JPH05230624A - Ｐｖｄ装置の内部治具発塵防止方法及び内部治具処理装置 - Google Patents
Ｐｖｄ装置の内部治具発塵防止方法及び内部治具処理装置Info
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- JPH05230624A JPH05230624A JP3341892A JP3341892A JPH05230624A JP H05230624 A JPH05230624 A JP H05230624A JP 3341892 A JP3341892 A JP 3341892A JP 3341892 A JP3341892 A JP 3341892A JP H05230624 A JPH05230624 A JP H05230624A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明はＰＶＤ装置の内部治具発塵防止方法
及び内部治具処理装置に関し、内部治具に付着する処理
膜を剥離しないようにし、且つ除去は容易にできる内部
治具発塵防止方法と、バッチ処理ができる内部治具処理
を実現することを目的とする。 【構成】 ＰＶＤ装置の内部治具１０に処理膜との密着
性が良く且つ薬品に溶け易い金属をスパッタまたは蒸着
で被着して下地金属膜１１を形成しておき、ＰＶＤ処理
時に処理膜が内部治具１０に付着した時、前記下地金属
膜１１に密着して剥離しないように構成する。
及び内部治具処理装置に関し、内部治具に付着する処理
膜を剥離しないようにし、且つ除去は容易にできる内部
治具発塵防止方法と、バッチ処理ができる内部治具処理
を実現することを目的とする。 【構成】 ＰＶＤ装置の内部治具１０に処理膜との密着
性が良く且つ薬品に溶け易い金属をスパッタまたは蒸着
で被着して下地金属膜１１を形成しておき、ＰＶＤ処理
時に処理膜が内部治具１０に付着した時、前記下地金属
膜１１に密着して剥離しないように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＰＶＤ装置の内部治具発
塵防止方法及び内部治具処理装置に関する。
塵防止方法及び内部治具処理装置に関する。
【０００２】ＰＶＤ装置は半導体装置の製造に用いられ
ており、その基礎技術の進歩はめざましいものがあり、
クラスタツールと呼ばれるマルチチャンバー方式の利用
が進んでいる。しかし、欠点としてチャンバー内の治具
にはＰＶＤを行うかぎり付着物が生じ、それが剥離して
発塵の原因となり、製品の品質を低下させる。特にＴｉ
Ｎに代表される金属は固く、容易に発塵を始める。この
ＰＶＤ装置の内部治具の発塵は、内部治具の交換周期を
早め、結果的に装置の稼動率を低下させる結果となる。
従ってこれの解決が重要な課題となっている。
ており、その基礎技術の進歩はめざましいものがあり、
クラスタツールと呼ばれるマルチチャンバー方式の利用
が進んでいる。しかし、欠点としてチャンバー内の治具
にはＰＶＤを行うかぎり付着物が生じ、それが剥離して
発塵の原因となり、製品の品質を低下させる。特にＴｉ
Ｎに代表される金属は固く、容易に発塵を始める。この
ＰＶＤ装置の内部治具の発塵は、内部治具の交換周期を
早め、結果的に装置の稼動率を低下させる結果となる。
従ってこれの解決が重要な課題となっている。
【０００３】
【従来の技術】図４は従来のクラスタツールと呼ばれる
ＰＶＤ装置を示す図である。これは、処理対象のウエハ
をのせたキャリア１を収容したキャリア室２と、キャリ
ア１からウエハを取り出して搬送する搬送装置３と、搬
送装置の周囲に配置された複数の反応室４-1〜４-nとを
具備して構成されている。そして反応室では、図５
（ａ）の正面図及び図５（ｂ）の断面図に示すような内
部治具５を用いてウエハ６以外の部分にスパッタ又は蒸
着材料が付着しないようにしている。
ＰＶＤ装置を示す図である。これは、処理対象のウエハ
をのせたキャリア１を収容したキャリア室２と、キャリ
ア１からウエハを取り出して搬送する搬送装置３と、搬
送装置の周囲に配置された複数の反応室４-1〜４-nとを
具備して構成されている。そして反応室では、図５
（ａ）の正面図及び図５（ｂ）の断面図に示すような内
部治具５を用いてウエハ６以外の部分にスパッタ又は蒸
着材料が付着しないようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記内部治具５は、通
常ステンレス製で、表面をブラスト処理して凹凸をつ
け、スパッタ又は蒸着で付着した金属が安定につき、発
塵の原因とならないようにしている。しかし、この表面
ブラスト処理したものは、表面に付着した金属を定期的
に除去する必要があり、その場合の処理に多量の薬品を
要するという問題がある。
常ステンレス製で、表面をブラスト処理して凹凸をつ
け、スパッタ又は蒸着で付着した金属が安定につき、発
塵の原因とならないようにしている。しかし、この表面
ブラスト処理したものは、表面に付着した金属を定期的
に除去する必要があり、その場合の処理に多量の薬品を
要するという問題がある。
【０００５】またＰＶＤ装置において、ターゲット形状
の同じチャンバーの場合は、最初にＡｌ系のターゲット
を用いてスパッタし、その後ターゲットを交換してＴｉ
Ｎのような固い金属による製品処理を行っている。しか
し、ターゲット形状が異なる場合は、前述のようにター
ゲットを交換して製品処理することはできない。マルチ
チャンバー方式の場合は、超高真空装置であるため、タ
ーゲットの交換のために何度も真空チャンバーを大気に
さらすことは真空の質の低下につながるという問題が生
ずる。
の同じチャンバーの場合は、最初にＡｌ系のターゲット
を用いてスパッタし、その後ターゲットを交換してＴｉ
Ｎのような固い金属による製品処理を行っている。しか
し、ターゲット形状が異なる場合は、前述のようにター
ゲットを交換して製品処理することはできない。マルチ
チャンバー方式の場合は、超高真空装置であるため、タ
ーゲットの交換のために何度も真空チャンバーを大気に
さらすことは真空の質の低下につながるという問題が生
ずる。
【０００６】本発明は、内部治具に付着する処理膜を剥
離しないようにし、且つ除去は容易にできる内部治具発
塵防止方法と、バッチ処理ができる内部治具処理装置を
実現しようとする。
離しないようにし、且つ除去は容易にできる内部治具発
塵防止方法と、バッチ処理ができる内部治具処理装置を
実現しようとする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のＰＶＤ装置の内
部治具発塵防止方法に於いては、ＰＶＤ装置の内部治具
１０に処理膜との密着性が良く且つ薬品に溶け易い金属
をスパッタまたは蒸着で被着して下地金属膜１１を形成
しておき、ＰＶＤ処理時に、処理膜が内部治具１０に付
着した時、前記下地金属膜１１に密着して剥離しないよ
うにしたことを特徴とする。また、それに加えて、上記
ＰＶＤ装置の内部治具発塵防止方法において、内部治具
１０への下地金属膜１１の形成を部分的に行うことを特
徴とする。
部治具発塵防止方法に於いては、ＰＶＤ装置の内部治具
１０に処理膜との密着性が良く且つ薬品に溶け易い金属
をスパッタまたは蒸着で被着して下地金属膜１１を形成
しておき、ＰＶＤ処理時に、処理膜が内部治具１０に付
着した時、前記下地金属膜１１に密着して剥離しないよ
うにしたことを特徴とする。また、それに加えて、上記
ＰＶＤ装置の内部治具発塵防止方法において、内部治具
１０への下地金属膜１１の形成を部分的に行うことを特
徴とする。
【０００８】また、本発明のＰＶＤ装置の内部治具処理
装置に於いては、ＰＶＤ装置に使用する内部治具１０を
収容する真空容器１２と、該真空容器１２の中に設けら
れて前記内部治具１０をベーキングする手段及び下地金
属膜を形成するためのスパッタ又は蒸着手段とを具備し
て成ることを特徴とする。この構成を採ることにより、
内部治具に付着する処理膜を剥離しないようにし、且つ
除去は容易にできる内部治具発塵防止方法と、バッチ処
理ができる内部治具処理装置が得られる。
装置に於いては、ＰＶＤ装置に使用する内部治具１０を
収容する真空容器１２と、該真空容器１２の中に設けら
れて前記内部治具１０をベーキングする手段及び下地金
属膜を形成するためのスパッタ又は蒸着手段とを具備し
て成ることを特徴とする。この構成を採ることにより、
内部治具に付着する処理膜を剥離しないようにし、且つ
除去は容易にできる内部治具発塵防止方法と、バッチ処
理ができる内部治具処理装置が得られる。
【０００９】
【作用】本発明のＰＶＤ装置の内部治具発塵防止方法
は、内部治具１０に処理膜との密着性が良く、且つ薬品
に溶け易い金属１１を被着したことにより、処理膜が剥
離せず、発塵が防止される。また薬品処理により下地金
属と共に処理膜を容易に除去することができる。
は、内部治具１０に処理膜との密着性が良く、且つ薬品
に溶け易い金属１１を被着したことにより、処理膜が剥
離せず、発塵が防止される。また薬品処理により下地金
属と共に処理膜を容易に除去することができる。
【００１０】また、本発明のＰＶＤ装置の内部治具処理
装置は、内部治具１０をベーキングした後真空を破るこ
となく下地金属膜を容易に形成することができる。
装置は、内部治具１０をベーキングした後真空を破るこ
となく下地金属膜を容易に形成することができる。
【００１１】
【実施例】図１は本発明のＰＶＤ装置の内部治具発塵防
止方法を説明するための図であり、（ａ）は平面図、
（ｂ）は（ａ）図のｂ−ｂ線における断面図である。同
図において、１０はＰＶＤ装置の内部治具であり、ステ
ンレス等の金属で形成されている。そして、その表面に
は処理膜と密着性が良く且つ薬品に溶け易い金属をスパ
ッタ又は蒸着で被着した下地金属膜１１が形成されてい
る。この下地金属膜１１には、例えば処理膜がＴｉＮの
場合、Ａｌが好適である。また下地金属膜１１は内部治
具表面の必要部分に部分的に設けても良い。
止方法を説明するための図であり、（ａ）は平面図、
（ｂ）は（ａ）図のｂ−ｂ線における断面図である。同
図において、１０はＰＶＤ装置の内部治具であり、ステ
ンレス等の金属で形成されている。そして、その表面に
は処理膜と密着性が良く且つ薬品に溶け易い金属をスパ
ッタ又は蒸着で被着した下地金属膜１１が形成されてい
る。この下地金属膜１１には、例えば処理膜がＴｉＮの
場合、Ａｌが好適である。また下地金属膜１１は内部治
具表面の必要部分に部分的に設けても良い。
【００１２】このように構成された内部治具１０は、Ｐ
ＶＤ装置内で使用され、表面に処理膜が付着した場合、
処理膜は密着性の良い下地金属膜１１に密着するため処
理中に剥離することはない。従って処理膜の剥離による
発塵は防止される。また処理膜の剥離を行うときは、下
地金属１１を溶解する薬品に浸漬すれば、下地金属１１
と共に処理膜を容易に剥離することができる。
ＶＤ装置内で使用され、表面に処理膜が付着した場合、
処理膜は密着性の良い下地金属膜１１に密着するため処
理中に剥離することはない。従って処理膜の剥離による
発塵は防止される。また処理膜の剥離を行うときは、下
地金属１１を溶解する薬品に浸漬すれば、下地金属１１
と共に処理膜を容易に剥離することができる。
【００１３】次に、本発明のＰＶＤ装置の内部治具処理
装置の実施例を図２により説明する。同図において、１
２は真空チャンバー、１３は真空排気系、１４はホルダ
ー、１５は蒸着源を示している。そして真空チャンバー
１２は蒸着源１５とホルダー１３とを収容している。ま
た、真空排気系１３は高真空用ポンプ１６と低真空用ポ
ンプ１７とを具備して真空チャンバー１２を真空にする
ようになっている。また、ホルダー１４はつりがね状を
なし、その内側に複数個の内部治具１０を支持すること
ができ、外周には内部治具加熱用のヒータ１８が設けら
れ、さらにこのホルダー１４は回転機構１９によって回
転されるようになっている。また蒸着源１５はヒータ２
０によって加熱されるようになっている。
装置の実施例を図２により説明する。同図において、１
２は真空チャンバー、１３は真空排気系、１４はホルダ
ー、１５は蒸着源を示している。そして真空チャンバー
１２は蒸着源１５とホルダー１３とを収容している。ま
た、真空排気系１３は高真空用ポンプ１６と低真空用ポ
ンプ１７とを具備して真空チャンバー１２を真空にする
ようになっている。また、ホルダー１４はつりがね状を
なし、その内側に複数個の内部治具１０を支持すること
ができ、外周には内部治具加熱用のヒータ１８が設けら
れ、さらにこのホルダー１４は回転機構１９によって回
転されるようになっている。また蒸着源１５はヒータ２
０によって加熱されるようになっている。
【００１４】このように構成された本実施例の作用を次
に説明する。先ず蒸発源１５にＡｌ系または同等の軟か
い金属をセットし、またホルダー１４に洗浄済の内部治
具１０をとりつける。次いで真空チャンバー１２を閉じ
真空排気系１３により真空引きする。そして高真空状態
になったら、蒸発源１５をヒータ２０または電子ビーム
等で加熱し、蒸着を始めるとともにホルダー１４を回転
させ、取りつけた内部治具１０に蒸着金属を付着させ
る。このようにして内部治具の形状に関係なく均一に内
部治具の表面に金属をつけることができる。また、この
ようにして予め、Ａｌ系または同等の軟かい金属をつけ
た内部治具をマルチチャンバー方式のＰＶＤ装置に取り
付けることにより、ＴｉＮのような固い金属との密着性
が良くなるため、剥れによる発塵はなくなる。
に説明する。先ず蒸発源１５にＡｌ系または同等の軟か
い金属をセットし、またホルダー１４に洗浄済の内部治
具１０をとりつける。次いで真空チャンバー１２を閉じ
真空排気系１３により真空引きする。そして高真空状態
になったら、蒸発源１５をヒータ２０または電子ビーム
等で加熱し、蒸着を始めるとともにホルダー１４を回転
させ、取りつけた内部治具１０に蒸着金属を付着させ
る。このようにして内部治具の形状に関係なく均一に内
部治具の表面に金属をつけることができる。また、この
ようにして予め、Ａｌ系または同等の軟かい金属をつけ
た内部治具をマルチチャンバー方式のＰＶＤ装置に取り
付けることにより、ＴｉＮのような固い金属との密着性
が良くなるため、剥れによる発塵はなくなる。
【００１５】図３は本発明のＰＶＤ装置の内部治具処理
装置の他の実施例を示す図である。同図において、図２
と同一部分は同一符号を付して示した。なお２１はター
ゲット、２２はＡｒガス導入パイプ、２３はスパッタ用
電源を示している。本実施例は前実施例とほぼ同様な構
成であるが、異なるところは、前実施例が蒸着装置であ
るのに対し本実施例はスパッタ装置であることである。
本実施例はスパッタによりＡｌ系または同等の軟かい金
属を内部治具１０につけることができる。さらに内部治
具加熱用ヒータ１８を用いて内部治具をベーキングする
ことにより内部治具１０の脱ガスもあわせて行うことが
できる。このベーキングは前実施例においても可能であ
る。本実施例による効果は前実施例と同様である。
装置の他の実施例を示す図である。同図において、図２
と同一部分は同一符号を付して示した。なお２１はター
ゲット、２２はＡｒガス導入パイプ、２３はスパッタ用
電源を示している。本実施例は前実施例とほぼ同様な構
成であるが、異なるところは、前実施例が蒸着装置であ
るのに対し本実施例はスパッタ装置であることである。
本実施例はスパッタによりＡｌ系または同等の軟かい金
属を内部治具１０につけることができる。さらに内部治
具加熱用ヒータ１８を用いて内部治具をベーキングする
ことにより内部治具１０の脱ガスもあわせて行うことが
できる。このベーキングは前実施例においても可能であ
る。本実施例による効果は前実施例と同様である。
【００１６】
【発明の効果】本発明に依れば、ＰＶＤ装置の内部治具
を洗浄後に、ベーキングし、さらにＡｌ系または同等の
軟かくて、形成される金属に馴染みやすい金属を、スパ
ッタまたは、蒸着等で下地として付けるため、 ＴｉＮのような固い金属との密着性がよく処理中に
剥がれて発塵する恐れがない。 従来のブラスト処理と比較しても、真空中で、ベー
キングといわゆるひとつの内部治具の表面処理がクリー
ンな状態で、簡単に処理できる。 また、下地として金属を付着させている為、洗浄
時、薬品により剥がれやすく短時間で且つ少ない薬品量
で洗浄が可能で有るため、内部治具に対するダメージが
少ない。 さらに、製品処理する装置の内部治具の形状やスパ
ッタ装置においては、ターゲットの形状になんら関係す
ることなく下地の金属をつけることができる。 従って、かかる薄膜形成装置の信頼性向上と稼働率の向
上に寄与するところが大きい。
を洗浄後に、ベーキングし、さらにＡｌ系または同等の
軟かくて、形成される金属に馴染みやすい金属を、スパ
ッタまたは、蒸着等で下地として付けるため、 ＴｉＮのような固い金属との密着性がよく処理中に
剥がれて発塵する恐れがない。 従来のブラスト処理と比較しても、真空中で、ベー
キングといわゆるひとつの内部治具の表面処理がクリー
ンな状態で、簡単に処理できる。 また、下地として金属を付着させている為、洗浄
時、薬品により剥がれやすく短時間で且つ少ない薬品量
で洗浄が可能で有るため、内部治具に対するダメージが
少ない。 さらに、製品処理する装置の内部治具の形状やスパ
ッタ装置においては、ターゲットの形状になんら関係す
ることなく下地の金属をつけることができる。 従って、かかる薄膜形成装置の信頼性向上と稼働率の向
上に寄与するところが大きい。
【図１】本発明のＰＶＤ装置の内部治具の発塵防止方法
を説明するための図である。
を説明するための図である。
【図２】本発明のＰＶＤ装置の内部治具処理装置の実施
例を示す図である。
例を示す図である。
【図３】本発明のＰＶＤ装置の内部治具処理装置の他の
実施例を示す図である。
実施例を示す図である。
【図４】従来のマルチチャンバー方式のＰＶＤ装置を示
す図である。
す図である。
【図５】従来のＰＶＤ装置の内部治具を示す図である。
１０…内部治具 １１…下地金属膜 １２…真空チャンバー １３…真空排気系 １４…ホルダー １５…蒸着源 １６…高真空用ポンプ １７…低真空用ポンプ １８…内部治具加熱用ヒータ １９…回転機構 ２０…ヒータ ２１…ターゲット ２２…Ａｒガス導入パイプ ２３…スパッタ用電源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤江 信夫 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 ＰＶＤ装置の内部治具（１０）に処理膜
との密着性が良く且つ薬品に溶け易い金属をスパッタま
たは蒸着で被着して下地金属膜（１１）を形成してお
き、ＰＶＤ処理時に、処理膜が内部治具（１０）に付着
した時、前記下地金属膜（１１）に密着して剥離しない
ようにしたことを特徴とするＰＶＤ装置の内部治具発塵
防止法。 - 【請求項２】 請求項１のＰＶＤ装置の内部治具発塵防
止法において、内部治具（１０）への下地金属膜（１
１）の形成を、部分的に行うことを特徴とするＰＶＤ装
置の内部治具発塵防止方法。 - 【請求項３】 ＰＶＤ装置に使用する内部治具（１０）
を収容する真空容器（１２）と、該真空容器（１２）の
中に設けられて前記内部治具（１０）をベーキングする
手段及び下地金属膜を形成するためのスパッタ又は蒸着
手段とを具備して成ることを特徴とするＰＶＤ装置の内
部治具処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3341892A JPH05230624A (ja) | 1992-02-20 | 1992-02-20 | Ｐｖｄ装置の内部治具発塵防止方法及び内部治具処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3341892A JPH05230624A (ja) | 1992-02-20 | 1992-02-20 | Ｐｖｄ装置の内部治具発塵防止方法及び内部治具処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05230624A true JPH05230624A (ja) | 1993-09-07 |
Family
ID=12386028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3341892A Pending JPH05230624A (ja) | 1992-02-20 | 1992-02-20 | Ｐｖｄ装置の内部治具発塵防止方法及び内部治具処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05230624A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004065654A1 (ja) * | 2003-01-23 | 2004-08-05 | Ulvac, Inc. | 成膜装置用構成部品およびその洗浄方法 |
| KR101024045B1 (ko) * | 2003-02-19 | 2011-03-22 | 가부시키가이샤 알박 | 성막 장치용 구성부품 및 그 세정 방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59208071A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-26 | Hitachi Ltd | 成膜方法および装置 |
| JPH0246726A (ja) * | 1988-08-09 | 1990-02-16 | Nec Corp | 真空装置の真空度改善方法 |
-
1992
- 1992-02-20 JP JP3341892A patent/JPH05230624A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59208071A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-26 | Hitachi Ltd | 成膜方法および装置 |
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| KR101024044B1 (ko) * | 2003-01-23 | 2011-03-22 | 가부시키가이샤 알박 | 성막 장치용 구성부품 및 그 세정 방법 |
| KR101024045B1 (ko) * | 2003-02-19 | 2011-03-22 | 가부시키가이샤 알박 | 성막 장치용 구성부품 및 그 세정 방법 |
| US8216654B2 (en) | 2003-02-19 | 2012-07-10 | Ulvac, Inc. | Components for a film-forming device and method for cleaning the same |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19971209 |