JPH0532736A - 高分子液晶共重合体化合物、その組成物及びそれらを用いた高分子液晶素子 - Google Patents
高分子液晶共重合体化合物、その組成物及びそれらを用いた高分子液晶素子Info
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 大面積化が可能で、かつ低粘性で、応答特性
が良好な高分子液晶共重合体化合物、高分子液晶組成物
及び高分子液晶素子を提供する。 【構成】 下記一般式(Ia)で表わされる繰り返し単
位を有する高分子液晶共重合体化合物。 (A;炭素系の高分子主鎖、B:ポリオキシアルキレン
基又は を表わす。D;−(CH2 )b −又は−(CH2 )b −
O−(CH2 )c −、b,c;0〜20の整数、R;ア
ルキル基、フェニル基、シロキシ基又はポリシロキシ
基、R′;アルキル基又はフェニル基、a;0〜50の
整数)下記一般式(Ib)で表わされる繰り返し単位を
有する高分子液晶共重合体化合物。 (R1 ;アルキル基又はフェニル基、A1 ;置換されて
いてもよい炭素原子数3以上のアルキル基、ポリオキシ
アルキレン基、アリール基又は を表わす。B1 は前記のDと同じで、他も同様)
が良好な高分子液晶共重合体化合物、高分子液晶組成物
及び高分子液晶素子を提供する。 【構成】 下記一般式(Ia)で表わされる繰り返し単
位を有する高分子液晶共重合体化合物。 (A;炭素系の高分子主鎖、B:ポリオキシアルキレン
基又は を表わす。D;−(CH2 )b −又は−(CH2 )b −
O−(CH2 )c −、b,c;0〜20の整数、R;ア
ルキル基、フェニル基、シロキシ基又はポリシロキシ
基、R′;アルキル基又はフェニル基、a;0〜50の
整数)下記一般式(Ib)で表わされる繰り返し単位を
有する高分子液晶共重合体化合物。 (R1 ;アルキル基又はフェニル基、A1 ;置換されて
いてもよい炭素原子数3以上のアルキル基、ポリオキシ
アルキレン基、アリール基又は を表わす。B1 は前記のDと同じで、他も同様)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、側鎖にシロキサン又は
オキシアルキレンユニットを有する新規な高分子液晶共
重合体化合物、該高分子液晶共重合体化合物を含有する
高分子液晶組成物およびそれらの高分子液晶共重合体化
合物,高分子液晶組成物を用いた高分子液晶素子に関す
る。
オキシアルキレンユニットを有する新規な高分子液晶共
重合体化合物、該高分子液晶共重合体化合物を含有する
高分子液晶組成物およびそれらの高分子液晶共重合体化
合物,高分子液晶組成物を用いた高分子液晶素子に関す
る。
【0002】及び、本発明は、主鎖がシロキサンからな
る新規な高分子液晶共重合体化合物、該高分子液晶共重
合体化合物を含有する高分子液晶組成物およびそれらの
高分子液晶共重合体化合物,高分子液晶組成物を用いた
高分子液晶素子に関する。
る新規な高分子液晶共重合体化合物、該高分子液晶共重
合体化合物を含有する高分子液晶組成物およびそれらの
高分子液晶共重合体化合物,高分子液晶組成物を用いた
高分子液晶素子に関する。
【0003】また、本発明の高分子液晶共重合体化合
物、該高分子液晶共重合体化合物を含有する高分子液晶
組成物は、ディスプレイ,メモリーに代表されるオプト
エレクトロニクス材料、光学機器材料等として使用する
ことができる。
物、該高分子液晶共重合体化合物を含有する高分子液晶
組成物は、ディスプレイ,メモリーに代表されるオプト
エレクトロニクス材料、光学機器材料等として使用する
ことができる。
【0004】
【従来の技術】従来の液晶素子としては、例えばエム・
シャット(M.Schadt)とダブリュー・ヘルフリ
ッヒ(W.Helfrich)著“アプライド・フィジ
ックス・レターズ”(“Applied Physic
s Letters”)第18巻、第4号(1971年
2月15日発行)第127頁〜128頁の“ボルテージ
・ディペンダント・オプティカル・アクティビィティー
・オブ・ア・ツイステッド・ネマチック・リキッド・ク
リスタル”(“Voltage Dependent
Optical Activity of a Twi
sted Nematic Liquid Cryst
al”)に示されたツイステッド・ネマチック(twi
sted nematic)液晶を用いたものが知られ
ている。しかしながら、このTN液晶は、画素密度を高
くしたマトリクス電極構造を用いた時分割駆動の時、ク
ロストークを発生する問題点があるため、画素数が制限
されていた。
シャット(M.Schadt)とダブリュー・ヘルフリ
ッヒ(W.Helfrich)著“アプライド・フィジ
ックス・レターズ”(“Applied Physic
s Letters”)第18巻、第4号(1971年
2月15日発行)第127頁〜128頁の“ボルテージ
・ディペンダント・オプティカル・アクティビィティー
・オブ・ア・ツイステッド・ネマチック・リキッド・ク
リスタル”(“Voltage Dependent
Optical Activity of a Twi
sted Nematic Liquid Cryst
al”)に示されたツイステッド・ネマチック(twi
sted nematic)液晶を用いたものが知られ
ている。しかしながら、このTN液晶は、画素密度を高
くしたマトリクス電極構造を用いた時分割駆動の時、ク
ロストークを発生する問題点があるため、画素数が制限
されていた。
【0005】また、電界応答が遅く視野角特性が悪いた
めにディスプレイとしての用途は限定されていた。ま
た、各画素に薄膜トランジスタを形成する工程が極めて
煩雑な上、大面積の表示素子を作成することが難しい問
題点がある。
めにディスプレイとしての用途は限定されていた。ま
た、各画素に薄膜トランジスタを形成する工程が極めて
煩雑な上、大面積の表示素子を作成することが難しい問
題点がある。
【0006】この様な従来型の液晶素子の欠点を改善す
るものとして、双安定性からなる液晶素子の使用が、ク
ラーク(Clark)およびラガウェル(Lagerw
all)により提案されている。(特開昭56−107
216号公報、米国特許第4367924号明細書等)
この双安定性からなる液晶としては、一般にカイラルス
メクティックC相(Sm* C)またはH相(Sm* H)
からなる強誘電性液晶が用いられている。この強誘電性
液晶は、自発分極からなるために非常に速い応答速度か
らなる上に、メモリー性のある双安定状態を発現させる
ことができる。さらに、視野角特性もすぐれていること
から、大容量、大面積のディスプレイ用材料として適し
ていると考えられる。しかし、実際に液晶セルを形成す
る場合、広い面積にわたってモノドメイン化することは
困難であり、大画面の表示素子を作るには技術上の問題
があった。
るものとして、双安定性からなる液晶素子の使用が、ク
ラーク(Clark)およびラガウェル(Lagerw
all)により提案されている。(特開昭56−107
216号公報、米国特許第4367924号明細書等)
この双安定性からなる液晶としては、一般にカイラルス
メクティックC相(Sm* C)またはH相(Sm* H)
からなる強誘電性液晶が用いられている。この強誘電性
液晶は、自発分極からなるために非常に速い応答速度か
らなる上に、メモリー性のある双安定状態を発現させる
ことができる。さらに、視野角特性もすぐれていること
から、大容量、大面積のディスプレイ用材料として適し
ていると考えられる。しかし、実際に液晶セルを形成す
る場合、広い面積にわたってモノドメイン化することは
困難であり、大画面の表示素子を作るには技術上の問題
があった。
【0007】また、高分子液晶をメモリー媒体として用
いる例が知られている。例えば、ブィ・シバエフ(V.
Shibaev)、エス・コストロミン(S.Kost
romin)、エヌ・プラーテ(N.Pla´te)、
エス・イワノフ(S.Iva ov)、ブィ・ヴェスト
ロフ(V.Vestrov)、アイ・ヤコブレフ(I.
Yakovlev)著の“ポリマー・コミュニケーショ
ンズ”(“Polymer Communicatio
ns”)第24巻、第364頁〜365頁の“サーモト
ロピック・リキッドクリスタリン・ポリマーズ.14”
(“Thermotropic Liquid Cry
stalline Polymers.14”)に示さ
れる熱書き込みメモリーを挙げることができる。
いる例が知られている。例えば、ブィ・シバエフ(V.
Shibaev)、エス・コストロミン(S.Kost
romin)、エヌ・プラーテ(N.Pla´te)、
エス・イワノフ(S.Iva ov)、ブィ・ヴェスト
ロフ(V.Vestrov)、アイ・ヤコブレフ(I.
Yakovlev)著の“ポリマー・コミュニケーショ
ンズ”(“Polymer Communicatio
ns”)第24巻、第364頁〜365頁の“サーモト
ロピック・リキッドクリスタリン・ポリマーズ.14”
(“Thermotropic Liquid Cry
stalline Polymers.14”)に示さ
れる熱書き込みメモリーを挙げることができる。
【0008】しかしながら、この方法は読みとりとして
光の散乱を利用しているのでコントラストが悪く、かつ
高分子化に伴なう応答速度の遅れという問題もあって実
用化には至っていない。
光の散乱を利用しているのでコントラストが悪く、かつ
高分子化に伴なう応答速度の遅れという問題もあって実
用化には至っていない。
【0009】また、特開昭63−72784号公報、特
開昭63−99204号公報、特開昭63−16100
5号公報等には、強誘電性を有する高分子液晶が開示さ
れている。
開昭63−99204号公報、特開昭63−16100
5号公報等には、強誘電性を有する高分子液晶が開示さ
れている。
【0010】しかしながら、これらの高分子液晶は、ネ
マチック液晶、あるいは強誘電性を有するカイラルスメ
クチック液晶のものであっても、低分子の液晶に比べる
と粘性が高いため大幅に応答性が劣っていた。そこで、
前記高分子液晶に低分子化合物、低分子液晶等を減粘剤
としてブレンドして用いることが試みられているが、こ
のブレンドした高分子液晶組成物を用いても、ポリマー
としてのフィルム性が悪く大面積化が困難になったり、
相溶性がなく相分離が生じたりして、良好な高分子液晶
素子を作成することができなかった。
マチック液晶、あるいは強誘電性を有するカイラルスメ
クチック液晶のものであっても、低分子の液晶に比べる
と粘性が高いため大幅に応答性が劣っていた。そこで、
前記高分子液晶に低分子化合物、低分子液晶等を減粘剤
としてブレンドして用いることが試みられているが、こ
のブレンドした高分子液晶組成物を用いても、ポリマー
としてのフィルム性が悪く大面積化が困難になったり、
相溶性がなく相分離が生じたりして、良好な高分子液晶
素子を作成することができなかった。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、この様な従
来技術の欠点を改善するためになされたものであり、そ
の目的は、オプトエレクトロニクス材料及び光学機器材
料等として、大面積化が可能であり、かつ低粘性で、応
答特性が良好な新規の高分子液晶共重合体化合物、該高
分子液晶共重合体化合物を含有する高分子液晶組成物及
びそれらを用いた高分子液晶素子を提供することであ
る。
来技術の欠点を改善するためになされたものであり、そ
の目的は、オプトエレクトロニクス材料及び光学機器材
料等として、大面積化が可能であり、かつ低粘性で、応
答特性が良好な新規の高分子液晶共重合体化合物、該高
分子液晶共重合体化合物を含有する高分子液晶組成物及
びそれらを用いた高分子液晶素子を提供することであ
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の従
来技術に鑑みて鋭意検討を重ねた結果、側鎖にシロキサ
ン又はオキシアルキレンユニットを有する高分子液晶共
重合体化合物およびその化合物を含有する高分子液晶組
成物が、ポリマーの特徴を生かし、液晶素子の大面積化
を容易に実現でき、かつ低粘性のため非常に応答特性の
よい高分子液晶素子を実現できることを見出し、本発明
を完成するに至った。
来技術に鑑みて鋭意検討を重ねた結果、側鎖にシロキサ
ン又はオキシアルキレンユニットを有する高分子液晶共
重合体化合物およびその化合物を含有する高分子液晶組
成物が、ポリマーの特徴を生かし、液晶素子の大面積化
を容易に実現でき、かつ低粘性のため非常に応答特性の
よい高分子液晶素子を実現できることを見出し、本発明
を完成するに至った。
【0013】また、側鎖にアルキル基,アリール基,ポ
リオキシアルキレン基,シラン基またはシロキシ基等を
有するシロキサン主鎖の高分子液晶共重合体化合物およ
びその化合物を含有する高分子液晶組成物も、ポリマー
の特徴を生かし、液晶素子の大面積化を容易に実現で
き、かつ低粘性のため非常に応答特性のよい高分子液晶
素子を実現できることを見出した。
リオキシアルキレン基,シラン基またはシロキシ基等を
有するシロキサン主鎖の高分子液晶共重合体化合物およ
びその化合物を含有する高分子液晶組成物も、ポリマー
の特徴を生かし、液晶素子の大面積化を容易に実現で
き、かつ低粘性のため非常に応答特性のよい高分子液晶
素子を実現できることを見出した。
【0014】即ち、本発明の第一の発明は、下記一般式
(Ia)で表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶
共重合体化合物に特徴を有する。 一般式(Ia)
(Ia)で表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶
共重合体化合物に特徴を有する。 一般式(Ia)
【0015】
【化9】
【0016】(式中、Aは炭素系の高分子主鎖を表わ
す。Bはポリオキシアルキレン基又は
す。Bはポリオキシアルキレン基又は
【0017】
【化10】
【0018】を表わす。Dは−(CH2 )b −又は−
(CH2 )b −O−(CH2 )c −を表わす。b,cは
0〜20の整数を表わす。Rはアルキル基,フェニル
基,シロキシ基又はポリシロキシ基を表わす。R′はア
ルキル基又はフェニル基を表わす。aは0〜50の整数
を表わす。)
(CH2 )b −O−(CH2 )c −を表わす。b,cは
0〜20の整数を表わす。Rはアルキル基,フェニル
基,シロキシ基又はポリシロキシ基を表わす。R′はア
ルキル基又はフェニル基を表わす。aは0〜50の整数
を表わす。)
【0019】また、上記一般式(Ia)で表わされる繰
り返し単位を有する高分子液晶共重合体化合物の少なく
とも一種と、他の高分子化合物、高分子液晶、低分子化
合物および低分子液晶のうちの少なくとも一種の化合物
を含有する高分子液晶組成物、及び上記一般式(Ia)
で表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶共重合体
化合物、又は該高分子液晶共重合体化合物の少なくとも
一種と、他の高分子化合物、高分子液晶、低分子化合物
および低分子液晶のうちの少なくとも一種の化合物を含
有する高分子液晶組成物を有する高分子液晶素子にも特
徴を有する。
り返し単位を有する高分子液晶共重合体化合物の少なく
とも一種と、他の高分子化合物、高分子液晶、低分子化
合物および低分子液晶のうちの少なくとも一種の化合物
を含有する高分子液晶組成物、及び上記一般式(Ia)
で表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶共重合体
化合物、又は該高分子液晶共重合体化合物の少なくとも
一種と、他の高分子化合物、高分子液晶、低分子化合物
および低分子液晶のうちの少なくとも一種の化合物を含
有する高分子液晶組成物を有する高分子液晶素子にも特
徴を有する。
【0020】また、本発明の第二の発明は、下記一般式
(Ib)で表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶
共重合体化合物に特徴を有する。 一般式(Ib)
(Ib)で表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶
共重合体化合物に特徴を有する。 一般式(Ib)
【0021】
【化11】
【0022】(式中、R1 はアルキル基又はフェニル
基、A1は置換されていてもよい炭素原子数3以上のア
ルキル基、ポリオキシアルキレン基、アリール基又は
基、A1は置換されていてもよい炭素原子数3以上のア
ルキル基、ポリオキシアルキレン基、アリール基又は
【0023】
【化12】
【0024】を表わす。B1 は−(CH2 )b −又は−
(CH2 )b −O−(CH2 )c −を表わす。b,cは
0〜20の整数を表わす。Rはアルキル基,フェニル
基,シロキシ基又はポリシロキシ基を表わす。R′はア
ルキル基又はフェニル基を表わす。aは0〜50の整数
を表わす。)
(CH2 )b −O−(CH2 )c −を表わす。b,cは
0〜20の整数を表わす。Rはアルキル基,フェニル
基,シロキシ基又はポリシロキシ基を表わす。R′はア
ルキル基又はフェニル基を表わす。aは0〜50の整数
を表わす。)
【0025】また、上記一般式(Ib)で表わされる繰
り返し単位を有する高分子液晶共重合体化合物の少なく
とも一種と、他の高分子化合物、高分子液晶、低分子化
合物および低分子液晶のうちの少なくとも一種の化合物
を含有する高分子液晶組成物、及び上記一般式(Ib)
で表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶共重合体
化合物、又は該高分子液晶共重合体化合物の少なくとも
一種と、他の高分子化合物、高分子液晶、低分子化合物
および低分子液晶のうちの少なくとも一種の化合物を含
有する高分子液晶組成物を有する高分子液晶素子にも特
徴を有する。
り返し単位を有する高分子液晶共重合体化合物の少なく
とも一種と、他の高分子化合物、高分子液晶、低分子化
合物および低分子液晶のうちの少なくとも一種の化合物
を含有する高分子液晶組成物、及び上記一般式(Ib)
で表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶共重合体
化合物、又は該高分子液晶共重合体化合物の少なくとも
一種と、他の高分子化合物、高分子液晶、低分子化合物
および低分子液晶のうちの少なくとも一種の化合物を含
有する高分子液晶組成物を有する高分子液晶素子にも特
徴を有する。
【0026】以下、本発明を詳細に説明する。一般式
(Ia)において、Aは炭素系の高分子主鎖を表わし、
例えば
(Ia)において、Aは炭素系の高分子主鎖を表わし、
例えば
【0027】
【化13】
等が挙げられる。
【0028】また、Bがポリオキシアルキレン基であっ
た場合、該ポリオキシアルキレン基は、一般式
た場合、該ポリオキシアルキレン基は、一般式
【0029】
【化14】
−(R7 ″−O)q −(R7 ′−O)r−R7
【0030】(式中、R7 ″,R7 ′はそれぞれ直鎖又
は分岐の炭素数1〜10のアルキレン基、R7 は炭素数
1〜10のアルキレン基、qとrは0〜10の整数で両
方が0になることはない。)で表わされる。
は分岐の炭素数1〜10のアルキレン基、R7 は炭素数
1〜10のアルキレン基、qとrは0〜10の整数で両
方が0になることはない。)で表わされる。
【0031】次に、一般式(Ia)で表わされる繰り返
し単位の具体的な構造としては、以下のものが挙げられ
る。
し単位の具体的な構造としては、以下のものが挙げられ
る。
【0032】
【化15】
【0033】
【化16】
【0034】
【化17】
【0035】
【化18】
【0036】
【化19】
【0037】
【化20】
【0038】
【化21】
【0039】本発明の高分子液晶共重合体化合物におい
て、一般式(Ia)で表わされる繰り返し単位以外の共
重合繰り返し単位としては、高分子主鎖に対してスペー
サを介してメソーゲンが結合している、いわゆる液晶形
成能を有する構造のものがよい。
て、一般式(Ia)で表わされる繰り返し単位以外の共
重合繰り返し単位としては、高分子主鎖に対してスペー
サを介してメソーゲンが結合している、いわゆる液晶形
成能を有する構造のものがよい。
【0040】本発明の高分子液晶共重合体化合物は、光
学活性基を有し、また強誘電性を有するものが好まし
い。
学活性基を有し、また強誘電性を有するものが好まし
い。
【0041】本発明の高分子液晶共重合体化合物の液晶
相は、ネマチック相,コレステリック相,スメクチック
相,カイラルスメクチック相等あらゆる液晶相が可能で
ある。ネマチック液晶であるならばTN液晶等として応
用ができ、コレステリック液晶であるならば、選択反射
波長を有する薄膜等として応用ができ、またカイラルス
メクチック液晶であるならば双安定性を有する強誘電性
液晶として応答性のすぐれた液晶素子として応用がで
き、いずれも大面積の液晶素子を容易に得ることが可能
である。特に、強誘電性である場合、ネマチック液晶等
では不可能なミリ秒以下の応答が可能であり、液晶素子
の性能はすぐれている。
相は、ネマチック相,コレステリック相,スメクチック
相,カイラルスメクチック相等あらゆる液晶相が可能で
ある。ネマチック液晶であるならばTN液晶等として応
用ができ、コレステリック液晶であるならば、選択反射
波長を有する薄膜等として応用ができ、またカイラルス
メクチック液晶であるならば双安定性を有する強誘電性
液晶として応答性のすぐれた液晶素子として応用がで
き、いずれも大面積の液晶素子を容易に得ることが可能
である。特に、強誘電性である場合、ネマチック液晶等
では不可能なミリ秒以下の応答が可能であり、液晶素子
の性能はすぐれている。
【0042】次に、本発明の高分子液晶共重合体化合物
における、一般式(Ia)で表わされる繰り返し単位以
外の共重合繰り返し単位の構造としては、下記の一般式
(A)で表わされる。 一般式(A)
における、一般式(Ia)で表わされる繰り返し単位以
外の共重合繰り返し単位の構造としては、下記の一般式
(A)で表わされる。 一般式(A)
【0043】
【化22】
【0044】(式中、U3 は高分子主鎖、V3 は−(C
H2 )m2−,−((CH2 )2 −O)m2−または−(C
H2 )m2−あるいは−((CH2 )2 −O)m2−のうち
1つもしくは2つ以上の水素原子がアルキル基,ハロゲ
ン原子,シアノ基,アミノ基あるいはカルボニル基で置
換されていてもよい構造を表わす。m2 は0〜30の整
数を表わす。W3 は単結合,−O−,−OCO−,−C
OO−,−CONR8 −,−CO−または−NR8 −を
表わし、R8 は水素原子又はアルキル基である。X3 は
メソーゲンを表わし、置換されていてもよいホモ芳香族
環,ヘテロ芳香族環又は脂肪族環のうち2つ以上の環が
単結合,−O−,−OCO−,−COO−,−(CH
2 )n −,−N=N−,−(CH=CH)n −,−CH
=N−,−N=CH−,−(C≡C)n −,−CONR
9 −,−(CO)n −もしくは−NR9 −により結合し
ている構造を表わす。また、2つ以上の環が縮環してい
る構造でもよい。nは1〜10の整数を表わす。Y3 は
単結合,−O−,−OCO−又は−COO−を表わす。
Z3 は置換されていてもよいアルキル基,水素原子,−
CNまたはハロゲンを表わす。)
H2 )m2−,−((CH2 )2 −O)m2−または−(C
H2 )m2−あるいは−((CH2 )2 −O)m2−のうち
1つもしくは2つ以上の水素原子がアルキル基,ハロゲ
ン原子,シアノ基,アミノ基あるいはカルボニル基で置
換されていてもよい構造を表わす。m2 は0〜30の整
数を表わす。W3 は単結合,−O−,−OCO−,−C
OO−,−CONR8 −,−CO−または−NR8 −を
表わし、R8 は水素原子又はアルキル基である。X3 は
メソーゲンを表わし、置換されていてもよいホモ芳香族
環,ヘテロ芳香族環又は脂肪族環のうち2つ以上の環が
単結合,−O−,−OCO−,−COO−,−(CH
2 )n −,−N=N−,−(CH=CH)n −,−CH
=N−,−N=CH−,−(C≡C)n −,−CONR
9 −,−(CO)n −もしくは−NR9 −により結合し
ている構造を表わす。また、2つ以上の環が縮環してい
る構造でもよい。nは1〜10の整数を表わす。Y3 は
単結合,−O−,−OCO−又は−COO−を表わす。
Z3 は置換されていてもよいアルキル基,水素原子,−
CNまたはハロゲンを表わす。)
【0045】なお、U3 の高分子主鎖は、例えば
【0046】
【化23】
【0047】等が挙げられる。
【0048】具体的には、以下の例が挙げられる。先
ず、ネマチック液晶を発現しやすい構造としては、例え
ば
ず、ネマチック液晶を発現しやすい構造としては、例え
ば
【0049】
【化24】
【0050】
【化25】
【0051】
【化26】
【0052】
【化27】
【0053】等が挙げられる。
【0054】コレステリック液晶を発現しやすい構造と
しては、例えば
しては、例えば
【0055】
【化28】
【0056】*は不斉炭素原子を表わす。等が挙げられ
る。
る。
【0057】カイラルスメクチック相を発現しやすい構
造としては、例えば
造としては、例えば
【0058】
【化29】
【0059】等が挙げられる。
【0060】また、特に、大きな自発分極をもつため応
答性が優れ、かつ広い温度範囲でカイラルスメクチック
相を発現しやすいという面では、以下の一般式(II
a)又は一般式(IIIa)で表わされる繰り返し単位
の構造が好ましい。
答性が優れ、かつ広い温度範囲でカイラルスメクチック
相を発現しやすいという面では、以下の一般式(II
a)又は一般式(IIIa)で表わされる繰り返し単位
の構造が好ましい。
【0061】一般式(IIa)
【0062】
【化30】
【0063】(式中、Uは高分子主鎖、Vは−(CH
2 )m −,−((CH2 )2 −O)m −または−(CH
2 )m −あるいは−((CH2 )2−O)m −のうち1
つもしくは2つ以上の水素原子がアルキル基,ハロゲン
原子,シアノ基,アミノ基あるいはカルボニル基で置換
されていてもよい構造を表わす。mは0〜30の整数を
表わす。Wは単結合,−O−,−OCO−,−COO
−,−CONR3 −,−CO−または−NR3 −を表わ
し、R3 は水素原子又はアルキル基である。Xはメソー
ゲンを表わし、置換されていてもよいホモ芳香族環,ヘ
テロ芳香族環又は脂肪族環のうち2つ以上の環が単結
合,−O−,−OCO−,−COO−,−(CH2 )n
−,−N=N−,−(CH=CH)n −,−CH=N
−,−N=CH−,−(C≡C)n −,−CONR3
−,−(CO)n −もしくは−NR3 −により結合して
いる構造を表わす。また、2つ以上の環が縮環している
構造でもよい。nは1〜10の整数を表わす。Yは−C
OOCH2 −,−O−CH2 −,−OCO−を表わす。
*は不斉炭素原子を表わす。Zは−R2 ,−COR2 を
表わし、R2 は水素原子又は置換されていてもよいアル
キル基である。なお、Uの例は前述のU3 の例と同様な
ものが挙げられる。)
2 )m −,−((CH2 )2 −O)m −または−(CH
2 )m −あるいは−((CH2 )2−O)m −のうち1
つもしくは2つ以上の水素原子がアルキル基,ハロゲン
原子,シアノ基,アミノ基あるいはカルボニル基で置換
されていてもよい構造を表わす。mは0〜30の整数を
表わす。Wは単結合,−O−,−OCO−,−COO
−,−CONR3 −,−CO−または−NR3 −を表わ
し、R3 は水素原子又はアルキル基である。Xはメソー
ゲンを表わし、置換されていてもよいホモ芳香族環,ヘ
テロ芳香族環又は脂肪族環のうち2つ以上の環が単結
合,−O−,−OCO−,−COO−,−(CH2 )n
−,−N=N−,−(CH=CH)n −,−CH=N
−,−N=CH−,−(C≡C)n −,−CONR3
−,−(CO)n −もしくは−NR3 −により結合して
いる構造を表わす。また、2つ以上の環が縮環している
構造でもよい。nは1〜10の整数を表わす。Yは−C
OOCH2 −,−O−CH2 −,−OCO−を表わす。
*は不斉炭素原子を表わす。Zは−R2 ,−COR2 を
表わし、R2 は水素原子又は置換されていてもよいアル
キル基である。なお、Uの例は前述のU3 の例と同様な
ものが挙げられる。)
【0064】一般式(IIIa)
【0065】
【化31】
【0066】(式中、U1 は高分子主鎖、V1 は−(C
H2 )m1−,−((CH2 )2 −O)m1−または−(C
H2 )m1−あるいは−((CH2 )2 −O)m1−のうち
1つもしくは2つ以上の水素原子がアルキル基,ハロゲ
ン原子,シアノ基,アミノ基あるいはカルボニル基で置
換されていてもよい構造を表わす。m1 は0〜30の整
数を表わす。W1 は単結合,−O−,−OCO−,−C
OO−,−CONR3 ′−,−CO−または−NR3 ′
−を表わし、R3 ′は水素原子又はアルキル基である。
X1 はメソーゲンを表わし、置換されていてもよいホモ
芳香族環,ヘテロ芳香族環又は脂肪族環のうち2つ以上
の環が単結合,−O−,−OCO−,−COO−,−
(CH2 )n1−,−N=N−,−(CH=CH)n1−,
−CH=N−,−N=CH−,−(C≡C)n1−,−C
ONR3 ′−,−(CO)n1−もしくは−NR3 ′−に
より結合している構造を表わす。また、2つ以上の環が
縮環している構造でもよい。n1 は1〜10の整数を表
わす。Y1 は単結合,−O−又は−COO−を表わす。
Z1 は置換されていてもよいアルキル基を表わす。*は
不斉炭素原子を表わす。なお、U1 の例は前述のU3 の
例と同様なものが挙げられる。)
H2 )m1−,−((CH2 )2 −O)m1−または−(C
H2 )m1−あるいは−((CH2 )2 −O)m1−のうち
1つもしくは2つ以上の水素原子がアルキル基,ハロゲ
ン原子,シアノ基,アミノ基あるいはカルボニル基で置
換されていてもよい構造を表わす。m1 は0〜30の整
数を表わす。W1 は単結合,−O−,−OCO−,−C
OO−,−CONR3 ′−,−CO−または−NR3 ′
−を表わし、R3 ′は水素原子又はアルキル基である。
X1 はメソーゲンを表わし、置換されていてもよいホモ
芳香族環,ヘテロ芳香族環又は脂肪族環のうち2つ以上
の環が単結合,−O−,−OCO−,−COO−,−
(CH2 )n1−,−N=N−,−(CH=CH)n1−,
−CH=N−,−N=CH−,−(C≡C)n1−,−C
ONR3 ′−,−(CO)n1−もしくは−NR3 ′−に
より結合している構造を表わす。また、2つ以上の環が
縮環している構造でもよい。n1 は1〜10の整数を表
わす。Y1 は単結合,−O−又は−COO−を表わす。
Z1 は置換されていてもよいアルキル基を表わす。*は
不斉炭素原子を表わす。なお、U1 の例は前述のU3 の
例と同様なものが挙げられる。)
【0067】次に、一般式(IIa)で表わされる繰り
返し単位の具体的な構造の例としては、下記のものが挙
げられる。
返し単位の具体的な構造の例としては、下記のものが挙
げられる。
【0068】
【化32】
【0069】
【化33】
【0070】
【化34】
【0071】
【化35】
【0072】
【化36】
【0073】次に、一般式(IIIa)で表わされる繰
り返し単位の具体的な構造の例としては、下記のものが
挙げられる。
り返し単位の具体的な構造の例としては、下記のものが
挙げられる。
【0074】
【化37】
【0075】
【化38】
【0076】
【化39】
【0077】
【化40】
【0078】
【化41】
【0079】
【化42】
【0080】
【化43】
【0081】本発明の高分子液晶共重合体化合物は、以
上の例として挙げたような一般式(Ia)で表わされる
繰り返し単位以外の繰り返し単位と、一般式(Ia)で
表わされる繰り返し単位から構成されるが、該高分子液
晶共重合体化合物は、減粘作用を有するシロキサン又は
オキシアルキレンユニットを含有する一般式(Ia)で
表わされる繰り返し単位をもつため、従来の高分子液晶
化合物に比べて粘性が著しく低く、外部場に対する応答
性が非常に良好である。
上の例として挙げたような一般式(Ia)で表わされる
繰り返し単位以外の繰り返し単位と、一般式(Ia)で
表わされる繰り返し単位から構成されるが、該高分子液
晶共重合体化合物は、減粘作用を有するシロキサン又は
オキシアルキレンユニットを含有する一般式(Ia)で
表わされる繰り返し単位をもつため、従来の高分子液晶
化合物に比べて粘性が著しく低く、外部場に対する応答
性が非常に良好である。
【0082】また、本発明の高分子液晶共重合体化合物
は減粘成分であるシロキサン又はオキシアルキレンユニ
ットが共重合成分として化学結合を介して導入されてい
るため、均質かつ均一な化合物であるという点において
優れている。一方、シロキサン又はオキシアルキレンユ
ニットをもつ化合物と、高分子液晶とを単にブレンドす
るとき、ほとんどの場合相溶性がなく、相分離をおこす
のに対して、本発明の高分子液晶共重合体化合物はこの
様なことはなく、対照的である。
は減粘成分であるシロキサン又はオキシアルキレンユニ
ットが共重合成分として化学結合を介して導入されてい
るため、均質かつ均一な化合物であるという点において
優れている。一方、シロキサン又はオキシアルキレンユ
ニットをもつ化合物と、高分子液晶とを単にブレンドす
るとき、ほとんどの場合相溶性がなく、相分離をおこす
のに対して、本発明の高分子液晶共重合体化合物はこの
様なことはなく、対照的である。
【0083】本発明の高分子液晶共重合体化合物におけ
る一般式(Ia)で表わされる繰り返し単位の含有量は
1mol%〜95mol%が好ましく、さらに好ましく
は5mol%〜90mol%の範囲が望ましい。1mo
l%未満では減粘作用が著しくない場合があり、95m
ol%を越す場合には液晶を形成しない場合がある。
る一般式(Ia)で表わされる繰り返し単位の含有量は
1mol%〜95mol%が好ましく、さらに好ましく
は5mol%〜90mol%の範囲が望ましい。1mo
l%未満では減粘作用が著しくない場合があり、95m
ol%を越す場合には液晶を形成しない場合がある。
【0084】本発明の高分子液晶共重合体化合物の製造
方法は、例えばポリビニル系またはポリオキシアルキレ
ン系の高分子液晶共重合体化合物であれば、該当する複
数種のモノマーをラジカル重合、アニオン重合またはカ
チオン重合することにより、また例えばポリエステル系
の高分子液晶共重合体化合物であれば、該当する複数種
のジオールとジカルボン酸を縮合重合することによって
得ることができる。
方法は、例えばポリビニル系またはポリオキシアルキレ
ン系の高分子液晶共重合体化合物であれば、該当する複
数種のモノマーをラジカル重合、アニオン重合またはカ
チオン重合することにより、また例えばポリエステル系
の高分子液晶共重合体化合物であれば、該当する複数種
のジオールとジカルボン酸を縮合重合することによって
得ることができる。
【0085】この高分子液晶共重合体化合物の数平均分
子量は、好ましくは、2,000〜1,000,00
0、さらに好ましくは4,000〜500,000であ
る。2,000未満であると高分子液晶共重合体化合物
のフィルム性が悪くなり、塗布膜としての成形性上、支
障が生じる場合があり、1,000,000を越えると
粘度の上昇に伴ない、外部場に対する応答性が悪くなる
場合がある。
子量は、好ましくは、2,000〜1,000,00
0、さらに好ましくは4,000〜500,000であ
る。2,000未満であると高分子液晶共重合体化合物
のフィルム性が悪くなり、塗布膜としての成形性上、支
障が生じる場合があり、1,000,000を越えると
粘度の上昇に伴ない、外部場に対する応答性が悪くなる
場合がある。
【0086】なお、本発明の高分子液晶共重合体化合物
の製造方法は、上記の方法に限定されるものではない。
の製造方法は、上記の方法に限定されるものではない。
【0087】本発明において、一般式(Ib)で表わさ
れる繰り返し単位の具体的な構造としては、例えば以下
のものが挙げられる。 ○ A1 が置換されていてもよい炭素原子数3以上のア
ルキル基の場合には、
れる繰り返し単位の具体的な構造としては、例えば以下
のものが挙げられる。 ○ A1 が置換されていてもよい炭素原子数3以上のア
ルキル基の場合には、
【0088】
【化44】
【0089】
【化45】
【0090】等が挙げられる。
○ A1 がポリオキシアルキレン基の場合には、
【0091】
【化46】
【0092】
【化47】
【0093】等が挙げられる。
○ A1 がアリール基の場合には、
【0094】
【化48】
【0095】等が挙げられる。
○ Aが
【0096】
【化49】
の場合には、
【0097】
【化50】
【0098】
【化51】
【0099】
【化52】
【0100】
【化53】
【0101】等が挙げられる。
【0102】本発明の高分子液晶共重合体化合物におい
て、一般式(Ib)で表わされる繰り返し単位以外の共
重合繰り返し単位としては、高分子主鎖に対してスペー
サを介してメソーゲンが結合している、いわゆる液晶形
成能を有する構造のものがよい。
て、一般式(Ib)で表わされる繰り返し単位以外の共
重合繰り返し単位としては、高分子主鎖に対してスペー
サを介してメソーゲンが結合している、いわゆる液晶形
成能を有する構造のものがよい。
【0103】本発明の高分子液晶共重合体化合物は、光
学活性基を有し、また強誘電性を有するものが好まし
い。
学活性基を有し、また強誘電性を有するものが好まし
い。
【0104】本発明の高分子液晶共重合体化合物の液晶
相は、ネマチック相,コレステリック相,スメクチック
相,カイラルスメクチック相等あらゆる液晶相が可能で
ある。ネマチック液晶であるならばTN液晶等として応
用ができ、コレステリック液晶であるならば、選択反射
波長を有する薄膜等として応用ができ、またカイラルス
メクチック液晶であるならば双安定性を有する強誘電性
液晶として応答性のすぐれた液晶素子として応用がで
き、いずれも大面積の液晶素子を容易に得ることが可能
であり、特に好ましい。
相は、ネマチック相,コレステリック相,スメクチック
相,カイラルスメクチック相等あらゆる液晶相が可能で
ある。ネマチック液晶であるならばTN液晶等として応
用ができ、コレステリック液晶であるならば、選択反射
波長を有する薄膜等として応用ができ、またカイラルス
メクチック液晶であるならば双安定性を有する強誘電性
液晶として応答性のすぐれた液晶素子として応用がで
き、いずれも大面積の液晶素子を容易に得ることが可能
であり、特に好ましい。
【0105】次に、本発明の高分子液晶共重合体化合物
における、一般式(Ib)で表わされる繰り返し単位以
外の共重合繰り返し単位の構造としては、下記の一般式
Bで表わされる。
における、一般式(Ib)で表わされる繰り返し単位以
外の共重合繰り返し単位の構造としては、下記の一般式
Bで表わされる。
【0106】
【化54】
【0107】(式中、R9 はアルキル基又はフェニル
基、V3は−(CH2 )m2−,−((CH2 )2 −O)
m2−または−(CH2 )m2−あるいは−((CH2 )2
−O)m2−のうち1つもしくは2つ以上の水素原子がア
ルキル基,ハロゲン原子,シアノ基,アミノ基あるいは
カルボニル基で置換されていてもよい構造を表わす。m
2は0〜30の整数を表わす。W3 は単結合,−O−,
−OCO−,−COO−,−CONR8 −,−CO−ま
たは−NR8 −を表わし、R8 は水素原子又はアルキル
基である。X3 はメソーゲンを表わし、置換されていて
もよいホモ芳香族環,ヘテロ芳香族環又は脂肪族環のう
ち2つ以上の環が単結合,−O−,−OCO−,−CO
O−,−(CH2 )n −,−N=N−,−(CH=C
H)n −,−CH=N−,−N=CH−,−(C≡C)
n −,−CONR9−,−(CO)n −もしくは−NR9
−により結合している構造を表わす。また、2つ以上
の環が縮環している構造でもよい。nは1〜10の整数
を表わす。Y3 は単結合,−O−,−OCO−又は−C
OO−を表わす。Z3 は置換されていてもよいアルキル
基,水素原子,−CN−またはハロゲンを表わす。)
基、V3は−(CH2 )m2−,−((CH2 )2 −O)
m2−または−(CH2 )m2−あるいは−((CH2 )2
−O)m2−のうち1つもしくは2つ以上の水素原子がア
ルキル基,ハロゲン原子,シアノ基,アミノ基あるいは
カルボニル基で置換されていてもよい構造を表わす。m
2は0〜30の整数を表わす。W3 は単結合,−O−,
−OCO−,−COO−,−CONR8 −,−CO−ま
たは−NR8 −を表わし、R8 は水素原子又はアルキル
基である。X3 はメソーゲンを表わし、置換されていて
もよいホモ芳香族環,ヘテロ芳香族環又は脂肪族環のう
ち2つ以上の環が単結合,−O−,−OCO−,−CO
O−,−(CH2 )n −,−N=N−,−(CH=C
H)n −,−CH=N−,−N=CH−,−(C≡C)
n −,−CONR9−,−(CO)n −もしくは−NR9
−により結合している構造を表わす。また、2つ以上
の環が縮環している構造でもよい。nは1〜10の整数
を表わす。Y3 は単結合,−O−,−OCO−又は−C
OO−を表わす。Z3 は置換されていてもよいアルキル
基,水素原子,−CN−またはハロゲンを表わす。)
【0108】具体的には以下の例が挙げられる。先ず、
ネマチック液晶を発現しやすい構造としては、例えば
ネマチック液晶を発現しやすい構造としては、例えば
【0109】
【化55】
【0110】
【化56】
【0111】
【化57】
【0112】等が挙げられる。
【0113】コレステリック液晶を発現しやすい構造と
しては、例えば
しては、例えば
【0114】
【化58】
【0115】
【化59】
【0116】*は不斉炭素原子を表わす。等が挙げられ
る。
る。
【0117】カイラルスメクチック相を発現しやすい構
造としては、例えば
造としては、例えば
【0118】
【化60】
【0119】
【化61】
【0120】等が挙げられる。
【0121】また、特に、大きな自発分極をもつため応
答性が優れ、かつ広い温度範囲でカイラルスメクチック
相を発現しやすいという面では、以下の一般式(II
b)又は一般式(IIIb)で表わされる繰り返し単位
の構造が好ましい。
答性が優れ、かつ広い温度範囲でカイラルスメクチック
相を発現しやすいという面では、以下の一般式(II
b)又は一般式(IIIb)で表わされる繰り返し単位
の構造が好ましい。
【0122】一般式(IIb)で表わされる繰り返し単
位は、
位は、
【0123】
【化62】
【0124】(式中、R1 はアルキル基又はフェニル
基、Vは−(CH2 )m −,−((CH2 )2 −O)m
−または−(CH2 )m −あるいは−((CH2 )2 −
O)m −のうち1つもしくは2つ以上の水素原子がアル
キル基,ハロゲン原子,シアノ基,アミノ基あるいはカ
ルボニル基で置換されていてもよい構造を表わす。mは
0〜30の整数を表わす。Wは単結合,−O−,−OC
O−,−COO−,−CONR3 −,−CO−または−
NR3 −を表わし、R3 は水素原子又はアルキル基であ
る。Xはメソーゲンを表わし、置換されていてもよいホ
モ芳香族環,ヘテロ芳香族環又は脂肪族環のうち2つ以
上の環が単結合,−O−,−OCO−,−COO−,−
(CH2 )n −,−N=N−,−(CH=CH)n −,
−CH=N−,−N=CH−,−(C≡C)n −,−C
ONR3 −,−(CO)n −もしくは−NR3 −により
結合している構造を表わす。また、2つ以上の環が縮環
している構造でもよい。nは1〜10の整数を表わす。
Yは−COOCH2 −,−O−CH2 −,−OCO−を
表わす。*は不斉炭素原子を表わす。Zは−R2 ,−C
OR2 を表わし、R2 は水素原子又は置換されていても
よいアルキル基である。)であり、その具体例としては
下記のものが挙げられる。
基、Vは−(CH2 )m −,−((CH2 )2 −O)m
−または−(CH2 )m −あるいは−((CH2 )2 −
O)m −のうち1つもしくは2つ以上の水素原子がアル
キル基,ハロゲン原子,シアノ基,アミノ基あるいはカ
ルボニル基で置換されていてもよい構造を表わす。mは
0〜30の整数を表わす。Wは単結合,−O−,−OC
O−,−COO−,−CONR3 −,−CO−または−
NR3 −を表わし、R3 は水素原子又はアルキル基であ
る。Xはメソーゲンを表わし、置換されていてもよいホ
モ芳香族環,ヘテロ芳香族環又は脂肪族環のうち2つ以
上の環が単結合,−O−,−OCO−,−COO−,−
(CH2 )n −,−N=N−,−(CH=CH)n −,
−CH=N−,−N=CH−,−(C≡C)n −,−C
ONR3 −,−(CO)n −もしくは−NR3 −により
結合している構造を表わす。また、2つ以上の環が縮環
している構造でもよい。nは1〜10の整数を表わす。
Yは−COOCH2 −,−O−CH2 −,−OCO−を
表わす。*は不斉炭素原子を表わす。Zは−R2 ,−C
OR2 を表わし、R2 は水素原子又は置換されていても
よいアルキル基である。)であり、その具体例としては
下記のものが挙げられる。
【0125】
【化63】
【0126】
【化64】
【0127】
【化65】
【0128】
【化66】
【0129】
【化67】
【0130】
【化68】
【0131】
【化69】
【0132】
【化70】
【0133】次に、一般式(IIIb)で表わされる繰
り返し単位は、
り返し単位は、
【0134】
【化71】
【0135】(式中、R1 はアルキル基又はフェニル
基、V1 は−(CH2 )m1−,−((CH2 )2 −O)
m1−または−(CH2 )m1−あるいは−((CH2 )2
−O)m1−のうち1つもしくは2つ以上の水素原子がア
ルキル基,ハロゲン原子,シアノ基,アミノ基あるいは
カルボニル基で置換されていてもよい構造を表わす。m
1は0〜30の整数を表わす。W1 は単結合,−O−,
−OCO−,−COO−,−CONR3 ′−,−CO−
または−NR3 ′−を表わし、R3 ′は水素原子又はア
ルキル基である。X1はメソーゲンを表わし、置換され
ていてもよいホモ芳香族環,ヘテロ芳香族環又は脂肪族
環のうち2つ以上の環が単結合,−O−,−OCO−,
−COO−,−(CH2 )n1−,−N=N−,−(CH
=CH)n1−,−CH=N−,−N=CH−,−(C≡
C)n1−,−CONR3 ′−,−(CO)n1−もしくは
−NR3 ′−により結合している構造を表わす。また、
2つ以上の環が縮環している構造でもよい。n1 は1〜
10の整数を表わす。Y1 は単結合,−O−又は−CO
O−を表わす。Z1 は置換されていてもよいアルキル基
を表わす。*は不斉炭素原子を表わす。)であり、その
具体例としては下記のものが挙げられる。
基、V1 は−(CH2 )m1−,−((CH2 )2 −O)
m1−または−(CH2 )m1−あるいは−((CH2 )2
−O)m1−のうち1つもしくは2つ以上の水素原子がア
ルキル基,ハロゲン原子,シアノ基,アミノ基あるいは
カルボニル基で置換されていてもよい構造を表わす。m
1は0〜30の整数を表わす。W1 は単結合,−O−,
−OCO−,−COO−,−CONR3 ′−,−CO−
または−NR3 ′−を表わし、R3 ′は水素原子又はア
ルキル基である。X1はメソーゲンを表わし、置換され
ていてもよいホモ芳香族環,ヘテロ芳香族環又は脂肪族
環のうち2つ以上の環が単結合,−O−,−OCO−,
−COO−,−(CH2 )n1−,−N=N−,−(CH
=CH)n1−,−CH=N−,−N=CH−,−(C≡
C)n1−,−CONR3 ′−,−(CO)n1−もしくは
−NR3 ′−により結合している構造を表わす。また、
2つ以上の環が縮環している構造でもよい。n1 は1〜
10の整数を表わす。Y1 は単結合,−O−又は−CO
O−を表わす。Z1 は置換されていてもよいアルキル基
を表わす。*は不斉炭素原子を表わす。)であり、その
具体例としては下記のものが挙げられる。
【0136】
【化72】
【0137】
【化73】
【0138】
【化74】
【0139】
【化75】
【0140】
【化76】
【0141】本発明の高分子液晶共重合体化合物は、以
上の例として挙げたような一般式(Ib)で表わされる
繰り返し単位と、液晶形成能を有する一般式(Ib)以
外の繰り返し単位から構成される。該高分子液晶共重合
体化合物は、シロキサン主鎖からなるためにメタクリル
主鎖,アクリル主鎖等の炭素系の主鎖構造を有するもの
より、粘性は本来的に低いが、これに一般式(Ib)で
表わされる繰り返し単位、すなわちアルキル基,ポリオ
キシアルキレン基,アリール基,シリル基又はシロキサ
ン基を一成分として側鎖に有するために、さらに粘性は
低下し、外部場に対する応答性が非常に良好である。
上の例として挙げたような一般式(Ib)で表わされる
繰り返し単位と、液晶形成能を有する一般式(Ib)以
外の繰り返し単位から構成される。該高分子液晶共重合
体化合物は、シロキサン主鎖からなるためにメタクリル
主鎖,アクリル主鎖等の炭素系の主鎖構造を有するもの
より、粘性は本来的に低いが、これに一般式(Ib)で
表わされる繰り返し単位、すなわちアルキル基,ポリオ
キシアルキレン基,アリール基,シリル基又はシロキサ
ン基を一成分として側鎖に有するために、さらに粘性は
低下し、外部場に対する応答性が非常に良好である。
【0142】また、本発明の高分子液晶共重合体化合物
は減粘成分である一般式(Ib)で表わされる繰り返し
単位が共重合成分として化学結合を介して導入されてい
るため、均質かつ均一な化合物であるという点において
優れている。一般式(Ib)で表わされる構造を有する
減粘剤を高分子液晶とブレンドするとき、ほとんどの場
合、相溶性がなく、相分離をおこすのに対して、本発明
の高分子液晶共重合体化合物はこの様なことはなく、対
照的である。
は減粘成分である一般式(Ib)で表わされる繰り返し
単位が共重合成分として化学結合を介して導入されてい
るため、均質かつ均一な化合物であるという点において
優れている。一般式(Ib)で表わされる構造を有する
減粘剤を高分子液晶とブレンドするとき、ほとんどの場
合、相溶性がなく、相分離をおこすのに対して、本発明
の高分子液晶共重合体化合物はこの様なことはなく、対
照的である。
【0143】本発明の高分子液晶共重合体化合物におけ
る一般式(Ib)で表わされる繰り返し単位の含有量は
1mol%〜95mol%が好ましく、さらに好ましく
は5mol%〜90mol%の範囲が望ましい。1mo
l%未満では減粘作用が著しくない場合があり、95m
ol%を越す場合には液晶を形成しない場合がある。
る一般式(Ib)で表わされる繰り返し単位の含有量は
1mol%〜95mol%が好ましく、さらに好ましく
は5mol%〜90mol%の範囲が望ましい。1mo
l%未満では減粘作用が著しくない場合があり、95m
ol%を越す場合には液晶を形成しない場合がある。
【0144】本発明の高分子液晶共重合体化合物の製造
方法は、一般式(Ib)で表わされる繰り返し単位に該
当するモノマーあるいはオリゴマー成分と、液晶形成能
を有するモノマーあるいはオリゴマー成分との共重合で
高分子化することも可能であるが、より一般的には、ポ
リメチルハイドロジェンシロキサン,ポリアリールハイ
ドロジェンシロキサン主鎖に、ビニル基末端の側鎖成分
をグラフト反応的にハイドロシリレーション付加するこ
とにより得ることができる。
方法は、一般式(Ib)で表わされる繰り返し単位に該
当するモノマーあるいはオリゴマー成分と、液晶形成能
を有するモノマーあるいはオリゴマー成分との共重合で
高分子化することも可能であるが、より一般的には、ポ
リメチルハイドロジェンシロキサン,ポリアリールハイ
ドロジェンシロキサン主鎖に、ビニル基末端の側鎖成分
をグラフト反応的にハイドロシリレーション付加するこ
とにより得ることができる。
【0145】この高分子液晶共重合体化合物の数平均分
子量は、好ましくは、2,000〜1,000,00
0、さらに好ましくは4,000〜500,000であ
る。2,000未満であると高分子液晶共重合体化合物
のフィルム性が悪くなり、塗布膜としての成形性上、支
障が生じる場合があり、1,000,000を越えると
粘度の上昇に伴ない、外部場に対する応答性が悪くなる
場合がある。
子量は、好ましくは、2,000〜1,000,00
0、さらに好ましくは4,000〜500,000であ
る。2,000未満であると高分子液晶共重合体化合物
のフィルム性が悪くなり、塗布膜としての成形性上、支
障が生じる場合があり、1,000,000を越えると
粘度の上昇に伴ない、外部場に対する応答性が悪くなる
場合がある。
【0146】なお、本発明の高分子液晶共重合体化合物
の製造方法は、上記の方法に限定されるものではない。
の製造方法は、上記の方法に限定されるものではない。
【0147】本発明は、さらに一般式(Ia)もしくは
(Ib)で表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶
共重合体化合物の少なくとも一種をブレンド成分として
含有する高分子液晶組成物を提供する。他のブレンド成
分としては、高分子化合物、高分子液晶、低分子化合
物、低分子液晶等があげられ、特に高分子液晶または低
分子液晶が好ましい。
(Ib)で表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶
共重合体化合物の少なくとも一種をブレンド成分として
含有する高分子液晶組成物を提供する。他のブレンド成
分としては、高分子化合物、高分子液晶、低分子化合
物、低分子液晶等があげられ、特に高分子液晶または低
分子液晶が好ましい。
【0148】以下に、本発明の一般式(Ia)もしくは
(Ib)で表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶
共重合体化合物とブレンドする高分子液晶の具体例を下
記に示す。
(Ib)で表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶
共重合体化合物とブレンドする高分子液晶の具体例を下
記に示す。
【0149】
【化77】
【0150】
【化78】
【0151】
【化79】
【0152】
【化80】
【0153】
【化81】
【0154】
【化82】
【0155】また、低分子液晶の具体例としては、下記
の化合物が挙げられる。
の化合物が挙げられる。
【0156】
【化83】
【0157】
【化84】
【0158】
【化85】
【0159】
【化86】
【0160】
【化87】
【0161】また、一般式(Ia)もしくは(Ib)で
表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶共重合体化
合物にブレンドされる高分子化合物としては、特に制限
することなく一般に高分子液晶にブレンドされているも
のを用いることができるが、例えばポリ塩化ビニル,ポ
リエステル,ポリウレタン等の化合物が挙げられる。
表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶共重合体化
合物にブレンドされる高分子化合物としては、特に制限
することなく一般に高分子液晶にブレンドされているも
のを用いることができるが、例えばポリ塩化ビニル,ポ
リエステル,ポリウレタン等の化合物が挙げられる。
【0162】さらに、ブレンドされる低分子化合物とし
ては、特に制限することなく一般に高分子液晶にブレン
ドされているものを用いることができるが、例えば長
鎖,短鎖のアリファティックな化合物,シロキサン化合
物,ビフェニル化合物等が挙げられる。
ては、特に制限することなく一般に高分子液晶にブレン
ドされているものを用いることができるが、例えば長
鎖,短鎖のアリファティックな化合物,シロキサン化合
物,ビフェニル化合物等が挙げられる。
【0163】本発明に係わる高分子液晶組成物中に含有
される本発明の高分子液晶共重合体化合物の量は、通常
5重量%以上、好ましくは10重量%以上、さらに好ま
しくは15〜90重量%が望ましい。5重量%未満では
成形性、強度、成膜性が不十分の場合がある。
される本発明の高分子液晶共重合体化合物の量は、通常
5重量%以上、好ましくは10重量%以上、さらに好ま
しくは15〜90重量%が望ましい。5重量%未満では
成形性、強度、成膜性が不十分の場合がある。
【0164】また、本発明に係わる高分子液晶組成物中
における高分子化合物,高分子液晶,低分子化合物また
は低分子液晶の含有量は、通常10〜95重量%、好ま
しくは15〜90重量%が望ましい。
における高分子化合物,高分子液晶,低分子化合物また
は低分子液晶の含有量は、通常10〜95重量%、好ま
しくは15〜90重量%が望ましい。
【0165】なお、本発明に係わる高分子液晶共重合体
化合物およびその高分子液晶組成物には、色素、光安定
化剤、可塑剤、光吸収剤等を添加することができる。
化合物およびその高分子液晶組成物には、色素、光安定
化剤、可塑剤、光吸収剤等を添加することができる。
【0166】次に、前記一般式(Ia)または(Ib)
で表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶共重合体
化合物、または該高分子液晶共重合体化合物の少なくと
も一種をブレンド成分として含有する高分子液晶組成物
を有する高分子液晶素子を提供する。
で表わされる繰り返し単位を有する高分子液晶共重合体
化合物、または該高分子液晶共重合体化合物の少なくと
も一種をブレンド成分として含有する高分子液晶組成物
を有する高分子液晶素子を提供する。
【0167】ガラス、プラスチック又は金属等の任意の
材料からなる基板の上に、本発明の高分子液晶共重合体
化合物もしくは高分子液晶組成物を塗布等の方法でフィ
ルムを形成するが、基板上にITO 膜などの透明電極やパ
ターン化された電極を形成することもできる。
材料からなる基板の上に、本発明の高分子液晶共重合体
化合物もしくは高分子液晶組成物を塗布等の方法でフィ
ルムを形成するが、基板上にITO 膜などの透明電極やパ
ターン化された電極を形成することもできる。
【0168】また、配向処理は以下の例があげられる。
(1)水平配向(高分子液晶共重合体化合物又は高分子
液晶組成物の分子軸方向を基板面に対して水平に配向さ
せる)
液晶組成物の分子軸方向を基板面に対して水平に配向さ
せる)
【0169】ラビング法
基板上に溶液塗工法又は蒸着あるいはスパッタリング等
により、例えば、一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、酸化ア
ルミニウム、ジルコニア、フッ化マグネシウム、酸化セ
リウム、フッ化セリウム、シリコン窒化物、シリコン炭
化物、ホウ素窒化物などの無機絶縁物質やポリビニルア
ルコール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステ
ルイミド、ポリパラキシレリン、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、
ポリアミド、ポリスチレン、セルロース樹脂、メラミン
樹脂、ユリア樹脂やアクリル樹脂などの有機絶縁物質の
被膜を形成し、その後、その表面をビロード、布や紙で
一方向に摺擦(ラビング)して配向制御膜を形成する。
により、例えば、一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、酸化ア
ルミニウム、ジルコニア、フッ化マグネシウム、酸化セ
リウム、フッ化セリウム、シリコン窒化物、シリコン炭
化物、ホウ素窒化物などの無機絶縁物質やポリビニルア
ルコール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステ
ルイミド、ポリパラキシレリン、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、
ポリアミド、ポリスチレン、セルロース樹脂、メラミン
樹脂、ユリア樹脂やアクリル樹脂などの有機絶縁物質の
被膜を形成し、その後、その表面をビロード、布や紙で
一方向に摺擦(ラビング)して配向制御膜を形成する。
【0170】斜方蒸着法
SiO等の酸化物あるいはフッ化物又はAu,Alなど
の金属およびその酸化物を基板の斜めの角度から蒸着し
て配向制御膜を形成する。
の金属およびその酸化物を基板の斜めの角度から蒸着し
て配向制御膜を形成する。
【0171】斜方エッチング法
で示した有機あるいは無機絶縁膜を斜方からイオンビ
ームや酸素プラズマを照射することによりエッチングし
て配向制御膜を形成する。
ームや酸素プラズマを照射することによりエッチングし
て配向制御膜を形成する。
【0172】延伸高分子膜の使用
ポリエステルあるいはポリビニルアルコール等の高分子
膜を延伸する。
膜を延伸する。
【0173】グレーティング法
フォトリソグラフィーやスタンパーやインジェクション
を使用して基板表面上に溝を形成する。この場合、高分
子液晶共重合体化合物又は高分子液晶組成物はその溝方
向に配向する。
を使用して基板表面上に溝を形成する。この場合、高分
子液晶共重合体化合物又は高分子液晶組成物はその溝方
向に配向する。
【0174】シェアリング
高分子液晶共重合体化合物又は高分子液晶組成物を液晶
状態以上の温度でずり応力を加えて配向する。
状態以上の温度でずり応力を加えて配向する。
【0175】延伸
一軸延伸または二軸延伸により配向する。ポリエステ
ル、ポリビニルアルコール等の基板とともに共延伸して
もよい。
ル、ポリビニルアルコール等の基板とともに共延伸して
もよい。
【0176】(2)垂直配向(高分子液晶共重合体化合
物又は高分子液晶組成物の分子軸方向を基板面に対して
垂直に配向させる)
物又は高分子液晶組成物の分子軸方向を基板面に対して
垂直に配向させる)
【0177】垂直配向膜を形成する。
基板表面上に有機シランやレシチンやポリテトラフルオ
ロエチレン等の垂直配向性の層を形成する。
ロエチレン等の垂直配向性の層を形成する。
【0178】斜方蒸着
(1)−で述べた斜方蒸着法で基板を回転させながら
蒸着角度を適当に選択することにより垂直配向性を与え
ることができる。また、斜方蒸着後、で示した垂直配
向剤を塗布してもよい。
蒸着角度を適当に選択することにより垂直配向性を与え
ることができる。また、斜方蒸着後、で示した垂直配
向剤を塗布してもよい。
【0179】このように配向処理したあと、たとえば電
極を有する上部基板をもうけてスイッチング素子を得る
ことができる。
極を有する上部基板をもうけてスイッチング素子を得る
ことができる。
【0180】このようにして得た高分子液晶素子は、表
示素子、記憶素子等として用いられる。強誘電性からな
るカイラルスメクチック相をもつ高分子液晶共重合体化
合物又は高分子液晶組成物を使用した高分子液晶素子を
用いると、高速のスイッチングが可能で、また、双安定
性からなることからメモリー性が良好な大面積の表示素
子、記憶素子等として使用することが可能である。また
双安定性を実現するために、らせんの解消を行うには膜
厚を薄くする方法があり、具体的には10μm以下がよ
い。
示素子、記憶素子等として用いられる。強誘電性からな
るカイラルスメクチック相をもつ高分子液晶共重合体化
合物又は高分子液晶組成物を使用した高分子液晶素子を
用いると、高速のスイッチングが可能で、また、双安定
性からなることからメモリー性が良好な大面積の表示素
子、記憶素子等として使用することが可能である。また
双安定性を実現するために、らせんの解消を行うには膜
厚を薄くする方法があり、具体的には10μm以下がよ
い。
【0181】
【作用】本発明の高分子液晶共重合体化合物は、シロキ
サン又はオキシアルキレンユニットを共重合成分として
有するため、従来の高分子液晶化合物にくらべ、著しく
低粘性であり、外部場に対する応答性が非常に良好であ
る。
サン又はオキシアルキレンユニットを共重合成分として
有するため、従来の高分子液晶化合物にくらべ、著しく
低粘性であり、外部場に対する応答性が非常に良好であ
る。
【0182】また、シロキサン主鎖からなり、かつアル
キル基,ポリオキシアルキレン基,アリール基,シリル
基又はシロキシ基を側鎖に有する本発明の他の高分子液
晶共重合体化合物も、従来の高分子液晶化合物にくら
べ、著しく低粘性であり、外部場に対する応答性が非常
に良好である。
キル基,ポリオキシアルキレン基,アリール基,シリル
基又はシロキシ基を側鎖に有する本発明の他の高分子液
晶共重合体化合物も、従来の高分子液晶化合物にくら
べ、著しく低粘性であり、外部場に対する応答性が非常
に良好である。
【0183】したがって、本発明の高分子液晶共重合体
化合物を液晶素子に用いることにより、高速スイッチン
グ能を有する大面積の高分子液晶素子の実現を可能にす
ることができる。
化合物を液晶素子に用いることにより、高速スイッチン
グ能を有する大面積の高分子液晶素子の実現を可能にす
ることができる。
【0184】また、本発明の高分子液晶組成物は、上記
高分子液晶共重合体化合物の低粘性の良好な特性を有
し、かつ他の高分子化合物,高分子液晶,低分子化合物
または低分子液晶とのブレンドによって、液晶温度範
囲、自発分極、らせんのセンス等の物性を制御すること
ができる。また、高分子液晶組成物は、高速スイッチン
グ能を有する大面積の高分子液晶素子を作製する上で非
常に有用である。
高分子液晶共重合体化合物の低粘性の良好な特性を有
し、かつ他の高分子化合物,高分子液晶,低分子化合物
または低分子液晶とのブレンドによって、液晶温度範
囲、自発分極、らせんのセンス等の物性を制御すること
ができる。また、高分子液晶組成物は、高速スイッチン
グ能を有する大面積の高分子液晶素子を作製する上で非
常に有用である。
【0185】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。 実施例1 下記の構造式で表わされるモノマー(1)0.800g
とモノマー(2)0.200gをトルエン中で、AIB
N(アゾビスイソブチロニトリル)をラジカ重合開始剤
として添加し、凍結脱気した後、60℃で24時間重合
した。その後、メタノールで再沈殿をくり返してポリマ
ー(1a)を0.560g得た。
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。 実施例1 下記の構造式で表わされるモノマー(1)0.800g
とモノマー(2)0.200gをトルエン中で、AIB
N(アゾビスイソブチロニトリル)をラジカ重合開始剤
として添加し、凍結脱気した後、60℃で24時間重合
した。その後、メタノールで再沈殿をくり返してポリマ
ー(1a)を0.560g得た。
【0186】
【化88】
【0187】
【化89】
【0188】ポリマー(1a)の相転移温度(℃)
【0189】
【数1】
【0190】G.P.C.(ゲルパーミエイションクロ
マトグラフィー)によるポリスチレン換算数平均分子量
Mn (以下、数平均分子量はこのことを表わす。) Mn =8,200
マトグラフィー)によるポリスチレン換算数平均分子量
Mn (以下、数平均分子量はこのことを表わす。) Mn =8,200
【0191】実施例2
下記の構造式で表わされるモノマー(3)0.500g
と前記モノマー(2)0.251gを実施例1と同様に
重合し、後処理してポリマー(2a)を0.305g得
た。図1にポリマー(2a)の 1H−NMR(CDCl
3 中)を示す。
と前記モノマー(2)0.251gを実施例1と同様に
重合し、後処理してポリマー(2a)を0.305g得
た。図1にポリマー(2a)の 1H−NMR(CDCl
3 中)を示す。
【0192】
【化90】
【0193】ポリマー(2a)の相転移温度(℃)
【0194】
【数2】
106.5 160.8
─────→ ─────→
スメクチック相 カイラルスメクチック相 等方相
←───── ←─────
99.9 160.1
Mn =12,500
【0195】実施例3
前記モノマー(3)0.500gと前記モノマー(2)
0.061gを実施例1と同様に重合し、後処理してポ
リマー(3a)を0.225g得た。図2にポリマー
(3a)の 1H−NMR(CDCl3 中)を示す。
0.061gを実施例1と同様に重合し、後処理してポ
リマー(3a)を0.225g得た。図2にポリマー
(3a)の 1H−NMR(CDCl3 中)を示す。
【0196】ポリマー(3a)の相転移温度(℃)
【0197】
【数3】
86.4 105.0
────→ ─────→
スメクチック相 スメクチック相
←──── ←─────
74.0 104.9
147.1
─────→
カイラルスメクチック相 等方相
←─────
147.2
Mn =11,100
【0198】実施例4
前記モノマー(3)0.500gと前記モノマー(2)
0.502gを実施例1と同様に重合し、後処理してポ
リマー(4a)を0.342g得た。
0.502gを実施例1と同様に重合し、後処理してポ
リマー(4a)を0.342g得た。
【0199】ポリマー(4a)の相転移温度(℃)
【0200】
【数4】
101.2 158.1
─────→ ─────→
スメクチック相 カイラルスメクチック相 等方相
←───── ←─────
96.8 153.3
Mn =15,000
【0201】実施例5
下記の構造式で表わされるモノマー(4)0.500g
と前記モノマー(2)0.218gを実施例1と同様に
重合し、後処理してポリマー(5a)を0.285g得
た。
と前記モノマー(2)0.218gを実施例1と同様に
重合し、後処理してポリマー(5a)を0.285g得
た。
【0202】
【化91】
【0203】ポリマー(5a)の相転移温度(℃)
【0204】
【数5】
85.2 124.2
────→ ─────→
スメクチック相 スメクチック相 等方相
←──── ←─────
82.1 124.0
Mn =7,900
【0205】実施例6
前記モノマー(3)0.500gと下記の構造式で表わ
されるモノマー(5)0.102gを実施例1と同様に
重合し、後処理してポリマー(6a)を0.408g得
た。
されるモノマー(5)0.102gを実施例1と同様に
重合し、後処理してポリマー(6a)を0.408g得
た。
【0206】
【化92】
【0207】ポリマー(6a)の相転移温度(℃)
【0208】
【数6】
102.2 155.2
─────→ ─────→
スメクチック相 カイラルスメクチック相 等方相
←───── ←─────
98.1 153.1
Mn =15,800
【0209】実施例7
前記モノマー(3)0.500gと下記の構造式で表わ
されるモノマー(6)0.032gを実施例1と同様に
重合し、後処理してポリマー(7a)を0.310g得
た。
されるモノマー(6)0.032gを実施例1と同様に
重合し、後処理してポリマー(7a)を0.310g得
た。
【0210】
【化93】
【0211】ポリマー(7a)の相転移温度(℃)
【0212】
【数7】
84.3 98.2
────→ ─────→
スメクチック相 スメクチック相
←──── ←─────
79.2 97.1
153.9
─────→
カイラルスメクチックC相 等方相
←─────
152.3
Mn =11,500
【0213】実施例8
以上の実施例で得られた高分子液晶共重合体化合物又
は、これら化合物と低分子液晶α1 又は高分子液晶β2
との組成物を、ラビング処理したポリイミド配向膜を形
成してあるITO透明電極を設けたガラス基板にプレス
法、スピンコート法又はキャスト法により、膜厚約10
μmのフィルムを形成した後、アニーリングを行ない、
さらに上部電極をとり付けた液晶セルに、Sc* 相で1
0V/μmの電界をかけた。このとき電界に応答した分
子の反転が観測された。応答速度を表1に示した。な
お、応答速度は分極反転電流を観測することにより求め
た。
は、これら化合物と低分子液晶α1 又は高分子液晶β2
との組成物を、ラビング処理したポリイミド配向膜を形
成してあるITO透明電極を設けたガラス基板にプレス
法、スピンコート法又はキャスト法により、膜厚約10
μmのフィルムを形成した後、アニーリングを行ない、
さらに上部電極をとり付けた液晶セルに、Sc* 相で1
0V/μmの電界をかけた。このとき電界に応答した分
子の反転が観測された。応答速度を表1に示した。な
お、応答速度は分極反転電流を観測することにより求め
た。
【0214】
【化94】
Mn =17,100
【0215】
【表1】
【0216】比較例1
実施例8と同様に、前記高分子液晶β1 と下記の高分子
液晶γ1 との組成物(1:1)の応答速度を測定したと
ころ、応答速度は2.5msであった。
液晶γ1 との組成物(1:1)の応答速度を測定したと
ころ、応答速度は2.5msであった。
【0217】
【化95】
Mn =12,100
【0218】実施例9
下記の構造式で表わされるモノマー(7)1.070g
とモノマー(8)0.050gを、重合度約40のポリ
メチルハイドロジェンシロキサン(1b)0.127
g、触媒H2 PtCl6 ・5H2 Oとともにトルエン中
で反応させた。その後、メタノール−エーテル混合溶媒
で再沈殿をくり返してポリマー(9a)を0.756g
得た。図3にポリマー(9a)の1H−NMR(CDC
l3 中)を示す。
とモノマー(8)0.050gを、重合度約40のポリ
メチルハイドロジェンシロキサン(1b)0.127
g、触媒H2 PtCl6 ・5H2 Oとともにトルエン中
で反応させた。その後、メタノール−エーテル混合溶媒
で再沈殿をくり返してポリマー(9a)を0.756g
得た。図3にポリマー(9a)の1H−NMR(CDC
l3 中)を示す。
【0219】
【化96】
【0220】ポリマー(9a)の相転移温度(℃)
【0221】
【数8】
54.1 85.0
────→ ─────→
スメクチック相 スメクチック相
←──── ←─────
51.3 68.6
179.1
─────→
カイラルスメクチックC相 等方相
←─────
175.0
Mn =18,200
【0222】実施例10
実施例9のモノマー(7)0.876g,モノマー
(8)0.123gおよびポリメチルハイドロジェンシ
ロキサン(1b)0.191gを用いて、実施例9と同
様の操作を行ない、ポリマー(10a)を0.500g
得た。図4にポリマー(10a)の 1H−NMR(CD
Cl3 中)を示す。
(8)0.123gおよびポリメチルハイドロジェンシ
ロキサン(1b)0.191gを用いて、実施例9と同
様の操作を行ない、ポリマー(10a)を0.500g
得た。図4にポリマー(10a)の 1H−NMR(CD
Cl3 中)を示す。
【0223】ポリマー(10a)の相転移温度(℃)
【0224】
【数9】
48.0 55.0
────→ ─────→
スメクチック相 スメクチック相
←──── ←─────
43.6 53.4
156.5
─────→
カイラルスメクチック相 等方相
←─────
157.8
Mn =20,300
【0225】実施例11
実施例9のモノマー(7)0.704g,モノマー
(8)0.296gおよびポリメチルハイドロジェンシ
ロキサン(1b)0.281gを用いて、実施例9と同
様の操作を行ない、ポリマー(11a)を0.690g
得た。
(8)0.296gおよびポリメチルハイドロジェンシ
ロキサン(1b)0.281gを用いて、実施例9と同
様の操作を行ない、ポリマー(11a)を0.690g
得た。
【0226】ポリマー(11a)の相転移温度(℃)
【0227】
【数10】
Mn =15,200
【0228】実施例12
実施例9のモノマー(8)0.017g,下記の構造式
で表わされるモノマー(9)0.460gおよびポリメ
チルハイドロジェンシロキサン(1b)0.066gを
用いて、実施例9と同様の操作を行ない、ポリマー(1
2a)を0.281g得た。
で表わされるモノマー(9)0.460gおよびポリメ
チルハイドロジェンシロキサン(1b)0.066gを
用いて、実施例9と同様の操作を行ない、ポリマー(1
2a)を0.281g得た。
【0229】
【化97】
ポリマー(12a)の相転移温度(℃)
【0230】
【数11】
79.1 131.1
─────→ ─────→
スメクチック相 スメクチックA相 等方相
←───── ←─────
78.2 129.2
Mn =18,200
【0231】実施例13
実施例9のモノマー(7)0.900g,下記の構造式
で表わされるモノマー(10)0.048gおよびポリ
メチルハイドロジェンシロキサン(1b)0.108g
を用いて、実施例9と同様の操作を行ない、ポリマー
(13a)を0.602g得た。
で表わされるモノマー(10)0.048gおよびポリ
メチルハイドロジェンシロキサン(1b)0.108g
を用いて、実施例9と同様の操作を行ない、ポリマー
(13a)を0.602g得た。
【0232】
【化98】
【0233】ポリマー(13a)の相転移温度(℃)
【0234】
【数12】
43.8 78.0
────→ ─────→
スメクチック相 スメクチック相
←──── ←─────
41.0 67.2
170.1
─────→
カイラルスメクチックC相 等方相
←─────
168.9
Mn =19,300
【0235】実施例14
実施例9のモノマー(7)0.900g,実施例13の
モノマー(10)0.240gおよびポリメチルハイド
ロジェンシロキサン(1b)0.179gを用いて、実
施例13と同様の操作を行ない、ポリマー(14a)を
0.523g得た。
モノマー(10)0.240gおよびポリメチルハイド
ロジェンシロキサン(1b)0.179gを用いて、実
施例13と同様の操作を行ない、ポリマー(14a)を
0.523g得た。
【0236】ポリマー(14a)の相転移温度(℃)
【0237】
【数13】
44.0 48.0
────→ ─────→
スメクチック相 スメクチック相
←──── ←─────
43.1 47.9
150.0
─────→
カイラルスメクチックC相 等方相
←─────
148.1
Mn =17,200
【0238】実施例15
下記の構造式で表わされるモノマー(11)0.800
g、実施例13のモノマー(10)0.046gおよび
ポリメチルハイドロジェンシロキサン(1b)0.10
3gを用いて、実施例9と同様の操作を行ない、ポリマ
ー(15a)を0.511g得た。
g、実施例13のモノマー(10)0.046gおよび
ポリメチルハイドロジェンシロキサン(1b)0.10
3gを用いて、実施例9と同様の操作を行ない、ポリマ
ー(15a)を0.511g得た。
【0239】
【化99】
【0240】ポリマー(15a)の相転移温度(℃)
【0241】
【数14】
85.1 120.5
────→ ─────→
スメクチック相 スメクチック相
←──── ←─────
83.2 120.1
185.0 220.1
─────→ ─────→
カイラルスメクチックC相 スメクチックA相 等方相
←───── ←─────
183.8 218.0
Mn =19,800
【0242】実施例16
実施例9のモノマー(7)0.875g,下記の構造式
で表わされるモノマー(12)0.144gおよびポリ
メチルハイドロジェンシロキサン(1b)0.096g
を用いて、実施例9と同様の操作を行ない、ポリマー
(16a)を0.623g得た。
で表わされるモノマー(12)0.144gおよびポリ
メチルハイドロジェンシロキサン(1b)0.096g
を用いて、実施例9と同様の操作を行ない、ポリマー
(16a)を0.623g得た。
【0243】
【化100】
【0244】ポリマー(16a)の相転移温度(℃)
【0245】
【数15】
55.2 77.1
────→ ─────→
スメクチック相 スメクチック相
←──── ←─────
53.8 75.9
173.1
─────→
カイラルスメクチックC相 等方相
←─────
170.4
Mn =21,100
【0246】実施例17
以上の実施例で得られた高分子液晶共重合体化合物又
は、これらの化合物と低分子液晶α2 又は高分子液晶β
2 との組成物を、ラビング処理したポリイミド配向膜を
形成してあるITO透明電極を設けたガラス基板にプレ
ス法、スピンコート法又はキャスト法により、膜厚約1
0μmのフィルムを形成した後、アニーリングを行な
い、さらに上部電極をとり付けた液晶セルに、Sc* 相
で10V/μmの電界をかけた。このとき電界に応答し
た分子の反転が観測された。応答速度を表2に示した。
なお、応答速度は分極反転電流を観測することにより求
めた。
は、これらの化合物と低分子液晶α2 又は高分子液晶β
2 との組成物を、ラビング処理したポリイミド配向膜を
形成してあるITO透明電極を設けたガラス基板にプレ
ス法、スピンコート法又はキャスト法により、膜厚約1
0μmのフィルムを形成した後、アニーリングを行な
い、さらに上部電極をとり付けた液晶セルに、Sc* 相
で10V/μmの電界をかけた。このとき電界に応答し
た分子の反転が観測された。応答速度を表2に示した。
なお、応答速度は分極反転電流を観測することにより求
めた。
【0247】
【化101】
Mn =17,100
【0248】
【表2】
【0249】比較例2
実施例17と同様に、前記高分子液晶β2 と下記の高分
子液晶γ2 との組成物(1:1)の応答速度を測定した
ところ、応答速度は2.5msであった。
子液晶γ2 との組成物(1:1)の応答速度を測定した
ところ、応答速度は2.5msであった。
【0250】
【化102】
Mn =12,100
【0251】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
均質かつ低粘性で応答特性のよい大面積化の可能な高分
子液晶共重合体化合物および高分子液晶組成物を得るこ
とができる。また、これらの高分子液晶共重合体化合物
および高分子液晶組成物を用いれば、応答特性がよく、
容易に大面積化の可能な高分子液晶素子を得ることがで
きる。
均質かつ低粘性で応答特性のよい大面積化の可能な高分
子液晶共重合体化合物および高分子液晶組成物を得るこ
とができる。また、これらの高分子液晶共重合体化合物
および高分子液晶組成物を用いれば、応答特性がよく、
容易に大面積化の可能な高分子液晶素子を得ることがで
きる。
【図1】ポリマー(2a)の 1H−NMR(CDCl3
中)である。
中)である。
【図2】ポリマー(3a)の 1H−NMR(CDCl3
中)である。
中)である。
【図3】ポリマー(9a)の 1H−NMR(CDCl3
中)である。
中)である。
【図4】ポリマー(10a)の 1H−NMR(CDCl
3 中)である。
3 中)である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所
C08F 216/16 MKY 6904−4J
218/02 MLH 6904−4J
299/02 MRS 7442−4J
299/08 MRY 7442−4J
C08G 63/00 NMC 7211−4J
65/26 NQN 9167−4J
77/42 NUK 8319−4J
C09K 19/38 6742−4H
19/40 6742−4H
19/42 6742−4H
G02F 1/13 500
(72)発明者 江口 岳夫
東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ
ノン株式会社内
Claims (16)
- 【請求項1】 下記一般式(Ia)で表わされる繰り返
し単位を有する高分子液晶共重合体化合物。 一般式(Ia) 【化1】 (式中、Aは炭素系の高分子主鎖を表わす。Bはポリオ
キシアルキレン基又は 【化2】 を表わす。Dは−(CH2 )b −又は−(CH2 )b −
O−(CH2 )c −を表わす。b,cは0〜20の整数
を表わす。Rはアルキル基,フェニル基,シロキシ基又
はポリシロキシ基を表わす。R′はアルキル基又はフェ
ニル基を表わす。aは0〜50の整数を表わす。) - 【請求項2】 光学活性基を有する請求項1記載の高分
子液晶共重合体化合物。 - 【請求項3】 強誘電性を有する請求項1記載の高分子
液晶共重合体化合物。 - 【請求項4】 下記一般式(IIa)で表わされる繰り
返し単位を有する請求項1記載の高分子液晶共重合体化
合物。 一般式(IIa) 【化3】 (式中、Uは高分子主鎖、Vは−(CH2 )m −,−
((CH2 )2 −O)m −または−(CH2 )m −ある
いは−((CH2 )2 −O)m −のうち1つもしくは2
つ以上の水素原子がアルキル基,ハロゲン原子,シアノ
基,アミノ基あるいはカルボニル基で置換されていても
よい構造を表わす。mは0〜30の整数を表わす。Wは
単結合,−O−,−OCO−,−COO−,−CONR
3 −,−CO−または−NR3 −を表わし、R3 は水素
原子又はアルキル基である。Xはメソーゲンを表わし、
置換されていてもよいホモ芳香族環,ヘテロ芳香族環又
は脂肪族環のうち2つ以上の環が単結合,−O−,−O
CO−,−COO−,−(CH2 )n −,−N=N−,
−(CH=CH)n −,−CH=N−,−N=CH−,
−(C≡C)n −,−CONR3 −,−(CO)n −も
しくは−NR3 −により結合している構造を表わす。n
は1〜10の整数を表わす。Yは−COOCH2−,−
O−CH2 −,−OCO−を表わす。*は不斉炭素原子
を表わす。Zは−R2 ,−COR2 を表わし、R2 は水
素原子又は置換されていてもよいアルキル基である。) - 【請求項5】 下記一般式(IIIa)で表わされる繰
り返し単位を有する請求項1記載の高分子液晶共重合体
化合物。 一般式(IIIa) 【化4】 (式中、U1 は高分子主鎖、V1 は−(CH2)m1−,
−((CH2 )2 −O)m1−または−(CH2 )m1−あ
るいは−((CH2)2 −O)m1−のうち1つもしくは
2つ以上の水素原子がアルキル基,ハロゲン原子,シア
ノ基,アミノ基あるいはカルボニル基で置換されていて
もよい構造を表わす。m1 は0〜30の整数を表わす。
W1 は単結合,−O−,−OCO−,−COO−,−C
ONR3 ′−,−CO−または−NR3 ′−を表わし、
R3 ′は水素原子又はアルキル基である。X1 はメソー
ゲンを表わし、置換されていてもよいホモ芳香族環,ヘ
テロ芳香族環又は脂肪族環のうち2つ以上の環が単結
合,−O−,−OCO−,−COO−,−(CH2 )n1
−,−N=N−,−(CH=CH)n1−,−CH=N
−,−N=CH−,−(C≡C)n1−,−CONR3 ′
−,−(CO)n1−もしくは−NR3 ′−により結合し
ている構造を表わす。n1 は1〜10の整数を表わす。
Y1 は単結合,−O−又は−COO−を表わす。Z1 は
置換されていてもよいアルキル基を表わす。*は不斉炭
素原子を表わす。) - 【請求項6】 請求項1乃至5のいずれかの項記載の高
分子液晶共重合体化合物と、他の高分子化合物、高分子
液晶、低分子化合物および低分子液晶のうちの少なくと
も一種の化合物を含有することを特徴とする高分子液晶
組成物。 - 【請求項7】 請求項1乃至5のいずれかの項記載の高
分子液晶共重合体化合物を用いることを特徴とする高分
子液晶素子。 - 【請求項8】 請求項6記載の高分子液晶組成物を用い
ることを特徴とする高分子液晶素子。 - 【請求項9】 下記一般式(Ib)で表わされる繰り返
し単位を有する高分子液晶共重合体化合物。 一般式(Ib) 【化5】 (式中、R1 はアルキル基又はフェニル基、A1 は置換
されていてもよい炭素原子数3以上のアルキル基、ポリ
オキシアルキレン基、アリール基又は 【化6】 を表わす。B1 は−(CH2 )b −又は−(CH2 )b
−O−(CH2 )c −を表わす。b,cは0〜20の整
数を表わす。Rはアルキル基,フェニル基,シロキシ基
又はポリシロキシ基を表わす。R′はアルキル基又はフ
ェニル基を表わす。aは0〜50の整数を表わす。) - 【請求項10】 光学活性基を有する請求項9記載の高
分子液晶共重合体化合物。 - 【請求項11】 強誘電性を有する請求項9記載の高分
子液晶共重合体化合物。 - 【請求項12】 下記一般式(IIb)で表わされる繰
り返し単位を有する請求項9記載の高分子液晶共重合体
化合物。 一般式(IIb) 【化7】 (式中、R1 はアルキル基又はフェニル基、Vは−(C
H2 )m −,−((CH2 )2 −O)m −または−(C
H2 )m −あるいは−((CH2)2 −O)m −のうち
1つもしくは2つ以上の水素原子がアルキル基,ハロゲ
ン原子,シアノ基,アミノ基あるいはカルボニル基で置
換されていてもよい構造を表わす。mは0〜30の整数
を表わす。Wは単結合,−O−,−OCO−,−COO
−,−CONR3 −,−CO−または−NR3 −を表わ
し、R3 は水素原子又はアルキル基である。Xはメソー
ゲンを表わし、置換されていてもよいホモ芳香族環,ヘ
テロ芳香族環又は脂肪族環のうち2つ以上の環が単結
合,−O−,−OCO−,−COO−,−(CH2 )n
−,−N=N−,−(CH=CH)n −,−CH=N
−,−N=CH−,−(C≡C)n −,−CONR3
−,−(CO)n −もしくは−NR3 −により結合して
いる構造を表わす。nは1〜10の整数を表わす。Yは
−COOCH2 −,−O−CH2 −,−OCO−を表わ
す。*は不斉炭素原子を表わす。Zは−R2 ,−COR
2 を表わし、R2 は水素原子又は置換されていてもよい
アルキル基である。) - 【請求項13】 下記一般式(IIIb)で表わされる
繰り返し単位を有する請求項9記載の高分子液晶共重合
体化合物。 一般式(IIIb) 【化8】 (式中、R1 はアルキル基又はフェニル基、V1 は−
(CH2 )m1−,−((CH2 )2 −O)m1−または−
(CH2 )m1−あるいは−((CH2 )2 −O)m1−の
うち1つもしくは2つ以上の水素原子がアルキル基,ハ
ロゲン原子,シアノ基,アミノ基あるいはカルボニル基
で置換されていてもよい構造を表わす。m1は0〜30
の整数を表わす。W1 は単結合,−O−,−OCO−,
−COO−,−CONR3 ′−,−CO−または−NR
3 ′−を表わし、R3 ′は水素原子又はアルキル基であ
る。X1 はメソーゲンを表わし、置換されていてもよい
ホモ芳香族環,ヘテロ芳香族環又は脂肪族環のうち2つ
以上の環が単結合,−O−,−OCO−,−COO−,
−(CH2 )n1−,−N=N−,−(CH=CH)
n1−,−CH=N−,−N=CH−,−(C≡C)
n1−,−CONR3 ′−,−(CO)n1−もしくは−N
R3 ′−により結合している構造を表わす。n1 は1〜
10の整数を表わす。Y1 は単結合,−O−又は−CO
O−を表わす。Z1 は置換されていてもよいアルキル基
を表わす。*は不斉炭素原子を表わす。) - 【請求項14】 請求項9乃至13のいずれかの項記載
の高分子液晶共重合体化合物と、他の高分子化合物、高
分子液晶、低分子化合物および低分子液晶のうちの少な
くとも一種の化合物を含有することを特徴とする高分子
液晶組成物。 - 【請求項15】 請求項9乃至13のいずれかの項記載
の高分子液晶共重合体化合物を用いることを特徴とする
高分子液晶素子。 - 【請求項16】 請求項14記載の高分子液晶組成物を
用いることを特徴とする高分子液晶素子。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03166093A JP3134947B2 (ja) | 1990-06-29 | 1991-06-12 | 高分子共重合体液晶化合物、その組成物及びそれらを用いた高分子液晶素子 |
| US07/722,204 US5447655A (en) | 1990-06-29 | 1991-06-27 | Polymeric liquid crystal copolymer compound, composition, thererof, and polymeric liquid crystal device making use of these |
| AT91110800T ATE178932T1 (de) | 1990-06-29 | 1991-06-28 | Flüssigkristallcopolymerverbindung, sie enthaltende zusammensetzung und sie verwendende flüssigkristallpolymervorrichtung |
| EP91110800A EP0464728B1 (en) | 1990-06-29 | 1991-06-28 | Liquid crystal copolymer compound, composition thereof, and polymeric liquid crystal device making use of these |
| DE69131113T DE69131113T2 (de) | 1990-06-29 | 1991-06-28 | Flüssigkristallcopolymerverbindung, sie enthaltende Zusammensetzung und sie verwendende Flüssigkristallpolymervorrichtung |
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|---|---|---|---|
| JP16975390 | 1990-06-29 | ||
| JP2-169753 | 1990-06-30 | ||
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| JP03166093A JP3134947B2 (ja) | 1990-06-29 | 1991-06-12 | 高分子共重合体液晶化合物、その組成物及びそれらを用いた高分子液晶素子 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0532736A true JPH0532736A (ja) | 1993-02-09 |
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