基を示し、Rは
二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環状炭化水素基
を示し、R′は二価の脂肪族炭化水素基を示し、R2は
水素原子又はアルキル基を示すものとし、Aは一〇−又
は、−N)l−を示し、1分子中で少なくとも2個は−
NH−であるものとし、nは1〜14の整数である。) て示されるジアクリル変性(またはジメタクリル変性)
ポリアミド化合物。
(III0)米国特許第3,485,732号明細書に
記載されているような飽和又は不飽和の二塩基酸又はそ
の無水物、あるいは必要に応じてそれらとジオールとを
反応させて得られる両末端にカルボキシル基を有する化
合物に更にグリシジルアクリレートまたはグリシジルメ
タクリレートを反応せしめることにより得られるジアク
リル変性(又はジメタクリ変性)ポリエステル化合物。
記載されているような飽和又は不飽和の二塩基酸又はそ
の無水物、あるいは必要に応じてそれらとジオールとを
反応させて得られる両末端にカルボキシル基を有する化
合物に更にグリシジルアクリレートまたはグリシジルメ
タクリレートを反応せしめることにより得られるジアク
リル変性(又はジメタクリ変性)ポリエステル化合物。
(III1)特公昭48−12075号明細書に記載さ
れているごとき分子中に一般式、 x (ここにおいてXはアシル基又はウレタン基を示し、R
は、H,C1,、Cf又はCNであるものとする。) で示されるくり返し単位を有する側鎖に不飽和酸エステ
ル結合を有する(メタ)アクリル共重合体に基づく化合
物。
れているごとき分子中に一般式、 x (ここにおいてXはアシル基又はウレタン基を示し、R
は、H,C1,、Cf又はCNであるものとする。) で示されるくり返し単位を有する側鎖に不飽和酸エステ
ル結合を有する(メタ)アクリル共重合体に基づく化合
物。
等を挙げることができる。
又、本発明の液晶デバイスの製造方法は、重合開始剤の
濃度を調節することにより、さらに駆動電圧の低電圧化
を可能とさせるものである。
濃度を調節することにより、さらに駆動電圧の低電圧化
を可能とさせるものである。
即ち、本発明の液晶デバイスの製造方法において重合開
始剤の濃度は重合性組成物の0.01〜1.0重量%の
範囲に調節され、好ましくは0.1〜0.5重量%で調
節される。
始剤の濃度は重合性組成物の0.01〜1.0重量%の
範囲に調節され、好ましくは0.1〜0.5重量%で調
節される。
このような重合開始剤としては、例えば、2ヒドロキシ
−2−メチル−1−フェニルプロパン1−オン(メルク
社製「ダロキュア1173J )、1−ヒドロキシシク
ロへキシルフェニルケトン(チバ・ガイギー社製[イル
ガキュア184 J )、1−(4−イソプロピルフェ
ニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オ
ン(メルク社製「ダロキュア1116J ) 、ベンジ
ルジメチルケクール(チハ・ガイギー社製「イルガキュ
ア651J)、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)
フェニル]−2−モルホリノプロパノン−1(チハ・ガ
イギー社製「イルガキュア907 J ) 、2.4−
ジエチルチオキサントン(日本化薬社製「カヤキュアD
ETXJ )とP−ジメチルアミノ安息香酸エチル(日
本北東社製「カヤキュアEPA J )との混合物、イ
ソプロピルチオキサントン(ワードプレキンソツブ社製
「カンタキュアーITX J )とP−ジメチルアミノ
安息香酸エチルとの混合物等が挙げられる。
−2−メチル−1−フェニルプロパン1−オン(メルク
社製「ダロキュア1173J )、1−ヒドロキシシク
ロへキシルフェニルケトン(チバ・ガイギー社製[イル
ガキュア184 J )、1−(4−イソプロピルフェ
ニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オ
ン(メルク社製「ダロキュア1116J ) 、ベンジ
ルジメチルケクール(チハ・ガイギー社製「イルガキュ
ア651J)、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)
フェニル]−2−モルホリノプロパノン−1(チハ・ガ
イギー社製「イルガキュア907 J ) 、2.4−
ジエチルチオキサントン(日本化薬社製「カヤキュアD
ETXJ )とP−ジメチルアミノ安息香酸エチル(日
本北東社製「カヤキュアEPA J )との混合物、イ
ソプロピルチオキサントン(ワードプレキンソツブ社製
「カンタキュアーITX J )とP−ジメチルアミノ
安息香酸エチルとの混合物等が挙げられる。
〈実施例〉
以下、本発明の実施例を示し、本発明を更に具体的に説
明する。しかし本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
明する。しかし本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
以下、実施例において%は重量%を示し、又、評価特性
の各々は以下の記号及び内容を意味する。
の各々は以下の記号及び内容を意味する。
T0=白濁度;印加電圧0の時の光透過率(%)T10
0=透明度;印加電圧を増加させていき光透過率がほと
んど増加しなくなった時 の光透過率(%) ■1゜=しきい値;Toを0%、T1゜。を100%と
したとき光透過率が10%となる印加電圧(V、イS) ■9゜−飽和電圧;同上光透過率が90%となる印加電
圧(■、、、、、) CR=コントラスト−T 1oo / T 。
0=透明度;印加電圧を増加させていき光透過率がほと
んど増加しなくなった時 の光透過率(%) ■1゜=しきい値;Toを0%、T1゜。を100%と
したとき光透過率が10%となる印加電圧(V、イS) ■9゜−飽和電圧;同上光透過率が90%となる印加電
圧(■、、、、、) CR=コントラスト−T 1oo / T 。
・空隙面積比率=S、(%):SEM(走査型電子顕微
鏡)による断面写真の空隙部分の占める面積比で、写真
で見る空隙間隔を直径とする円と仮定し、各々の網目の
面積を計算して求めたものである。
鏡)による断面写真の空隙部分の占める面積比で、写真
で見る空隙間隔を直径とする円と仮定し、各々の網目の
面積を計算して求めたものである。
・空隙間隔の面積分布比率−3,(%)同上で一定の空
隙間隔の間に占める空隙面積の全空隙面積に対する比率 ・空隙間隔=γ(ミクロン) ・平均空隙間隔=r=Σ T/n(ミクロン)・調光層
の厚:d(ミクロン) 実施例1 液晶材料として後述の組成物(A)82.0%重重合性
フッマーして下記構造式で表わされる化合物17.95
%、 ノ / 重合開始剤としてヘンシルジメチルケタール(チバガイ
ギー社製「イルガキュア651 J ) 0.05%の
混合溶液である調光層構成材料を10.5ミクロンのガ
ラスファイバー製スペーサーの塗布された2枚のITO
電極ガラス基板にはさみ込み、基板全体を40゛Cに保
ち15mw/cm”の紫外線を60秒間照射し、調光層
の厚みが10.8ミクロンの液晶デバイスを得た。
隙間隔の間に占める空隙面積の全空隙面積に対する比率 ・空隙間隔=γ(ミクロン) ・平均空隙間隔=r=Σ T/n(ミクロン)・調光層
の厚:d(ミクロン) 実施例1 液晶材料として後述の組成物(A)82.0%重重合性
フッマーして下記構造式で表わされる化合物17.95
%、 ノ / 重合開始剤としてヘンシルジメチルケタール(チバガイ
ギー社製「イルガキュア651 J ) 0.05%の
混合溶液である調光層構成材料を10.5ミクロンのガ
ラスファイバー製スペーサーの塗布された2枚のITO
電極ガラス基板にはさみ込み、基板全体を40゛Cに保
ち15mw/cm”の紫外線を60秒間照射し、調光層
の厚みが10.8ミクロンの液晶デバイスを得た。
液晶組成物(A)
組成
転移温度
〈
屈折率
68.5”C(N
25 °C(C
n、〜1.787
no 〜1.583
Δn=0.254
20 ’Cの粘度 59c、p。
誘電率異方性 Δε= 26.9得られた
液晶デバイスは、S、〜86.5%、r = 1.8ミ
クロン、rが0.8〜3.0ミクロン間に占める比率S
、、=86.8%であった。
液晶デバイスは、S、〜86.5%、r = 1.8ミ
クロン、rが0.8〜3.0ミクロン間に占める比率S
、、=86.8%であった。
この液晶デバイスの印加電圧と光透過率の関係を測定す
ると、To=3.1%、Tl08= 84.2%、CR
=14.5、V IO= 2.9 V 、、、 、V
qo= 8.3V r+++sであった。この様に、
本発明は、従来技術による液滴分散型液晶デバイス或い
は液晶連続層型液晶デバイスに比べ、はるかに低電圧で
駆動可能な液晶デバイスを提供するものである。
ると、To=3.1%、Tl08= 84.2%、CR
=14.5、V IO= 2.9 V 、、、 、V
qo= 8.3V r+++sであった。この様に、
本発明は、従来技術による液滴分散型液晶デバイス或い
は液晶連続層型液晶デバイスに比べ、はるかに低電圧で
駆動可能な液晶デバイスを提供するものである。
実施例2
液晶材料として前記組成物(A)80%、重号性モノマ
ーとして下記構造式で表わされる化合物19、96% CB。
ーとして下記構造式で表わされる化合物19、96% CB。
o OCH30
H3
* CHz CCHz−OC+Ct(z→70
C−CFl= C)IzCFI30
0 重合開始剤としてベンジルジメチルケタール(チハガイ
ギー社製「イルガキュア651 J )0.04%の混
合液である調光層構成材料を11.0ミクロンのガラス
ファイバー製スペーサーの塗布された2枚のITO電極
ガラス基板にはさみ込み基板全体を30°Cに保ち15
mw/cm”の紫外線を60秒間照射し、調光層の厚み
が11.0ミクロンの液晶デバイスを得た。
C−CFl= C)IzCFI30
0 重合開始剤としてベンジルジメチルケタール(チハガイ
ギー社製「イルガキュア651 J )0.04%の混
合液である調光層構成材料を11.0ミクロンのガラス
ファイバー製スペーサーの塗布された2枚のITO電極
ガラス基板にはさみ込み基板全体を30°Cに保ち15
mw/cm”の紫外線を60秒間照射し、調光層の厚み
が11.0ミクロンの液晶デバイスを得た。
得られた液晶デバイスはS、=89.1%、r=2.1
ミクロン、rが0.8〜3.0ミクロン間に占める比率
S、、=92.7%であった。
ミクロン、rが0.8〜3.0ミクロン間に占める比率
S、、=92.7%であった。
この液晶デバイスの印加電圧と光透過率の関係を測定す
ると、T、=6.2%、Tl00= 85.8%、CR
=13.8、V、0=2.5 V、、、 、Vqo=5
.2V□、であった。
ると、T、=6.2%、Tl00= 85.8%、CR
=13.8、V、0=2.5 V、、、 、Vqo=5
.2V□、であった。
実施例3
液晶材料として前記組成物(A)80.0%、重合性モ
ノマーとして下記構造式で表わされる化合物19.95
%、 ノ / 0日。
ノマーとして下記構造式で表わされる化合物19.95
%、 ノ / 0日。
OCH30
CH。
重合開始剤としてベンジルジメチルケタール(チバガイ
ギー社製「イルガキュア651 J ) 0.05%の
混合液である調光層構成材料を10.5ミクロンのガラ
スファイバー製スペーサーの塗布された2枚のITO電
極ガラス基板にはさみ込み、基板全体を32.0°Cに
保ち15+niv/cm2の紫外線を60秒間照射し、
調光層の厚みが10.8ミクロンの液晶デバイスを得た
。
ギー社製「イルガキュア651 J ) 0.05%の
混合液である調光層構成材料を10.5ミクロンのガラ
スファイバー製スペーサーの塗布された2枚のITO電
極ガラス基板にはさみ込み、基板全体を32.0°Cに
保ち15+niv/cm2の紫外線を60秒間照射し、
調光層の厚みが10.8ミクロンの液晶デバイスを得た
。
得られた液晶デバイスは5s−89,3%、r=2.2
ミクロン、rが0.8〜3,0ミクロン間に占める比率
S、=90.5%であった。
ミクロン、rが0.8〜3,0ミクロン間に占める比率
S、=90.5%であった。
この液晶デバイスの印加電圧と光透過率の関係を測定す
ると、T、=5.2%、T 1oo −85,7%、C
R=16.5、V +o= 2.3 V 、、、 、
V 90= 7.5■、□であった。
ると、T、=5.2%、T 1oo −85,7%、C
R=16.5、V +o= 2.3 V 、、、 、
V 90= 7.5■、□であった。
比較例
液晶材料として前記組成物(A)65.0%、重合性組
成物として下記構造の化合物34.4%H3 CHz=CH−CO+Cf(z +TC−0−CHTC
−CO*11 1 1
110 0 CH,0C
H。
成物として下記構造の化合物34.4%H3 CHz=CH−CO+Cf(z +TC−0−CHTC
−CO*11 1 1
110 0 CH,0C
H。
*−CHz C−CHz−OC+CHz→’yo
CCH=C)IzCl(、00 重合開始剤としてヘンシルジメチルケタール(チハガイ
ギー社製「イルガキュア651 J ) 0.5%の混
合液である調光層構成材料を11.0ミクロンのガラス
ファイバー製スペーサーの塗布された2枚のITO電極
ガラス基板にはさみ込み基板全体を50°Cに保ち30
mtm/cm2の紫外線を60秒間照射し、調光層の厚
みが9.0ミクロンの液晶デバイスを得た。
CCH=C)IzCl(、00 重合開始剤としてヘンシルジメチルケタール(チハガイ
ギー社製「イルガキュア651 J ) 0.5%の混
合液である調光層構成材料を11.0ミクロンのガラス
ファイバー製スペーサーの塗布された2枚のITO電極
ガラス基板にはさみ込み基板全体を50°Cに保ち30
mtm/cm2の紫外線を60秒間照射し、調光層の厚
みが9.0ミクロンの液晶デバイスを得た。
得られた液晶デバイスは5s=52.1%、r=0.6
2ミクロン、rが0.3〜3.3ミクロン間に占める比
率S、、=78.5%であった。
2ミクロン、rが0.3〜3.3ミクロン間に占める比
率S、、=78.5%であった。
この液晶デバイスの電圧−光透過早特性は以下のようで
あり、白濁り性が悪く駆動電圧の高いものであった。
あり、白濁り性が悪く駆動電圧の高いものであった。
T、〜4.1%、T1゜。= 85.2%、CR=20
.8、V to=8.5 Vr−、V90= 35.2
rsi 〈発明の効果〉 本発明による液晶デバイスは、大面積薄膜型のものが可
能であり、従来の液晶分散型の液晶デバイス或いは液晶
連続層型液晶デバイスと比べ10V rss以下という
低電圧の駆動が可能であり、その為LCD用のLSIの
使用が可能となる。又、この様な低電圧駆動型液晶デバ
イスであっても透明−白濁不透明のコントラストが高く
、しきい値が明確なため、時分割駆動が可能である。従
って、従来この種の液晶デバイスの調光用のみならず、
より高度な文字、グラフィックの大型表示が極めて容易
となり、表示用液晶デバイスの用途が大きく拡大する。
.8、V to=8.5 Vr−、V90= 35.2
rsi 〈発明の効果〉 本発明による液晶デバイスは、大面積薄膜型のものが可
能であり、従来の液晶分散型の液晶デバイス或いは液晶
連続層型液晶デバイスと比べ10V rss以下という
低電圧の駆動が可能であり、その為LCD用のLSIの
使用が可能となる。又、この様な低電圧駆動型液晶デバ
イスであっても透明−白濁不透明のコントラストが高く
、しきい値が明確なため、時分割駆動が可能である。従
って、従来この種の液晶デバイスの調光用のみならず、
より高度な文字、グラフィックの大型表示が極めて容易
となり、表示用液晶デバイスの用途が大きく拡大する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、電極層を有していてもよい少なくとも一方が透明な
2枚の基板とこの基板間に支持された調光層を有し、該
調光層が液晶材料の連続相中に透明性高分子物質が3次
元ネットワーク構造を形成して成る液晶デバイスにおい
て、 前記ネットワークが液晶材料を除去した場合、調光層の
断面において、空隙面積比率が60〜95%の範囲にあ
りその空隙間隔が0.3ミクロン以上調光層の層厚の3
0%以下(但し、調光層の厚さは、5〜30ミクロンで
ある)の範囲にある空隙部分が全空隙面積に対し80%
以上を占め、且つ、前記透明性高分子物質が下記一般式
( I )(II)および(III)で表わされるネオペンチル
グリコール類のジ(メタ)アクリレートから成る群から
選ばれる化合物を含有する重合性組成物の重合物質であ
ることを特徴とする液晶デバイス。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、Aは▲数式、化学式、表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼を、Xは▲数式、化
学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ を、X′は▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式
、化学式、表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、i
お よびmは0〜8の整数を、nは3〜8の整数を夫々独立
的に表わす。) 2、ネットワークの平均空隙間隔が0.3ミクロン以上
で調光層の層厚の30%以下(但し、調光層の厚さは、
5〜30ミクロンである)の範囲に入る請求項1記載の
液晶デバイス。 3、調光層における液晶材料が正の誘電率異方性を示す
請求項1または2記載の液晶デバイス。 4、液晶材料の含有量が調光層構成成分の60〜95重
量%の範囲にある請求項1または2記載の液晶デバイス
。 5、2枚の基板間に液晶材料、下記一般式( I )、(
II)、(III)で表わされるネオペンチルグリコール類
ジ(メタ)アクリレートを主成分とし、重合開始剤を含
有する重合性組成物とから成り、且つ液晶材料の含有量
が60〜95重量%の範囲にある調光層構成材料を介在
させ、この調光層構成材料に紫外線を照射することによ
って前記重合性組成物を重合せしめ、以て液晶材料の連
続相中に3次元ネットワーク状の透明性固体物質を析出
形成せしむることを特徴とする液晶デバイスの製造方法
。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、Aは▲数式、化学式、表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼を、Xは▲数式、化
学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ を、X′は▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式
、化学式、表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、i
お よびmは0〜8の整数を、nは3〜8の整数を夫々独立
的に表わす。) 6、前記重合開始剤の使用量が、前記重合性組成物に対
して0.01〜1.0重量%の範囲にあることを特徴と
する請求項5記載の液晶デバイスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8088690A JPH03282423A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 液晶デバイス及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8088690A JPH03282423A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 液晶デバイス及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03282423A true JPH03282423A (ja) | 1991-12-12 |
Family
ID=13730829
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8088690A Pending JPH03282423A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 液晶デバイス及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03282423A (ja) |
-
1990
- 1990-03-30 JP JP8088690A patent/JPH03282423A/ja active Pending
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