JPH0347681B2 - - Google Patents
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- JPH0347681B2 JPH0347681B2 JP59242747A JP24274784A JPH0347681B2 JP H0347681 B2 JPH0347681 B2 JP H0347681B2 JP 59242747 A JP59242747 A JP 59242747A JP 24274784 A JP24274784 A JP 24274784A JP H0347681 B2 JPH0347681 B2 JP H0347681B2
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- JP
- Japan
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- magnetic coating
- magnetic
- measured
- calibration curve
- ray
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/02—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、情報処理システムの外部記憶装置と
して使用される磁気デイスク装置における磁気デ
イスク媒体の磁性塗膜の膜厚測定方法に関する。
して使用される磁気デイスク装置における磁気デ
イスク媒体の磁性塗膜の膜厚測定方法に関する。
従来磁気デイスク媒体の膜厚測定方法として
は、レーザビーム測定方法も知られているが、装
置の光路系が複雑で高価となるため、Ｘ線法が一
般的である。Ｘ線は、鉄成分で反射するため、磁
性塗膜の磁性粉である酸化鉄の含有量によつて反
射量が異なる。したがつて磁性塗膜にＸ線を照射
して、Ｘ線検量線強度を測定することで、磁性塗
膜の膜厚を測定することができる。
は、レーザビーム測定方法も知られているが、装
置の光路系が複雑で高価となるため、Ｘ線法が一
般的である。Ｘ線は、鉄成分で反射するため、磁
性塗膜の磁性粉である酸化鉄の含有量によつて反
射量が異なる。したがつて磁性塗膜にＸ線を照射
して、Ｘ線検量線強度を測定することで、磁性塗
膜の膜厚を測定することができる。
ところで磁性塗膜の材質が異なると、磁性粉の
含有量も異なり、同じ膜厚であつても、Ｘ線検量
線強度が異なることになる。そこで予め膜厚が既
知の磁気デイスク媒体をＸ線法で測定して、膜厚
とＸ線検量線強度との関係を示す基準データを得
ておく。そしてこの基準データを基にして、被測
定磁気デイスク媒体を実測したＸ線検量線強度か
ら膜厚に換算することで、膜厚値を得る方法を採
つている。磁性塗膜の材質が異なると、同じ基準
データを使用できないので、磁性塗膜の材質ごと
に基準データを用意しておくことは勿論である。
含有量も異なり、同じ膜厚であつても、Ｘ線検量
線強度が異なることになる。そこで予め膜厚が既
知の磁気デイスク媒体をＸ線法で測定して、膜厚
とＸ線検量線強度との関係を示す基準データを得
ておく。そしてこの基準データを基にして、被測
定磁気デイスク媒体を実測したＸ線検量線強度か
ら膜厚に換算することで、膜厚値を得る方法を採
つている。磁性塗膜の材質が異なると、同じ基準
データを使用できないので、磁性塗膜の材質ごと
に基準データを用意しておくことは勿論である。
ところがＸ線検量線強度は、磁性塗膜中の鉄成
分のみでなく、磁性塗膜が塗布されている基板の
表面粗さ等の表面条件によつても異なる。そのた
め、磁性塗膜の膜厚と材質が同じであつても、基
板の表面条件が異なると、Ｘ線検量線強度も異な
つてくる。したがつて従来は、表面条件の異なる
基板毎に、かつ同じ材質の磁性塗膜毎に、膜厚が
既知の磁気デイスク媒体から基準データを作成し
ていた。
分のみでなく、磁性塗膜が塗布されている基板の
表面粗さ等の表面条件によつても異なる。そのた
め、磁性塗膜の膜厚と材質が同じであつても、基
板の表面条件が異なると、Ｘ線検量線強度も異な
つてくる。したがつて従来は、表面条件の異なる
基板毎に、かつ同じ材質の磁性塗膜毎に、膜厚が
既知の磁気デイスク媒体から基準データを作成し
ていた。
そのため実測に際しては、基板の表面条件も磁
性塗膜の材質も同じ磁気デイスク媒体のみしか、
測定できないことになる。つまり基板の表面条件
や磁性塗膜の材質ごとに、基準データを作成して
おかなければならず、基準データを作成する負担
が大きい。
性塗膜の材質も同じ磁気デイスク媒体のみしか、
測定できないことになる。つまり基板の表面条件
や磁性塗膜の材質ごとに、基準データを作成して
おかなければならず、基準データを作成する負担
が大きい。
しかも、再生基板などのような枚数の少ない特
殊な基板など、多品種で少量の基板においては、
せつかく基板の表面条件に関する基準データと磁
性塗膜に関する基準データを得ても、これらの基
準データを適用できる被測定基板数が少ないた
め、効率が極めて悪い。
殊な基板など、多品種で少量の基板においては、
せつかく基板の表面条件に関する基準データと磁
性塗膜に関する基準データを得ても、これらの基
準データを適用できる被測定基板数が少ないた
め、効率が極めて悪い。
磁性塗膜に関する基準データを得ても、表面条
件が同一の基板のみを選別して適用するという作
業も複雑であり、作業性が悪い。したがつて、自
動的に測定しようとする場合は、基板の表面条件
や磁性塗膜材質の種類の多い磁気デイスク媒体に
おいて、いちいち基板の表面条件や材質を判別し
なければならず、非能率である。
件が同一の基板のみを選別して適用するという作
業も複雑であり、作業性が悪い。したがつて、自
動的に測定しようとする場合は、基板の表面条件
や磁性塗膜材質の種類の多い磁気デイスク媒体に
おいて、いちいち基板の表面条件や材質を判別し
なければならず、非能率である。
また従来のように、磁性塗膜の膜厚が比較的厚
い磁気デイスク媒体においては、少々の測定誤差
は許容されたが、最近のように膜厚が0.5μｍ以下
の極めて薄い磁性塗膜になると、測定誤差の許容
値も非常に小さな値となり、ますます正確な測定
が要求される。
い磁気デイスク媒体においては、少々の測定誤差
は許容されたが、最近のように膜厚が0.5μｍ以下
の極めて薄い磁性塗膜になると、測定誤差の許容
値も非常に小さな値となり、ますます正確な測定
が要求される。
本発明の技術的課題は、従来の磁性塗膜の膜厚
測定方法におけるこのような問題を解消し、膜厚
の薄い磁性塗膜であつても、正確に測定すること
ができ、しかも自動測定に適するように、いちい
ち基板の表面条件を判別したりしなくても済むよ
うにすることにある。
測定方法におけるこのような問題を解消し、膜厚
の薄い磁性塗膜であつても、正確に測定すること
ができ、しかも自動測定に適するように、いちい
ち基板の表面条件を判別したりしなくても済むよ
うにすることにある。
この問題点を解決するために講じた本発明によ
る技術的手段は、磁気デイスク媒体の磁性塗膜を
Ｘ線ビームで測定する方法において、磁性塗膜の
膜厚が既知の磁気デイスク媒体における、膜厚と
Ｘ線検量線強度との関係を測定し、膜厚とＸ線検
量線強度との基準データを予め得ておき、被測定
磁気デイスク媒体における磁性塗膜の無い領域の
Ｘ線検量線強度と、磁性塗膜の存在する領域のＸ
線検量線強度を測定し、かつ前記基準データで校
正することにより、磁性塗膜の膜厚の値を得る方
法を採つている。磁性塗膜の無い領域と磁性塗膜
領域で、Ｘ線を透過させ、透過式で測定してもよ
く、反射式と透過式測定を同時に行うことで、両
面同時に膜厚測定することもできる。
る技術的手段は、磁気デイスク媒体の磁性塗膜を
Ｘ線ビームで測定する方法において、磁性塗膜の
膜厚が既知の磁気デイスク媒体における、膜厚と
Ｘ線検量線強度との関係を測定し、膜厚とＸ線検
量線強度との基準データを予め得ておき、被測定
磁気デイスク媒体における磁性塗膜の無い領域の
Ｘ線検量線強度と、磁性塗膜の存在する領域のＸ
線検量線強度を測定し、かつ前記基準データで校
正することにより、磁性塗膜の膜厚の値を得る方
法を採つている。磁性塗膜の無い領域と磁性塗膜
領域で、Ｘ線を透過させ、透過式で測定してもよ
く、反射式と透過式測定を同時に行うことで、両
面同時に膜厚測定することもできる。
第１図はこの技術的手段の作用を説明する特性
図であり、１は基準データを示し、２，３は実測
データを示す。横軸は膜厚、縦軸はＸ線検量線強
度である。基準データ１は、破壊式測定などで膜
厚が既知の磁気デイスク媒体をＸ線法で測定した
ものである。膜厚の異なる少なくとも２個所を測
定すると、図の基準データ１のように、膜厚に比
例してＸ線検量線強度が増加する、傾斜した特性
を示している。磁性塗膜の材質が異なると、この
基準データ１の傾斜角が異なる。次に実測データ
２は基板Ａに関するもの、実測データ３は基板Ｂ
に関するものであり、それぞれ基準データ１の磁
性塗膜と材質が同じである。基板Ａ，Ｂとも、膜
厚が0μｍの個所のＸ線検量線強度A0，B0は、磁
気デイスク媒体の磁性塗膜の無い個所すなわち中
央穴寄りのクランプエリアと呼ばれている部分の
Ｘ線検量線強度を示すものである。このように磁
性塗膜が無く、0μｍを示す部分のＸ線検量線強
度が異なるということは、基板ＡとＢは、表面条
件が異なることに起因するものである。
図であり、１は基準データを示し、２，３は実測
データを示す。横軸は膜厚、縦軸はＸ線検量線強
度である。基準データ１は、破壊式測定などで膜
厚が既知の磁気デイスク媒体をＸ線法で測定した
ものである。膜厚の異なる少なくとも２個所を測
定すると、図の基準データ１のように、膜厚に比
例してＸ線検量線強度が増加する、傾斜した特性
を示している。磁性塗膜の材質が異なると、この
基準データ１の傾斜角が異なる。次に実測データ
２は基板Ａに関するもの、実測データ３は基板Ｂ
に関するものであり、それぞれ基準データ１の磁
性塗膜と材質が同じである。基板Ａ，Ｂとも、膜
厚が0μｍの個所のＸ線検量線強度A0，B0は、磁
気デイスク媒体の磁性塗膜の無い個所すなわち中
央穴寄りのクランプエリアと呼ばれている部分の
Ｘ線検量線強度を示すものである。このように磁
性塗膜が無く、0μｍを示す部分のＸ線検量線強
度が異なるということは、基板ＡとＢは、表面条
件が異なることに起因するものである。
本発明では、第２図のように磁性塗膜の無い領
域４のほかに、磁性塗膜５の部分も測定する。磁
気デイスク媒体の中央側と外周側の少なくとも２
個所測定するのが好ましい。A1が中央側a1の実
測値、A2が外周側a2の実測値である。いま膜厚
が0μｍの値におけるＸ線検量線強度A0の値から、
磁性塗膜が同じ材質の基準データ１と平行な線２
を引き、実測値A1，A2から横軸と平行な線を引
いて、実測データ２の線と交差する点から、縦軸
と平行な線を引き、横軸との交点を求める。する
と、α1が、内周側の実測膜厚、α2が外周側の実測
膜厚となる。
域４のほかに、磁性塗膜５の部分も測定する。磁
気デイスク媒体の中央側と外周側の少なくとも２
個所測定するのが好ましい。A1が中央側a1の実
測値、A2が外周側a2の実測値である。いま膜厚
が0μｍの値におけるＸ線検量線強度A0の値から、
磁性塗膜が同じ材質の基準データ１と平行な線２
を引き、実測値A1，A2から横軸と平行な線を引
いて、実測データ２の線と交差する点から、縦軸
と平行な線を引き、横軸との交点を求める。する
と、α1が、内周側の実測膜厚、α2が外周側の実測
膜厚となる。
基板Ｂも、基板Ａおよび基準データの基板と磁
性塗膜が同じ材質であるため、実測データ３の線
も、B0の点から基準データ１の線と平行に線３
を引くことで、Ｘ線検量線強度から実測膜厚を得
ることができる。そして基板ＢもＡと膜厚が同じ
であるなら、磁性塗膜の無い領域におけるＸ線検
量線強度A0とB0との差の値だけ、磁性塗膜部の
Ｘ線検量線強度も小さくなる。その結果、中央寄
りの部分の値B1から求めた実測膜厚β1と基板Ａ
の値α1とは同じ値となり、外周寄りの部分の値
B2から求めめた実測膜厚β2と基板Ａの値α2とは
同じ値となる。すなわち、基板の表面条件の如何
に拘わらず、磁性塗膜の膜厚が同じなら、同じ実
測値を示すことがわかる。
性塗膜が同じ材質であるため、実測データ３の線
も、B0の点から基準データ１の線と平行に線３
を引くことで、Ｘ線検量線強度から実測膜厚を得
ることができる。そして基板ＢもＡと膜厚が同じ
であるなら、磁性塗膜の無い領域におけるＸ線検
量線強度A0とB0との差の値だけ、磁性塗膜部の
Ｘ線検量線強度も小さくなる。その結果、中央寄
りの部分の値B1から求めた実測膜厚β1と基板Ａ
の値α1とは同じ値となり、外周寄りの部分の値
B2から求めめた実測膜厚β2と基板Ａの値α2とは
同じ値となる。すなわち、基板の表面条件の如何
に拘わらず、磁性塗膜の膜厚が同じなら、同じ実
測値を示すことがわかる。
つまり、１枚の基板内においては、磁性塗膜の
無い領域も有る領域もすべて、基板の厚さおよび
表面条件は一定しているため、基板の表面条件を
いちいち判別したりしなくても、磁性塗膜の無い
領域と磁性塗膜の有る領域を測定し、両方のデー
タを基準データで校正することで、Ｘ線検量線強
度から表面条件の要素は除外した膜厚のみの値を
得ることができ、表面条件を考慮しないで膜厚の
みを測定することができる。
無い領域も有る領域もすべて、基板の厚さおよび
表面条件は一定しているため、基板の表面条件を
いちいち判別したりしなくても、磁性塗膜の無い
領域と磁性塗膜の有る領域を測定し、両方のデー
タを基準データで校正することで、Ｘ線検量線強
度から表面条件の要素は除外した膜厚のみの値を
得ることができ、表面条件を考慮しないで膜厚の
みを測定することができる。
なお説明の都合上、膜厚の測定部分は２個所以
上としているが、膜厚とＸ線検量線強度が予め分
かつている場合は、１個所でもよい。
上としているが、膜厚とＸ線検量線強度が予め分
かつている場合は、１個所でもよい。
次に本発明による磁性塗膜の膜厚測定方法が実
際上どのように具体化されるかを実施例で説明す
る。第３図は本発明による磁性塗膜の膜厚測定方
法を実施する測定装置を示すブロツク図である。
Ａは磁気デイスク媒体であり、中央穴６寄りのク
ランプエリア４には、磁性塗膜が塗布されていな
い。７はＸ線管であり、Ｘ線発生装置８に接続さ
れている。９はＸ線検出器で、Ｘ線管７から磁気
デイスク媒体Ａに照射されたＸ線の反射量すなわ
ちＸ線検量線強度を検出するものである。該Ｘ線
検出器９は検出用電源１０で駆動され、出力は波
高分析器１１に入力される。そして該波高分析器
１１の測定データは、プロセツサ１２で処理さ
れ、膜厚値が表示器１３に表示されたり、プリン
タ１４でプリントアウトされる。１５はプロセツ
サ１２を操作したりデータ入力するテンキーであ
る。
際上どのように具体化されるかを実施例で説明す
る。第３図は本発明による磁性塗膜の膜厚測定方
法を実施する測定装置を示すブロツク図である。
Ａは磁気デイスク媒体であり、中央穴６寄りのク
ランプエリア４には、磁性塗膜が塗布されていな
い。７はＸ線管であり、Ｘ線発生装置８に接続さ
れている。９はＸ線検出器で、Ｘ線管７から磁気
デイスク媒体Ａに照射されたＸ線の反射量すなわ
ちＸ線検量線強度を検出するものである。該Ｘ線
検出器９は検出用電源１０で駆動され、出力は波
高分析器１１に入力される。そして該波高分析器
１１の測定データは、プロセツサ１２で処理さ
れ、膜厚値が表示器１３に表示されたり、プリン
タ１４でプリントアウトされる。１５はプロセツ
サ１２を操作したりデータ入力するテンキーであ
る。
この装置において、まず磁気デイスク媒体Ａの
磁性塗膜が塗布されていないクランプエリア４の
Ｘ線検量線強度を測定し、プロセツサ１２に入力
させる。次いで磁性塗膜領域５の内周側のa1点の
Ｘ線検量線強度を測定し、プロセツサ１２に入力
する。同様に磁性塗膜領域５の外周側のa2点のＸ
線検量線強度を測定し、プロセツサ１２に入力す
る。そして、予めプロセツサ１２に入力されてい
る前記基準データ１とＸ線検出器９で検出された
前記３つのＸ線検量線強度とを比較することで、
クランプエリア４の表面条件に関係なく、磁性塗
膜５の内外２個所の膜厚値のみが表示器１３やプ
リンタ１４で出力される。
磁性塗膜が塗布されていないクランプエリア４の
Ｘ線検量線強度を測定し、プロセツサ１２に入力
させる。次いで磁性塗膜領域５の内周側のa1点の
Ｘ線検量線強度を測定し、プロセツサ１２に入力
する。同様に磁性塗膜領域５の外周側のa2点のＸ
線検量線強度を測定し、プロセツサ１２に入力す
る。そして、予めプロセツサ１２に入力されてい
る前記基準データ１とＸ線検出器９で検出された
前記３つのＸ線検量線強度とを比較することで、
クランプエリア４の表面条件に関係なく、磁性塗
膜５の内外２個所の膜厚値のみが表示器１３やプ
リンタ１４で出力される。
前記のように、磁気デイスク媒体Ａと磁性塗膜
の材質が同じ磁気デイスク媒体Ｂなどは、前記と
同じ手法でクランプエリア４も測定し、プロセツ
サ１２において、基準データ１に基づいて校正す
ることで、同一基準データにより膜厚測定でき
る。この場合、前記のように基板の成分や表面粗
さなどが異なつていても差支えない。
の材質が同じ磁気デイスク媒体Ｂなどは、前記と
同じ手法でクランプエリア４も測定し、プロセツ
サ１２において、基準データ１に基づいて校正す
ることで、同一基準データにより膜厚測定でき
る。この場合、前記のように基板の成分や表面粗
さなどが異なつていても差支えない。
このように、磁性塗膜の材質が同じ磁気デイス
ク媒体であれば、クランプエリアの表面条件に関
係なく、同じ基準データで校正できるが、磁性塗
膜の材質が異なる磁気デイスク媒体のみ、該磁気
デイスク媒体と同じ材質の磁性塗膜を破壊測定し
たりして別に基準データを作成し、該基準データ
で校正する。
ク媒体であれば、クランプエリアの表面条件に関
係なく、同じ基準データで校正できるが、磁性塗
膜の材質が異なる磁気デイスク媒体のみ、該磁気
デイスク媒体と同じ材質の磁性塗膜を破壊測定し
たりして別に基準データを作成し、該基準データ
で校正する。
なお基板の表面粗さによつて、Ｘ線検量線強度
が異なることは従来から知られているが、本発明
に至る過程において、この傾向は、Ｘ線発生装置
の発生電圧が小さい程大きく、発生電圧が大きく
なると、表面条件の影響を受け難いことが判明し
た。したがつてＸ線発生装置の発生電圧が大きい
状態で測定する場合は、磁性塗膜のみの測定も可
能であるが、本発明の方法によれば、発生電圧に
関係なく高精度の測定が可能となる。
が異なることは従来から知られているが、本発明
に至る過程において、この傾向は、Ｘ線発生装置
の発生電圧が小さい程大きく、発生電圧が大きく
なると、表面条件の影響を受け難いことが判明し
た。したがつてＸ線発生装置の発生電圧が大きい
状態で測定する場合は、磁性塗膜のみの測定も可
能であるが、本発明の方法によれば、発生電圧に
関係なく高精度の測定が可能となる。
第４図は、磁気デイスク媒体の表裏両面の膜厚
を同時に測定する方法である。従来は、磁気デイ
スク媒体の基板が厚いため、専ら反射量を検出し
て片面ずつ測定している。つまり表面の磁性塗膜
膜厚を測定した後、磁気デイスク媒体を測定装置
から外して裏返した状態で再セツトし、再度測定
する作業を行なつている。したがつて作業能率が
悪く、動作が複雑なため自動化も困難である。
を同時に測定する方法である。従来は、磁気デイ
スク媒体の基板が厚いため、専ら反射量を検出し
て片面ずつ測定している。つまり表面の磁性塗膜
膜厚を測定した後、磁気デイスク媒体を測定装置
から外して裏返した状態で再セツトし、再度測定
する作業を行なつている。したがつて作業能率が
悪く、動作が複雑なため自動化も困難である。
しかしながら基板厚の薄い小型の磁気デイスク
媒体では、Ｘ線を透過させることが可能であり、
Ｘ線を透過させると共に、クランプエリアも測定
する本発明の方法を併用することで、裏面の膜厚
も測定することが可能となる。本発明は、この裏
面の膜厚測定を表面側と同時に行うものである。
第４図で、第３図の装置と同一部分には同じ符号
が付されている。この装置では、磁気デイスク媒
体Ａの表面側にＸ線検出器９１が、裏面側にＸ線
検出器９２が配設されている。そして両Ｘ線検出
器９１，９２の出力は、波高分析器１１を介して
プロセツサ１２に入力される。この装置でも、磁
気デイスク媒体のクランプエリア４と磁性塗膜領
域５の両方を測定し、前記のように基準データで
校正することで、表面側の膜厚値が得られる。基
板のＸ線透過量は、基板の表面粗さの他に基板の
厚さや成分にも依存するが、裏面の膜厚を測定す
る場合も、クランプエリア４を透過測定する。透
過量で測定された磁性塗膜部の厚さから、クラン
プエリアの基板厚と表面側の磁性塗膜膜厚の値を
差し引く処理がプロセツサ１２で行なわれるた
め、基板の表面条件は勿論基板厚や成分なども関
係なく、裏面の磁性塗膜の膜厚値のみを得ること
ができる。このように、測定装置にセツトした状
態で、磁気デイスク媒体の表裏両面を同時に測定
することによつて、測定時間が従来の半分に短縮
され、磁気デイスク媒体を裏返さないで済むので
自動測定も容易になる。またクランプエリアの基
板厚を測定し、磁性塗膜部の基板および両面の磁
性塗膜厚の値から差し引く方法を採つているた
め、基板厚等に関係なく測定でき、再生基板など
を使用した特殊な磁気デイスク媒体も、磁性塗膜
の材質に関する基準データのみ用意しておくこと
で、容易に測定できる。
媒体では、Ｘ線を透過させることが可能であり、
Ｘ線を透過させると共に、クランプエリアも測定
する本発明の方法を併用することで、裏面の膜厚
も測定することが可能となる。本発明は、この裏
面の膜厚測定を表面側と同時に行うものである。
第４図で、第３図の装置と同一部分には同じ符号
が付されている。この装置では、磁気デイスク媒
体Ａの表面側にＸ線検出器９１が、裏面側にＸ線
検出器９２が配設されている。そして両Ｘ線検出
器９１，９２の出力は、波高分析器１１を介して
プロセツサ１２に入力される。この装置でも、磁
気デイスク媒体のクランプエリア４と磁性塗膜領
域５の両方を測定し、前記のように基準データで
校正することで、表面側の膜厚値が得られる。基
板のＸ線透過量は、基板の表面粗さの他に基板の
厚さや成分にも依存するが、裏面の膜厚を測定す
る場合も、クランプエリア４を透過測定する。透
過量で測定された磁性塗膜部の厚さから、クラン
プエリアの基板厚と表面側の磁性塗膜膜厚の値を
差し引く処理がプロセツサ１２で行なわれるた
め、基板の表面条件は勿論基板厚や成分なども関
係なく、裏面の磁性塗膜の膜厚値のみを得ること
ができる。このように、測定装置にセツトした状
態で、磁気デイスク媒体の表裏両面を同時に測定
することによつて、測定時間が従来の半分に短縮
され、磁気デイスク媒体を裏返さないで済むので
自動測定も容易になる。またクランプエリアの基
板厚を測定し、磁性塗膜部の基板および両面の磁
性塗膜厚の値から差し引く方法を採つているた
め、基板厚等に関係なく測定でき、再生基板など
を使用した特殊な磁気デイスク媒体も、磁性塗膜
の材質に関する基準データのみ用意しておくこと
で、容易に測定できる。
以上のように本発明によれば、磁性塗膜部に加
えて、クランプエリアのように磁性塗膜の塗布さ
れていない領域のＸ線検量線強度も測定すること
により、基板の表面粗さや材質に関係なく膜厚の
みの値を得ることができ、基板に関する基準デー
タを一切必要としない。そのため、磁性塗膜の材
質に関する基準データさえ得ておけば、種類の少
ない特殊な基板を使用した磁気デイスク媒体で
も、容易にかつ高精度に測定できる。特に、裏面
の膜厚は透過式に、かつ表面側と同時に測定する
ことも可能となり、自動測定に極めて適してい
る。
えて、クランプエリアのように磁性塗膜の塗布さ
れていない領域のＸ線検量線強度も測定すること
により、基板の表面粗さや材質に関係なく膜厚の
みの値を得ることができ、基板に関する基準デー
タを一切必要としない。そのため、磁性塗膜の材
質に関する基準データさえ得ておけば、種類の少
ない特殊な基板を使用した磁気デイスク媒体で
も、容易にかつ高精度に測定できる。特に、裏面
の膜厚は透過式に、かつ表面側と同時に測定する
ことも可能となり、自動測定に極めて適してい
る。
第１図は本発明による磁性塗膜の膜厚測定方法
の作用を示す図、第２図は磁気デイスク媒体にお
ける測定個所を示す図、第３図は本発明の方法を
実施する装置のブロツク図、第４図は本発明の方
法で両面同時に測定する装置のブロツク図であ
る。 図において、１は基準データ、２，３は実測デ
ータ、４はクランプエリア、５は磁性塗膜（領
域）、７はＸ線管、９，９１，９２はＸ線検出器
をそれぞれ示す。
の作用を示す図、第２図は磁気デイスク媒体にお
ける測定個所を示す図、第３図は本発明の方法を
実施する装置のブロツク図、第４図は本発明の方
法で両面同時に測定する装置のブロツク図であ
る。 図において、１は基準データ、２，３は実測デ
ータ、４はクランプエリア、５は磁性塗膜（領
域）、７はＸ線管、９，９１，９２はＸ線検出器
をそれぞれ示す。
Claims (1)
- １ 磁気デイスク媒体の磁性塗膜をＸ線ビームで
測定する方法において、磁性塗膜の膜厚が既知の
磁気デイスク媒体における、膜厚とＸ線検量線強
度との関係を測定し、膜厚とＸ線検量線強度との
基準データを予め得ておき、被測定磁気デイスク
媒体における磁性塗膜の無い領域のＸ線検量線強
度と、磁性塗膜の存在する領域のＸ線検量線強度
を測定し、かつ前記基準データで校正することに
より、磁性塗膜の膜厚の値を得ることを特徴とす
る磁性塗膜の膜厚測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59242747A JPS61120010A (ja) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | 磁性塗膜の膜厚測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59242747A JPS61120010A (ja) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | 磁性塗膜の膜厚測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61120010A JPS61120010A (ja) | 1986-06-07 |
| JPH0347681B2 true JPH0347681B2 (ja) | 1991-07-22 |
Family
ID=17093657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59242747A Granted JPS61120010A (ja) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | 磁性塗膜の膜厚測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61120010A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6423105A (en) * | 1987-07-17 | 1989-01-25 | Japan Aviation Electron | Film thickness evaluating device |
| US7362454B2 (en) | 2005-01-21 | 2008-04-22 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method and system for measuring overcoat layer thickness on a thin film disk |
| JP5018132B2 (ja) * | 2007-02-26 | 2012-09-05 | 富士通株式会社 | 試料分析装置及び試料分析方法 |
| JP7255517B2 (ja) * | 2019-12-13 | 2023-04-11 | 株式会社プロテリアル | 非破壊測定方法、非破壊測定システム、非破壊測定用プログラムおよび記録媒体 |
| KR102525296B1 (ko) * | 2020-09-08 | 2023-05-09 | 주식회사 포스코 | 강판 코팅층 두께 측정 장치 |
-
1984
- 1984-11-16 JP JP59242747A patent/JPS61120010A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61120010A (ja) | 1986-06-07 |
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