JPH051562B2 - - Google Patents

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JPH051562B2
JPH051562B2 JP61092669A JP9266986A JPH051562B2 JP H051562 B2 JPH051562 B2 JP H051562B2 JP 61092669 A JP61092669 A JP 61092669A JP 9266986 A JP9266986 A JP 9266986A JP H051562 B2 JPH051562 B2 JP H051562B2
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JP
Japan
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powder
silver
copper
fine
palladium
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JP61092669A
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Japanese (ja)
Other versions
JPS6280907A (en
Inventor
Takashi Shoji
Kenji Ochiai
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Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Publication of JPS6280907A publication Critical patent/JPS6280907A/en
Publication of JPH051562B2 publication Critical patent/JPH051562B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/851Dispositions of multiple connectors or interconnections
    • H10W72/874On different surfaces
    • H10W72/884Die-attach connectors and bond wires

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

(産業上の利用分野) 本発明はサーデイツプ基板用導電ペーストに係
り、特にシリコンチツプ搭載用ドツテイング導電
ペーストに関する。 (従来の技術及び問題点) 近年、電子機器の薄型化、コンパクト化は著し
く、集積度の増加と共に一段と信頼性が向上し、
用途も拡大の一途をたどつている。モノリシツク
ICでは急速な密度の増加、小型化がすすんでき
ており、一方ハイブリツトICの分野でも特に自
動車用制御回路や電源装置用などの産業機器にお
いては耐熱性、耐衝撃性に優れた大規模ハイブリ
ツトIC化の傾向が強い。最近のハイブリツトIC
では、セラミツク基板上にダイオード、トランジ
スタ、半導体ICなどの能動部品のほか、コイル、
トランス、コンデンサーなどほとんどの電気部品
を搭載している。集積度も一段と増加し信頼度も
飛躍的に向上した混成集積回路が開発されてい
る。 これらのハイブリツトICはセラミツク基板上
に個別部品或いはICエレメントを搭載したり、
厚膜技術を駆使して構成されている。サーデイツ
プICは通常Al2O396%程度のアルミナ基板上にシ
リコンのICチツプをボンデイングペーストを使
用して固着しているが、一層耐久力のある固着力
が要求されている。 通常、サーデイツプ用のボンデイング方法にお
いてはAu系ペースト又は半田、ガラスなどが使
用されている。Au系ペーストは導電性に優れ、
化学的にもまつたく安定で、Auワイヤーとのボ
ンダビリテイーが最も良く、Siとも容易に合金化
し、基板との接着も極めて良好であるが、高価で
あるという難点がある。この難点を解消するた
め、AuをAgに代えてAgの欠点であるマイグレ
ーシヨンを防止するためにPdを添加したAg−Pd
系のペーストが開発されてきた。 これら従来のペーストは金属粉末にガラス質金
属酸化物を混合し、ビヒクルを用いて混練したも
のであり、アルミナ基板との接着は専らガラスフ
リツトの焼結結合に頼るものであつた。 しかしながら、ガラスフリツトは熱衝撃に弱
く、基板を焼成してパツケージ化する工程や、或
いは使用中の環境温度の変化によつて接着強度が
熱劣化する欠点を有する。アルミナ基板との接着
力を向上させるため、Cuなどを微量添加しアル
ミナ基板と化学的に結合させる試みもなされてい
るが、ガラスフリツトを使用する限り熱劣化特性
を飛躍的に向上させることは困難であつた。 すなわち、たゞ単にCu微粉末を添加したので
は、ビヒクル中では比重差により他の金属微粉末
と分離する現象が起こり、ドツテイングに際して
は分散が悪く、均一なペースト皮膜とならないば
かりでなく、アルミナ基板に充分拡散しないため
皮膜の接着強度が不充分なものとなる。また焼成
過程でCuの偏析した箇所は局部的に酸化されて
着色し、均一な平滑面を有する皮膜が得られない
などの欠点がある。 これらの問題点を解決するため、本出願人は先
に銀微粉末と銀及び銅の複合微粉末とを必須成分
として含む導電ペーストを提案した(特願昭58−
18914号など)。それによれば、上記問題点を効果
的に解決し得るが、最近になつて新たな構造のサ
ーデイツプ基板が使用されるようになり、これに
も対処できる導電ペーストの開発が要請されてい
る。 すなわち、従来のサーデイツプ基板は、第3図
に示すように、基板1に形成したキヤビテイー2
が断面略凹形の単純な形状を有しており、このキ
ヤビテイー内にペーストによるメタライズ面3を
接着した後、Al/2Siなどのプレフオーム4を介
してSiチツプ5を固着し、Al、Cu、Auなどのジ
ヤンパーワイヤー6をSiチツプ5とメタライズ面
3及びリードフレーム7の間で接続していた。し
かし、このようなキヤビテイー断面構造ではジヤ
ンパーワイヤー6を接続する場合、微小寸法の間
隙内での相当の深さにわたつてワイヤーをジヤン
プさせる必要があるため、ワイヤーボンデイング
工程が厄介であり、生産性を阻害していた。 そこで、最近、第1図a及び第2図aに示すよ
うな階段状部分10や突起部11をもつた断面構
造のキヤビテイーを有する基板1が考案された。
この構造であれば、階段状部分10や突起部11
の上にもペーストによりメタライズ面3を形成す
ることにより、ワイヤー6を最少限距離でジヤン
プさせることができ、ワイヤーボンデイング工程
を簡易化することが可能となる。しかし乍ら、
かゝる構造の着想はよいものの、実際には階段状
部分10や突起部11にも平面部と同様の良好さ
でメタライズ面3を形成し得る導電ペーストが開
発されておらず、実用化されるに至つていないの
が現状であり、かゝる新規構造のサーデイツプ基
板にも適用できる導電ペーストの出現が望まれて
いた。 (発明の目的) 本発明は、特に上記要請に応えるべくなされた
ものであり、その目的とするところは、サーデイ
ツプIC用のドツテイング導電ペーストにおいて、
基板キヤビテイーに設けた階段状部分や突起部な
どの側壁への付着性がよく、しかも、アルミナ基
板とシリコンチツプとの接着力を増し、耐熱性、
耐衝撃性にすぐれており、使い易く、安価なフリ
ツトレスタイプのドツテイングペーストを提供せ
んとするものであ。 (発明の構成) 上記目的を達成するため、本発明に係る導電ペ
ーストは、少なくとも銀微粉末と銀及び銅の複合
微粉末と更に酸化イツトリウム及び五酸化バナジ
ウムの1種又は2種を必須成分として含み、か
つ、該銀微粉末はフレーク状銀粒子を銀微粉末全
体の30%以上含み、該フレーク状銀粒子は平均系
が5μm以下で、長径(a)短径(b)のほぼ円形で、
厚さ(c)がc<1μm、かつc<1/5(a、b)の
ものであることを骨子とするものである。 以下に本発明を実施例に基づいて詳細に説明す
る。 本発明において、銀微粉末は粒径10μm以下の
もの、好ましくは平均粒径(D50)が0.5〜5μmの
ものを使用する。10μmより大きくなるとビヒク
ル中での分散性が悪くなり、ドツテイングの時に
ニードルが閉塞する恐れがある。 上記銀微粉末はその30%以上をフレーク状銀粒
子とする必要がある。フレーク状銀粒子は第4図
に示すような形状を有し、平均粒径が5μm以下
で、(i)ab、a、b≫c、(ii)厚さ1μm以下で、
a、bに対してcは1/5以下のものである。フレ
ーク状銀粒子は、還元法又は電解法で得られた銀
粒子をスタンピングやボールミルの粉砕によりフ
レーク状にすることにより製造されるが、その際
脂肪酸に浸してフレークの密着を防止するとよ
い。また銀箔を切りきざんで得てもよい。他の銀
微粉末は特殊なものである必要はなく、通常の還
元法や電解法で得られた銀粉末を使用することが
でき、平均粒径2μm以下の球状に近い銀粒子を
配合するのが好ましい。上記フレーク状銀粒子が
30%未満では基板キヤビテイーの側壁への付着状
態が良好でなくなるので、30%以上配合する必要
がある。なお、銀微粉末の100%をフレーク状銀
粒子にしても効果があるが、メタライズ層の強度
が劣化したり表面上にやや気孔が多くなる。 次に、銀と銅の複合微粉末はビヒクル中で銀粒
子と銅粒子が結合を保つていれば良く、メツキ
粉、共沈粉、メカニカルアロイ粉末等が利用でき
る。特にメカニカルアロイ粉末は、銀と銅の粉末
をボールミル中で高速回転させて混合粉砕した結
果得られるものであり、銀粒子と銅粒子が機械的
に噛合つて結合しており、バインダーを何ら使用
することなく銀粒子と銅粒子の強固な結合を保つ
ことが可能である。メカニカルアロイ粉末による
場合は広範囲のCu含有量の複合粉末を任意に選
択使用できる利点を有する。銀と銅との複合粉末
の粒子径は10μm以下、好ましくは平均粒子径
(D50)が0.5〜5μmのものが良い。銀と銅との複
合粉末中の銅の含有量は20〜70%、好ましくは40
〜60%が適当である。銅含有量が20%以下では皮
膜強度が充分でなく、70%を越えると複合粉末化
の効果がなくなる。さらに比重値がなるべく銀と
銅との中間値に近いものがビヒクル中での分散性
を良くする上で望ましい。 導電ペースト中の金属粉体中に占める銅含有率
は0.1〜10%、好ましくは2〜5%である。銅含
有率が0.1%以下ではアルミナ中への拡散が不充
分で接着強度が上がらない。また、銅含有量が10
%を超えると銅の酸化が著しくなり、かえつて悪
影響をおよぼす結果となる。 導電ペースト中の金属粉末含有量は60〜90%と
する必要があり、これ以外では取扱い易いペース
ト粘度が得られない。 酸化イツトナトリウム(Y2O3)を添加する場
合、化学的手法で製造された純度99.6%以上のも
のが好ましい。粒度は平均粒径で5μm以下が好
ましく、粒径は強度を向上させるために、或いは
分散性を良くするために細かい方が良い。平均粒
径が10μm以上になると、均一分散性が悪く表面
平滑性の面で好ましくない。 酸化イツトリウムの添加量はペーストの固形成
分中の割合が20ppm〜2%、好ましくは0.05〜1
%となるよう添加すると付着強度向上に著しい効
果を発揮することが判明した。添加量が20ppm未
満では効果が認められず、2%を超えるとY2O3
が析出し、表面平滑性に悪影響を及ぼし、ダイア
タツチ性を阻害する。表面平滑性を保ち、しかも
付着強度を向上させるにはペーストの固形成分中
に0.05〜1%添加するのが良い。 五酸化バナジウム(V2O5)を添加する場合、
化学的に製造されたもので、純度が99.9%以上の
ものが好ましい。粒度は平均粒径で5μm以下、
好ましくは2μm以下で細かい方が分散性が良く
強度に与える影響も好ましい。逆に平均粒径が
5μm以上であると強度、表面平滑性、均一分散
性の面で好ましくない。V2O5の添加率は、20〜
500ppmが最適である。20ppm以下では強度に対
して顕著な効果は認められない。500ppm以上添
加すると色調に変色をきたす他、気孔が多くなつ
たり、表面粗さが粗くなつたりして、特にダイア
タツチ性(Si付けが難しい)が劣化する。Y2O3
は焼成温度900℃以上で効果は認められるが、900
℃以下では効果は顕著でない。より広い温度範囲
に於いてより安定に強度を維持させるためには
Y2O3と共に添加するのが好ましい。 ビヒクルは金属粉末を均一に分散させ、使用に
際しては適度の粘性と表面張力を有し、塗布面に
滑らかに拡散させる機能を有する。本発明で使用
するビヒクルは通常使用されているテレピネオー
ル、ブチルカルビトール、エチルセルロース、ブ
チルカルビトールアセテート、テキサノール等の
有機質溶媒が使用できる。ペースト状態では金属
微粉末粒子の分離偏析を避けるため、粘度は高く
調整しておくが、使用に際しては溶剤を用いて希
釈し、40〜450cpsの粘度に調整する。 ペーストを上記のように構成することにより、
熱衝撃に耐え、熱劣化性が著しく改善された強固
な結合力を有するものとなる。さらに本発明によ
るペーストはドツテイングの際の分散性もよくな
り、平滑で均一な焼上がり特性を有するすぐれた
表面皮膜となる。しかも、第1図及び第2図に示
すような段階状部分や突起部11などを有する構
造の基板に適用しても、その側壁への付着状態が
良好である。 上記構成を有する本発明の導電ペーストにおい
ては、必要に応じて、金属粉末中に白金又はパラ
ジウムを添加することができる。更には銅有機物
も必要に応じてペースト中に添加することができ
る。勿論、これら以外の成分を添加できることは
云うまでもない。 以下に上記例示した任意添加成分について説明
する。 白金を添加する場合には、銀及び白金の複合
微粉末又は白金微粉末のみで添加する。前述の
必須成分に白金を添加したペーストは、特に熱
衝撃に耐え、熱劣化性が著しく改善された強固
な結合力を有するほかに、銀のマイグレーシヨ
ンを防止し、ワイヤーボンデイング性、フアイ
ンライン性、ハンダ特性、導電性を改善する効
果を有する。又、キヤビテイー部にワイヤーを
接続する場合、Al線が使用できる大きな利点
をもつ。 白金は化学的に安定できるから単独で混合し
ても上記特性を改善するのに有効であるが、銀
との複合粉末を使用するとビヒクル中で均一に
分散するので、一層効果的である。銀と白金と
の複合粉末はメツキ粉、共沈粉、メカニカルア
ロイ粉等が使用できる。複合粉末中の白金の含
有率は5〜60%が適する。メカニカルアロイ粉
では白金含有率の高いものを容易に得ることが
できる。複合粉末の粉末粒子径は10μm以下、
平均粒子径(D50)は5μm程度のものが良い。
白金の含有量はペースト中の金属粒子に対し
0.2〜10%、好ましくは0.5〜3.0%である。白金
含有量が0.2%以下では添加効果が認められず、
10%以上ではコスト削減の効果が現われない。 パラジウムを添加する場合には、銀及びパラ
ジウムの複合微粉末として添加するのが好まし
いが、パラジウム微粉末を単独で添加すること
もできる。パラジウムを添加することにより、
熱衝撃に耐え、熱劣化性が著しく改善された強
固な結合力を有するほかに、特に銀のマイグレ
ーシヨン防止に著しい効果を発揮し、ワイヤー
ボンデイング性、ハンダ特性を改善し、表面の
滑らかな均質皮膜が得られる効果を有する。 パラジウムを添加したペーストは銀のマイグ
レーシヨンを防止する効果を有することは広く
知られた事実であるが、パラジウムを単独で添
加したペーストは、焼成過程でパラジウムが酸
化され、表面粗くなる難点があるが、パラジウ
ムを銀と複合化した粉末を使用した場合には、
パラジウムの酸化を防止しつつ平面状態のきわ
めて良好な皮膜が得られる。 銀とパラジウムとの複合化粉末としては共沈
粉末、メカニカルアロイ粉末、メツキ粉末が利
用できる。複合粉末中のパラジウムの含有率は
10〜40%、好ましくは20〜30%のものが使い易
い。複合粉末の粒子径は10μm以下、平均粒子
径(D50)は5μm程度のものが良い。 パラジウムの含有量はペースト中の金属粒子
に対して0.2〜30%、好ましくは0.5〜10%であ
る。パラジウム含有量が0.2%以下では添加の
効果が認められず、30%以上添加しても著しい
特性向上は期待できなくなるからである。 銅有機物を添加する場合には、ペースト中の
銅純物の合計が0.1〜10%となる範囲で添加す
る。ここで使用する銅有機物とは、
(Industrial Field of Application) The present invention relates to a conductive paste for a ceramic substrate, and more particularly to a dotting conductive paste for mounting a silicon chip. (Conventional technology and problems) In recent years, electronic devices have become significantly thinner and more compact, and as the degree of integration increases, reliability has further improved.
Its uses are also continuing to expand. monolithic
ICs are rapidly increasing in density and becoming smaller, and on the other hand, in the field of hybrid ICs, large-scale hybrid ICs with excellent heat resistance and shock resistance are becoming more popular, especially in industrial equipment such as automotive control circuits and power supply devices. There is a strong tendency to Recent hybrid IC
In addition to active components such as diodes, transistors, and semiconductor ICs, coils and
It is equipped with most electrical components such as transformers and capacitors. Hybrid integrated circuits have been developed that have further increased the degree of integration and have dramatically improved reliability. These hybrid ICs have individual components or IC elements mounted on a ceramic substrate, or
It is constructed using thick film technology. Normally, a silicon IC chip is bonded to an alumina substrate containing about 96% Al 2 O 3 using a bonding paste, but a more durable bonding force is required. Usually, Au-based paste, solder, glass, etc. are used in bonding methods for ceramic dips. Au-based paste has excellent conductivity,
It is extremely stable chemically, has the best bondability with Au wire, is easily alloyed with Si, and has extremely good adhesion to substrates, but it has the disadvantage of being expensive. In order to solve this problem, we replaced Au with Ag and added Pd to prevent migration, which is a disadvantage of Ag.
Pastes have been developed. These conventional pastes are made by mixing metal powder with vitreous metal oxide and kneading the mixture using a vehicle, and their adhesion to the alumina substrate relies solely on sintered bonding of glass frit. However, glass frit has the disadvantage that it is susceptible to thermal shock and its adhesive strength deteriorates due to heat during the process of baking the substrate to form a package or due to changes in environmental temperature during use. In order to improve the adhesion with the alumina substrate, attempts have been made to chemically bond it with the alumina substrate by adding a small amount of Cu, etc., but as long as glass frit is used, it is difficult to dramatically improve the thermal deterioration characteristics. It was hot. In other words, if Cu fine powder is simply added, it will separate from other metal fine powders due to the difference in specific gravity in the vehicle, resulting in poor dispersion during dotting, not only will it not form a uniform paste film, but will also result in alumina Since it is not sufficiently diffused into the substrate, the adhesive strength of the film becomes insufficient. In addition, areas where Cu is segregated during the firing process are locally oxidized and colored, making it impossible to obtain a film with a uniform and smooth surface. In order to solve these problems, the present applicant previously proposed a conductive paste containing as essential components a fine silver powder and a composite fine powder of silver and copper (Japanese Patent Application No. 1983-
18914 etc.). According to this, the above-mentioned problems can be effectively solved, but recently, a ceramic substrate with a new structure has come into use, and there is a demand for the development of a conductive paste that can also deal with this. That is, the conventional ceramic substrate has a cavity 2 formed on a substrate 1, as shown in FIG.
has a simple shape with a generally concave cross section, and after bonding a metallized surface 3 with paste into this cavity, a Si chip 5 is fixed via a preform 4 such as Al/2Si, and then Al, Cu, A jumper wire 6 made of Au or the like was connected between the Si chip 5, the metallized surface 3, and the lead frame 7. However, in such a cavity cross-sectional structure, when connecting the jumper wire 6, it is necessary to jump the wire to a considerable depth within the minute gap, which makes the wire bonding process cumbersome and reduces production. It was interfering with sexuality. Therefore, recently, a substrate 1 having a cavity with a cross-sectional structure having a stepped portion 10 and a projection 11 as shown in FIGS. 1A and 2A has been devised.
With this structure, the stepped portion 10 and the protrusion 11
By forming the metallized surface 3 with paste also on the wire 6, the wire 6 can be jumped by a minimum distance, and the wire bonding process can be simplified. However,
Although the idea of such a structure is good, in reality, a conductive paste that can form the metallized surface 3 on the stepped portion 10 and the protruding portion 11 with the same quality as that on the flat portion has not been developed, and it has not been put to practical use. At present, the development of a conductive paste that can be applied to a ceramic substrate with such a new structure has been desired. (Object of the Invention) The present invention has been made specifically to meet the above-mentioned needs, and its purpose is to provide a dotting conductive paste for a deep dip IC.
It has good adhesion to the side walls of stepped parts and protrusions provided in the substrate cavity, and also increases the adhesive strength between the alumina substrate and silicon chip, and has excellent heat resistance and
It is an object of the present invention to provide a fritless type dotting paste that has excellent impact resistance, is easy to use, and is inexpensive. (Structure of the Invention) In order to achieve the above object, the conductive paste according to the present invention contains at least a fine silver powder, a composite fine powder of silver and copper, and one or two of yttrium oxide and vanadium pentoxide as essential components. and the silver fine powder contains flaky silver particles in an amount of 30% or more of the total silver fine powder, and the flaky silver particles have an average size of 5 μm or less and are approximately circular with a major axis (a) and a minor axis (b). ,
The gist is that the thickness (c) is c<1 μm and c<1/5 (a, b). The present invention will be explained in detail below based on examples. In the present invention, the silver fine powder used has a particle size of 10 μm or less, preferably an average particle size (D 50 ) of 0.5 to 5 μm. If it is larger than 10 μm, the dispersibility in the vehicle will be poor, and there is a risk that the needle will be clogged during dotting. The above-mentioned fine silver powder must contain 30% or more of flake-like silver particles. The flaky silver particles have a shape as shown in FIG. 4, have an average particle size of 5 μm or less, (i) ab, a, b≫c, (ii) a thickness of 1 μm or less,
c is less than 1/5 of a and b. Flake-like silver particles are produced by turning silver particles obtained by a reduction method or an electrolytic method into flakes by stamping or crushing with a ball mill, and at this time, it is preferable to soak them in a fatty acid to prevent the flakes from adhering to each other. It may also be obtained by cutting silver foil into pieces. Other fine silver powders do not need to be special, and silver powder obtained by ordinary reduction methods or electrolytic methods can be used. is preferred. The above flaky silver particles
If it is less than 30%, the adhesion to the side wall of the substrate cavity will not be good, so it is necessary to mix it in at least 30%. Although it is effective to make 100% of the fine silver powder into flake-like silver particles, the strength of the metallized layer deteriorates and there are slightly more pores on the surface. Next, the composite fine powder of silver and copper only needs to maintain the bond between the silver particles and the copper particles in the vehicle, and plating powder, co-precipitated powder, mechanical alloy powder, etc. can be used. In particular, mechanical alloy powder is obtained by mixing and pulverizing silver and copper powders by rotating them at high speed in a ball mill, and the silver particles and copper particles are mechanically interlocked and bonded, and no binder is used. It is possible to maintain a strong bond between silver particles and copper particles without causing any damage. When mechanical alloy powder is used, it has the advantage that composite powders having a wide range of Cu contents can be arbitrarily selected and used. The particle size of the composite powder of silver and copper is 10 μm or less, preferably the average particle size (D 50 ) is 0.5 to 5 μm. The content of copper in the composite powder of silver and copper is 20-70%, preferably 40%
~60% is appropriate. If the copper content is less than 20%, the film strength will not be sufficient, and if it exceeds 70%, the effect of composite powdering will be lost. Further, it is desirable that the specific gravity value be as close as possible to an intermediate value between that of silver and copper in order to improve dispersibility in the vehicle. The copper content in the metal powder in the conductive paste is 0.1 to 10%, preferably 2 to 5%. If the copper content is less than 0.1%, diffusion into the alumina will be insufficient and adhesive strength will not increase. It also has a copper content of 10
%, the oxidation of copper becomes significant, resulting in even more adverse effects. The metal powder content in the conductive paste must be 60 to 90%; otherwise, a paste viscosity that is easy to handle cannot be obtained. When adding ytosodium oxide (Y 2 O 3 ), it is preferably produced by a chemical method and has a purity of 99.6% or more. The average particle size of the particles is preferably 5 μm or less, and the smaller the particle size, the better in order to improve strength or improve dispersibility. When the average particle size is 10 μm or more, uniform dispersibility is poor and surface smoothness is unfavorable. The amount of yttrium oxide added is 20 ppm to 2%, preferably 0.05 to 1% in the solid component of the paste.
It has been found that when added in an amount of %, it has a remarkable effect on improving adhesive strength. No effect is observed if the amount added is less than 20ppm, and if it exceeds 2%, Y 2 O 3
precipitates, adversely affecting surface smoothness and inhibiting die attachability. In order to maintain surface smoothness and improve adhesion strength, it is preferable to add 0.05 to 1% to the solid components of the paste. When adding vanadium pentoxide (V 2 O 5 ),
It is preferably chemically produced and has a purity of 99.9% or higher. The average particle size is 5μm or less,
Preferably, the finer the particle size is 2 μm or less, the better the dispersibility and the better the effect on strength. On the other hand, the average particle size
If it is 5 μm or more, it is unfavorable in terms of strength, surface smoothness, and uniform dispersibility. The addition rate of V2O5 is 20~
500ppm is optimal. No significant effect on strength is observed below 20 ppm. Adding more than 500 ppm will not only change the color tone, but also increase the number of pores and roughen the surface, resulting in particularly poor die attachability (difficult to attach Si). Y 2 O 3
is effective at firing temperatures of 900°C or higher;
The effect is not significant below ℃. To maintain strength more stably over a wider temperature range
Preferably, it is added together with Y 2 O 3 . The vehicle disperses the metal powder uniformly, has appropriate viscosity and surface tension when used, and has the function of smoothly spreading the powder onto the surface to which it is applied. As the vehicle used in the present invention, commonly used organic solvents such as terpineol, butyl carbitol, ethyl cellulose, butyl carbitol acetate, and texanol can be used. In the paste state, the viscosity is adjusted to be high in order to avoid separation and segregation of fine metal powder particles, but when used, it is diluted with a solvent and adjusted to a viscosity of 40 to 450 cps. By configuring the paste as above,
It has strong bonding strength that can withstand thermal shock and has significantly improved thermal deterioration resistance. Furthermore, the paste according to the invention has good dispersibility during dotting, resulting in an excellent surface film with smooth and uniform baking characteristics. Furthermore, even when applied to a substrate having a structure having stepped portions or protrusions 11 as shown in FIGS. 1 and 2, the adhesion to the side walls is good. In the conductive paste of the present invention having the above structure, platinum or palladium can be added to the metal powder, if necessary. Furthermore, a copper organic substance can also be added to the paste as required. Of course, it goes without saying that components other than these can be added. The optionally added components exemplified above will be explained below. When platinum is added, it is added only as a composite fine powder of silver and platinum or as a fine platinum powder. The paste containing platinum added to the above-mentioned essential components has strong bonding strength that is particularly resistant to thermal shock and has significantly improved resistance to thermal deterioration.It also prevents silver migration and improves wire bonding and fine line properties. , has the effect of improving solder properties and conductivity. Also, when connecting wires to the cavity, Al wire has the great advantage of being usable. Since platinum is chemically stable, it is effective to improve the above characteristics even when mixed alone, but using a composite powder with silver is even more effective because it is uniformly dispersed in the vehicle. As the composite powder of silver and platinum, plating powder, co-precipitated powder, mechanical alloy powder, etc. can be used. A suitable content of platinum in the composite powder is 5 to 60%. Mechanical alloy powders with high platinum content can be easily obtained. The powder particle size of the composite powder is 10μm or less,
The average particle diameter (D 50 ) is preferably about 5 μm.
The platinum content is based on the metal particles in the paste.
0.2-10%, preferably 0.5-3.0%. When the platinum content is less than 0.2%, no additive effect is observed,
If it exceeds 10%, the effect of cost reduction will not be apparent. When palladium is added, it is preferably added as a composite fine powder of silver and palladium, but fine palladium powder can also be added alone. By adding palladium,
In addition to having strong bonding strength that can withstand thermal shock and significantly improved thermal deterioration resistance, it is particularly effective in preventing silver migration, improves wire bonding properties and soldering properties, and has a smooth and homogeneous surface. It has the effect of forming a film. It is a widely known fact that pastes containing palladium have the effect of preventing silver migration, but pastes containing palladium alone have the disadvantage that the palladium is oxidized during the firing process, resulting in a rough surface. However, when using a powder made of palladium and silver,
An extremely flat film can be obtained while preventing the oxidation of palladium. Co-precipitation powder, mechanical alloy powder, and plating powder can be used as the composite powder of silver and palladium. The content of palladium in the composite powder is
10-40%, preferably 20-30% is easy to use. The particle size of the composite powder is preferably 10 μm or less, and the average particle size (D 50 ) is preferably about 5 μm. The content of palladium is 0.2-30%, preferably 0.5-10%, based on the metal particles in the paste. This is because if the palladium content is less than 0.2%, the effect of addition is not recognized, and even if it is added more than 30%, no significant improvement in properties can be expected. When adding a copper organic substance, it is added in such a range that the total amount of pure copper in the paste is 0.1 to 10%. The copper organic substance used here is

【式】 又は、【formula】 Or

【式】 (Rは飽和型炭化水素) の一般式で示されるもので、環式テルペン系誘
導体はR−S−Cu−S−Rの一般式で示され
るものでもよい。銅の含有量は一般に3〜10重
量%である。具体的には、レジネート銅、銅ア
リールメルカプチド、銅テルペンメチドなどが
ある。これらの有機銅はペースト中で溶剤に解
けた状態で存在する。有機銅は、IR法(Infra
−Red Absorption Spectrum、赤外線吸収ス
ペクトル)、NMS法(Nuclear Magnetic
Resonance核磁気共鳴法)等で金属銅と区別し
て存在が判別できる。 銅有機物を使用することによる効果は (i) 液体であるためビヒクルと良く混ざるため、
分散性に優れたペーストが可能である。 (ii) 基板にドツテイングしても偏析が殆んどな
い。 (iii) 焼成過程に於て、Ag/Cu複合粉、Y2O3粉末
は、主に基板との接着強度に寄与し、銅有機物
は均一に分散するため、メタライズ層間の焼結
を促進させる効果がある。 従つて接着強度のばらつきが小さくなり、安定
した強度の製品を得られる点にある。 (実施例) 第1表に示す金属粉末とY2O3及び/又はV2O5
と更に有機銅を適宜使用し、ビヒクルとしてテル
ピネオール、ブチルカルビトール、エチルセルロ
ースを使用して三本ロールミルで混練してペース
トを作つた。 銀粉末はフレーク状銀粒子を0〜100%含み、
フレーク状銀粒子は、還元銀粉末をステアリン酸
を使用してスタンプミルで粉砕し平均粒径5μm
以下で、長径(a)短径(b)のほぼ円形で、厚さ(c)が
c<1μm、かつc<1/5(a、b)のものを分
級して使用した。他の銀粉末は市販の還元粉を使
用し、純度は99.9%、粒度は1〜4μmであつた。
銀と銅との複合粉末としては銅20%を含む無電解
メツキ粉、及び銀粉50%と銅粉50%をボールミル
中で高速混合粉砕したメカニカルアロイ粉を使用
した。複合粉末の粒度は10μm以下に分級したも
のを使用した。 白金は市販の0.5〜0.8μmの微粉末、及び銀と
白金の割合が85:15の共沈粉末を5μm以下に分
級して使用した。また、パラジウムは市販の粒度
0.8〜1.8μmの微粉末、及び銀とパラジウムの重
量比が7:3である共沈粉末を5μm以下に分級
したものを使用した。 Y2O3は平均粒径1.2μm、純度99.8%の市販品を
使用した。 V2O5は平均粒径3μm以下のもので純度99.9%
の市販品を使用した。 有機銅は市販のレジネート銅を使用した。レジ
ネート銅の配合割合はペースト全体に対して4重
量部になるように配合した。レジネート銅中の銅
含有量は6.4%であるのでレジネート銅から入る
Cu純分の割合は0.256重量部となる。 ビヒクル成分はテルピネオールとブチルカルビ
ールを1:1に混合し、その溶剤に対して12%の
エチルセルロースを添加したものを用いた。その
時の粘度はBrookfield粘度計HBTで、14番スピ
ンドルを使用して測定したところ、200±50Kcps
であつた。 次に該ペーストを、ブチルカルビトールとテル
ピネオールを1:1に混合した溶液をシンナーと
して使用し、最終粘度が約100cpsになるように調
整してドツテイングに使用した。 基板はブラツクアルミナ(96%Al2O3、寸法
52.2×13.2×1.9mm)を使用し、キヤビテイーの概
略寸法は8.0×8.0mmであり、深さ0.50mm、階段状
部分の幅1.0mm及び深さ0.05mmの断面のものであ
る(第5図参照)。アルミナ基板はトリクロレン
で洗浄後使用した。このキヤビテイー上に2×2
×0.1mmのシリコンチツプをドツテイングにより
装着した。 ドツテイング装置は岩下エンジニアリング製の
ものを使用した。該導電ペーストをドツテイング
後、120℃で20分間乾燥し、更にワトキンス・ジ
ヨンソン社製4MC型厚膜焼成炉により、大気雰
囲気中で焼成した。焼成条件は60分間プロフアイ
ルでピーク温度910℃10分間とした。 このようにして得られたペースト皮膜表面を観
察し、表面粗さを東京精密製表面粗さ計により測
定した。サンプルは各水準毎に50個を使用した。 更に2.5×2.5mm□×25μmのAuプレフオームを
使用し、ウエストボンド社製ダイアタツチ装置に
より450℃でシリコンチツプを接着した。このよ
うにして得られたサーデイツプICにつき接着強
度試験及び耐熱テストを実施した。これらの結果
を第2表に示す。 接着強度はダイアタツチ性とダイプツシユ試験
で判定した。ダイアタツチ性とは接着時のスクラ
ビングの時間により判断し、表中○印は短時間に
接着できたものである。ダイプツシユ試験は耐熱
試験終了後のテストピースについてエンジニア
ド・テクニカル・プロダクト社製のパーチカルボ
ンドテスターを使用して測定した。表中○印は20
個全部のテストピースがダイ破壊を示した場合、
×印は20個のテストピース全部が膜剥離をしたこ
とを示している。△印は20個のテスト・ピース中
1個以上5個以下膜剥離があつたことを示してい
る。 耐熱テストは熱サイクルテストと熱衝撃テスト
を実施した。試験条件は熱サイクルテストは
MLLL−STD883B 1010・2に基づき
CONDITION Cで行つた。熱衝撃テストは同じ
くMILL−STD 883B 1011・2、CONDTION
Cで行つた。 また、基板キヤビテイーの側壁へのメタライズ
面の付着状態を50個の基板について調べた。その
結果を第2表に示す。判断基準は第6図aに示す
ように底部12段上部13との間で全数の基板に
つき電気的導通があれば合格(○印)とし、第6
図bに示すように側壁14には付かず(同図中、
左側)或いは付いても段上部13では薄く(同図
中、右側)、底部12と段上部13とが全く導通
しなかつた場合を不合格(×印)とした。 更にワイヤーボンデイング試験を行つた。試験
装置はウエスト・ボンド社(米国)製のワイヤー
ボンダーを用い、25μmφのAlワイヤー(1%Si
添加)を超音波にて第7図に示す如く圧接した。
試験方法はワイヤープルテスターによりネツク部
分を垂直方向に引張り(第8図a)、各種温度で
のその強度と破断モードを調べた。その結果を第
2表に示す。なお、同表中、測定不能とは接着強
度が25Kg以下でワイヤーが剥離したことを示し、
またワイヤーボンデビリテイーにつき、○印は、
破断荷重が10g以上で、第8図bに示す如きネツ
ク切れAが全個数(10個)について生じなかつた
場合、△印は10個中剥離モードが5個以上につい
て生じた場合、×印は剥離が生じて試験不能であ
つた場合を示す。
[Formula] (R is a saturated hydrocarbon) The cyclic terpene derivative may be represented by the general formula R-S-Cu-S-R. The copper content is generally between 3 and 10% by weight. Specifically, there are resinate copper, copper aryl mercaptide, copper terpene methide, and the like. These organic coppers exist in a state dissolved in a solvent in the paste. Organic copper is produced using the IR method (Infra
−Red Absorption Spectrum, NMS method (Nuclear Magnetic
Its presence can be determined by distinguishing it from metallic copper using methods such as Resonance (nuclear magnetic resonance method). The effects of using copper organic matter are (i) Since it is a liquid, it mixes well with the vehicle;
A paste with excellent dispersibility is possible. (ii) There is almost no segregation even when dotted onto a substrate. (iii) In the firing process, the Ag/Cu composite powder and Y 2 O 3 powder mainly contribute to the adhesive strength with the substrate, and the copper organic matter is uniformly dispersed, promoting sintering between the metallized layers. effective. Therefore, variations in adhesive strength are reduced, and a product with stable strength can be obtained. (Example) Metal powder shown in Table 1 and Y 2 O 3 and/or V 2 O 5
Further, organic copper was used as appropriate, and terpineol, butyl carbitol, and ethyl cellulose were used as vehicles, and the mixture was kneaded in a three-roll mill to prepare a paste. Silver powder contains 0-100% flaky silver particles,
Flake-like silver particles are obtained by crushing reduced silver powder with a stamp mill using stearic acid to obtain an average particle size of 5 μm.
In the following, those having a substantially circular shape with a major axis (a) and a minor axis (b), a thickness (c) of c<1 μm, and c<1/5 (a, b) were classified and used. The other silver powder used was a commercially available reduced powder, with a purity of 99.9% and a particle size of 1 to 4 μm.
As the composite powder of silver and copper, electroless plating powder containing 20% copper and mechanical alloy powder obtained by mixing and pulverizing 50% silver powder and 50% copper powder at high speed in a ball mill were used. The particle size of the composite powder was classified to 10 μm or less. As platinum, a commercially available fine powder of 0.5 to 0.8 μm and a coprecipitated powder with a ratio of silver and platinum of 85:15 were classified to 5 μm or less and used. In addition, palladium has a commercially available particle size
A fine powder of 0.8 to 1.8 μm and a coprecipitated powder having a weight ratio of silver and palladium of 7:3 were used, which were classified to 5 μm or less. A commercially available Y 2 O 3 with an average particle size of 1.2 μm and a purity of 99.8% was used. V 2 O 5 has an average particle size of 3 μm or less and has a purity of 99.9%.
A commercially available product was used. Commercially available resinate copper was used as the organic copper. The blending ratio of resinate copper was 4 parts by weight based on the entire paste. The copper content in resinate copper is 6.4%, so it comes from resinate copper.
The proportion of pure Cu is 0.256 parts by weight. The vehicle component used was a 1:1 mixture of terpineol and butyl carbyl, with 12% ethyl cellulose added to the solvent. The viscosity at that time was measured using a Brookfield viscometer HBT using spindle No. 14, and it was 200 ± 50 Kcps.
It was hot. Next, the paste was adjusted to a final viscosity of about 100 cps using a 1:1 mixed solution of butyl carbitol and terpineol as a thinner, and used for dotting. The substrate is black alumina (96% Al 2 O 3 , dimensions
52.2 x 13.2 x 1.9 mm), the approximate dimensions of the cavity are 8.0 x 8.0 mm, the depth is 0.50 mm, the width of the stepped portion is 1.0 mm, and the cross section is 0.05 mm deep (Figure 5). reference). The alumina substrate was used after cleaning with trichlorolene. 2x2 on this cavity
A ×0.1 mm silicon chip was attached by dotting. The dotting device used was one manufactured by Iwashita Engineering. After dotting the conductive paste, it was dried at 120° C. for 20 minutes, and then fired in an atmospheric atmosphere using a 4MC type thick film firing furnace manufactured by Watkins Johnson. The firing conditions were a 60 minute profile and a peak temperature of 910°C for 10 minutes. The surface of the paste film thus obtained was observed, and the surface roughness was measured using a surface roughness meter manufactured by Tokyo Seimitsu. Fifty samples were used for each level. Further, using an Au preform of 2.5 x 2.5 mm x 25 μm, a silicon chip was bonded at 450°C using a die attach device manufactured by West Bond. Adhesive strength tests and heat resistance tests were conducted on the thus obtained Surdip IC. These results are shown in Table 2. Adhesive strength was determined by die attachability and die push test. Die attachability is determined by the scrubbing time during adhesion, and the ○ mark in the table indicates that adhesion was achieved in a short time. The dipstick test was performed on the test piece after the heat resistance test using a particle bond tester manufactured by Engineered Technical Products. ○ mark in the table is 20
If all individual test pieces show die failure,
The x mark indicates that all 20 test pieces had peeled off. The mark △ indicates that film peeling occurred in 1 or more and 5 or less of the 20 test pieces. For heat resistance tests, a thermal cycle test and a thermal shock test were conducted. The test conditions are thermal cycle test.
Based on MLLL-STD883B 1010・2
I went with CONDITION C. Thermal shock test is also MILL-STD 883B 1011・2, CONDTION
I went with C. Additionally, the state of adhesion of the metallized surface to the side wall of the substrate cavity was investigated for 50 substrates. The results are shown in Table 2. The judgment criteria are as shown in Figure 6a, if there is electrical continuity between the bottom 12 and the top 13 for all the boards, it will be passed (marked with ○).
As shown in Figure b, it does not attach to the side wall 14 (in the figure,
(on the left) or even if it was attached, it was thin at the step upper part 13 (in the figure, right side), and cases where there was no electrical conduction between the bottom part 12 and the step upper part 13 were determined to be rejected (marked with an x). Furthermore, a wire bonding test was conducted. The test equipment used a wire bonder made by West Bond (USA), and a 25 μmφ Al wire (1% Si) was used.
(added) were pressed together using ultrasonic waves as shown in FIG.
The test method was to pull the neck part vertically using a wire pull tester (Fig. 8a), and examine its strength and fracture mode at various temperatures. The results are shown in Table 2. In addition, in the same table, "unmeasurable" means that the wire peeled off when the adhesive strength was 25 kg or less.
Also, regarding wire bondability, ○ marks are
If the breaking load is 10 g or more and the breakage A as shown in Fig. 8b does not occur for all the pieces (10 pieces), △ mark indicates that peeling mode occurred for 5 or more pieces out of 10 pieces, and × mark indicates that This shows the case where the test was impossible due to peeling.

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】 第2表からわかるように、特に銀微粉末中に30
%以上フレーク状銀粒子を含む本発明No.1〜13、
30〜32、34〜36は、いずれもメタライズ面の表面
状態が良好で色むらもなく、側壁への付着状態が
良好である。勿論、ダイアタツチ性、耐熱性もよ
く、ワイヤーボンダビリテイーも優れている。こ
れに対し、フレーク状銀粒子が全く含まず(No.
14、16)或いは少量しか含まない(No.15)場合の
比較例では、特に側壁への付着が不十分であり、
フレーク状銀粒子を十分含んでいても銀及び銅の
複合微粉末を含まないもの(No.17、18、21、22、
25、26)やY2O3又はV2O5を適量に含むもの(No.
19、20、21、22、27、28)は、ダイアタツチ性や
耐熱性に劣り、ワイヤー接着強度が弱いか或いは
ワイヤーボンダビリテイーに劣つている。 (発明の効果) 以上詳述したように、本発明によれば、接着強
度が大きく、耐熱性及び耐衝撃性に優れており、
使い易く、安価なフリツトレスタイプのドツテイ
ングペーストを提供でき、しかも階段状部分や突
起部などを有する新しい構造のサーデイツプ基板
に適用できるので、その実用上の効果は極めて大
きい。
[Table] As shown in Table 2, especially in fine silver powder, 30
Invention Nos. 1 to 13 containing % or more of flaky silver particles,
Nos. 30 to 32 and 34 to 36 all had good metallized surfaces, no color unevenness, and good adhesion to the side walls. Of course, it also has good die attachability, good heat resistance, and excellent wire bondability. In contrast, it does not contain any flaky silver particles (No.
14, 16) or in comparative examples containing only a small amount (No. 15), the adhesion to the side walls was insufficient.
Items that contain sufficient silver flake particles but do not contain composite fine powder of silver and copper (No. 17, 18, 21, 22,
25, 26) and those containing appropriate amounts of Y 2 O 3 or V 2 O 5 (No.
19, 20, 21, 22, 27, 28) have poor die attachability and heat resistance, weak wire adhesion strength, or poor wire bondability. (Effects of the Invention) As detailed above, according to the present invention, the adhesive strength is high and the heat resistance and impact resistance are excellent.
It is possible to provide a fritless type dotting paste that is easy to use and inexpensive, and it can be applied to a new structure of a ceramic substrate having stepped portions or protrusions, so its practical effects are extremely large.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図及び第2図は本発明に係るペーストの適
用例及びサーデイツプ構造例を示す一部断面図、
第3図は通常のサーデイツプ構造を示す一部断面
図、第4図は本発明に使用するフレーク状銀粒子
の形状を示す図、第5図は本発明の実施例に使用
したサーデイツプ構造の形状、寸法(mm)を示す
図、第6図はメタライズ面の付着状態を示す説明
図、第7図及び第8図はワイヤーボンデイング試
験法を説明する図である。 1……基板、2……キヤビテイー、3……メタ
ライズ面、5……Siチツプ、6……ジヤンパーワ
イヤー、10……階段状部分、11……突起部、
12……底部、13……段上部、14……側壁。
FIG. 1 and FIG. 2 are partial cross-sectional views showing an example of application of the paste and an example of the third dip structure according to the present invention;
Fig. 3 is a partial cross-sectional view showing a normal sardip structure, Fig. 4 is a diagram showing the shape of flaky silver particles used in the present invention, and Fig. 5 is a shape of a sardip structure used in an example of the present invention. , dimensions (mm), FIG. 6 is an explanatory diagram showing the adhesion state of the metallized surface, and FIGS. 7 and 8 are diagrams explaining the wire bonding test method. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Substrate, 2... Cavity, 3... Metallized surface, 5... Si chip, 6... Jumper wire, 10... Stepped portion, 11... Projection,
12...bottom, 13...step top, 14...side wall.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 固形成分とビヒクルとからなり、該固形成分
は、少なくとも銀微粉末と銀及び銅の複合微粉末
とを合計で60〜90%含み、かつ、銅含有量が0.1
〜10%であり、更に20ppm〜2%の酸化イツトリ
ウム及び20〜500ppmの五酸化バナジウムのうち
の1種又は2種を含む導電ペーストにおいて、前
記銀微粉末はフレーク状銀粒子を銀微粉末全体の
30%以上含み、該フレーク状銀粒子は平均粒径が
5μm以下で、長径(a)短径(b)のほぼ円形で、厚
さ(c)がc<1μm、かつc<1/5(a、b)のも
のであることを特徴とする導電ペースト。 2 前記固形成分は銀及び白金の複合微粉末又は
白金微粉末を含み、かつ、白金含有量が0.2〜10
%である特許請求の範囲第1項記載の導電ペース
ト。 3 前記固形成分は銀及びパラジウムの複合微粉
末又はパラジウム微粉末を含み、かつ、パラジウ
ム含有量が0.2〜30%である特許請求の範囲第1
項記載の導電ペースト。 4 固形成分と銅有機物とビヒクルとからなり、
該固形成分は、少なくとも銀微粉末と銀及び銅の
複合微粉末とを合計で60〜90%含み、かつ、銅含
有量が0.1〜10%であり、更に酸化イツトナトリ
ウムを20ppm〜2%含み、更に銅有機物をペース
ト中の銅純物の合計が0.1〜10%となる範囲で含
む導電ペーストにおいて、前記銀微粉末はフレー
ク状銀粒子を銀微粉末全体の30%以上含み、該フ
レーク状銀粒子は平均粒径が5μm以下で、長径
(a)短径(b)のほぼ円形で、厚さ(c)がc<1μm、
かつc<1/5(a、b)のものであることを特
徴とする導電ペースト。 5 前記固形成分は銀及び白金の複合微粉末又は
白金微粉末を含み、かつ、白金含有量が0.2〜10
%である特許請求の範囲第4項記載の導電ペース
ト。 6 前記固形成分は銀及びパラジウムの複合微粉
末又はパラジウム微粉末を含み、かつ、パラジウ
ム含有量が0.2〜30%である特許請求の範囲第4
項記載の導電ペースト。
[Claims] 1. Consisting of a solid component and a vehicle, the solid component contains at least 60 to 90% in total of fine silver powder and fine composite powder of silver and copper, and has a copper content of 0.1
~10% and further contains one or two of 20ppm to 2% of yttrium oxide and 20 to 500ppm of vanadium pentoxide, in which the silver fine powder contains flaky silver particles as a whole of the silver fine powder. of
30% or more, and the flaky silver particles have an average particle size of
A conductive paste having a diameter of 5 μm or less, a substantially circular shape with a major axis (a) and a minor axis (b), and a thickness (c) of c<1 μm and c<1/5 (a, b). . 2 The solid component contains a composite fine powder of silver and platinum or a fine platinum powder, and has a platinum content of 0.2 to 10
% of the conductive paste according to claim 1. 3. Claim 1, wherein the solid component contains a composite fine powder of silver and palladium or a fine palladium powder, and has a palladium content of 0.2 to 30%.
Conductive paste as described in section. 4 Consists of a solid component, a copper organic substance, and a vehicle,
The solid component contains at least 60 to 90% in total of fine silver powder and composite fine powder of silver and copper, has a copper content of 0.1 to 10%, and further contains 20 ppm to 2% of sodium nitrite oxide. , a conductive paste further containing a copper organic substance in a range where the total amount of pure copper in the paste is 0.1 to 10%; Silver particles have an average particle size of 5 μm or less, and a long diameter
(a) Almost circular with short axis (b), thickness (c) of c < 1 μm,
A conductive paste characterized in that, and c<1/5 (a, b). 5 The solid component contains a composite fine powder of silver and platinum or a fine platinum powder, and has a platinum content of 0.2 to 10
% of the conductive paste according to claim 4. 6. Claim 4, wherein the solid component contains a composite fine powder of silver and palladium or a fine palladium powder, and the palladium content is 0.2 to 30%.
Conductive paste as described in section.
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JPS59132502A (en) * 1983-01-20 1984-07-30 住友金属鉱山株式会社 Composition for forming conductive film
JPS59146103A (en) * 1983-02-09 1984-08-21 昭和電工株式会社 Conductive paste

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