JPH06114215A - 異物除去装置 - Google Patents
異物除去装置Info
- Publication number
- JPH06114215A JPH06114215A JP4265704A JP26570492A JPH06114215A JP H06114215 A JPH06114215 A JP H06114215A JP 4265704 A JP4265704 A JP 4265704A JP 26570492 A JP26570492 A JP 26570492A JP H06114215 A JPH06114215 A JP H06114215A
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Landscapes
- Filtration Of Liquid (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】流体を使用する装置の配管内の流体の流れ方向
が一方向あるいはその逆の方向であっても方向に関係な
く取付け出来、かつ流体中の異物除去も出来る。 【構成】両端に配管接続部８をもつ容器２ａの内部に仕
切壁６を設けて２つの隔離室３ａ，３ｂを形成し、それ
ぞれの隔離室に開口を互いに逆に向けて異物除去材１を
収納し、これらの異物除去材１の流れ方向の前後に一方
向のみ液体を通過させる逆止め弁５を設け、流れの方向
がいずれかであっても、流れ方向に対応する逆止め弁５
が開き、異物除去材１に液体を通過させる。
が一方向あるいはその逆の方向であっても方向に関係な
く取付け出来、かつ流体中の異物除去も出来る。 【構成】両端に配管接続部８をもつ容器２ａの内部に仕
切壁６を設けて２つの隔離室３ａ，３ｂを形成し、それ
ぞれの隔離室に開口を互いに逆に向けて異物除去材１を
収納し、これらの異物除去材１の流れ方向の前後に一方
向のみ液体を通過させる逆止め弁５を設け、流れの方向
がいずれかであっても、流れ方向に対応する逆止め弁５
が開き、異物除去材１に液体を通過させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、流体を導く配管経路の
設け該流体内の異物を除去する異物除去装置に関する。
設け該流体内の異物を除去する異物除去装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造装置では、流体を使用
する装置では半導体装置への異物付着による半導体装置
の不良発生を防止する目的として流体内に含まれる異物
を除去するのに流体を導入する配管に異物除去装置を設
けるのが一般的である。
する装置では半導体装置への異物付着による半導体装置
の不良発生を防止する目的として流体内に含まれる異物
を除去するのに流体を導入する配管に異物除去装置を設
けるのが一般的である。
【０００３】図３（ａ）及び（ｂ）は従来の一例を示す
異聞除去装置の正面図及び断面図である。従来、この種
の異物除去装置は、図３で示すように、両側に開口をも
つとともに配管接続部８が形成される円筒状の容器２
と、一端を容器２の仕切壁に取付け開口を流れの方向に
向けて容器２内に収納される円筒状の異物除去材１を有
していた。
異聞除去装置の正面図及び断面図である。従来、この種
の異物除去装置は、図３で示すように、両側に開口をも
つとともに配管接続部８が形成される円筒状の容器２
と、一端を容器２の仕切壁に取付け開口を流れの方向に
向けて容器２内に収納される円筒状の異物除去材１を有
していた。
【０００４】この容器２内に取付けられる異物除去材１
は流体の構成する分子は通過するがそれより大きい異物
は通過できない径の穴をもつポーラスな材料である。そ
してこの異物除去装置は、図に示す方向に流体を流し、
異物除去材１に異物を捕捉し、異物の混入しない流体を
出口より供給するように装置の配管経路途中に設けられ
ていた。
は流体の構成する分子は通過するがそれより大きい異物
は通過できない径の穴をもつポーラスな材料である。そ
してこの異物除去装置は、図に示す方向に流体を流し、
異物除去材１に異物を捕捉し、異物の混入しない流体を
出口より供給するように装置の配管経路途中に設けられ
ていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この従来の異物除去装
置では、異物除去材が流体の流れ方向に向って一つの開
口をもっているので、それは逆方向に流体を流すと、異
物除去材に捕捉されていた異物が放出され配管を汚染す
る。従って、半導体製造装置の配管系統に取付ける場合
は、流体の流れ方向に異物除去材の開口を向けて取付け
なければならないという制限がある。云い換えれば適用
範囲が限定される欠点がある。例えば、流体を両方向に
変更して流すような装置の配管系統には、適用出来ず、
このため配管系統を２系統にし、それぞれに異物除去装
置を取付けるといった無駄な費用をかけることになる。
置では、異物除去材が流体の流れ方向に向って一つの開
口をもっているので、それは逆方向に流体を流すと、異
物除去材に捕捉されていた異物が放出され配管を汚染す
る。従って、半導体製造装置の配管系統に取付ける場合
は、流体の流れ方向に異物除去材の開口を向けて取付け
なければならないという制限がある。云い換えれば適用
範囲が限定される欠点がある。例えば、流体を両方向に
変更して流すような装置の配管系統には、適用出来ず、
このため配管系統を２系統にし、それぞれに異物除去装
置を取付けるといった無駄な費用をかけることになる。
【０００６】本発明の目的は、一方向及びその逆方向に
流れる液体の異物除去に適用出来る取付け方向を限定し
ない異物除去装置を提供することである。
流れる液体の異物除去に適用出来る取付け方向を限定し
ない異物除去装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の異物除去装置
は、配管接続部を両端にもつとともに内部の仕切壁によ
って２つの隔離室が形成される容器と、前記隔離室のそ
れぞれに開口を互いに逆にして取付けられるコップ状の
異物除去部材と、この異物除去部材における液体の流れ
方向の前後に配置される逆止め弁とを備えている。
は、配管接続部を両端にもつとともに内部の仕切壁によ
って２つの隔離室が形成される容器と、前記隔離室のそ
れぞれに開口を互いに逆にして取付けられるコップ状の
異物除去部材と、この異物除去部材における液体の流れ
方向の前後に配置される逆止め弁とを備えている。
【０００８】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【０００９】図１（ａ）〜（ｃ）は本発明の異物除去装
置の一実施例を示す平面図，ＡＡ断面図及びＢＢ断面図
である。この異物除去装置は、図１に示すように、液体
の出入口である開口をもつ配管接続部８を両端に有する
容器２ａの内部に仕切壁６を形成し、この仕切壁６によ
って２つの隔離室３ａ，３ｂを設け、この隔離室３ａ，
３ｂに互いに逆向きになるように異物除去材１を取付
け、これら異物除去材１の流れ方向での前後に逆止め弁
５をそれぞれ２個ずつ備えたことである。また、逆止め
弁５は、開口５ａを開閉を任うボール５ｃと、このボー
ル５ｃの開閉動作を引起すばね５ｂとで構成される。
置の一実施例を示す平面図，ＡＡ断面図及びＢＢ断面図
である。この異物除去装置は、図１に示すように、液体
の出入口である開口をもつ配管接続部８を両端に有する
容器２ａの内部に仕切壁６を形成し、この仕切壁６によ
って２つの隔離室３ａ，３ｂを設け、この隔離室３ａ，
３ｂに互いに逆向きになるように異物除去材１を取付
け、これら異物除去材１の流れ方向での前後に逆止め弁
５をそれぞれ２個ずつ備えたことである。また、逆止め
弁５は、開口５ａを開閉を任うボール５ｃと、このボー
ル５ｃの開閉動作を引起すばね５ｂとで構成される。
【００１０】次に、この異物除去装置の動作について説
明する。まず、図１（ｂ）に示すように、矢印の方向に
流れる液体の場合は、配管接続部８から導入される液体
は隔離室３ａ側のボール５ｃをばね５ｂを抗して押す。
このことにより開口５ａは開き、液体は異物除去材１を
通過する。通過した液体は、後段にあるボール５ｃをば
ね５ｂを抗して押して開口５ａは開き、配管接続部８よ
り流出する。一方、隔離室３ｂ側は、図１（ｃ）に示す
ように、ばね５ｂの反揆力方向と液体の流れ方向と同じ
方向であるので、ボール５ｃはばね５ｂで押され開口５
ａを閉じたままになる、液体は流れない。
明する。まず、図１（ｂ）に示すように、矢印の方向に
流れる液体の場合は、配管接続部８から導入される液体
は隔離室３ａ側のボール５ｃをばね５ｂを抗して押す。
このことにより開口５ａは開き、液体は異物除去材１を
通過する。通過した液体は、後段にあるボール５ｃをば
ね５ｂを抗して押して開口５ａは開き、配管接続部８よ
り流出する。一方、隔離室３ｂ側は、図１（ｃ）に示す
ように、ばね５ｂの反揆力方向と液体の流れ方向と同じ
方向であるので、ボール５ｃはばね５ｂで押され開口５
ａを閉じたままになる、液体は流れない。
【００１１】また、逆に図１（ｃ）の矢印に示す液体が
流れる場合は、隔離室３ｂ側の逆止め弁５が開き、隔離
室３ａ側の逆止め弁５が閉じる。このことにより液体
は、図１（ｃ）に示すように、底面右側から左側に流れ
る。
流れる場合は、隔離室３ｂ側の逆止め弁５が開き、隔離
室３ａ側の逆止め弁５が閉じる。このことにより液体
は、図１（ｃ）に示すように、底面右側から左側に流れ
る。
【００１２】なお、流れ方向の前後に２つの逆止め弁５
を設けることにより、流れ方向を切換えたときに各隔離
室に切換え前に残留する異物が逆流しないようにしてあ
る。次に、本発明の異物除去装置を適用した装置例を挙
げて説明する。
を設けることにより、流れ方向を切換えたときに各隔離
室に切換え前に残留する異物が逆流しないようにしてあ
る。次に、本発明の異物除去装置を適用した装置例を挙
げて説明する。
【００１３】図２は図１の異物除去装置を適用した清掃
装置の例における概略を示す図である。この清掃装置
は、図２に示すように、配管端部に接続される異物除去
装置１１と、この異物除去装置の後段の配管１２に接続
される流体圧送吸３１装置１３とを有している。また、
流体の送出，吸引を繰り返す機能を備え、例えばダイア
フラムを用いたポンプ等により容易に実現できる。
装置の例における概略を示す図である。この清掃装置
は、図２に示すように、配管端部に接続される異物除去
装置１１と、この異物除去装置の後段の配管１２に接続
される流体圧送吸３１装置１３とを有している。また、
流体の送出，吸引を繰り返す機能を備え、例えばダイア
フラムを用いたポンプ等により容易に実現できる。
【００１４】この清掃装置は、流体圧送吸引装置の動作
により配管端部１４の付近の雰囲気を吸引したり、送風
したりすることで、配管端部１４を半導体装置製造装置
内に入れば、その場所の雰囲気を清掃化出来る。
により配管端部１４の付近の雰囲気を吸引したり、送風
したりすることで、配管端部１４を半導体装置製造装置
内に入れば、その場所の雰囲気を清掃化出来る。
【００１５】ちなみに、スパッタリング装置の真空槽の
清掃にこの清掃装置を使用してみたところ従来の真空掃
除機による吸引のみの清掃と比較し効率の高い清掃が実
施できる。例えば、清掃前後で半導体基板に付着する異
物数を計測し除去率を比較したところ、従来方法では６
０〜７０％の除去率であったのに対し本発明の装置では
９０％以上の除去率が得られた。
清掃にこの清掃装置を使用してみたところ従来の真空掃
除機による吸引のみの清掃と比較し効率の高い清掃が実
施できる。例えば、清掃前後で半導体基板に付着する異
物数を計測し除去率を比較したところ、従来方法では６
０〜７０％の除去率であったのに対し本発明の装置では
９０％以上の除去率が得られた。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、異物除去
装置は、流体の出入口を両端にもつ密封容器の内部に仕
切壁を設けて２つの隔離室を形成し、これら隔離室に互
いに開口を逆向きに異物除去材を収納し、収納された異
物除去材の流れ方向の前後に逆止め弁を設けることによ
って、液体の流れが一方向あるいはその方向の逆方向で
あっても、いずれかの順方向の逆止め弁が開き、この逆
止め弁に対応する異物除去材を通過することが出来るの
で、一方向及びその逆方向に流れる液体に異物除去が出
来るし、取付け向きを限定することがないという効果が
ある。
装置は、流体の出入口を両端にもつ密封容器の内部に仕
切壁を設けて２つの隔離室を形成し、これら隔離室に互
いに開口を逆向きに異物除去材を収納し、収納された異
物除去材の流れ方向の前後に逆止め弁を設けることによ
って、液体の流れが一方向あるいはその方向の逆方向で
あっても、いずれかの順方向の逆止め弁が開き、この逆
止め弁に対応する異物除去材を通過することが出来るの
で、一方向及びその逆方向に流れる液体に異物除去が出
来るし、取付け向きを限定することがないという効果が
ある。
【図１】本発明の異物除去装置の一実施例を平面図、Ａ
Ａ断面図及びＢＢ断面図である。
Ａ断面図及びＢＢ断面図である。
【図２】図１の異物除去装置を適用した清掃装置の一例
における概略を示す図である。
における概略を示す図である。
【図３】従来の異物除去装置の一例を示す正面図及び断
面図である。
面図である。
１ 異物除去材 ２，２ａ 容器 ３ａ，３ｂ 隔離室 ５ 逆止め弁 ５ａ 開口 ５ｂ ばね ５ｃ ボール ６ 仕切壁 ８ 配管接続部 １１ 異物除去装置 １２ 配管 １３ 流体圧送吸引装置 １４ 配管端部
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 29/60 35/16 6953−4Ｄ 46/24 Ｚ 7059−4Ｄ 46/42 Ｚ 7059−4Ｄ 7112−4Ｄ Ｂ０１Ｄ 29/36
Claims (1)
- 【請求項１】 配管接続部を両端にもつとともに内部の
仕切壁によって２つの隔離室が形成される容器と、前記
隔離室のそれぞれに開口を互いに逆にして取付けられる
コップ状の異物除去部材と、この異物除去部材における
液体の流れ方向の前後に配置される逆止め弁とを備える
ことを特徴とする異物除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4265704A JP2985531B2 (ja) | 1992-10-05 | 1992-10-05 | 異物除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4265704A JP2985531B2 (ja) | 1992-10-05 | 1992-10-05 | 異物除去装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06114215A true JPH06114215A (ja) | 1994-04-26 |
| JP2985531B2 JP2985531B2 (ja) | 1999-12-06 |
Family
ID=17420854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4265704A Expired - Lifetime JP2985531B2 (ja) | 1992-10-05 | 1992-10-05 | 異物除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2985531B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006239655A (ja) * | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Kuroda Pneumatics Ltd | インラインフィルタ装置 |
| EP4608564A4 (en) * | 2023-06-06 | 2026-03-11 | Sistem Teknik Makina Sanayi Ve Ticaret Anonim Sirketi | POWDER PAINT INJECTOR FILTER SYSTEM BASED ON THE VENTURI PRINCIPLE |
-
1992
- 1992-10-05 JP JP4265704A patent/JP2985531B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006239655A (ja) * | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Kuroda Pneumatics Ltd | インラインフィルタ装置 |
| EP4608564A4 (en) * | 2023-06-06 | 2026-03-11 | Sistem Teknik Makina Sanayi Ve Ticaret Anonim Sirketi | POWDER PAINT INJECTOR FILTER SYSTEM BASED ON THE VENTURI PRINCIPLE |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2985531B2 (ja) | 1999-12-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990831 |