JPH04300952A - 熱硬化性樹脂組成物並びにそれを用いたプレプリーグおよび銅張積層板 - Google Patents
熱硬化性樹脂組成物並びにそれを用いたプレプリーグおよび銅張積層板Info
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009941 weaving Methods 0.000 description 1
- 125000002256 xylenyl group Chemical class C1(C(C=CC=C1)C)(C)* 0.000 description 1
Landscapes
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータ、衛星通
信、移動無線通信機器、計測機器等に使用される両面も
しくは多層プリント配線板材料としての熱硬化性樹脂組
成物並びに該樹脂組成物を用いたプリント回路板用プレ
プリーグおよび銅張積層板に関するものである。
信、移動無線通信機器、計測機器等に使用される両面も
しくは多層プリント配線板材料としての熱硬化性樹脂組
成物並びに該樹脂組成物を用いたプリント回路板用プレ
プリーグおよび銅張積層板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、コンピュータ、計測機器等に
使用される両面もしくは多層プリント配線板用の樹脂材
料としては、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等が用いら
れてきた。しかしながら、近年、高度情報化社会への移
行により、処理される情報量が飛躍的に増大し、多量の
情報をより高速で演算処理することが要求されている。
使用される両面もしくは多層プリント配線板用の樹脂材
料としては、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等が用いら
れてきた。しかしながら、近年、高度情報化社会への移
行により、処理される情報量が飛躍的に増大し、多量の
情報をより高速で演算処理することが要求されている。
【0003】一般に、信号伝播速度Vは次式で示され、
【数1】
(C:光速,ε:誘電率,K:定数)誘電率の小さいも
のほど、高速演算処理が可能となる。従って、この信号
伝播速度を向上させる目的で、プリント配線板の低誘電
率化が試みられている。
のほど、高速演算処理が可能となる。従って、この信号
伝播速度を向上させる目的で、プリント配線板の低誘電
率化が試みられている。
【0004】従来より、低誘電率樹脂材料としては、ポ
リテトラフルオロエチレン(PTFE)、熱硬化型ポリ
フエニレンオキサイド(PPO)、ポリオレフイン、ポ
リブタジエン等が知られている。また、上記の他に、低
誘電率樹脂材料としては、主鎖に芳香族や脂環式化合物
を含むシアネートエステル樹脂がある(特表昭61−5
00434号)。
リテトラフルオロエチレン(PTFE)、熱硬化型ポリ
フエニレンオキサイド(PPO)、ポリオレフイン、ポ
リブタジエン等が知られている。また、上記の他に、低
誘電率樹脂材料としては、主鎖に芳香族や脂環式化合物
を含むシアネートエステル樹脂がある(特表昭61−5
00434号)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、PTF
Eは、熱可塑性樹脂であるがためにZ軸方向の熱膨張係
数が大きく、これらを多層プリント配線板材料として用
いた場合、寸法安定性、スルーホール信頼性が劣るとい
う問題点があった。さらに、その溶融温度が250〜3
50℃と高いため加工性に劣ること、また銅スルーホー
ルメッキ時においても、テトラエッチ処理という複雑な
処理プロセスを必要とするなどの問題点があった。また
、PPOは、塩化メチレン等に対する耐有機溶剤性、ハ
ンダ耐熱性に劣り、かつ耐難燃性にも劣り、UL−94
VOグレードのものが得られにくいといった問題点があ
り、多層プリント配線板用材料としては不適であった。 さらに、ポリオレフィン、ポリブタジエンについては、
本質的に耐熱性に欠け、使用温度が120℃以下に限定
されるので、高速コンピュータ用としては明らかに不向
きである。
Eは、熱可塑性樹脂であるがためにZ軸方向の熱膨張係
数が大きく、これらを多層プリント配線板材料として用
いた場合、寸法安定性、スルーホール信頼性が劣るとい
う問題点があった。さらに、その溶融温度が250〜3
50℃と高いため加工性に劣ること、また銅スルーホー
ルメッキ時においても、テトラエッチ処理という複雑な
処理プロセスを必要とするなどの問題点があった。また
、PPOは、塩化メチレン等に対する耐有機溶剤性、ハ
ンダ耐熱性に劣り、かつ耐難燃性にも劣り、UL−94
VOグレードのものが得られにくいといった問題点があ
り、多層プリント配線板用材料としては不適であった。 さらに、ポリオレフィン、ポリブタジエンについては、
本質的に耐熱性に欠け、使用温度が120℃以下に限定
されるので、高速コンピュータ用としては明らかに不向
きである。
【0006】さらに、前記シアネートエステル樹脂は、
有機酸コバルトなどの触媒の存在下で加熱処理すると、
トリアジン環構造をとり、架橋密度の高い硬化物を得る
ことができ、得られる硬化物は、低吸湿性で誘電率が低
く、かつ耐熱性、寸法安定性にも優れているが、化学構
造上、可撓性に劣り、積層板のドリル加工の際にクラツ
クが生じてスルーホールの信頼性が低下するという問題
点が指摘されていた。これを解決するために、特開平2
−88673号には、多価フェノール類の添加が記載さ
れているが、これらを加えた場合では、可撓性、耐衝撃
性の改良効果は認められるものの、無添加の場合に比べ
て誘電特性、耐薬品性に劣るという欠点があった。
有機酸コバルトなどの触媒の存在下で加熱処理すると、
トリアジン環構造をとり、架橋密度の高い硬化物を得る
ことができ、得られる硬化物は、低吸湿性で誘電率が低
く、かつ耐熱性、寸法安定性にも優れているが、化学構
造上、可撓性に劣り、積層板のドリル加工の際にクラツ
クが生じてスルーホールの信頼性が低下するという問題
点が指摘されていた。これを解決するために、特開平2
−88673号には、多価フェノール類の添加が記載さ
れているが、これらを加えた場合では、可撓性、耐衝撃
性の改良効果は認められるものの、無添加の場合に比べ
て誘電特性、耐薬品性に劣るという欠点があった。
【0007】本発明は、上記の点に鑑みてなされたもの
であり、シアネートエステル樹脂の低誘電率および低誘
電正接、さらに高耐熱性、耐薬品性を保持することがで
き、加えて可撓性、耐衝撃性を改良して積層板のドリル
加工時のスルーホールメッキの信頼性を高めた熱硬化性
樹脂組成物の提供を目的とするものである。
であり、シアネートエステル樹脂の低誘電率および低誘
電正接、さらに高耐熱性、耐薬品性を保持することがで
き、加えて可撓性、耐衝撃性を改良して積層板のドリル
加工時のスルーホールメッキの信頼性を高めた熱硬化性
樹脂組成物の提供を目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、(1)一般式
〔1〕
〔1〕
【化2】
(式中、Aは芳香環または芳香環を含む基、BはC7〜
C20の多環脂環基、Dは各々独立に活性水素基を含ま
ない置換基、p,q,rは各々独立に0〜3の整数であ
り、ただし,p,q,rの合計は2以上である。さらに
、sは各々独立に0〜4までの整数であり、xは0〜5
までの整数である。)で示されるシアネートエステル樹
脂に、フェノール性水酸基を有する重合体が配合されて
なることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物、(2)無機
繊維、有機繊維の織布あるいは不織布に、請求項1記載
の熱硬化性樹脂組成物を30〜70重量%含浸させてな
ることを特徴とするプレプリーグ、(3)無機繊維、有
機繊維の織布あるいは不織布に、請求項1記載の熱硬化
性樹脂組成物を30〜70重量%含浸させて得られたプ
レプリーグを積層して、表面に銅箔を貼り合わせてなる
ことを特徴とする銅張積層板である。
C20の多環脂環基、Dは各々独立に活性水素基を含ま
ない置換基、p,q,rは各々独立に0〜3の整数であ
り、ただし,p,q,rの合計は2以上である。さらに
、sは各々独立に0〜4までの整数であり、xは0〜5
までの整数である。)で示されるシアネートエステル樹
脂に、フェノール性水酸基を有する重合体が配合されて
なることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物、(2)無機
繊維、有機繊維の織布あるいは不織布に、請求項1記載
の熱硬化性樹脂組成物を30〜70重量%含浸させてな
ることを特徴とするプレプリーグ、(3)無機繊維、有
機繊維の織布あるいは不織布に、請求項1記載の熱硬化
性樹脂組成物を30〜70重量%含浸させて得られたプ
レプリーグを積層して、表面に銅箔を貼り合わせてなる
ことを特徴とする銅張積層板である。
【0009】以下、本発明について詳細に説明する。
【0010】本発明に用いられる一般式〔1〕で示され
るシアネートエステル樹脂としては、特表昭61−50
0434号によって開示されているものを用いることが
できる。すなわち、この特殊シアネートエステル樹脂は
、従来のビスフェノールA型シアネートエステル樹脂よ
り誘導されるポリトリアジンよりも吸湿性が低く、加水
分解作用に対して著しく安定で、かつ耐熱性に優れたポ
リトリアジンを与えるものである。
るシアネートエステル樹脂としては、特表昭61−50
0434号によって開示されているものを用いることが
できる。すなわち、この特殊シアネートエステル樹脂は
、従来のビスフェノールA型シアネートエステル樹脂よ
り誘導されるポリトリアジンよりも吸湿性が低く、加水
分解作用に対して著しく安定で、かつ耐熱性に優れたポ
リトリアジンを与えるものである。
【0011】一般式〔1〕において、Aは芳香環を含む
すべての基を意味するものであり、具体的には、フェニ
レン基、ナフチレン基、アンスリレン基、ビフェニレン
基、ビナフチレン基、もしくはアルキレン基によって結
合された2個以上の芳香環を含む基などであり、その中
でもフェニレン基、ナフチレン基が好ましく、フェニレ
ン基が特に好ましい。
すべての基を意味するものであり、具体的には、フェニ
レン基、ナフチレン基、アンスリレン基、ビフェニレン
基、ビナフチレン基、もしくはアルキレン基によって結
合された2個以上の芳香環を含む基などであり、その中
でもフェニレン基、ナフチレン基が好ましく、フェニレ
ン基が特に好ましい。
【0012】また、式〔1〕において、BはC7〜C2
0の多環脂環基を表し、これは2個以上の環を含む脂環
基を意味するものであり、多環脂環基には1つ以上の二
重結合または三重結合が含まれていてもよい。その具体
例を列記すれば次のものがあり、中でも(a),(b)
,(c),(d),(e)が好ましく、特に(a)が好
ましい。
0の多環脂環基を表し、これは2個以上の環を含む脂環
基を意味するものであり、多環脂環基には1つ以上の二
重結合または三重結合が含まれていてもよい。その具体
例を列記すれば次のものがあり、中でも(a),(b)
,(c),(d),(e)が好ましく、特に(a)が好
ましい。
【化3】
(式中、YはCH2,S,S=O,O=S=Oであり、
D′はC1〜C5のアルキル基である。)
D′はC1〜C5のアルキル基である。)
【0013】
式〔1〕において、Dは各々独立に活性水素基を含まな
い置換基であり、活性水素原子を含む置換基は除外され
る。ここで活性水素原子とは、酸素、硫黄、窒素原子に
結合する水素原子を意味する。その具体例としては、水
素原子、C1〜C10のアルキル基、C1〜C10のア
ルケニル基、C1〜C5アルキニル基、C1〜C5のア
ルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、ハロゲン原子
等であり、その中でも水素原子、C1〜C3のアルキル
基、ハロゲン原子が好ましく、水素原子、ブロム原子が
特に好ましい。
式〔1〕において、Dは各々独立に活性水素基を含まな
い置換基であり、活性水素原子を含む置換基は除外され
る。ここで活性水素原子とは、酸素、硫黄、窒素原子に
結合する水素原子を意味する。その具体例としては、水
素原子、C1〜C10のアルキル基、C1〜C10のア
ルケニル基、C1〜C5アルキニル基、C1〜C5のア
ルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、ハロゲン原子
等であり、その中でも水素原子、C1〜C3のアルキル
基、ハロゲン原子が好ましく、水素原子、ブロム原子が
特に好ましい。
【0014】式〔1〕において、sは0〜4までの整数
であり、その中でも0〜1の整数が好ましく、0が特に
好ましい。また,p,q,rは各々独立に0〜3の整数
であり、その中でも1が特に好ましい。ただし、p,q
,rの合計は2以上になるように設定される。さらに、
xは0〜5までの整数であるが、式〔1〕のシアネート
エステル樹脂はxが0〜5までの化合物の混合物として
見出されるものである。
であり、その中でも0〜1の整数が好ましく、0が特に
好ましい。また,p,q,rは各々独立に0〜3の整数
であり、その中でも1が特に好ましい。ただし、p,q
,rの合計は2以上になるように設定される。さらに、
xは0〜5までの整数であるが、式〔1〕のシアネート
エステル樹脂はxが0〜5までの化合物の混合物として
見出されるものである。
【0015】式〔1〕で示されるシアネートエステル樹
脂の好ましい具体例としては、次の式で示されるもので
あり、これはQUATREX 7187(ダウケミカ
ル社製)として入手しうるものである。
脂の好ましい具体例としては、次の式で示されるもので
あり、これはQUATREX 7187(ダウケミカ
ル社製)として入手しうるものである。
【化4】
【0016】しかるに、式〔1〕のシアネートエステル
樹脂を触媒存在下で加熱して得られるポリトリアジンは
、低吸湿性(吸水率0.5%以下)、低い誘電率(ε2
.8前後)、低い誘電正接(tanδ0.003前後)
および高耐熱性(Tg250℃以上)を有するプリント
配線基板を構成する樹脂として優れた特性を有するもの
である。
樹脂を触媒存在下で加熱して得られるポリトリアジンは
、低吸湿性(吸水率0.5%以下)、低い誘電率(ε2
.8前後)、低い誘電正接(tanδ0.003前後)
および高耐熱性(Tg250℃以上)を有するプリント
配線基板を構成する樹脂として優れた特性を有するもの
である。
【0017】本発明に用いられるフェノール性水酸基を
有する重合体は、前記シアネートエステル樹脂を硬化さ
せる際に、誘電特性、耐薬品性を損なうことなく耐衝撃
性を改善するために用いられるものであり、繰り返し単
位が一般式〔2〕で示される平均分子量500〜50,
000の化合物が挙げられる。
有する重合体は、前記シアネートエステル樹脂を硬化さ
せる際に、誘電特性、耐薬品性を損なうことなく耐衝撃
性を改善するために用いられるものであり、繰り返し単
位が一般式〔2〕で示される平均分子量500〜50,
000の化合物が挙げられる。
【化5】
(式中、X,Yは水素原子、置換基を有していてもよい
アルキル基もしくはアリール基を表し、Zはハロゲン原
子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくはアリ
ール基を表し、nは1〜3の整数、mは0または1〜3
の整数を表す。)
アルキル基もしくはアリール基を表し、Zはハロゲン原
子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくはアリ
ール基を表し、nは1〜3の整数、mは0または1〜3
の整数を表す。)
【0018】その具体例としては、■ビニルフェノール
重合体、ビニルブロモフェノール重合体、ビニルt−ブ
チルフェノール重合体、ビニルフェノール・メタクリル
酸メチル共重合体、ビニルフェノール・スチレン共重合
体、ビニルフェノール・2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート共重合体、ビニルフェノール・フェニルマレイミ
ド共重合体などのビニルフェノールから誘導される重合
体、■フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾル
シン、ピロガロール等のフェノール類とホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトン、
メチルエチルケトン、アセトフェノン等のアルデヒド類
またはケトン類との反応で得られる化合物が挙げられる
。
重合体、ビニルブロモフェノール重合体、ビニルt−ブ
チルフェノール重合体、ビニルフェノール・メタクリル
酸メチル共重合体、ビニルフェノール・スチレン共重合
体、ビニルフェノール・2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート共重合体、ビニルフェノール・フェニルマレイミ
ド共重合体などのビニルフェノールから誘導される重合
体、■フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾル
シン、ピロガロール等のフェノール類とホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトン、
メチルエチルケトン、アセトフェノン等のアルデヒド類
またはケトン類との反応で得られる化合物が挙げられる
。
【0019】上記化合物〔1〕とフェノール性水酸基を
有する重合体の配合比は、重量比で95:5〜50:5
0の範囲であればよい。この配合比が95:5より大き
いと、硬化物にしたときの可撓性に欠け、吸湿処理後の
ハンダ耐熱性、耐薬品性に劣る。また、この配合比が5
0:50より小さいと、吸湿性が大きくなり、低誘電率
材料としての特長が十分に現れないので好ましくない。
有する重合体の配合比は、重量比で95:5〜50:5
0の範囲であればよい。この配合比が95:5より大き
いと、硬化物にしたときの可撓性に欠け、吸湿処理後の
ハンダ耐熱性、耐薬品性に劣る。また、この配合比が5
0:50より小さいと、吸湿性が大きくなり、低誘電率
材料としての特長が十分に現れないので好ましくない。
【0020】次に、本発明の樹脂組成物を用いたプリン
ト配線板用のプレプリーグおよび銅張積層板の製法につ
いて説明する。
ト配線板用のプレプリーグおよび銅張積層板の製法につ
いて説明する。
【0021】プレプリーグをつくるに際しては、まずは
じめに、前記式〔1〕のシアネートエステル樹脂と式〔
2〕で示されるフェノール性水酸基を有する重合体、難
燃剤および反応触媒等を有機溶剤に溶解することによっ
てワニスを調製する。次いで、通常のプリント配線基板
用の繊維基材として用いられている無機繊維、有機繊維
の織布あるいは不織布にこのワニスを含浸させたのち加
熱乾燥する。この際、繊維基材へのワニスの含浸量は、
乾燥後の全重量に対する樹脂固形分(式〔1〕の樹脂と
フェノール性水酸基を有する重合体と難燃剤とを合わせ
たもの)の比率が30〜70重量%になるように設定す
るのが好ましい。プレプリーグを製造する際の加熱乾燥
条件は、反応触媒の添加量によって影響されるが、例え
ば、加熱温度が150℃の場合には、加熱時間を3〜1
0分程度に設定することにより、所望のプレプリーグの
ストロークゲルタイムを得るようにすることができる。
じめに、前記式〔1〕のシアネートエステル樹脂と式〔
2〕で示されるフェノール性水酸基を有する重合体、難
燃剤および反応触媒等を有機溶剤に溶解することによっ
てワニスを調製する。次いで、通常のプリント配線基板
用の繊維基材として用いられている無機繊維、有機繊維
の織布あるいは不織布にこのワニスを含浸させたのち加
熱乾燥する。この際、繊維基材へのワニスの含浸量は、
乾燥後の全重量に対する樹脂固形分(式〔1〕の樹脂と
フェノール性水酸基を有する重合体と難燃剤とを合わせ
たもの)の比率が30〜70重量%になるように設定す
るのが好ましい。プレプリーグを製造する際の加熱乾燥
条件は、反応触媒の添加量によって影響されるが、例え
ば、加熱温度が150℃の場合には、加熱時間を3〜1
0分程度に設定することにより、所望のプレプリーグの
ストロークゲルタイムを得るようにすることができる。
【0022】本プレプリーグを製造する際に用いられる
難燃剤としては、ハロゲンを含む化合物であれば、いず
れでもよいが、具体的には、テトラブロモビスフェノー
ルA、デカブロモジフェニルオキシド、ハロゲン置換さ
れた芳香族ポリカーボネートオリゴマー、例えば、式〔
3〕で示されるトリブロモフェノキシ末端テトラブロモ
ビスフェノールAカーボネートオリゴマーを用いること
ができる。
難燃剤としては、ハロゲンを含む化合物であれば、いず
れでもよいが、具体的には、テトラブロモビスフェノー
ルA、デカブロモジフェニルオキシド、ハロゲン置換さ
れた芳香族ポリカーボネートオリゴマー、例えば、式〔
3〕で示されるトリブロモフェノキシ末端テトラブロモ
ビスフェノールAカーボネートオリゴマーを用いること
ができる。
【化6】
(式中、nは1〜20の整数である。)
【0023】こ
れらの難燃剤は、単独あるいは混合して用いることがで
きるが、式〔1〕のシアネートエステル樹脂と式〔2〕
の重合体と難燃剤との合計量に対してBrの含有量が1
0〜15重量%になるように調整するのが好ましい。
れらの難燃剤は、単独あるいは混合して用いることがで
きるが、式〔1〕のシアネートエステル樹脂と式〔2〕
の重合体と難燃剤との合計量に対してBrの含有量が1
0〜15重量%になるように調整するのが好ましい。
【0024】また、反応触媒としては、イミダゾール類
、アミン類、有機酸金属塩類等を用いることができるが
、特にナフテン酸コバルトやオクチル酸コバルト、オク
チル酸マンガン等の有機酸金属塩類が好ましい。反応触
媒の添加量は特に限定されるものではないが、例えば、
有機酸コバルト塩類を用いる場合には、所望するプレプ
リーグのゲルタイムに応じて、式〔1〕で示されるシア
ネートエステル樹脂の重量に対して金属の重量比で20
〜500ppmの範囲で配合される。
、アミン類、有機酸金属塩類等を用いることができるが
、特にナフテン酸コバルトやオクチル酸コバルト、オク
チル酸マンガン等の有機酸金属塩類が好ましい。反応触
媒の添加量は特に限定されるものではないが、例えば、
有機酸コバルト塩類を用いる場合には、所望するプレプ
リーグのゲルタイムに応じて、式〔1〕で示されるシア
ネートエステル樹脂の重量に対して金属の重量比で20
〜500ppmの範囲で配合される。
【0025】さらに、有機溶剤としては、式〔1〕で示
されるシアネートエステル樹脂や難燃剤を溶解し、反応
に悪影響を与えないものであれば、特に制限はないが、
例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メ
チルピロリドン等の極性アミド溶媒が用いられ、これら
は単独あるいは混合して用いることができる。添加する
有機溶剤の量は、ワニス中の固形分濃度が50〜70重
量%になるように調合するのが一般的である。
されるシアネートエステル樹脂や難燃剤を溶解し、反応
に悪影響を与えないものであれば、特に制限はないが、
例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メ
チルピロリドン等の極性アミド溶媒が用いられ、これら
は単独あるいは混合して用いることができる。添加する
有機溶剤の量は、ワニス中の固形分濃度が50〜70重
量%になるように調合するのが一般的である。
【0026】また、上記繊維基材としては、一般にプリ
ント回路板の積層材料として使用されているものが利用
でき、例えば無機繊維基材としては、SiO2やAl2
O3等を主成分とするE−ガラス、D−ガラス、C−ガ
ラス、S−ガラス等があり、またSiO2を主成分とす
るシリカガラス等のガラス繊維の織布、不織布がある。 また、有機繊維基材としては、芳香族ポリアミドを主成
分とするアラミド繊維の織布あるいは不織布等がある。
ント回路板の積層材料として使用されているものが利用
でき、例えば無機繊維基材としては、SiO2やAl2
O3等を主成分とするE−ガラス、D−ガラス、C−ガ
ラス、S−ガラス等があり、またSiO2を主成分とす
るシリカガラス等のガラス繊維の織布、不織布がある。 また、有機繊維基材としては、芳香族ポリアミドを主成
分とするアラミド繊維の織布あるいは不織布等がある。
【0027】そして、このようにして調製したプレプリ
ーグを複数枚重ね、さらに、上下の両面に銅箔を重ねて
これを加熱加圧成型することにより、プレプリーグ中の
シアネートエステル樹脂と式〔2〕の化合物が重合硬化
して構成される絶縁基板の両面に銅箔を積層接着した銅
張積層板を作製することができる。この際の成型条件は
、加熱温度を170〜230℃、圧力を25〜50kg
/cm2、時間を1〜2時間程度に設定するのが一般的
である。また、成型後に220〜230℃でアフターキ
ユアする場合には、成型温度は170〜180℃で十分
である。
ーグを複数枚重ね、さらに、上下の両面に銅箔を重ねて
これを加熱加圧成型することにより、プレプリーグ中の
シアネートエステル樹脂と式〔2〕の化合物が重合硬化
して構成される絶縁基板の両面に銅箔を積層接着した銅
張積層板を作製することができる。この際の成型条件は
、加熱温度を170〜230℃、圧力を25〜50kg
/cm2、時間を1〜2時間程度に設定するのが一般的
である。また、成型後に220〜230℃でアフターキ
ユアする場合には、成型温度は170〜180℃で十分
である。
【0028】また、多層のプリント配線板を作製するに
は、前記の方法によって作製した銅張積層板の銅箔をエ
ツチング加工等して回路形成することにより内層板を作
製し、次いで、この内層板を複数枚の上記プレプリーグ
を介して重ねるとともに、最外層に銅箔を重ね、これを
加熱成形することにより多層のプリント基板であるシー
ルド板を作製することができる。このようにして得られ
た両面銅張積層板、シールド板については、以下公知の
方法を用いてプリント配線板にすることができる。
は、前記の方法によって作製した銅張積層板の銅箔をエ
ツチング加工等して回路形成することにより内層板を作
製し、次いで、この内層板を複数枚の上記プレプリーグ
を介して重ねるとともに、最外層に銅箔を重ね、これを
加熱成形することにより多層のプリント基板であるシー
ルド板を作製することができる。このようにして得られ
た両面銅張積層板、シールド板については、以下公知の
方法を用いてプリント配線板にすることができる。
【0029】
【実施例】以下、本発明を実施例によって詳述する。
【0030】参考例1
珪酸繊維としてAKZO社の水ガラス由来の繊維を用い
てクロスを製織した。用いたヤーンの単糸本数は120
本、単糸径は9.0μm、番手は17テツクスであった
。このヤーンの物性は、SiO2含有率99.5%、比
重2.0、引張強度70kg/mm2、弾性率5,20
0kg/mm2であった。
てクロスを製織した。用いたヤーンの単糸本数は120
本、単糸径は9.0μm、番手は17テツクスであった
。このヤーンの物性は、SiO2含有率99.5%、比
重2.0、引張強度70kg/mm2、弾性率5,20
0kg/mm2であった。
【0031】次いで、ポリビニルアルコール系の糊剤を
ヤーンに付着し、乾燥後、糊剤付ヤーンをレピア織機に
て製織した。得られたクロスをバツチ式焼却炉中で40
0℃で熱処理し、繊維表面の紡糸バインダーや糊剤を焼
却除去した後、アミノシランカツプリング剤(SZ−6
032,東レシリコーン社製)溶液中に浸漬し、140
℃で加熱乾燥することにより、シランカツプリング剤で
処理したガラスクロスを得た。このクロスの密度は、経
62本/25mm、緯64本/25mm、厚さは96μ
mであった。
ヤーンに付着し、乾燥後、糊剤付ヤーンをレピア織機に
て製織した。得られたクロスをバツチ式焼却炉中で40
0℃で熱処理し、繊維表面の紡糸バインダーや糊剤を焼
却除去した後、アミノシランカツプリング剤(SZ−6
032,東レシリコーン社製)溶液中に浸漬し、140
℃で加熱乾燥することにより、シランカツプリング剤で
処理したガラスクロスを得た。このクロスの密度は、経
62本/25mm、緯64本/25mm、厚さは96μ
mであった。
【0032】参考例2
D−ガラス繊維DCE 270 1/0日本電気硝
子社製、単糸本数160本、単糸径8.7μm、番手2
0.6テックス)を用いて、E−ガラスクロスを製織し
た。 以下、参考例1と同様にしてシランカップリング剤で処
理したガラスクロスを得た。得られたクロスの密度は径
64本/25mm、緯58本/25mm、厚さは100
μmであった。
子社製、単糸本数160本、単糸径8.7μm、番手2
0.6テックス)を用いて、E−ガラスクロスを製織し
た。 以下、参考例1と同様にしてシランカップリング剤で処
理したガラスクロスを得た。得られたクロスの密度は径
64本/25mm、緯58本/25mm、厚さは100
μmであった。
【0033】参考例3
プリント配線基板用に一般に用いられているE−ガラス
繊維225 1/0(日本電気硝子社製、単糸本数2
00本、単糸径7.0μm、番手22.4テツクス)を
用いてクロスを製織した。以下、参考例1と同様にして
シランカツプリング剤で処理したガラスクロスを得た。 このクロスの密度は、経61本/25mm、緯58本/
25mm、厚さ97μmであった。
繊維225 1/0(日本電気硝子社製、単糸本数2
00本、単糸径7.0μm、番手22.4テツクス)を
用いてクロスを製織した。以下、参考例1と同様にして
シランカツプリング剤で処理したガラスクロスを得た。 このクロスの密度は、経61本/25mm、緯58本/
25mm、厚さ97μmであった。
【0034】参考例4
アラミド繊維Twaron(ENKA社製、単糸本数2
50本、単糸径20μm、単糸デニール1.5)を用い
てクロスを製織したのち、低温プラズマ処理することに
よりクロスを得た。得られたクロスの密度は経41本/
25mm、緯31本/25mm、厚さは180μmであ
った。
50本、単糸径20μm、単糸デニール1.5)を用い
てクロスを製織したのち、低温プラズマ処理することに
よりクロスを得た。得られたクロスの密度は経41本/
25mm、緯31本/25mm、厚さは180μmであ
った。
【0035】実施例1
一般式〔1〕で示されるシアネートエステル樹脂として
、QUATREX7187(ダウケミカル社製)85g
、フェノール性水酸基を有する重合体としてビニルフェ
ノール重合体(マルカリンカ−M、丸善石油化学社製、
分子量2000〜2500)15gとをメチルエチルケ
トン(MEK)とジメチルホルムアミド(DMF)の1
:1混合溶媒67gに溶解することにより樹脂液を得た
。
、QUATREX7187(ダウケミカル社製)85g
、フェノール性水酸基を有する重合体としてビニルフェ
ノール重合体(マルカリンカ−M、丸善石油化学社製、
分子量2000〜2500)15gとをメチルエチルケ
トン(MEK)とジメチルホルムアミド(DMF)の1
:1混合溶媒67gに溶解することにより樹脂液を得た
。
【0036】次いで、これに難燃剤としてのトリブロモ
フェノキシ末端テトラブロモビスフエノールAカーボネ
ートオリゴマー(PO−64P、グレート・レイク社製
)25gと、反応触媒としてのオクチル酸コバルトをシ
アネートエステル樹脂に対してCoが重量比で100p
pmになるように添加して樹脂分濃度65重量%のワニ
スを調製した。このワニスを参考例1で作製したガラス
クロスに樹脂分含有率が50重量%になるように含浸し
、150℃で4分間加熱乾燥することによりプレプリー
グを調製した。次に、このプレプリーグを8枚重ねると
ともに、その両面に35μm厚の銅箔を重ね、成型温度
177℃、成型圧力30kg/cm2、成型時間60分
の条件で成型したのち、さらに225℃で1時間アフタ
ーキュアすることにより両面銅張積層板を得た。
フェノキシ末端テトラブロモビスフエノールAカーボネ
ートオリゴマー(PO−64P、グレート・レイク社製
)25gと、反応触媒としてのオクチル酸コバルトをシ
アネートエステル樹脂に対してCoが重量比で100p
pmになるように添加して樹脂分濃度65重量%のワニ
スを調製した。このワニスを参考例1で作製したガラス
クロスに樹脂分含有率が50重量%になるように含浸し
、150℃で4分間加熱乾燥することによりプレプリー
グを調製した。次に、このプレプリーグを8枚重ねると
ともに、その両面に35μm厚の銅箔を重ね、成型温度
177℃、成型圧力30kg/cm2、成型時間60分
の条件で成型したのち、さらに225℃で1時間アフタ
ーキュアすることにより両面銅張積層板を得た。
【0037】実施例2
フェノール性水酸基を有する重合体として、ビニルブロ
ムフェノール重合体(マルカリンカーMB、丸善石油化
学社製、分子量6,000〜7,000)15gを用い
ること以外は、実施例1と同様にして銅張積層板を得た
。
ムフェノール重合体(マルカリンカーMB、丸善石油化
学社製、分子量6,000〜7,000)15gを用い
ること以外は、実施例1と同様にして銅張積層板を得た
。
【0038】実施例3
フェノール性水酸基を有する重合体として、ビニルフェ
ノール・スチレン共重合体(分子量5,000〜6,0
00)を用いること以外は、実施例1と同様にして銅張
積層板を得た。
ノール・スチレン共重合体(分子量5,000〜6,0
00)を用いること以外は、実施例1と同様にして銅張
積層板を得た。
【0039】実施例4
一般式〔I〕で示されるシアネートエステル樹脂として
、QUATREX 7187(ダウケミカル社製)8
0g、フェノール性水酸基を有する重合体として、θ−
クレゾールノボラック樹脂(プライオーフェンZA−1
165、大日本インキ化学工業社製)10gとをメチル
エチルケトン(MEK)とジメチルホルムアミド(DM
F)の1:1混合溶媒82gに溶解することにより樹脂
液を得た。次いで、これに難燃剤としてのテトラブロム
ビスフェノールA(BA−59P、グレートレイク社製
)10gと、反応触媒としてのナフテン酸コバルトをシ
アネートエステル樹脂に対してCoが重量比で50pp
mになるように添加して樹脂分濃度55重量%のワニス
を調製した。このワニスを参考例3で作製したガラスク
ロスに樹脂分含有率が45重量%になるように含浸し、
140℃で5分間加熱することによりプレプリーグを調
製した。次いで、このプレプリーグを8枚重ねるととも
に、その両面に18μm厚の銅箔を重ね、成型温度18
0℃、成型圧力35kg/cm2、成型時間60分の条
件で成型したのち、さらに215℃で1時間アフターキ
ュアすることにより両面銅張積層板を得た。
、QUATREX 7187(ダウケミカル社製)8
0g、フェノール性水酸基を有する重合体として、θ−
クレゾールノボラック樹脂(プライオーフェンZA−1
165、大日本インキ化学工業社製)10gとをメチル
エチルケトン(MEK)とジメチルホルムアミド(DM
F)の1:1混合溶媒82gに溶解することにより樹脂
液を得た。次いで、これに難燃剤としてのテトラブロム
ビスフェノールA(BA−59P、グレートレイク社製
)10gと、反応触媒としてのナフテン酸コバルトをシ
アネートエステル樹脂に対してCoが重量比で50pp
mになるように添加して樹脂分濃度55重量%のワニス
を調製した。このワニスを参考例3で作製したガラスク
ロスに樹脂分含有率が45重量%になるように含浸し、
140℃で5分間加熱することによりプレプリーグを調
製した。次いで、このプレプリーグを8枚重ねるととも
に、その両面に18μm厚の銅箔を重ね、成型温度18
0℃、成型圧力35kg/cm2、成型時間60分の条
件で成型したのち、さらに215℃で1時間アフターキ
ュアすることにより両面銅張積層板を得た。
【0040】実施例5
フェノール性水酸基を有する重合体として、フェノール
ノボラック樹脂(バーカム、TD−2093 大日本
インキ化学工業社製)10gを用いること以外は、実施
例4と同様にして銅張積層板を得た。
ノボラック樹脂(バーカム、TD−2093 大日本
インキ化学工業社製)10gを用いること以外は、実施
例4と同様にして銅張積層板を得た。
【0041】実施例6
フェノール性水酸基を有する重合体として、ビニルブロ
ムフェノール重合体(マルカリンカーMB、丸善石油化
学社製)を用いること以外は、実施例4に同様にして銅
張積層板を得た。
ムフェノール重合体(マルカリンカーMB、丸善石油化
学社製)を用いること以外は、実施例4に同様にして銅
張積層板を得た。
【0042】実施例7
繊維基材として参考例2で作製したガラスクロスを用い
ること以外は、実施例1と同様にして銅張積層板を得た
。
ること以外は、実施例1と同様にして銅張積層板を得た
。
【0043】実施例8
繊維基材として参考例4で作製したアラミドクロスを用
いること以外は、実施例1と同様にして銅張積層板を得
た。
いること以外は、実施例1と同様にして銅張積層板を得
た。
【0044】比較例1
フェノール性水酸基を有する重合体を使用しないで、Q
UATREX 7187100gを用いること以外は
、実施例1と同様にして銅張積層板を得た。
UATREX 7187100gを用いること以外は
、実施例1と同様にして銅張積層板を得た。
【0045】比較例2
フェノール性水酸基を有する重合体を使用しないで、Q
UATREX 7187100gを用いること以外は
、実施例4と同様にして銅張積層板を得た。
UATREX 7187100gを用いること以外は
、実施例4と同様にして銅張積層板を得た。
【0046】以上、得られた積層板につき次に記述した
方法により積層板としての評価を行った。
方法により積層板としての評価を行った。
【0047】(1) 誘電率および誘電正接JIS
C−6481に従い、LPインピーダンスアナライザ
ー4194A(横河ヒユーレツトパツカード社製)を用
いて1MHzにおける値を測定した。
C−6481に従い、LPインピーダンスアナライザ
ー4194A(横河ヒユーレツトパツカード社製)を用
いて1MHzにおける値を測定した。
【0048】(2) 曲げ強度
JIS C−6481に従い、所定サイズの試料を作
製し,精密万能材料試験機2020型(インテスコ社製
)を用いて支点間50mmで測定した。
製し,精密万能材料試験機2020型(インテスコ社製
)を用いて支点間50mmで測定した。
【0049】(3) ピール強度
JIS C−6481に従い、所定サイズの試料を作
製し、精密万能材料試験機2020型(インテスコ社製
)を用いて測定した。
製し、精密万能材料試験機2020型(インテスコ社製
)を用いて測定した。
【0050】(4) 絶縁抵抗
IPC−B25に従い、375μm幅のくし型電極を作
製し、バイブレイテイングリードエレクトロメーターT
R−84M(タケダ理研社製)を用いてDC500V印
加時の絶縁抵抗を測定した。
製し、バイブレイテイングリードエレクトロメーターT
R−84M(タケダ理研社製)を用いてDC500V印
加時の絶縁抵抗を測定した。
【0051】(5) ガラス転移温度(Tg)粉末状
の試料15mgを採取し、DSC−2C(パーキンエル
マー社製)を用いて昇温速度20℃/分で測定した。
の試料15mgを採取し、DSC−2C(パーキンエル
マー社製)を用いて昇温速度20℃/分で測定した。
【0052】(6) 難燃性
UL−94規格に従い、垂直法により評価した。
【0053】(7) スルーホール面の内壁粗さとス
ルーホールの信頼性 スルーホールのドリル加工は、0.9mmφのドリルビ
ツトを用い、40,000rpmの回転数、1回転あた
りの送り速度50μm/revの条件で行い、次いで、
無電解メツキと電解メツキを行った。
ルーホールの信頼性 スルーホールのドリル加工は、0.9mmφのドリルビ
ツトを用い、40,000rpmの回転数、1回転あた
りの送り速度50μm/revの条件で行い、次いで、
無電解メツキと電解メツキを行った。
【0054】得られたスルーホールについて、その内壁
粗さは、スルーホールの断面を顕微鏡で観察することに
より測定し、スルーホールの信頼性については、スルー
ホールの断面を顕微鏡で観察して、メツキ液の染み込み
の深さを測定することにより評価した。
粗さは、スルーホールの断面を顕微鏡で観察することに
より測定し、スルーホールの信頼性については、スルー
ホールの断面を顕微鏡で観察して、メツキ液の染み込み
の深さを測定することにより評価した。
【0055】(8) 熱膨張率
6mm×6mmの試料を用いて、TMA−50(島津製
作所製)により、2℃/minで昇温し、50〜250
℃の範囲の熱膨張曲線よりZ軸方向の熱膨張率を求めた
。
作所製)により、2℃/minで昇温し、50〜250
℃の範囲の熱膨張曲線よりZ軸方向の熱膨張率を求めた
。
【0056】(9) 耐熱性
積層板をプレッシャー処理(121℃、2atm下で3
時間)したのち、260℃のハンダ浴に60秒浸漬し、
外観性状を目視観察することにより評価した。 …異常なし、 ×…白化現象が生じたもの
時間)したのち、260℃のハンダ浴に60秒浸漬し、
外観性状を目視観察することにより評価した。 …異常なし、 ×…白化現象が生じたもの
【0057
】(10) 耐アルカリ性積層板をカセイソーダ10
重量%の水溶液に80℃で10分間浸漬したのちに、外
観性状を目視観察することにより評価した。 …異常なし、 ×…白化現象が生じたもの得られた結
果を表1に示した。
】(10) 耐アルカリ性積層板をカセイソーダ10
重量%の水溶液に80℃で10分間浸漬したのちに、外
観性状を目視観察することにより評価した。 …異常なし、 ×…白化現象が生じたもの得られた結
果を表1に示した。
【表1】
【0058】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、式〔1
〕のシアネートエステル樹脂にフェノール性水酸基を有
する重合体を配合することにより、シアネートエステル
樹脂の長所である低吸湿性で誘電率、誘電正接が低く、
かつ耐熱性、耐薬品性、寸法安定性の良好な積層板をつ
くることができ、高速コンピュータのプリント回路用と
して使用することができるとともに、硬化時の架橋密度
を緩和して、重合硬化体の可撓性、耐衝撃性を改善する
ことができ、スルーホールを加工する際のクラックの発
生を防止して、スルーホールメッキの信頼性を高めるこ
とができる。
〕のシアネートエステル樹脂にフェノール性水酸基を有
する重合体を配合することにより、シアネートエステル
樹脂の長所である低吸湿性で誘電率、誘電正接が低く、
かつ耐熱性、耐薬品性、寸法安定性の良好な積層板をつ
くることができ、高速コンピュータのプリント回路用と
して使用することができるとともに、硬化時の架橋密度
を緩和して、重合硬化体の可撓性、耐衝撃性を改善する
ことができ、スルーホールを加工する際のクラックの発
生を防止して、スルーホールメッキの信頼性を高めるこ
とができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式〔1〕 【化1】 (式中、Aは芳香環または芳香環を含む基、BはC7〜
C20の多環脂環基、Dは各々独立に活性水素基を含ま
ない置換基、p,q,rは各々独立に0〜3の整数であ
り、ただし、p,q,rの合計は2以上である。さらに
、sは各々独立に0〜4までの整数であり、xは0〜5
までの整数である。)で示されるシアネートエステル樹
脂に、フェノール性水酸基を有する重合体が配合されて
なることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。 - 【請求項2】 無機繊維,有機繊維の織布あるいは不
織布に、請求項1記載の熱硬化性樹脂組成物を30〜7
0重量%含浸させてなることを特徴とするプレプリーグ
。 - 【請求項3】 無機繊維、有機繊維の織布あるいは不
織布に、請求項1記載の熱硬化性樹脂組成物を30〜7
0重量%含浸させて得られたプレプリーグを積層して、
表面に銅箔を貼り合わせてなることを特徴とする銅張積
層板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13366091A JPH04300952A (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 熱硬化性樹脂組成物並びにそれを用いたプレプリーグおよび銅張積層板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13366091A JPH04300952A (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 熱硬化性樹脂組成物並びにそれを用いたプレプリーグおよび銅張積層板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04300952A true JPH04300952A (ja) | 1992-10-23 |
Family
ID=15109959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13366091A Pending JPH04300952A (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 熱硬化性樹脂組成物並びにそれを用いたプレプリーグおよび銅張積層板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04300952A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06177547A (ja) * | 1992-12-09 | 1994-06-24 | Nec Corp | 多層配線基板 |
| US5955543A (en) * | 1996-01-11 | 1999-09-21 | International Business Machines Corporation | Aryl cyanate and/or diepoxide and hydroxymethylated phenolic or hydroxystyrene resin |
| JP2015082661A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | 印刷回路基板用絶縁基板および印刷回路基板 |
| JP2016011410A (ja) * | 2014-06-05 | 2016-01-21 | 信越化学工業株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物 |
| CN105899626A (zh) * | 2014-02-27 | 2016-08-24 | 株式会社日立产机系统 | 喷墨印刷用墨水 |
| CN111440364A (zh) * | 2020-03-27 | 2020-07-24 | 浙江华正新材料股份有限公司 | 树脂组合物、半固化片、电路基板和印制电路板 |
| WO2025023136A1 (ja) * | 2023-07-21 | 2025-01-30 | タツタ電線株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物、硬化物及びプリント配線板 |
-
1991
- 1991-03-28 JP JP13366091A patent/JPH04300952A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06177547A (ja) * | 1992-12-09 | 1994-06-24 | Nec Corp | 多層配線基板 |
| US5955543A (en) * | 1996-01-11 | 1999-09-21 | International Business Machines Corporation | Aryl cyanate and/or diepoxide and hydroxymethylated phenolic or hydroxystyrene resin |
| US6114450A (en) * | 1996-01-11 | 2000-09-05 | International Business Corporation | Aryl Cyanate and/or diepoxide and tetrahydropyranyl-protected hydroxymethylated phenolic or hydroxystyrene resin |
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| CN111440364A (zh) * | 2020-03-27 | 2020-07-24 | 浙江华正新材料股份有限公司 | 树脂组合物、半固化片、电路基板和印制电路板 |
| CN111440364B (zh) * | 2020-03-27 | 2022-12-27 | 浙江华正新材料股份有限公司 | 树脂组合物、半固化片、电路基板和印制电路板 |
| WO2025023136A1 (ja) * | 2023-07-21 | 2025-01-30 | タツタ電線株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物、硬化物及びプリント配線板 |
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