JPH04171779A - 半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置 - Google Patents
半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置Info
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- JPH04171779A JPH04171779A JP2297208A JP29720890A JPH04171779A JP H04171779 A JPH04171779 A JP H04171779A JP 2297208 A JP2297208 A JP 2297208A JP 29720890 A JP29720890 A JP 29720890A JP H04171779 A JPH04171779 A JP H04171779A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 65
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 65
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 1
- 229910003334 KNbO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000005308 flint glass Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- UKDIAJWKFXFVFG-UHFFFAOYSA-N potassium;oxido(dioxo)niobium Chemical compound [K+].[O-][Nb](=O)=O UKDIAJWKFXFVFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/106—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/108—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using non-linear optical devices, e.g. exhibiting Brillouin or Raman scattering
- H01S3/109—Frequency multiplication, e.g. harmonic generation
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- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
- H01S3/09415—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode the pumping beam being parallel to the lasing mode of the pumped medium, e.g. end-pumping
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/106—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/108—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using non-linear optical devices, e.g. exhibiting Brillouin or Raman scattering
- H01S3/109—Frequency multiplication, e.g. harmonic generation
- H01S3/1095—Frequency multiplication, e.g. harmonic generation self doubling, e.g. lasing and frequency doubling by the same active medium
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/1601—Solid materials characterised by an active (lasing) ion
- H01S3/1603—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
- H01S3/1611—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth neodymium
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- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
本発明は、固体レーザ装置に関し、特に、半導体レーザ
を励起光源とした固体ブルーレーザ装置に関する。 このような半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は、
高密度光ディスク用光源、分析、医療等計測分野、情報
処理分野に広く利用されている。
を励起光源とした固体ブルーレーザ装置に関する。 このような半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は、
高密度光ディスク用光源、分析、医療等計測分野、情報
処理分野に広く利用されている。
従来、半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置として、
2種類のものが知られている。 第1のタイプのものは、ピー・ギュンタ−(P・cun
ter著て、「ノンリニア・オプティカル・クリスタル
ズーフォー・オプティカルQフレクエンシー・ダブリン
グ・ウィズ・レーザ・ダイオーズ(Non目near
optical crystals for opti
calfrequency doubling wHh
1aser diodes) Jという題の、198
0ヨーロピアン・コンファレンス・オン・オプティカル
・システムズ・アンド・アプリケーションズ(1980
European Conferenceon 0pt
ical Systems and Applicat
ions)の論文、5PIE Vow、 23 B、頁
8〜18に記載されている。 この第1のタイプの半導体レーザ励起固体ブルーレーザ
装置は、後で図面を参照して説明するように、半導体レ
ーザから出射された励起用レーザ光を非線形光学結晶を
用いて直接第2高調波のブルー光を得るものである。 第2のタイプのものは、ジー・ジェイ・デイクソン等(
G、J、Dixon、eL al )著で、「エフィシ
エント・ブルー・エミッション・フロム・アン・イント
ラキャビティーダブルド・946−nm−Nd :YA
Gレーザ(Erf’1cjenL 1)lue emi
sslon rrotnan 1ntracavity
−doubled 94[i−nm Nd:YAG 1
aser)という題の光学論文(OPTIC3LIET
TER3) 、Vo l。 13、No、2.頁137〜139.1988年、2月
に記載されている。この第2のタイプの半導体レーザ励
起固体ブルーレーザ装置は、後で図面を参照して説明す
るように、Nd:YAG等のレーザ媒体を半導体レーザ
から出射された励起用レーザ光で励起し、0.9μm帯
の光を発振して、非線形光学結晶を用いて第2高調波の
ブルー光を得るものである。 第6図を参照すると、第1のタイプの半導体レーザ励起
固体ブルーレーザ装置は、半導体レーザ1から出射され
た0、86μmの発振波長の励起用レーザ光をレンズ系
2にて非線形光学結晶7に集光し、非線形光学結晶7で
励起光の半分の波長0.43μmのブルー光を得るもの
である。 第7図を参照すると、第2のタイプの半導体レーザ励起
固体ブルーレーザ装置は、半導体レーザ1から出射され
た0、8μm帯の発振波長の励起用レーザ光をレンズ系
2にてレーザ媒体6に集光する。レーザ媒体6は、Nd
:YAGであり、この結晶の3準位レーザ発振波長であ
る946nmの光を発振する。非線形光学結晶7を、レ
ーザ媒体6の端面とミラー8で構成される共振器内に配
置し、473nmのブルー光を得る。
2種類のものが知られている。 第1のタイプのものは、ピー・ギュンタ−(P・cun
ter著て、「ノンリニア・オプティカル・クリスタル
ズーフォー・オプティカルQフレクエンシー・ダブリン
グ・ウィズ・レーザ・ダイオーズ(Non目near
optical crystals for opti
calfrequency doubling wHh
1aser diodes) Jという題の、198
0ヨーロピアン・コンファレンス・オン・オプティカル
・システムズ・アンド・アプリケーションズ(1980
European Conferenceon 0pt
ical Systems and Applicat
ions)の論文、5PIE Vow、 23 B、頁
8〜18に記載されている。 この第1のタイプの半導体レーザ励起固体ブルーレーザ
装置は、後で図面を参照して説明するように、半導体レ
ーザから出射された励起用レーザ光を非線形光学結晶を
用いて直接第2高調波のブルー光を得るものである。 第2のタイプのものは、ジー・ジェイ・デイクソン等(
G、J、Dixon、eL al )著で、「エフィシ
エント・ブルー・エミッション・フロム・アン・イント
ラキャビティーダブルド・946−nm−Nd :YA
Gレーザ(Erf’1cjenL 1)lue emi
sslon rrotnan 1ntracavity
−doubled 94[i−nm Nd:YAG 1
aser)という題の光学論文(OPTIC3LIET
TER3) 、Vo l。 13、No、2.頁137〜139.1988年、2月
に記載されている。この第2のタイプの半導体レーザ励
起固体ブルーレーザ装置は、後で図面を参照して説明す
るように、Nd:YAG等のレーザ媒体を半導体レーザ
から出射された励起用レーザ光で励起し、0.9μm帯
の光を発振して、非線形光学結晶を用いて第2高調波の
ブルー光を得るものである。 第6図を参照すると、第1のタイプの半導体レーザ励起
固体ブルーレーザ装置は、半導体レーザ1から出射され
た0、86μmの発振波長の励起用レーザ光をレンズ系
2にて非線形光学結晶7に集光し、非線形光学結晶7で
励起光の半分の波長0.43μmのブルー光を得るもの
である。 第7図を参照すると、第2のタイプの半導体レーザ励起
固体ブルーレーザ装置は、半導体レーザ1から出射され
た0、8μm帯の発振波長の励起用レーザ光をレンズ系
2にてレーザ媒体6に集光する。レーザ媒体6は、Nd
:YAGであり、この結晶の3準位レーザ発振波長であ
る946nmの光を発振する。非線形光学結晶7を、レ
ーザ媒体6の端面とミラー8で構成される共振器内に配
置し、473nmのブルー光を得る。
【発明が解決しようとする課8】
従来の半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は、上述
したような構成を有している。 第6図に示された第1のタイプの半導体レーザ励起固体
ブルーレーザ装置は、小型、軽量ではある。しかしなが
ら、第1のタイプの半導体レーザ励起固体ブルーレーザ
装置は、ブルー光の出力が半導体レーザ1の励起光源に
依存し、半導体レーザ1から出射される励起用レーザ光
よりも大きく取れないという欠点がある。レーザ媒体の
ような利得媒体を有していないので、光エネルギを蓄積
一 4 − することが出来ず、高出力化及びQスイッチ動作が不可
能である。 一方、第7図に示された第2のタイプの半導体レーザ励
起固体ブルーレーザ装置は、レーザ媒体6を内蔵してい
るので、光エネルギを蓄積することが出来、高出力化及
びQスイッチ動作が可能である。しかし、第2のタイプ
の半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は、レーザ媒
体6と非線形光学結晶7の2つの構成要素が必要であり
、装置の信頼性や小型・軽量化が困難である。特に、第
2のタイプの半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置で
は、非線形光学結晶7にニオブ酸カリウム(KNbO3
)を使用しているので、0.2°Cの温度許容値で精度
良く結晶を保温することが必要である。 本発明の目的は、高出力化とQスイッチ動作が可能で、
かつ、小型・軽量で信頼性の高い半導体レーザ励起固体
ブルーレーザ装置を提供することにある。 本発明の他の目的は、構造が簡易で、メンテナスが不要
で、かつ製品コストが低く、安価な半導体レーザ励起固
体ブルーレーザ装置を提供することにある。
したような構成を有している。 第6図に示された第1のタイプの半導体レーザ励起固体
ブルーレーザ装置は、小型、軽量ではある。しかしなが
ら、第1のタイプの半導体レーザ励起固体ブルーレーザ
装置は、ブルー光の出力が半導体レーザ1の励起光源に
依存し、半導体レーザ1から出射される励起用レーザ光
よりも大きく取れないという欠点がある。レーザ媒体の
ような利得媒体を有していないので、光エネルギを蓄積
一 4 − することが出来ず、高出力化及びQスイッチ動作が不可
能である。 一方、第7図に示された第2のタイプの半導体レーザ励
起固体ブルーレーザ装置は、レーザ媒体6を内蔵してい
るので、光エネルギを蓄積することが出来、高出力化及
びQスイッチ動作が可能である。しかし、第2のタイプ
の半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は、レーザ媒
体6と非線形光学結晶7の2つの構成要素が必要であり
、装置の信頼性や小型・軽量化が困難である。特に、第
2のタイプの半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置で
は、非線形光学結晶7にニオブ酸カリウム(KNbO3
)を使用しているので、0.2°Cの温度許容値で精度
良く結晶を保温することが必要である。 本発明の目的は、高出力化とQスイッチ動作が可能で、
かつ、小型・軽量で信頼性の高い半導体レーザ励起固体
ブルーレーザ装置を提供することにある。 本発明の他の目的は、構造が簡易で、メンテナスが不要
で、かつ製品コストが低く、安価な半導体レーザ励起固
体ブルーレーザ装置を提供することにある。
本発明による半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は
、所定の波長帯のブルーレーザ光を出射する半導体レー
ザ励起固体ブルーレーザ装置において、励起用レーザ光
を出射する半導体レーザと、該励起用レーザ光によって
励起され、前記所定の波長に等しい第2高調波の波長を
もつ高調波レーザ光を発する自己高調波発生結晶とを有
し、前記高調波レーザ光を前記ブルーレーザ光として出
射することを特徴とする。 所定の波長帯は、例えば、0,45μm帯である。 半導体レーザ光を自己高調波発生結晶に集光するための
集光レンズを有しても良い。自己高調波発生結晶を冷却
するための冷却器を有しても良い。 自己高調波発生結晶から出射される高調波レーザ光をブ
ルーレーザ光として出射するための外部ミラーを有して
も良い。自己高調波発生結晶と外部ミラーとの間にQス
イッチ素子が配置されても良い。
、所定の波長帯のブルーレーザ光を出射する半導体レー
ザ励起固体ブルーレーザ装置において、励起用レーザ光
を出射する半導体レーザと、該励起用レーザ光によって
励起され、前記所定の波長に等しい第2高調波の波長を
もつ高調波レーザ光を発する自己高調波発生結晶とを有
し、前記高調波レーザ光を前記ブルーレーザ光として出
射することを特徴とする。 所定の波長帯は、例えば、0,45μm帯である。 半導体レーザ光を自己高調波発生結晶に集光するための
集光レンズを有しても良い。自己高調波発生結晶を冷却
するための冷却器を有しても良い。 自己高調波発生結晶から出射される高調波レーザ光をブ
ルーレーザ光として出射するための外部ミラーを有して
も良い。自己高調波発生結晶と外部ミラーとの間にQス
イッチ素子が配置されても良い。
本発明では、半導体レーザから出射される励起用レーザ
光によって励起されるレーザ媒体として自己高調波発生
結晶を用いる。自己高調波発生結晶は第2高調波の波長
をもつ高調波レーザ光を所定の波長帯のブルーレーザ光
として発する。
光によって励起されるレーザ媒体として自己高調波発生
結晶を用いる。自己高調波発生結晶は第2高調波の波長
をもつ高調波レーザ光を所定の波長帯のブルーレーザ光
として発する。
以下、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説
明する。 第1図を参照すると、本発明の第1の実施例による半導
体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は、半導体レーザ1
を有する。半導体レーザ1は、後述するように、励起光
源として使用される。 半導体レーザ1からのレーザ発振光は、集光レンズ2を
介して自己高調波発生結晶3に集光される。即ち、集光
レンズ2は、半導体レーザ1からのレーザ発振光をレー
ザ媒体である自己高調波発生結晶3に集光して自己高調
波発生結晶3を効率良く励起するためのものである。 本実施例では、半導体レーザ1として、ソニー社製、ブ
ロードエリアタイプ5LD303WT。 500mW、レーザ波長0 、8p mを用いた。 また、本実施例では、集光レンズ2として凸レンズを用
いている。しかしながら、集光効率を上げる為に、集光
レンズ2として2〜3枚のレンズ系を用いても良い。 本実施例では、自己高調波発生結晶3はNdXY+−x
Ai) 3 (803) 4 (以下、NYAB
と略する。)で、Ndイオンの濃度Xを0.02とし、
結晶の寸法は3mm0で、長さ5mmである。このNY
AB結晶は、魚群R32に属する負の一軸結晶で、結晶
構造から言えば三方晶系である。 自己高調波発生結晶3における角度位相整合条件は、次
の通りである。θ、φを結晶の2軸及びX軸から測定し
た曲座標の角度とすると、タイプIでの角度位相整合で
の有効非線形光学定数derrは、 del’f’ −d 、、c o sθ。* c o、
s 3φと表せる。また、位相整合角θ、は、 5in2θ□ =f[n(ω)] −2−[n (2ω)コ
−2) 10 .
0i[n(2ω)コ −2−[n(2ω)] −21
e Oから求め
られる。ここで、φは、0’、60°。 120°の3つの許容角度があるが、本実施例では0″
とした。n (ω)は常光線の0.9μm帯の屈折率、
n (2ω)は常光線の0.45μm帯の屈折率、n
(2ω)は異常光線の0.45μm帯の屈折率を示
す。 屈折率nは、周知のように、次のセルマイヤー方程式で
表される。 n2−A+ [B/ (1−C/λ2)]+ [D/
fl−E/λ2)コ 但し、λは求める波長で、単位はμmである。 常光線に対しての係数A、B、C,D、Eは、計算から
次のように与えられ石。 A−3,134262゜ B−3,247726X10−2゜ C−0,1264657゜ D−4,461347X10’。 E=5. 590647X105 。 また、異常光線に対しての係数A、B、C,D。 Eは、計算から次のように与えられる。 A=2.860450゜ B−3,608948x1.0−2゜ C=0.1208717゜ D=4.689097X103゜ E−9,609480xlO4゜ これらの値を上記セルマイヤ一方程式に代入すると、0
.9μmでの常光線及び異常光線屈折率no(ω)、n
e(ω)、及び0.45μmでの常光線及び異常光線屈
折率n (2ω)、n(2ω)は、それそOe れ、以下のように与えられる。 n (ω)ミ1.7636゜ n (ω)=1.6925゜ n (2ω)=1.7915゜ n (2ω)=1.71600 これらの屈折率の値から、角度位相整合条件を満足する
θ□は、次の通りである。 θ、=36.54度 本実施例では、上記θ□=36.54度、φ−0度にて
、NYAB結晶の結晶軸の切り出しを行なった。 自己高調波発生結晶3の半導体レーザ]の集光光を入射
する端面30には、半導体レーザ1から発振されるレー
ザ発振波長0.8μmのレーザ発振光を十分に透過(本
実施例では、透過率95%以上)し、波長0.9μmの
光に対して十分に反射(本実施例では、反射率98%以
上)する膜がコーティングされている。 一方、自己高調波発生結晶3の他方の端面(出射端面)
31には、波長0.9μmの光に対して十分に反射(本
実施例では、反射率98%以上)し、波長1.06μm
の光に対して十分に透過(本実施例では、透過率99%
以上)し、かつ波長0.45μm光に対して十分に透過
(本実施例では、透過率98%以上)する膜がコーティ
ングされている。 尚、これらの膜は、一般に知られている蒸着法によって
、例えば、5in2とTiO2の多層膜を構成すること
で得られる。 自己高調波発生結晶3の両端面のコートにより、半導体
レーザ1からの波長0.8μm帯のレーザ発振光を効率
よく集光レンズ2にて自己高調波発生結晶3中に集光し
、自己高調波発生結晶3が半導体レーザ1からの波長0
.8μm帯のレーザ発振光を十分に吸収し、波長0,9
μmのレーザ発振を行いながら自己高調波発生結晶3中
で角度位相整合条件により第2高調波発生を行い、波長
0.45μmのブルー光50を数円することになる。 第1の実施例によれば、利得媒体としての機能を有する
自己高調波発生結晶3を用いているので、高出力化が計
られ、従来のようなレーザ媒体と非線形光学結晶とを別
途有することなく、波長0.45μmのブルー光50が
得られる。従って、小型、軽量、高信頼性の半導体レー
ザ励起固体ブルーレーザ装置を提供できる。 第2図を参照すると、本発明の第2の実施例による半導
体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は、冷却器10が付
加されている点を除いて、上述した第1の実施例のもの
と同様の構成を有する。 第2の実施例では、自己高調波発生結晶3の波長0,9
μm帯のレーザ発振が3$位であることがら、より高出
力化のために、冷却器1oて自己高調波発生結晶3を冷
却している。本実施例では、冷却器10として、ベルチ
ェ半導体素子を用い、自己高調波発生結晶3の温度を1
0’Cに保った。 第3図を参照すると、本発明の第3の実施例による半導
体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は、外部ミラー4が
配置されている点を除いて、基本的に上述した第1の実
施例のものと同様の構成を有する。 外部ミラー4の入射端面3Bには、波長0.9μmの光
に対して十分に反射(本実施例では、反射率98%以上
)し、波長1.06μn〕の光に対して十分に透過(本
実施例では、透過率98%以上)し、かつ波長0.45
μmの光に対して十分に透過(本実施例では、透過率9
8%以上)する膜がコーティングされている。 又、自己高調波発生結晶3の出射端面32には、波長0
.9μm及び0.45μmの光に対して十分に透過(本
実施例では、透過率99%以上)する膜がコーティング
されている。 このような、第3の実施例においても、上述した第1の
実施例と同様に、波長0.45μmのブルー光50が得
られる。 第4図を参照すると、本発明の第4の実施例による半導
体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は、Qスイッチ素子
5が自己高調波発生結晶3と外部ミラー4との間に挿入
されている点を除いて、基本的には上述した第3の実施
例のものと同様の構成を有する。 第4の実施例において、Qスイッチ素子5として音響光
学変調器を用いた。音響光学変調器の動作原理は、この
技術分野において良く知られているので、ここではそれ
についての説明を省略する。 本実施例では、音響光学変調器を構成する音響光学媒体
として、波長0.9μm及び0.45μmの光に対して
十分に透過性のあるフリントガラス(HOYA製FD−
6)を用いた。また、音響光学媒体のレーザ光の入出射
端面には、共に、波長0.9μm及び0.45μmの光
に対して十分に透過(本実施例では、透過率99%以上
)する膜がコーティングされている。゛音響光学媒体中
を伝わる超音波の中心周波数は、80 M Hzで、図
示しない駆動回路のオン・オフにより、Qスイッチ動作
のブルー光50′が得られる。 尚、本実施例では、Qスイッチ素子5として音響光学変
調器を用いたが、ニオブ酸リチウムやKDP結晶などの
電気光学素子を用いても良く、又は、アルカリハライド
系の結晶にγ線或いは電子線、X線を照射し、電子を結
晶中にトラップしたFセンターレーザ結晶を用いても良
い。Fセンターレーザ結晶は、例えば、LiF結晶であ
る。 第5図を参照すると、本発明の第5の実施例による半導
体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は、集光レンズ2が
なく、自己高調波発生結晶3が、直接、半導体レーザ1
に取り付けられている点を除いて、上述した第1の実施
例のものと同様の構成を有する。 第5の実施例は、基本的には、単一縦、横モードT E
M o oのブルー光を得るもので、半導体レーザ1
としては、横モードT E M ooを発振するものを
使用するのが好ましい。 図示された実施例では、自己高調波発生結晶を励起する
ためにエンドポンプ方式についてのみ説明したが、サイ
ドポンプ方式を採用してもよい。
明する。 第1図を参照すると、本発明の第1の実施例による半導
体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は、半導体レーザ1
を有する。半導体レーザ1は、後述するように、励起光
源として使用される。 半導体レーザ1からのレーザ発振光は、集光レンズ2を
介して自己高調波発生結晶3に集光される。即ち、集光
レンズ2は、半導体レーザ1からのレーザ発振光をレー
ザ媒体である自己高調波発生結晶3に集光して自己高調
波発生結晶3を効率良く励起するためのものである。 本実施例では、半導体レーザ1として、ソニー社製、ブ
ロードエリアタイプ5LD303WT。 500mW、レーザ波長0 、8p mを用いた。 また、本実施例では、集光レンズ2として凸レンズを用
いている。しかしながら、集光効率を上げる為に、集光
レンズ2として2〜3枚のレンズ系を用いても良い。 本実施例では、自己高調波発生結晶3はNdXY+−x
Ai) 3 (803) 4 (以下、NYAB
と略する。)で、Ndイオンの濃度Xを0.02とし、
結晶の寸法は3mm0で、長さ5mmである。このNY
AB結晶は、魚群R32に属する負の一軸結晶で、結晶
構造から言えば三方晶系である。 自己高調波発生結晶3における角度位相整合条件は、次
の通りである。θ、φを結晶の2軸及びX軸から測定し
た曲座標の角度とすると、タイプIでの角度位相整合で
の有効非線形光学定数derrは、 del’f’ −d 、、c o sθ。* c o、
s 3φと表せる。また、位相整合角θ、は、 5in2θ□ =f[n(ω)] −2−[n (2ω)コ
−2) 10 .
0i[n(2ω)コ −2−[n(2ω)] −21
e Oから求め
られる。ここで、φは、0’、60°。 120°の3つの許容角度があるが、本実施例では0″
とした。n (ω)は常光線の0.9μm帯の屈折率、
n (2ω)は常光線の0.45μm帯の屈折率、n
(2ω)は異常光線の0.45μm帯の屈折率を示
す。 屈折率nは、周知のように、次のセルマイヤー方程式で
表される。 n2−A+ [B/ (1−C/λ2)]+ [D/
fl−E/λ2)コ 但し、λは求める波長で、単位はμmである。 常光線に対しての係数A、B、C,D、Eは、計算から
次のように与えられ石。 A−3,134262゜ B−3,247726X10−2゜ C−0,1264657゜ D−4,461347X10’。 E=5. 590647X105 。 また、異常光線に対しての係数A、B、C,D。 Eは、計算から次のように与えられる。 A=2.860450゜ B−3,608948x1.0−2゜ C=0.1208717゜ D=4.689097X103゜ E−9,609480xlO4゜ これらの値を上記セルマイヤ一方程式に代入すると、0
.9μmでの常光線及び異常光線屈折率no(ω)、n
e(ω)、及び0.45μmでの常光線及び異常光線屈
折率n (2ω)、n(2ω)は、それそOe れ、以下のように与えられる。 n (ω)ミ1.7636゜ n (ω)=1.6925゜ n (2ω)=1.7915゜ n (2ω)=1.71600 これらの屈折率の値から、角度位相整合条件を満足する
θ□は、次の通りである。 θ、=36.54度 本実施例では、上記θ□=36.54度、φ−0度にて
、NYAB結晶の結晶軸の切り出しを行なった。 自己高調波発生結晶3の半導体レーザ]の集光光を入射
する端面30には、半導体レーザ1から発振されるレー
ザ発振波長0.8μmのレーザ発振光を十分に透過(本
実施例では、透過率95%以上)し、波長0.9μmの
光に対して十分に反射(本実施例では、反射率98%以
上)する膜がコーティングされている。 一方、自己高調波発生結晶3の他方の端面(出射端面)
31には、波長0.9μmの光に対して十分に反射(本
実施例では、反射率98%以上)し、波長1.06μm
の光に対して十分に透過(本実施例では、透過率99%
以上)し、かつ波長0.45μm光に対して十分に透過
(本実施例では、透過率98%以上)する膜がコーティ
ングされている。 尚、これらの膜は、一般に知られている蒸着法によって
、例えば、5in2とTiO2の多層膜を構成すること
で得られる。 自己高調波発生結晶3の両端面のコートにより、半導体
レーザ1からの波長0.8μm帯のレーザ発振光を効率
よく集光レンズ2にて自己高調波発生結晶3中に集光し
、自己高調波発生結晶3が半導体レーザ1からの波長0
.8μm帯のレーザ発振光を十分に吸収し、波長0,9
μmのレーザ発振を行いながら自己高調波発生結晶3中
で角度位相整合条件により第2高調波発生を行い、波長
0.45μmのブルー光50を数円することになる。 第1の実施例によれば、利得媒体としての機能を有する
自己高調波発生結晶3を用いているので、高出力化が計
られ、従来のようなレーザ媒体と非線形光学結晶とを別
途有することなく、波長0.45μmのブルー光50が
得られる。従って、小型、軽量、高信頼性の半導体レー
ザ励起固体ブルーレーザ装置を提供できる。 第2図を参照すると、本発明の第2の実施例による半導
体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は、冷却器10が付
加されている点を除いて、上述した第1の実施例のもの
と同様の構成を有する。 第2の実施例では、自己高調波発生結晶3の波長0,9
μm帯のレーザ発振が3$位であることがら、より高出
力化のために、冷却器1oて自己高調波発生結晶3を冷
却している。本実施例では、冷却器10として、ベルチ
ェ半導体素子を用い、自己高調波発生結晶3の温度を1
0’Cに保った。 第3図を参照すると、本発明の第3の実施例による半導
体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は、外部ミラー4が
配置されている点を除いて、基本的に上述した第1の実
施例のものと同様の構成を有する。 外部ミラー4の入射端面3Bには、波長0.9μmの光
に対して十分に反射(本実施例では、反射率98%以上
)し、波長1.06μn〕の光に対して十分に透過(本
実施例では、透過率98%以上)し、かつ波長0.45
μmの光に対して十分に透過(本実施例では、透過率9
8%以上)する膜がコーティングされている。 又、自己高調波発生結晶3の出射端面32には、波長0
.9μm及び0.45μmの光に対して十分に透過(本
実施例では、透過率99%以上)する膜がコーティング
されている。 このような、第3の実施例においても、上述した第1の
実施例と同様に、波長0.45μmのブルー光50が得
られる。 第4図を参照すると、本発明の第4の実施例による半導
体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は、Qスイッチ素子
5が自己高調波発生結晶3と外部ミラー4との間に挿入
されている点を除いて、基本的には上述した第3の実施
例のものと同様の構成を有する。 第4の実施例において、Qスイッチ素子5として音響光
学変調器を用いた。音響光学変調器の動作原理は、この
技術分野において良く知られているので、ここではそれ
についての説明を省略する。 本実施例では、音響光学変調器を構成する音響光学媒体
として、波長0.9μm及び0.45μmの光に対して
十分に透過性のあるフリントガラス(HOYA製FD−
6)を用いた。また、音響光学媒体のレーザ光の入出射
端面には、共に、波長0.9μm及び0.45μmの光
に対して十分に透過(本実施例では、透過率99%以上
)する膜がコーティングされている。゛音響光学媒体中
を伝わる超音波の中心周波数は、80 M Hzで、図
示しない駆動回路のオン・オフにより、Qスイッチ動作
のブルー光50′が得られる。 尚、本実施例では、Qスイッチ素子5として音響光学変
調器を用いたが、ニオブ酸リチウムやKDP結晶などの
電気光学素子を用いても良く、又は、アルカリハライド
系の結晶にγ線或いは電子線、X線を照射し、電子を結
晶中にトラップしたFセンターレーザ結晶を用いても良
い。Fセンターレーザ結晶は、例えば、LiF結晶であ
る。 第5図を参照すると、本発明の第5の実施例による半導
体レーザ励起固体ブルーレーザ装置は、集光レンズ2が
なく、自己高調波発生結晶3が、直接、半導体レーザ1
に取り付けられている点を除いて、上述した第1の実施
例のものと同様の構成を有する。 第5の実施例は、基本的には、単一縦、横モードT E
M o oのブルー光を得るもので、半導体レーザ1
としては、横モードT E M ooを発振するものを
使用するのが好ましい。 図示された実施例では、自己高調波発生結晶を励起する
ためにエンドポンプ方式についてのみ説明したが、サイ
ドポンプ方式を採用してもよい。
以上の説明で明らかなように、本発明によれば、レーザ
媒体としての利得媒体を兼ね備えた自己高調波発生結晶
を用いているので、基本波のレーザ発振をしながら自己
によりその半分の波長のブルー光を発生することができ
る。従って、Qスイッチ動作が可能で、小型、軽量で高
信頼性の半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置を提供
できる。 また、構成要素が少ないので、コスト的に安くなり、経
済的であるという利点もある。
媒体としての利得媒体を兼ね備えた自己高調波発生結晶
を用いているので、基本波のレーザ発振をしながら自己
によりその半分の波長のブルー光を発生することができ
る。従って、Qスイッチ動作が可能で、小型、軽量で高
信頼性の半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置を提供
できる。 また、構成要素が少ないので、コスト的に安くなり、経
済的であるという利点もある。
第1図は本発明の第1の実施例による半導体レーザ励起
固体ブルーレーザ装置を示す図、第2図一 16 − は本発明の第2の実施例による半導体レーザ励起固体ブ
ルーレーザ装置を示す図、第3図は本発明の第3の実施
例による半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置を示す
図、第4図は本発明の第4の実施例による半導体レーザ
励起固体ブルーレーザ装置を示す図、第5図は本発明の
第5の実施例による半導体レーザ励起固体ブルーレーザ
装置を示す図、第6図は従来の半導体レーザ励起固体ブ
ルーレーザ装置の一例を示す図、第7図は従来の半導体
レーザ励起固体ブルーレーザ装置の他の例を示す図図で
ある。 1・・・半導体レーザ、2・・・集光レンズ、3・・・
自己高調波発生結晶、4・・・外部ミラー、5・・・Q
スイッチ素子、10・・・冷却器。
固体ブルーレーザ装置を示す図、第2図一 16 − は本発明の第2の実施例による半導体レーザ励起固体ブ
ルーレーザ装置を示す図、第3図は本発明の第3の実施
例による半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置を示す
図、第4図は本発明の第4の実施例による半導体レーザ
励起固体ブルーレーザ装置を示す図、第5図は本発明の
第5の実施例による半導体レーザ励起固体ブルーレーザ
装置を示す図、第6図は従来の半導体レーザ励起固体ブ
ルーレーザ装置の一例を示す図、第7図は従来の半導体
レーザ励起固体ブルーレーザ装置の他の例を示す図図で
ある。 1・・・半導体レーザ、2・・・集光レンズ、3・・・
自己高調波発生結晶、4・・・外部ミラー、5・・・Q
スイッチ素子、10・・・冷却器。
Claims (6)
- 1. 所定の波長帯のブルーレーザ光を出射する半導体
レーザ励起固体ブルーレーザ装置において、励起用レー
ザ光を出射する半導体レーザと、該励起用レーザ光によ
って励起され、前記所定の波長に等しい第2高調波の波
長をもつ高調波レーザ光を発する自己高調波発生結晶と
を有し、前記高調波レーザ光を前記ブルーレーザ光とし
て出射することを特徴とする半導体レーザ励起固体ブル
ーレーザ装置。 - 2. 前記所定の波長帯が0.45μm帯である請求項
1記載の半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置。 - 3. 前記半導体レーザ光を前記自己高調波発生結晶に
集光するための集光レンズを有する請求項1記載の半導
体レーザ励起固体ブルーレーザ装置。 - 4. 前記自己高調波発生結晶を冷却するための冷却器
を有する請求項1記載の半導体レーザ励起固体ブルーレ
ーザ装置。 - 5. 前記自己高調波発生結晶から出射される前記高調
波レーザ光を前記ブルーレーザ光として出射するための
外部ミラーを有する請求項1記載の半導体レーザ励起固
体ブルーレーザ装置。 - 6. 前記自己高調波発生結晶と前記外部ミラーとの間
にQスイッチ素子が配置されている請求項5記載の半導
体レーザ励起固体ブルーレーザ装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2297208A JPH04171779A (ja) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | 半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置 |
| US07/786,387 US5222088A (en) | 1990-11-05 | 1991-11-01 | Solid-state blue laser device capable of producing a blue laser beam having high power |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2297208A JPH04171779A (ja) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | 半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04171779A true JPH04171779A (ja) | 1992-06-18 |
Family
ID=17843584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2297208A Pending JPH04171779A (ja) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | 半導体レーザ励起固体ブルーレーザ装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5222088A (ja) |
| JP (1) | JPH04171779A (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| WO1994029937A3 (en) * | 1993-06-11 | 1995-02-02 | Laser Power Corp | Blue microlaser |
| JP2006248191A (ja) * | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Asahi Kasei Chemicals Corp | シート状あるいは円筒状の樹脂製印刷基材の製造方法 |
| JP2008000938A (ja) * | 2006-06-21 | 2008-01-10 | Asahi Kasei Chemicals Corp | シート状又は円筒状印刷基材の製造方法 |
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1990
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| US5222088A (en) | 1993-06-22 |
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