JPH04275408A - 磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法Info
- Publication number
- JPH04275408A JPH04275408A JP3060978A JP6097891A JPH04275408A JP H04275408 A JPH04275408 A JP H04275408A JP 3060978 A JP3060978 A JP 3060978A JP 6097891 A JP6097891 A JP 6097891A JP H04275408 A JPH04275408 A JP H04275408A
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- JP
- Japan
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- nio
- magnetic head
- coo
- temperature
- nonmagnetic substrate
- Prior art date
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- Pending
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- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属性磁性膜を蒸着す
るための非磁性の磁気ヘッド用基板の製造方法に関する
ものである。
るための非磁性の磁気ヘッド用基板の製造方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来技術】従来この種の用途のものとしては、チタン
酸バリウム、チタン酸カルシウム、アルミナ等が使用さ
れていた。しかしながら、その熱膨張率が磁性膜構造体
と大きく異なっていたため、蒸着した磁性膜構造体が剥
離しやすく、また熱膨張率の差により応力が発生しクラ
ックが発生することがあった。
酸バリウム、チタン酸カルシウム、アルミナ等が使用さ
れていた。しかしながら、その熱膨張率が磁性膜構造体
と大きく異なっていたため、蒸着した磁性膜構造体が剥
離しやすく、また熱膨張率の差により応力が発生しクラ
ックが発生することがあった。
【０００３】本発明者等は上記の欠点を解決すべく酸化
物系セラミックスについて研究を進め、ＣｏＯ及びＮｉ
ＯまたはＮｉＯを基本組成とした酸化物が有効であると
して既に開示した。（特開平０１−２８７８１１、特開
平０２−１６８６０２、特願平０１−２１４２０６）
物系セラミックスについて研究を進め、ＣｏＯ及びＮｉ
ＯまたはＮｉＯを基本組成とした酸化物が有効であると
して既に開示した。（特開平０１−２８７８１１、特開
平０２−１６８６０２、特願平０１−２１４２０６）
【０００４】さらに、ＣｏＯ及びＮｉＯまたはＮｉＯを
基本組成とした磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法とし
て、以下の工程からなる製造方法が有効であるとして既
に開示した。（特開平０２−９４４０７）すなわち、（
１）原料粉を混合し、ふるい分けを行なう混合工程、（
２）ＣＩＰ成形した混合粉を仮焼し、粉砕した後ふるい
分けを行なう仮焼工程、（３）仮焼粉を１μｍ以下に微
粉砕する工程、（４）微粉砕粉を２０μｍ以上の球形に
造粒する工程、（５）造粒粉をＣＩＰ成形する工程、（
６）成形体を焼結する工程、（７）焼結体をＨＩＰ処理
する工程である。
基本組成とした磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法とし
て、以下の工程からなる製造方法が有効であるとして既
に開示した。（特開平０２−９４４０７）すなわち、（
１）原料粉を混合し、ふるい分けを行なう混合工程、（
２）ＣＩＰ成形した混合粉を仮焼し、粉砕した後ふるい
分けを行なう仮焼工程、（３）仮焼粉を１μｍ以下に微
粉砕する工程、（４）微粉砕粉を２０μｍ以上の球形に
造粒する工程、（５）造粒粉をＣＩＰ成形する工程、（
６）成形体を焼結する工程、（７）焼結体をＨＩＰ処理
する工程である。
【０００５】成形体を焼結する工程については、常圧焼
結あるいはホットプレスを用いて行なうことにした。Ｎ
ｉＯは高温の不活性ガス雰囲気下では金属Ｎｉと酸素に
分解しやすいため、焼結を高温領域では酸素雰囲気で行
なうことにした。また、ＣｏＯは低温の酸素雰囲気下で
Ｃｏ３Ｏ４に酸化しやすいため、真空あるいは窒素等の
不活性ガス雰囲気にすることとした。
結あるいはホットプレスを用いて行なうことにした。Ｎ
ｉＯは高温の不活性ガス雰囲気下では金属Ｎｉと酸素に
分解しやすいため、焼結を高温領域では酸素雰囲気で行
なうことにした。また、ＣｏＯは低温の酸素雰囲気下で
Ｃｏ３Ｏ４に酸化しやすいため、真空あるいは窒素等の
不活性ガス雰囲気にすることとした。
【０００６】しかし、雰囲気ガスの切り替え時にしばし
ば成形体に割れが生じるという問題がある。
ば成形体に割れが生じるという問題がある。
【０００７】
【問題点を解決するための手段】上記の問題点を解決す
るために、本発明者等はＣｏＯ及びＮｉＯあるいはＮｉ
Ｏを基本組成とした磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法
における焼結時の真空あるいは、不活性ガス雰囲気から
酸素雰囲気へ切り替える温度について検討を続けた結果
、前記雰囲気ガス切り替え温度を８００℃から８５０℃
の範囲で行なうことにより雰囲気ガス切り替え時の成形
体の割れを無くすことが出来た。更には、従来の製造方
法により作製した焼結体よりも組織の均一なものが得ら
れるようになった。従って、本発明の目的は、ＣｏＯ及
びＮｉＯあるいはＮｉＯを基本組成とした磁気ヘッド用
非磁性基板の製造方法における、焼結時の真空あるいは
、不活性ガス雰囲気から酸素雰囲気への切り替え温度を
提供することである。
るために、本発明者等はＣｏＯ及びＮｉＯあるいはＮｉ
Ｏを基本組成とした磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法
における焼結時の真空あるいは、不活性ガス雰囲気から
酸素雰囲気へ切り替える温度について検討を続けた結果
、前記雰囲気ガス切り替え温度を８００℃から８５０℃
の範囲で行なうことにより雰囲気ガス切り替え時の成形
体の割れを無くすことが出来た。更には、従来の製造方
法により作製した焼結体よりも組織の均一なものが得ら
れるようになった。従って、本発明の目的は、ＣｏＯ及
びＮｉＯあるいはＮｉＯを基本組成とした磁気ヘッド用
非磁性基板の製造方法における、焼結時の真空あるいは
、不活性ガス雰囲気から酸素雰囲気への切り替え温度を
提供することである。
【０００８】
【発明の構成】即ち、本発明は、ＣｏＯ及びＮｉＯある
いはＮｉＯを基本組成とする磁気ヘッド用非磁性基板の
製造工程において、焼結時の真空あるいは、不活性ガス
雰囲気から酸素雰囲気へ切り替える温度を８００℃から
８５０℃にすることを特徴とする磁気ヘッド用非磁性基
板の製造方法に関する。
いはＮｉＯを基本組成とする磁気ヘッド用非磁性基板の
製造工程において、焼結時の真空あるいは、不活性ガス
雰囲気から酸素雰囲気へ切り替える温度を８００℃から
８５０℃にすることを特徴とする磁気ヘッド用非磁性基
板の製造方法に関する。
【０００９】
【発明の具体的説明】本発明の理解を容易にするため具
体的かつ詳細に説明する。基本組成は、ＮｉＯ単独の酸
化物あるいはＮｉＯとＣｏＯの複合酸化物を意味し、例
えば、ＣｏＯ／ＮｉＯ（モル比）＝０／１００〜８０／
２０で、より好ましくは、ＣｏＯ／ＮｉＯ（モル比）＝
３／９７〜６０／４０である。
体的かつ詳細に説明する。基本組成は、ＮｉＯ単独の酸
化物あるいはＮｉＯとＣｏＯの複合酸化物を意味し、例
えば、ＣｏＯ／ＮｉＯ（モル比）＝０／１００〜８０／
２０で、より好ましくは、ＣｏＯ／ＮｉＯ（モル比）＝
３／９７〜６０／４０である。
【００１０】通常、ＮｉＯ酸化物、ＣｏＯ酸化物は、低
温領域においては酸素を結合しスピネル化し、また、高
温領域では酸素を解離し金属化する。したがって、Ｎｉ
Ｏ酸化物あるいは、ＮｉＯ，ＣｏＯの複合酸化物を焼結
する際、焼結の昇温中に真空あるいは不活性ガス雰囲気
から酸化雰囲気に雰囲気を切り替える必要があり、その
温度は８００℃から８５０℃の範囲であることが望まし
い。雰囲気の切り替え温度が８００℃よりも低すぎると
、ＮｉＯ、ＣｏＯ酸化物のスピネルが一部存在した状態
で焼結してしまい組織の不均一を生じる。又、８００℃
より低い低温領域ではＮｉＯ，ＣｏＯ酸化物のスピネル
化を防止するため真空あるいは、不活性ガス雰囲気にし
ているため、ＮｉＯ，ＣｏＯ酸化物は、一部金属化して
いる。雰囲気の切り替え温度が８５０℃より高すぎると
、成形体内部は金属化してしまい、一方周辺部はＮｉＯ
、ＣｏＯ酸化物となり焼結による収縮速度において、そ
れぞれ差が生じるため、焼結中に成形体に割れが生ずる
。
温領域においては酸素を結合しスピネル化し、また、高
温領域では酸素を解離し金属化する。したがって、Ｎｉ
Ｏ酸化物あるいは、ＮｉＯ，ＣｏＯの複合酸化物を焼結
する際、焼結の昇温中に真空あるいは不活性ガス雰囲気
から酸化雰囲気に雰囲気を切り替える必要があり、その
温度は８００℃から８５０℃の範囲であることが望まし
い。雰囲気の切り替え温度が８００℃よりも低すぎると
、ＮｉＯ、ＣｏＯ酸化物のスピネルが一部存在した状態
で焼結してしまい組織の不均一を生じる。又、８００℃
より低い低温領域ではＮｉＯ，ＣｏＯ酸化物のスピネル
化を防止するため真空あるいは、不活性ガス雰囲気にし
ているため、ＮｉＯ，ＣｏＯ酸化物は、一部金属化して
いる。雰囲気の切り替え温度が８５０℃より高すぎると
、成形体内部は金属化してしまい、一方周辺部はＮｉＯ
、ＣｏＯ酸化物となり焼結による収縮速度において、そ
れぞれ差が生じるため、焼結中に成形体に割れが生ずる
。
【００１１】このようにして得られた焼結体には、割れ
の発生は認められず、緻密で、安定した抗折力を有し、
焼結体の組織が均一であることが確認できた。また、機
械加工時に大きなチッピングの発生がなくなり、歩留ま
りが向上することが確認できた。
の発生は認められず、緻密で、安定した抗折力を有し、
焼結体の組織が均一であることが確認できた。また、機
械加工時に大きなチッピングの発生がなくなり、歩留ま
りが向上することが確認できた。
【００１２】以下、本発明の実施例について説明する。
【実施例】ＣｏＯ、ＮｉＯを原料にＣｏＯ／ＮｉＯ（モ
ル比）＝５０／５０組成となるように調整し、これに添
加材としてアルミナ２ｗｔ％を添加し混合した。混合は
、エタノ−ル中湿式ボ−ルミルで２０時間行なった。 この混合粉をＡｒ中９００℃で仮焼し、次いで粗砕機を
用いて粉砕し、１５０μｍの篩で篩分けを行ない仮焼粉
を得た。この仮焼粉を、エタノ−ル中湿式ボ−ルミルで
４０時間粉砕した。この粉砕粉を造粒後ＣＩＰ成形し、
成形体を８００、８５０℃まで真空にし、それ以降を酸
素雰囲気にし１３２０℃で５時間常圧焼結し、更に、１
２５０℃、１００ＭＰａ、１時間のＨＩＰ処理を行なっ
た。その結果、得られた焼結体は緻密（相対密度９９．
８％）で安定した坑折力（３０ｋｇ／ｃｍ２）を有し、
且つ、焼結体の組織は非常に均一であった。次に比較例
を示す。
ル比）＝５０／５０組成となるように調整し、これに添
加材としてアルミナ２ｗｔ％を添加し混合した。混合は
、エタノ−ル中湿式ボ−ルミルで２０時間行なった。 この混合粉をＡｒ中９００℃で仮焼し、次いで粗砕機を
用いて粉砕し、１５０μｍの篩で篩分けを行ない仮焼粉
を得た。この仮焼粉を、エタノ−ル中湿式ボ−ルミルで
４０時間粉砕した。この粉砕粉を造粒後ＣＩＰ成形し、
成形体を８００、８５０℃まで真空にし、それ以降を酸
素雰囲気にし１３２０℃で５時間常圧焼結し、更に、１
２５０℃、１００ＭＰａ、１時間のＨＩＰ処理を行なっ
た。その結果、得られた焼結体は緻密（相対密度９９．
８％）で安定した坑折力（３０ｋｇ／ｃｍ２）を有し、
且つ、焼結体の組織は非常に均一であった。次に比較例
を示す。
【００１３】
【比較例】焼結時の真空から酸素雰囲気に切り換える温
度を７５０℃および９００℃にした以外は全て上記実施
例と同条件で作製したところ切り替え温度が７５０℃の
場合焼結体の組織に不均一な部分が存在し、実施例で得
たものに比べ抗析力が低くなることを確認した。又、９
００℃の場合、焼結体に多数のクラックが生じていた。 そのため、坑折力測定は出来なかった。
度を７５０℃および９００℃にした以外は全て上記実施
例と同条件で作製したところ切り替え温度が７５０℃の
場合焼結体の組織に不均一な部分が存在し、実施例で得
たものに比べ抗析力が低くなることを確認した。又、９
００℃の場合、焼結体に多数のクラックが生じていた。 そのため、坑折力測定は出来なかった。
【００１４】
【発明の効果】本発明は、ＣｏＯ及びＮｉＯあるいはＮ
ｉＯを基本組成とする磁気ヘッド用非磁性基板の製造工
程において、焼結時の真空あるいは、不活性ガス雰囲気
から酸素雰囲気へ切り替える温度を８００℃から８５０
℃にすることを特徴とする磁気ヘッド用非磁性基板の製
造方法に関するものであり、この発明により得られた焼
結体には、割れの発生は認められず、緻密で、安定した
抗折力を有し、焼結体の組織が均一であることが確認で
きた。また、機械加工時に大きなチッピングの発生がな
くなり、歩留まりが向上することが確認できた。
ｉＯを基本組成とする磁気ヘッド用非磁性基板の製造工
程において、焼結時の真空あるいは、不活性ガス雰囲気
から酸素雰囲気へ切り替える温度を８００℃から８５０
℃にすることを特徴とする磁気ヘッド用非磁性基板の製
造方法に関するものであり、この発明により得られた焼
結体には、割れの発生は認められず、緻密で、安定した
抗折力を有し、焼結体の組織が均一であることが確認で
きた。また、機械加工時に大きなチッピングの発生がな
くなり、歩留まりが向上することが確認できた。
Claims (2)
- 【請求項１】 ＣｏＯ及びＮｉＯあるいはＮｉＯを基
本組成とする磁気ヘッド用非磁性基板の製造工程におい
て、焼結時の真空あるいは、不活性ガス雰囲気から酸素
雰囲気に切り替える温度が８００℃から８５０℃である
ことを特徴とする磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法。 - 【請求項２】 不活性ガスの種類が、窒素、アルゴン
あるいはヘリウムであることを特徴とする特許請求範囲
第１項記載の磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3060978A JPH04275408A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3060978A JPH04275408A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04275408A true JPH04275408A (ja) | 1992-10-01 |
Family
ID=13158030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3060978A Pending JPH04275408A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04275408A (ja) |
-
1991
- 1991-03-04 JP JP3060978A patent/JPH04275408A/ja active Pending
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