JPH04160115A - 電子ビーム照射装置 - Google Patents
電子ビーム照射装置Info
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- JPH04160115A JPH04160115A JP28441490A JP28441490A JPH04160115A JP H04160115 A JPH04160115 A JP H04160115A JP 28441490 A JP28441490 A JP 28441490A JP 28441490 A JP28441490 A JP 28441490A JP H04160115 A JPH04160115 A JP H04160115A
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- mask
- electron beam
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Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 3
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- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 3
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Landscapes
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、電子ビーム照射装置に関し、とくに走行中
のストリップに対し、効率よく安定して電子ビームを照
射しようとするものである。
のストリップに対し、効率よく安定して電子ビームを照
射しようとするものである。
（従来の技術）
従来、電子ビームをストリップに照射することによって
ストリップの特性を改善する方法としては、たとえば特
開昭６３−９６２１８号公報、特開昭６３＝１８６８２
６号公報等に開示の方法が知られている。
ストリップの特性を改善する方法としては、たとえば特
開昭６３−９６２１８号公報、特開昭６３＝１８６８２
６号公報等に開示の方法が知られている。
ところでストリップに対して電子ビームを照射する際、
電子ビームはエネルギー密度が極めて高いために、本来
照射すべきストリップを外れて設備に照射された場合に
は、設備に損傷を与える危険があった。たとえば電子ビ
ームの照射位置では、板面レベルを維持するためにサポ
ートロールによってストリップを支持しているが、スト
リップは走行に蛇行が生じるため、ストリップエツジを
外れてサポートロール等の設備にビームが照射される危
険性が高かった。
電子ビームはエネルギー密度が極めて高いために、本来
照射すべきストリップを外れて設備に照射された場合に
は、設備に損傷を与える危険があった。たとえば電子ビ
ームの照射位置では、板面レベルを維持するためにサポ
ートロールによってストリップを支持しているが、スト
リップは走行に蛇行が生じるため、ストリップエツジを
外れてサポートロール等の設備にビームが照射される危
険性が高かった。
そこで電子ビームの幅方向照射速度、長手方向照射ピッ
チの調整を目的とし、またビームをストリップに照射せ
ずに待機させる目的も兼ねて、第２図に示すように、ス
トリップの幅方向両側にグラファイト等を用いたビーム
マスク７を設置しているが、この設置位置は上記したエ
ツジ部からのビーム外れを考慮して、ストリップエツジ
よす内側寄りに配置するのが一般的であった。
チの調整を目的とし、またビームをストリップに照射せ
ずに待機させる目的も兼ねて、第２図に示すように、ス
トリップの幅方向両側にグラファイト等を用いたビーム
マスク７を設置しているが、この設置位置は上記したエ
ツジ部からのビーム外れを考慮して、ストリップエツジ
よす内側寄りに配置するのが一般的であった。
（発明が解決しようとする課題）
上記したようにビームマスクをストリップエツジよりも
内側に配置することで、設備損傷の危険性は小さくなる
けれども、ストリップの蛇行や幅変動を完全にカバーす
ることを考慮した場合には、通常のエツジは大半が未処
理部（第２図中にａで示した領域）となり、実生産ライ
ンを考えた場合歩留りの大幅な低下を招く。
内側に配置することで、設備損傷の危険性は小さくなる
けれども、ストリップの蛇行や幅変動を完全にカバーす
ることを考慮した場合には、通常のエツジは大半が未処
理部（第２図中にａで示した領域）となり、実生産ライ
ンを考えた場合歩留りの大幅な低下を招く。
（課題を解決するための手段）
この発明は、上記の問題を有利に解決するもので、スト
リップエツジ部におけるビーム未照射部を僅少とし、し
かもビームのストリップ外れによる設備損傷のおそれも
ない電子ビーム照射装置を提案することを目的とする。
リップエツジ部におけるビーム未照射部を僅少とし、し
かもビームのストリップ外れによる設備損傷のおそれも
ない電子ビーム照射装置を提案することを目的とする。
すなわちこの発明は、連続して走行するストリップに対
し、電子ビームを連続的に照射する装置であって、 電子ビーム源と、ビームマスク装置と、該ビームマスク
装置の上流に設置したストリップエツジ検出器とからな
り、該ビームマスク装置は、ビーム源側のストリップエ
ツジ部上方にエツジマスクをそなえ、このエツジマスク
を、ストリップの幅方向に進退移動自在でかつ、ストリ
ップの進行方向でのオシレーション移動可能に設置した
ことを特徴とする電子ビーム照射装置である。
し、電子ビームを連続的に照射する装置であって、 電子ビーム源と、ビームマスク装置と、該ビームマスク
装置の上流に設置したストリップエツジ検出器とからな
り、該ビームマスク装置は、ビーム源側のストリップエ
ツジ部上方にエツジマスクをそなえ、このエツジマスク
を、ストリップの幅方向に進退移動自在でかつ、ストリ
ップの進行方向でのオシレーション移動可能に設置した
ことを特徴とする電子ビーム照射装置である。
（作 用）
この発明では、以下のようにして、所期した目的を達成
するものである。
するものである。
（１）ビームマスクをストリップエツジに追従させてシ
フトする。
フトする。
（２）ビーム照射幅を、ストリップの蛇行および幅移動
まで考慮した幅で常時照射とし、ストリップエツジから
外れた分はビームマスクに照射することで対応する。
まで考慮した幅で常時照射とし、ストリップエツジから
外れた分はビームマスクに照射することで対応する。
（３）このためビームマスクは常に同じ所を照射される
ため、グラファイト等を用いても損耗する危険があるが
、これを防止する目的でライン長手方向に常時オシレー
ションを行なう。
ため、グラファイト等を用いても損耗する危険があるが
、これを防止する目的でライン長手方向に常時オシレー
ションを行なう。
（実施例）
第１図ａ、ｂに、この発明に従う電子ビーム照射装置の
好適例を平面および正面で示す。
好適例を平面および正面で示す。
図中番号１はストリップ、２はストリップエツジセンサ
ー、３は横行シリンダー、４は横行ベース、５はオシレ
ーション機構、６はマスク取付はベース、７はたとえば
グラファイトからなるを可とするエツジマスク、８．９
はそれぞれスライドガイド、１０は電子銃（ＥＢガン）
、１１は真空室、１２は電子ビームである。
ー、３は横行シリンダー、４は横行ベース、５はオシレ
ーション機構、６はマスク取付はベース、７はたとえば
グラファイトからなるを可とするエツジマスク、８．９
はそれぞれスライドガイド、１０は電子銃（ＥＢガン）
、１１は真空室、１２は電子ビームである。
さてストリップ１は、第１図ａに示したところにおいて
、上から下へ走行し、その途中で電子銃１０ （ＥＢガ
ン）により電子ビーム（ＥＢ） １２を照射される。そ
してＥＢガン１ｏの上流にはストリップエツジセンサ２
が配置され、常時ストリップのエツジ位置を測定してい
る。またＥＢガン１ｏの両側にはエツジマスク７がマス
ク取付はベース６に固定されている。このマスク取付は
ベース６はスライドガイド８を介して横行ベース４に、
ライン進行方向へ摺動可能な状態で取付けられている。
、上から下へ走行し、その途中で電子銃１０ （ＥＢガ
ン）により電子ビーム（ＥＢ） １２を照射される。そ
してＥＢガン１ｏの上流にはストリップエツジセンサ２
が配置され、常時ストリップのエツジ位置を測定してい
る。またＥＢガン１ｏの両側にはエツジマスク７がマス
ク取付はベース６に固定されている。このマスク取付は
ベース６はスライドガイド８を介して横行ベース４に、
ライン進行方向へ摺動可能な状態で取付けられている。
そしてクランク式オシレーション機構５によりオシレー
ション可能な構造となっている。横行ベース４はスライ
ドガイド９を介して横行シリンダー３によりライン直角
方向へ摺動可能である。
ション可能な構造となっている。横行ベース４はスライ
ドガイド９を介して横行シリンダー３によりライン直角
方向へ摺動可能である。
エツジセンサー２により走行ストリップ１のエツジが検
出され、そのエツジに追従して横行シリンダー３を作動
させることで、エツジマスク７により電子ビーム１２が
ストリップ１から外れないようにマスキングを行なう。
出され、そのエツジに追従して横行シリンダー３を作動
させることで、エツジマスク７により電子ビーム１２が
ストリップ１から外れないようにマスキングを行なう。
この時ＥＢガン１ｏがら照射される電子ビーム１２の照
射幅は、ストリップ１の蛇行、幅変動を十分カバーでき
るだけの振れ幅を持つ。逆にマスク７の寸法はそれを十
分にマスキングできるだけの寸法を持つ。また常にマス
ク７の同一位置に電子ビーム１２が照射されることによ
って、マスク７が損傷するのを防止するため、オシレー
ション機構５によりライン進行方向にオシレーションを
行ない、マスク７の長寿命化も図ることができる。
射幅は、ストリップ１の蛇行、幅変動を十分カバーでき
るだけの振れ幅を持つ。逆にマスク７の寸法はそれを十
分にマスキングできるだけの寸法を持つ。また常にマス
ク７の同一位置に電子ビーム１２が照射されることによ
って、マスク７が損傷するのを防止するため、オシレー
ション機構５によりライン進行方向にオシレーションを
行ない、マスク７の長寿命化も図ることができる。
なお玉揚した第２図は、あくまでもこの発明の−例であ
り、オシレーション機構や横行機能などについて、他の
方式を用いてもかまわないのはいうまでもない。
り、オシレーション機構や横行機能などについて、他の
方式を用いてもかまわないのはいうまでもない。
（発明の効果）
かくしてこの発明によれば、設備の損傷なしにストリッ
プエツジにまで効果的に電子ビームを照射することがで
き、ひいては周辺設備の長寿命化および製品歩留りの向
上を図ることができる。
プエツジにまで効果的に電子ビームを照射することがで
き、ひいては周辺設備の長寿命化および製品歩留りの向
上を図ることができる。
第１図ａ、ｂはそれぞれ、この発明に従う好適ビームマ
スク装置の平面図および正面図、第２図は、従来のビー
ムマスク装置の正面図である。 １・・・ストリップ ２・・・ストリップエツジセンサー ３・・・横行シリンダー ４・・・横行ベース５・
・・オシレーション機構 ６・・・マスク取付はベース ７・・・エツジマスク８
．９・・・スライドガイド １０・・・電子銃（ＥＢガ
ン）１１・・・真空室 １２・・・電子ビ
ーム第２図 ａ−−一朱照ｊｔ＋＠’ｆ−
スク装置の平面図および正面図、第２図は、従来のビー
ムマスク装置の正面図である。 １・・・ストリップ ２・・・ストリップエツジセンサー ３・・・横行シリンダー ４・・・横行ベース５・
・・オシレーション機構 ６・・・マスク取付はベース ７・・・エツジマスク８
．９・・・スライドガイド １０・・・電子銃（ＥＢガ
ン）１１・・・真空室 １２・・・電子ビ
ーム第２図 ａ−−一朱照ｊｔ＋＠’ｆ−
Claims (1)
- １、連続して走行するストリップに対し、電子ビームを
連続的に照射する装置であって、電子ビーム源と、ビー
ムマスク装置と、該ビームマスク装置の上流に設置した
ストリップエッジ検出器とからなり、該ビームマスク装
置は、ビーム源側のストリップエッジ部上方にエッジマ
スクをそなえ、このエッジマスクを、ストリップの幅方
向に進退移動自在でかつ、ストリップの進行方向でのオ
シレーション移動可能に設置したことを特徴とする電子
ビーム照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28441490A JPH04160115A (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 電子ビーム照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28441490A JPH04160115A (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 電子ビーム照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04160115A true JPH04160115A (ja) | 1992-06-03 |
Family
ID=17678253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28441490A Pending JPH04160115A (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 電子ビーム照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04160115A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012036443A (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-23 | Jfe Steel Corp | 電子ビーム照射方法 |
| JP2015101758A (ja) * | 2013-11-25 | 2015-06-04 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 電子ビーム照射装置および電子ビーム照射方法 |
| JP2023158817A (ja) * | 2022-04-19 | 2023-10-31 | 日本製鉄株式会社 | 鋼板加工装置および鋼板加工装置の制御方法 |
-
1990
- 1990-10-24 JP JP28441490A patent/JPH04160115A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012036443A (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-23 | Jfe Steel Corp | 電子ビーム照射方法 |
| JP2015101758A (ja) * | 2013-11-25 | 2015-06-04 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 電子ビーム照射装置および電子ビーム照射方法 |
| JP2023158817A (ja) * | 2022-04-19 | 2023-10-31 | 日本製鉄株式会社 | 鋼板加工装置および鋼板加工装置の制御方法 |
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