JPH05120629A - 磁気ヘツド及びその製造方法 - Google Patents

磁気ヘツド及びその製造方法

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JPH05120629A
JPH05120629A JP4092825A JP9282592A JPH05120629A JP H05120629 A JPH05120629 A JP H05120629A JP 4092825 A JP4092825 A JP 4092825A JP 9282592 A JP9282592 A JP 9282592A JP H05120629 A JPH05120629 A JP H05120629A
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magnetic
layer
magnetic head
gap
recess
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JP4092825A
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English (en)
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Franciscus W A Dirne
ヴイルヘルムス アドリアヌス デイルネ フランシスカス
Adrianus P Severijns
ペトルス セベリーンス アドリアヌス
Jacobus B Giesbers
ベルナルダス ヒースベルス ヤコブス
Jacobus J M Ruigrok
ヨセフス マリア ルーイヘロツク ヤコブス
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Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Koninklijke Philips Electronics NV
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 磁気ヘッドの変換効率を向上させる。 【構成】 １個以上の磁気ヘッドを製造するに当り、基
板11から出発し、この基板上に第１磁性層13を設け、こ
の第１磁性層における形成すべき変換ギャップの位置に
凹所15を形成し、その後凹所15の境界壁17上にギャップ
層19を形成し、次いで前記凹所に第２磁性層23を充填さ
せ、表面研磨処理した後に前記層13, 19,23の上にカウ
ンタブロック31を形成し、最後に巻線用のアパーチャを
あける。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ヘッド面、巻線用アパ
ーチャ及びヘッド面から巻線用アパーチャまで高さ方向
に延在する変換ギャップを具え、前記高さ方向における
前記変換ギャップの高さがヘッド面と巻線用アパーチャ
との間の距離に等しく、前記巻線用アパーチャが、変換
ギャップの高さ方向に対して平行に延在すると共に高さ
方向に見て変換ギャップから該ギャップの反対側に位置
する巻線用アパーチャの境界壁までの距離の寸法を有す
る磁気ヘッドを製造する方法であって、該方法が： −基板上に第１磁性層を形成する工程と； −前記第１磁性層に基板まで前記高さ方向に延在する凹
所を形成する工程と； −前記第１磁性層における前記凹所の境界部を成すフラ
ンクにギャップ層を形成する工程と； −前記凹所内に第２磁性層を形成する工程と； −表面研磨処理した後に前記第１及び第２磁性層の上に
カウンタブロックを配置する工程と；を具えている磁気
ヘッドの製造方法に関するものである。
【０００２】このような方法はサンドイッチ構造のヘッ
ドを多数製造するのに好適である。これらのヘッドは、
２つのコアリム間に薄い磁性層を位置させ、且つヘッド
面まで延在する変換ギャップが磁性層内に存在する磁気
ヘッドである。
【０００３】
【従来の技術】冒頭にて述べたような磁気ヘッドの製造
方法は特開昭６３−２３４４０４号公報から既知であ
る。この既知の方法では第１磁性層内に形成する凹所を
変換ギャップの高さ寸法に対して平行な方向に磁気ヘッ
ドの寸法全体に形成している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来法にて最終的
に得られる磁気ヘッドには後方ヨーク、即ちヘッド面か
ら見て、巻線用アパーチャの後方に位置する磁気ヘッド
部分にもギャップが存在し、これが磁気ヘッドの変換効
率に悪影響を及ぼしている。
【０００５】本発明の目的は従来法によって製造される
従来の磁気ヘッドよりも変換効率が遙かに優れている冒
頭にて述べた種類の磁気ヘッドの製造方法を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は冒頭にて述べた
磁気ヘッドの製造方法において、少なくとも形成すべき
変換ギャップの高さに等しく、しかも多くても形成すべ
き変換ギャップの高さと、形成すべき巻線用アパーチャ
の前記寸法との和に等しい距離にわたって前記凹所を前
記第１磁性層に形成し、且つ巻線用アパーチャを基板、
前記各層及びカウンタブロックに形成することを特徴と
する。
【０００７】上記本発明による方法では凹所が後方ヨー
クまで延在しないため、この後方ヨークにギャップがな
くなり、従って後方ヨークにギャップが存在する場合よ
りもヘッドの効率が遙かに優れたものとなる。原則とし
て、凹所を形成する距離が、形成すべき変換ギャップの
高さに等しくなるようにすれば十分であるが、実際には
斯かる距離が製造公差との関係で僅かに大きくなってし
まう。
【０００８】複数の磁気ヘッドを同時に製造する本発明
による方法の好適例では、凹所を形成する際に、この凹
所に隣接する別の凹所を他の磁気ヘッド形成用に形成し
ておくようにする。結果として、各磁気ヘッド対に対す
る僅か１つの共有の凹所を第１磁性層に形成すればよい
ことになる。従って、この凹所の大きさは１つの磁性層
に対する凹所の大きさの２倍となる。この大きな凹所は
２つの小さな凹所、即ち各磁気ヘッド毎に１つづつの凹
所を形成するよりも簡単に形成し得ることを確かめた。
【０００９】変換ギャップを基板に対してアジマス角と
称される所望角度で形成するために、本発明の好適例で
は、フランクの上にギャップ層を形成する前に、形成さ
れたフランクを集束イオンビームによって仕上げ処理す
る。形成すべき変換ギャップの境界となるフランクを集
束イオンビームで表面処理して仕上げると、フランクと
基板との間の角度が所望アジマス角に正確に一致するよ
うになる。
【００１０】さらに本発明の他の好適例では、前記ギャ
ップ層と基板との間の角度を０°よりも大きく、多くて
も９０°に等しい角度αとし、前記第２磁性層を複数の
サブ層で構成し、これらの連続するサブ層間に電気絶縁
層を形成し、これらの層をスパッタリングにより形成す
ると共に前記絶縁層をスパッタリングする角度を０°よ
りも大きく、多くても前記角度αに等しくし、且つ前記
サブ層をスパッタリングする角度を少なくとも角度αに
等しく、１８０°よりも小さい角度とする。ギャップが
大きくならないようにするために、磁性サブ層はギャッ
プ層まで延在させる必要がある。このために、スパッタ
リング角度は角度αよりも大きくするか、又はそれに等
しくする必要があり、これはそのようにしないと、スパ
ッタリング中にギャップ層のシャドウ効果によりサブ層
がギャップ層まで延在しなくなるからである。絶縁層は
せいぜいギャップ層まで延在するが、この絶縁層はギャ
ップ層に対して平行な部分を持たないようにして、サイ
ドギャップが形成されないうよにすべきである。このた
めにはスパッタリング角度を角度αに等しくするか、又
はそれよりも小さくする必要があり、これはそのように
しないとギャップ層に対して平行な部分がギャップ層の
上又は磁性サブ層の上に形成されてしまうからである。
【００１１】用途によっては、磁気ヘッドの磁気特性が
変化して、これらの用途に一層良好に適うように後方ヨ
ークの磁気活性部分を小さくすることが所望される。し
かしこの場合、寸法を小さくすると磁気ヘッドの取扱い
が困難となるために磁気ヘッド全体の寸法は変えないよ
うにするのが望ましい。そこで、後方ヨークを小さくす
るも、全体の寸法は代わらないようにするために、本発
明の好適例では、カウンタブロックを形成する前に第１
磁性層にダクトを形成し、このダクトが基板まで延在す
ると共に、磁気ヘッドを形成した後に磁気ヘッドの２つ
の外側面間に延在するようにする。このダクトは第１磁
性層の一部と、その層の残りの部分とを磁気的に分離す
るため、後方ヨークの磁気活性部分が低減する。ダクト
は、磁気ヘッドを切断する際にそのダクトが磁気ヘッド
の境界部にまで延在して、分離部分がどこも磁気ヘッド
の後方ヨークと接触しないように設ける必要がある。
【００１２】本発明は前述した本発明による方法によっ
て得ることのできる磁気ヘッド及び本発明による方法に
より得ることのできる数個の磁気ヘッドを具えている磁
気ヘッドクラスタにも関するものである。例えば、ビデ
オレコーダ又はディジタル・オーディオ・レコーダ（Ｄ
ＡＴレコーダ）に使用する走査器では、その走査器の回
動ドラム部分のドラム壁にあけた窓に磁気ヘッドを群を
成して設ける。１の群に関連する磁気ヘッドは互いに正
確に位置付ける必要がある。従来の走査器ではこれを窓
に各磁気ヘッドを別々に位置付けることによって行なっ
ている。１つの群に関連する磁気ヘッドが１つのアセン
ブリを成す磁気ヘッドを用いることにより、しかも磁気
ヘッドクラスタを総括して位置付けることにより位置決
め工程数を減らすことができる。このためには、クラス
タの別々の磁気ヘッドの変換ギャップを互いに正確に位
置させる必要がある。これらの変換ギャップの相対位置
を正確に得るために、前記本発明による方法によって製
造される磁気ヘッドクラスタは、磁気ヘッドが共通の基
板と共通の第１磁性層とを有し、補助層が基板と少なく
とも１個の磁気ヘッドの第１磁性層との間に存在するこ
とを特徴とする。補助層は慣例の技法により極めて正確
に形成することができるため、磁気ヘッドの変換ギャッ
プの相対位置を正確に決定することができる。
【００１３】本発明の好適例では、前記補助層の厚さを
第１磁性層の厚さに等しくする。従って、複数の磁気ヘ
ッドによって磁気テープに書き込まれるトラックが実質
上互いに隣接するため、磁気テープに記録される情報密
度が大となる。
【００１４】
【実施例】図１，２及び３は従来の方法による製造中に
得られる磁気ヘッドの中間製品を示す。従来の方法は非
磁性基板１から出発し、この基板上に第１磁性層２を設
ける。この第１磁性層２には図１に示すように基板１の
全寸法Ｌにわたり凹所３を形成する。次いで、各凹所３
の境界壁部５のフランク４に非磁性ギャップ層６を設け
てから、図２に示すように凹所３を第２磁性層７で充填
する。このようにして得たアセンブリの表面を研削した
後に、図３に示すように非磁性カウンタブロック８を設
け、このようにして得られたウェハ９から磁気ヘッドを
切り出すことができる。この既知の方法では、非磁性ギ
ャップが磁気ヘッドの後方ヨークにも形成されるように
不必要に大きな凹所を形成しており、これは磁気ヘッド
の効率に悪影響を及ぼしている。
【００１５】本発明による方法を図４〜図８につき説明
する。図４は、例えばBaTiO3の基板11の上に２つのサブ
層から成る例えばCoNbZrの第１磁性層13を設けたものを
示す。上記２つサブ層の間には、例えばAl2O3 又はSiO2
のような電気絶縁層14を設けて、うず電流による損失を
なくすうよにする。第１磁性層13に基板11まで延在する
凹所15を設ける。これらの凹所15は互いに対を成して隣
接し、従って大きな凹所を構成し、これは１回の処理工
程にて形成することができる。本例では凹所15をカッタ
ーにより第１磁性層13に形成する。しかし、これらの凹
所１５は別の方法、例えば反応イオンエッチング処理に
よって形成することができる。図５Ａはこれら凹所15の
内の１つの凹所の位置（図４のＶ−Ｖ線）での断面図を
示す。磁気ヘッドの変換ギャップを形成するためのギャ
ップ層19を凹所15の境界壁部の１つである壁部17の上に
形成する。このギャップ層19は例えばSiO2層とする。変
換ギャップは基板11に対して所定の角度α、例えば70°
とする必要があるので、境界壁部17は仕上げ処理してお
く必要がある。境界壁部17は、これが基板11に対して正
しい角度αとなるように、図５Ｂに示すように集束イオ
ンビーム21によって仕上げることができる。この仕上げ
処理によって表面が極めて滑らかになるため、極めて薄
いギャップ層19を何等問題なく形成することができる。
図５Ｃはこのようにしてギャップ層19を設けたものを示
す。なお、ギャップ層19はスパッタリング法によって設
けることができる。ギャップ層19を設けた後に凹所15に
第２磁性層23を充填させる。本例ではこの第２磁性層23
を例えばCoNbZrの２つのサブ層25及び26で構成し、これ
らのサブ層間に例えばAl2O3 又はSiO2の電気絶縁中間層
27を挟むようにする。第１サブ層25は角度βのスパッタ
リング角度で設ける。このサブ層25はギャップ層19まで
延在させる必要があるため、スパッタリングを行なう角
度βは角度αと180 °との間の範囲内の角度とする必要
がある。次いで電気絶縁中間層27をスパッタリングす
る。この中間層27は一般に磁気絶縁層でもあるため、不
所望なサイドギャップ効果に関連して、この中間層27の
部分がギャップ層19に対して平行に延在するのは望まし
くない。そこで、０°とαとの間の角度Γでスパッタリ
ングすることにより、中間層27がギャップ層19に対して
平行な第１サブ層25のフランク29の上に形成されないよ
うにする。次いで第２磁性層23の第２サブ層26をスパッ
タリングする。非磁性中間層27の代わりに、例えばフェ
ライト積層のような導磁性で、しかも電気的に非導電性
の材料から成る中間層を用いることにより、この中間層
を磁性サブ層25及び26と同じ角度でスパッタリングする
ことができる。次いでアセンブリを図５Ｅに示すように
第１磁性層23まで表面研削してから、図５Ｆに示すよう
にカウンタブロック31を設ける。このカウンタブロック
は基板と同じ材料、例えばBaTiO3とすることができる。
このようにして得られたウェハに巻線用のアパーチャを
あけ、その後磁気ヘッドをウェハから切り出すことがで
きる。
【００１６】図５Ｃの中間製品の平面図を示す図６では
将来の巻線用アパーチャ33の位置及び磁気ヘッドの輪郭
35を破線にて示してある。上述した方法にて形成した各
ギャップ層19は、ヘッド面37が互いに隣接している２つ
の磁気ヘッド34及び36の２つの変換ギャップを構成す
る。一方の単一磁気ヘッドの変換ギャップはヘッド面37
から巻線用アパーチャ33まで高さ方向に延在し、この方
向の高さ40はヘッド面と巻線用アパーチャとの間の距離
に等しい。巻線用アパーチャ33は変換ギャップの高さ方
向に対して平行な方向にて変換ギャップからアパーチャ
33の境界壁32（この境界壁は高さ方向にて変換ギャップ
とは反対側に位置する）までを測った寸法42を有する。
巻線用アパーチャ33をあけてから、例えばレーザによっ
て磁気ヘッド34, 36を切り出す。このようにすれば、最
終仕上げをする必要がないか、又は最終仕上げを最小限
度に済ませる平滑な表面が得られると云う利点がある。
本例では凹所15の寸法39及び41をそれぞれ20μm 及び10
0 μm とする。
【００１７】小さ目の磁気ヨークを有する磁気ヘッドを
所望する場合には、第１磁性層13に例えばレーザによる
か、又はエッチング処理によりダクト43を形成するが、
これはカウンタブロックを設ける前に行なう。このダク
ト43は形成すべき磁気ヘッド34, 36の２つの境界部35a
と35b との間に延在させる。磁気ヘッドを切り出した後
に、ダクト43は第１磁性層13の後方部分45を前方部分47
から分離させるため、この後方部分45は磁束の案内に寄
与しなくなる。このようなダクト43を設けることにより
小さ目の磁気ヨークを有する磁気ヘッドを簡単に得るこ
とができ、又磁気ヘッドの寸法は代わらないので取扱い
が面倒になることもない。
【００１８】図７は凹所15の位置における第１磁性層13
及びギャップ層19を支承している基板11を詳細に示した
ものである。形成すべきヘッド面、即ちテープ接触面を
破線37によって示してある輪郭は２つの凹所15の境界も
示している。この詳細図は図５Ｃに示した中間製品に相
当するものであり、この図に示すように、各凹所15は形
成すべき変換ギャップの高さ40よりも大き目の寸法16に
形成し、この凹所は形成すべき巻線用アパーチャ（この
輪郭を破線49にて示してある) 内にまで延在させる。こ
のようにしてギャップ層19を確実に巻線用アパーチャ33
まで延在させるようにする。実際上、ギャップ層19と巻
線アパーチャ33とが離間している場合、即ち第１磁性層
13の細条がギャップ層19と巻線用アパーチャ33との間に
存在する場合、この細条が磁気ヨークを短絡することに
なるため、この細条に殆ど全ての磁束が案内され、磁束
がギャップ層19の個所で交差しなくなり、磁気ヘッドを
使用不能にする。
【００１９】前述したように、巻線用アパーチャ33を形
成したり、磁気ヘッド34, 36を切り出すのにはレーザを
用いるのが好適である。凹所15を第１磁性層13に形成す
る際に、第１磁性層13に基準点51を設けておくことによ
り、レーザ切断処理中にギャップ層が位置する個所、従
って巻線用アパーチャ及び磁気ヘッド輪郭を形成しなけ
ればならない個所を正確に決定することができる。図8
はこのような基準点51を有しているウェハ53を示す。破
線は第１磁性層13における凹所15を示す。このような方
法を採ることにより磁気ヘッドをウェハ53から極めて正
確に切り出すことができる。
【００２０】図９は上述した方法にて製造したサンドイ
ッチ構成のヘッド34を示す。第１磁性層13は基板11とカ
ウンタブロック31との間に存在する。第２磁性層23はギ
ャップ層19によって形成される変換ギャッヤに最も近い
所にある。本例では磁気ヘッド34の磁性層を１つのサブ
層で形成する。ヘッド面、即ちラープ接触面37の輪郭は
磁気記録媒体と良好に接触するように形成する。最後
に、ヨークリム55及び57の少なくとも一方のまわりに巻
線用アパーチャ33を通してコイルを巻く必要がある。巻
線用アパーチャ33は、変換ギャップ19の反対側の境界壁
32によって画成する。第１極性層13には図６に示したと
同じ方法でダクト43も設ける。このダクト43には磁気的
に絶縁性の物質、例えばガラスを充填させ、このダクト
を磁気ヘッドの２つの外側面54と56との間に延在させ
る。
【００２１】磁気ヘッドクラスタも上述した方法によっ
て簡単に製造することができる。図10は基板とカウンタ
ブロックとを具え、これらの間に磁性層及びギャップ層
を挟んだウェハ61を示す。この場合には別々の磁気ヘッ
ドの代わりに、数個の磁気ヘッドを具えている磁気ヘッ
ドクラスタ63をウェハ61から切り出す。このような磁気
ヘッドクラスタ63は回転自在のスキャナ（走査器）に使
用するのに大いに好適である。図11はビデオレコーダ又
はディジタル・オーディオ・レコーダ(DATレコーダ) に
屡々用いられる斯種のスキャナ71を示す。スキャナ71は
テープガイド・ルーラ付きの固定の下側ドラム73と、軸
線79のまわりを回動し得る上側ドラム77とを具えてい
る。上側ドラム77は磁気ヘッドクラスタ63を収容する窓
81を有している。１つのクラスタ63に関連する磁気ヘッ
ドの変換ギャップは互いに正確に位置付けなければなら
ない。磁気ヘッドクラスタを用いることにより、このク
ラスタに関連する全ての磁気ヘッドを位置付けるのに各
磁気ヘッドクラスタに対して僅か１度の位置決め工程を
するだけで済む。図12は窓81に最も近い上側ドラム77の
部分を詳細に示したものである。磁気ヘッドクラスタ63
は基板65を具えており、この基板の半分は補助層66によ
って覆う。この補助層と基板の他の半部で磁性層67を担
持する。各々がクラスタの磁気ヘッドに関連する変換ギ
ャップ62及び64を磁性層に形成する。磁性層67の上にカ
ウンタブロック68及び69を設ける。このような構成とす
ることにより、変換ギャップ62及び64が互いに正確に位
置付けられる。これら変換ギャップ間における軸線79の
方向における離間距離が０となるようにすることが屡々
望まれる。これは補助層66の厚さt1を磁性層67の厚さt2
に等しくすることにより正確に達成することができる。
【００２２】本発明は上述した例のみに限定されるもの
でなく幾多の変更を加え得ること勿論である。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の方法による製造工程中に得られる磁気ヘ
ッドの中間製品を示す図である。
【図２】従来の方法による他の製造工程中に得られる磁
気ヘッドの中間製品を示す図である。
【図３】従来の方法によって製造され、磁気ヘッドを切
出すことができるウェハを示す図である。
【図４】本発明による方法による製造工程中に得られる
中間製品を示す図である。
【図５】本発明による磁気ヘッドの製造方法を示す工程
図である。
【図６】本発明による方法にて得られる磁気ヘッドの中
間製品の平面図である。
【図７】図６の中間製品の一部を詳細に示す図である。
【図８】本発明による方法によって製造され、磁気ヘッ
ドを切出すこのとのできるウェハを示す図である。
【図９】本発明による方法によって製造した磁気ヘッド
を示す図である。
【図１０】本発明による方法によって製造され、磁気ヘ
ッドクラスタを切出すことができる他のウェハを示す図
である。
【図１１】本発明による方法によって製造した磁気ヘッ
ドクラスタを設けた走査器を示す図である。
【図１２】図11に示した走査器のヘッドクラスタ窓を詳
細に示す図である。
【符号の説明】
11 基板 13 第１磁性層 14 電気絶縁層 15 凹所 17 凹所境界部（フランク） 19 ギャップ層 21 イオンビーム 23 第２磁性層 25, 26 サブ層 27 絶縁中間層 31 カウンタブロック 33 巻線用アパーチャ 34, 36 磁気ヘッド 37 ヘッド面 43 ダクト 55, 57 ヨークリム 62, 64 変換ギャップ 66 補助層 67 磁性層 68, 69 カウンタブロック 71 走査器 73 下側ドラム 77 上側ドラム 81 窓
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アドリアヌス ペトルス セベリーンス オランダ国 5621 ベーアー アインドー フエンフルーネバウツウエツハ １ (72)発明者 ヤコブス ベルナルダス ヒースベルス オランダ国 5621 ベーアー アインドー フエンフルーネバウツウエツハ １ (72)発明者 ヤコブス ヨセフス マリア ルーイヘロ ツク オランダ国 5621 ベーアー アインドー フエンフルーネバウツウエツハ １

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ヘッド面、巻線用アパーチャ及びヘッド
    面から巻線用アパーチャまで高さ方向に延在する変換ギ
    ャップを具え、前記高さ方向における前記変換ギャップ
    の高さがヘッド面と巻線用アパーチャとの間の距離に等
    しく、前記巻線用アパーチャが、変換ギャップの高さ方
    向に対して平行に延在すると共に高さ方向に見て変換ギ
    ャップから該ギャップの反対側に位置する巻線用アパー
    チャの境界壁までの距離の寸法を有する磁気ヘッドを製
    造する方法であって、該方法が： −基板上に第１磁性層を形成する工程と； −前記第１磁性層に基板まで前記高さ方向に延在する凹
    所を形成する工程と； −前記第１磁性層における前記凹所の境界部を成すフラ
    ンクにギャップ層を形成する工程と； −前記凹所内に第２磁性層を形成する工程と； −表面研磨処理した後に前記第１及び第２磁性層の上に
    カウンタブロックを配置する工程と；を具えている磁気
    ヘッドの製造方法において、少なくとも形成すべき変換
    ギャップの高さに等しく、しかも多くても形成すべき変
    換ギャップの高さと、形成すべき巻線用アパーチャの前
    記寸法との和に等しい距離にわたって前記凹所を前記第
    １磁性層に形成し、且つ巻線用アパーチャを基板、前記
    各層及びカウンタブロックに形成することを特徴とする
    磁気ヘッドの製造方法。
  2. 【請求項２】 複数個の磁気ヘッドを同時に形成するに
    当り、前記凹所を形成する際に、この凹所に隣接する別
    の凹所を他の磁気ヘッド形成用に形成することを特徴と
    する請求項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】 前記フランクの上にギャップ層を形成す
    る前に形成したフランクを集束イオンビームによって仕
    上げ処理することを特徴とする請求項１又は２に記載の
    方法。
  4. 【請求項４】 前記ギャップ層と基板との間の角度を０
    °よりも大きく、多くても９０°に等しい角度αとし、
    前記第２磁性層を複数のサブ層で構成し、これらの連続
    するサブ層間に電気絶縁層を形成し、これらの層をスパ
    ッタリングにより形成すると共に前記絶縁層をスパッタ
    リングする角度を０°よりも大きく、多くても前記角度
    αに等しくし、且つ前記サブ層をスパッタリングする角
    度を少なくとも角度αに等しく、１８０°よりも小さい
    角度とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一
    項に記載の方法。
  5. 【請求項５】 カウンタブロックを形成する前に、第１
    磁性層にダクトを設け、このダクトを基板まで延在させ
    ると共に磁気ヘッドを形成した後に前記ダクトが磁気ヘ
    ッドの２つの外側面間に延在することを特徴とする請求
    項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
  6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれか一項に記載の方
    法によって得ることのできる磁気ヘッド。
  7. 【請求項７】 数個の磁気ヘッドを具え、これらの磁気
    ヘッドが共通の基板と共通の第１磁性層とを有し、補助
    層を基板と少なくとも１個の磁気ヘッドの第１磁性層と
    の間に設けたことを特徴とする請求項１〜５のいずれか
    一項に記載の方法によって得ることのできる磁気ヘッド
    クラスタ。
  8. 【請求項８】 前記補助層が前記第１磁性層の厚さに等
    しい厚さを有することを特徴とする請求項７に記載の磁
    気ヘッドクラスタ。
JP4092825A 1991-04-12 1992-04-13 磁気ヘツド及びその製造方法 Pending JPH05120629A (ja)

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EP0508533A2 (en) 1992-10-14
EP0508533B1 (en) 1997-10-08
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