JPH06187787A - Semiconductor memory and control method for operation of its pipe line - Google Patents

Semiconductor memory and control method for operation of its pipe line

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JPH06187787A
JPH06187787A JP35515792A JP35515792A JPH06187787A JP H06187787 A JPH06187787 A JP H06187787A JP 35515792 A JP35515792 A JP 35515792A JP 35515792 A JP35515792 A JP 35515792A JP H06187787 A JPH06187787 A JP H06187787A
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JP
Japan
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circuit
signal
latch circuit
clock pulse
level
Prior art date
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Pending
Application number
JP35515792A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuki Honma
和樹 本間
Hideyuki Aoki
英之 青木
Kinya Mitsumoto
欽哉 光本
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 合理的なパイプライン動作を実現した半導体
記憶装置とそのパイプライン動作制御方法を提供する。 【構成】 メモリアクセスの開始から終了までの回路を
複数段に分け、クロックパルスのエッジにより前段回路
の出力信号を取り込むラッチ回路を設け、前段回路での
信号伝播遅延時間に対応させて上記ラッチ回路に供給さ
れるクロックパルスを遅延させる。 【効果】 クロックパルスの遅延によって、実質的な各
回路間における信号伝播遅延時間を各回路段ごとに振り
分けて設定することができるので、集積度や消費電力を
犠牲にすることなく動作の高速化を図ることができる。
(57) [Summary] [Object] To provide a semiconductor memory device that realizes a rational pipeline operation and a pipeline operation control method thereof. [Structure] The circuit from the start to the end of memory access is divided into a plurality of stages, and a latch circuit for taking in the output signal of the preceding circuit at the edge of a clock pulse is provided, and the above-mentioned latch circuit is provided corresponding to the signal propagation delay time in the preceding circuit Delay the clock pulse supplied to. [Effect] Since the signal propagation delay time between the circuits can be substantially set and distributed for each circuit stage by the delay of the clock pulse, the operation speed can be increased without sacrificing the degree of integration and power consumption. Can be planned.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体記憶装置とそ
のパイプライン動作制御方法に関し、例えば、メモリセ
ルがCMOS(相補型MOS)回路により構成され、E
CL(エミッタ・カップルド・ロジック)と互換性を持
つ入出力インターフェイスを備えた高速スタティック型
RAMとそのパイプライン動作制御方法に利用して有効
な技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device and a pipeline operation control method thereof, and for example, a memory cell is constituted by a CMOS (complementary MOS) circuit and E
The present invention relates to a high-speed static RAM having an input / output interface compatible with CL (emitter coupled logic) and a technique effectively applied to a pipeline operation control method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】バイポーラ型トランジスタとCMOS
(相補型MOS)を複合した論理ゲートやドライバ、セ
ンスアンプなどを駆使した高速・大容量のスタティック
型RAMがある。このようなスタティック型RAMに関
しては、例えば1986年3月10日付『日経エレクト
ロニクス』頁199〜頁209がある。
2. Description of the Related Art Bipolar transistor and CMOS
There is a high-speed, large-capacity static RAM that makes full use of logic gates, drivers, sense amplifiers, etc. that combine (complementary MOS). Regarding such a static RAM, for example, there are pages 199 to 209 of "Nikkei Electronics" dated March 10, 1986.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本願発明者等において
は、上記のようなスタティック型RAMの高速化のため
に、パイプライン方式によるメモリアクセスを検討し
た。すなわち、図7に示すように、メモリアクセスを行
う回路を4段に分割し、アドレスバッファ1Aの後段
と、デコーダ3の出力バッファ4Aの後段と、センスア
ンプ9の後段にそれぞれラッチ回路2Aないし2Cを設
け、クロックパルスCLKのエッジにより前段の出力信
号を保持するようにするものである。これにより、クロ
ックパルスCLKの4サイクルT1〜T4によりメモリ
アクセスが行われる。
The inventors of the present application have studied a memory access by a pipeline method in order to increase the speed of the static RAM as described above. That is, as shown in FIG. 7, the circuit for performing memory access is divided into four stages, and the latch circuits 2A to 2C are provided at the subsequent stage of the address buffer 1A, the output buffer 4A of the decoder 3 and the subsequent stage of the sense amplifier 9, respectively. Is provided, and the output signal of the preceding stage is held by the edge of the clock pulse CLK. As a result, memory access is performed by the four cycles T1 to T4 of the clock pulse CLK.

【0004】このようなスタティック型RAMにおい
て、例えばサイクル時間4nsによりパイプライン動作
を行うようにすると、上記ラッチ回路間の信号伝播遅延
時間は4nsより短い(速い)時間でなければならな
い。しかし、上記従来のスタティック型RAMにあって
は、最終デコーダ回路〜メモリセル〜データ線〜センス
アンプ間の信号遅延時間を4ns以内に設定することは
極めて難しい。
In such a static RAM, if pipeline operation is performed with a cycle time of 4 ns, for example, the signal propagation delay time between the latch circuits must be shorter (faster) than 4 ns. However, in the conventional static RAM described above, it is extremely difficult to set the signal delay time between the final decoder circuit, the memory cell, the data line, and the sense amplifier within 4 ns.

【0005】そこで、上記のような信号経路の途中、例
えば、メインワードドライバ5や、サブワードドライバ
6にラッチ回路を挿入することが考えられる。しかし、
メインワードドライバやサブワードドライバは、メモリ
セルのレイアウトに対応した狭いピッチに合わせて形成
される必要があり、その数も膨大となりチップサイズ及
び消費電力の観点からも不利になる。そのため、上記の
ような構成でパイプライン動作を行わせるためは、最も
信号伝播遅延時間の長い信号経路によってサイクル時間
が決められてしまうことになる。
Therefore, it is conceivable to insert a latch circuit in the main word driver 5 or the sub word driver 6 in the middle of the signal path as described above. But,
The main word driver and the sub word driver need to be formed in conformity with a narrow pitch corresponding to the layout of the memory cell, and the number thereof becomes huge, which is also disadvantageous in terms of chip size and power consumption. Therefore, in order to perform the pipeline operation with the above configuration, the cycle time is determined by the signal path having the longest signal propagation delay time.

【0006】この発明の目的は、合理的なパイプライン
動作を実現した半導体記憶装置とそのパイプライン動作
制御方法を提供することにある。この発明の前記ならび
にそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述およ
び添付図面から明らかになるであろう。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device which realizes a rational pipeline operation and a pipeline operation control method thereof. The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、メモリアクセスの開始から
終了までの回路を複数段に分け、クロックパルスのエッ
ジにより前段回路の出力信号を取り込むラッチ回路を設
け、前段回路での信号伝播遅延時間に対応させて上記ラ
ッチ回路に供給されるクロックパルスを遅延させる。
The outline of a typical one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, the circuit from the start to the end of the memory access is divided into a plurality of stages, and a latch circuit that captures the output signal of the preceding circuit at the edge of the clock pulse is provided, and the above-mentioned latch circuit corresponds to the signal propagation delay time in the preceding circuit. Delay the supplied clock pulse.

【0008】[0008]

【作用】上記した手段によれば、クロックパルスの遅延
によって、実質的な各回路間における信号伝播遅延時間
を各回路段ごとに振り分けて設定することができるの
で、集積度や消費電力を犠牲にすることなく動作の高速
化を図ることができる。
According to the above-mentioned means, the signal propagation delay time between the respective circuits can be substantially set and distributed for each circuit stage by the delay of the clock pulse, so that the integration degree and the power consumption are sacrificed. It is possible to speed up the operation without doing so.

【0009】[0009]

【実施例】図3には、この発明が適用されるスタティッ
ク型RAMの一実施例のブロック図が示されている。同
図の各回路ブロックは、公知のBi−CMOSの製造技
術により、単結晶シリコンのような1個の半導体基板上
において形成される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 3 shows a block diagram of an embodiment of a static RAM to which the present invention is applied. Each circuit block in the figure is formed on a single semiconductor substrate such as single crystal silicon by a known Bi-CMOS manufacturing technique.

【0010】複数ビットからなるX系のアドレス信号A
X0〜AXiは、X系アドレスバッファXBに入力され
る。このアドレスバッファXBに取り込まれたアドレス
信号は、内蔵のレベル変換回路よりCMOSレベルに変
換される。このCMOSレベルに変換されたアドレス信
号はラッチ回路に保持される。
X-system address signal A consisting of a plurality of bits
X0 to AXi are input to the X system address buffer XB. The address signal taken into the address buffer XB is converted into a CMOS level by the built-in level conversion circuit. The address signal converted to the CMOS level is held in the latch circuit.

【0011】上記ラッチ回路に保持されたアドレス信号
は、X系のデコーダ回路XDにより解読され、ここでワ
ード線の選択信号が形成される。X系のテゴーダ回路X
Dは、後述するようにプリデコーダやサブワードドライ
バ等に分けられ、プリデコーダの出力部にラッチ回路が
設けられる。上記ワード線選択信号は、特に制限されな
いが、ワードドライバWDに伝えられる。このようなワ
ードドライバWDを設けることにより、多数のメモリセ
ルが結合されることによって比較的大きな負荷容量を持
つワード線を高速に選択/非選択に切り換えるようにさ
れる。
The address signal held in the latch circuit is decoded by the X-system decoder circuit XD, and a word line selection signal is formed here. X series Tegoda circuit X
As will be described later, D is divided into a predecoder, a subword driver, etc., and a latch circuit is provided at the output part of the predecoder. The word line selection signal is transmitted to the word driver WD, although not particularly limited. By providing such a word driver WD, a large number of memory cells are coupled to each other so that a word line having a relatively large load capacitance can be switched between high speed and low speed.

【0012】複数ビットからなるY系のアドレス信号A
Y0〜AYjは、Y系アドレスバッファYBに入力され
る。このアドレスバッファXBに取り込まれたアドレス
信号は、内蔵のレベル変換回路よりCMOSレベルに変
換される。このCMOSレベルに変換されたアドレス信
号はラッチ回路に保持される。
A Y-system address signal A consisting of a plurality of bits
Y0 to AYj are input to the Y system address buffer YB. The address signal taken into the address buffer XB is converted into a CMOS level by the built-in level conversion circuit. The address signal converted to the CMOS level is held in the latch circuit.

【0013】上記ラッチ回路に保持されたアドレス信号
は、Y系のデコーダ回路YDにより解読され、ここでデ
ータ線の選択信号、言い換えるならば、カラムスイッチ
の選択信号が形成される。このカラムスイッチの選択信
号は、Yセレクタ(カラムスイッチ)YSに伝えられて
選択されたデータ線を共通データ線に接続させる。
The address signal held in the latch circuit is decoded by the Y-system decoder circuit YD, and the selection signal of the data line, in other words, the selection signal of the column switch is formed here. The selection signal of the column switch is transmitted to the Y selector (column switch) YS to connect the selected data line to the common data line.

【0014】メモリアレイMARYは、後述するような
CMOS構成のスタティック型メモリセルがマトリック
ス配置されて構成される。すなわち、同図において縦方
向に延長される相補データ線と横方向に延長されるワー
ド線との交点にメモリセルが格子状に配置される。な
お、このメモリアレイMARYには、後述するようなデ
ータ線負荷回路も含まれると理解されたい。ワード線の
選択動作を速くするために、ワード線はメインワード線
とサブワード線から構成されてもよい。すなわち、ワー
ド線を分割してサブワード線として接続されるメモリセ
ルの数を減らして負荷を軽くする。そして、メインワー
ド線の選択信号とカラム系の選択信号を組み合わせてサ
ブワード線を選択するようにするものであってもよい。
The memory array MARY is constructed by arranging in a matrix static type memory cells of CMOS structure as described later. That is, in the figure, memory cells are arranged in a grid pattern at the intersections of the complementary data lines extending in the vertical direction and the word lines extending in the horizontal direction. It should be understood that the memory array MARY also includes a data line load circuit as described later. The word line may be composed of a main word line and a sub word line in order to speed up the operation of selecting the word line. That is, the load is lightened by dividing the word line to reduce the number of memory cells connected as a sub word line. Then, the sub-word line may be selected by combining the selection signal of the main word line and the selection signal of the column system.

【0015】上記共通データ線の読み出し信号は、同図
では省略されているがプリアンプを介してセンスアンプ
SAの入力に供給され、ここで高安定にかつ高速に増幅
される。センスアンプSAの増幅出力信号はラッチ回路
に保持される。このラッチ回路の出力信号は、データ出
力回路OBを通してデータ出力端子DOから送出され
る。このデータ出力端子DOから出力される読み出し信
号は、ECLレベルの信号とされる。それ故、センスア
ンプSAは、レベル変換動作を行ってECLレベルの出
力信号を形成するので、それに対応させてラッチ回路も
ECL回路により構成される。
Although not shown in the drawing, the read signal of the common data line is supplied to the input of the sense amplifier SA via a preamplifier, and is amplified here with high stability and at high speed. The amplified output signal of the sense amplifier SA is held in the latch circuit. The output signal of the latch circuit is sent from the data output terminal DO through the data output circuit OB. The read signal output from the data output terminal DO is an ECL level signal. Therefore, the sense amplifier SA performs the level conversion operation to form the ECL level output signal, and the latch circuit is also configured by the ECL circuit correspondingly.

【0016】データ入力端子DIから供給されるECL
レベルの書き込みデータは、データ入力回路IBの入力
に供給される。このデータ入力回路IBを通して取り込
まれた書き込み信号は、CMOSレベルに変換されると
ともにその後段に設けられたラッチ回路に保持される。
このラッチ回路の出力信号は、書き込みアンプWAの入
力に伝えられる。この書き込みアンプWAは、アドレス
信号の伝達経路に合わせたダミーのラッチ回路を持ち、
1サイクル遅れて共通データ線に書き込み信号を出力す
る。これにより、メモリセルの選択サイクルに合わせた
データの書込み動作が行われる。
ECL supplied from the data input terminal DI
The write data of the level is supplied to the input of the data input circuit IB. The write signal taken in through the data input circuit IB is converted into the CMOS level and held in the latch circuit provided in the subsequent stage.
The output signal of this latch circuit is transmitted to the input of the write amplifier WA. The write amplifier WA has a dummy latch circuit adapted to the transmission path of the address signal,
The write signal is output to the common data line with a delay of one cycle. As a result, the data write operation is performed in accordance with the memory cell selection cycle.

【0017】タイミング制御回路TGは、チップイネー
ブル信号CEBとライトイネーブル信号WEBを受け
て、上記デコーダ回路XD,YDを活性化する内部信号
CE、センスアンプSAの動作信号SAC、書き込みア
ンプWAを活性化させる動作信号WE及びデータ線出力
回路OBを活性化させる動作信号OE等を形成する。ア
ドレスに一対一に対応させて制御信号が入力されるた
め、タイミング制御回路においてもラッチ回路が設けら
れ、それぞれのクロックサイクルに合わせて上記各種制
御信号が出力される。
The timing control circuit TG receives the chip enable signal CEB and the write enable signal WEB, and activates the internal signal CE that activates the decoder circuits XD and YD, the operation signal SAC of the sense amplifier SA, and the write amplifier WA. An operation signal WE to be activated and an operation signal OE to activate the data line output circuit OB are formed. Since the control signal is input in one-to-one correspondence with the address, a latch circuit is also provided in the timing control circuit, and the various control signals are output according to each clock cycle.

【0018】図4には、上記スタティック型RAMのメ
モリアレイ部とその周辺回路の一実施例の具体的回路図
が示されている。同図において、Pチャンネル型MOS
FETは、そのチャンネル部分(バックゲート部)に矢
印が付加されることによってNチャンネル型MOSFE
Tと区別される。この実施例のスタティック型RAMの
入出力インターフェイスは、ECL回路と互換性を持つ
ようにされるので、回路の接地電位に対して負の電源電
圧VEEを用いるようにされる。
FIG. 4 shows a concrete circuit diagram of one embodiment of the memory array section of the static RAM and its peripheral circuits. In the figure, P-channel MOS
The FET has an N-channel MOSFET by adding an arrow to its channel portion (back gate portion).
Distinguished from T. Since the input / output interface of the static RAM of this embodiment is made compatible with the ECL circuit, the negative power supply voltage VEE is used with respect to the ground potential of the circuit.

【0019】メモリアレイMARYは、代表として相補
データ線D0,D0Bに接続される2つのメモリセルが
示されている。メモリセルMCのそれぞれは、互いに同
じ構成にされ、その1つの具体的回路が代表として示さ
れているように、ゲートとドレインが互いに交差接続さ
れ、かつソースが回路の負電圧に結合されたNチャンネ
ル型の記憶MOSFETQ1,Q2と、上記MOSFE
TQ1,Q2のドレインと回路の接地電位との間に設け
られたポリ(多結晶)シリコン層からなる高抵抗R1,
R2とを含んでいる。上記MOSFETQ1,Q2の共
通接続点と相補データ線D0,D0Bとの間にNチャン
ネル型の伝送ゲートMOSFETQ3,Q4が設けられ
ている。
In memory array MARY, two memory cells connected to complementary data lines D0 and D0B are shown as a representative. Each of the memory cells MC has the same configuration as each other, and as its one specific circuit is representatively shown, the gate and the drain are cross-connected to each other and the source is coupled to the negative voltage of the circuit. Channel type storage MOSFETs Q1 and Q2 and the above-mentioned MOSFE
High resistance R1, made of a poly (polycrystalline) silicon layer provided between the drains of TQ1 and Q2 and the ground potential of the circuit
R2 and. N-channel type transmission gate MOSFETs Q3 and Q4 are provided between the common connection point of the MOSFETs Q1 and Q2 and the complementary data lines D0 and D0B.

【0020】同じ行に配置されたメモリセルの伝送ゲー
トMOSFETQ3,Q4等のゲートは、それぞれ例示
的に示された対応するワード線W0、Wn等に共通に接
続され、同じ列に配置されたメモリセルの入出力端子
は、上記代表として例示的に示されている一対の相補デ
ータ線(相補ビット線又は相補ディジット線とも呼ばれ
ている。)D0,D0Bに接続されている。
The gates of the transmission gate MOSFETs Q3, Q4, etc. of the memory cells arranged in the same row are commonly connected to the corresponding word lines W0, Wn etc. shown by way of example, and the memories arranged in the same column. The input / output terminals of the cell are connected to a pair of complementary data lines (also referred to as complementary bit lines or complementary digit lines) D0 and D0B which are exemplarily shown as the representative.

【0021】メモリセルMCにおいて、MOSFETQ
1,Q2及び抵抗R1,R2は、一種のフリップフロッ
プ回路を構成しているが、情報保持状態における動作点
は、普通の意味でのフリップフロップ回路のそれと随分
異なる。すなわち、上記メモリセルMCにおいて、それ
を低消費電力にさせるため、その抵抗R1は、MOSF
ETQ1がオフ状態にされているときのMOSFETQ
2のゲート電圧をそのしきい値電圧よりも若干高い電圧
に維持させることができる程度の著しく高い抵抗値にさ
れる。同様に抵抗R2も高抵抗値にされる。言い換える
と、上記抵抗R1、R2は、MOSFETQ1、Q2の
ドレインリーク電流を補償できる程度の高抵抗にされ
る。抵抗R1、R2は、MOSFETQ2のゲート容量
(図示しない)に蓄積されている情報電荷が放電させら
れてしまうのを防ぐ程度の電流供給能力を持つ。
In the memory cell MC, the MOSFET Q
1, Q2 and resistors R1, R2 form a kind of flip-flop circuit, but the operating point in the information holding state is quite different from that of the flip-flop circuit in the ordinary sense. That is, in the memory cell MC, in order to reduce the power consumption thereof, the resistance R1 of the memory cell MC is
MOSFETQ when ETQ1 is turned off
It has a remarkably high resistance value such that the gate voltage of 2 can be maintained at a voltage slightly higher than its threshold voltage. Similarly, the resistance R2 is also set to a high resistance value. In other words, the resistors R1 and R2 are made high enough to compensate the drain leak currents of the MOSFETs Q1 and Q2. The resistors R1 and R2 have a current supply capability that prevents the information charges accumulated in the gate capacitance (not shown) of the MOSFET Q2 from being discharged.

【0022】この実施例に従うと、RAMがCMOS−
IC技術によって製造されるにもかかわらず、上記のよ
うにメモリセルMCはNチャンネルMOSFETとポリ
シリコン抵抗素子とから構成される。スタティック型R
AMのメモリセルとしては、上記ポリシリコン抵抗素子
に代えてPチャンネルMOSFETを用いることもでき
る。メモリセルは、PチャンネルMOSFETを用いる
場合に比べ、その大きさを小さくできる。すなわち、ポ
リシリコン抵抗を用いた場合、駆動MOSFETQ1又
はQ2のゲート電極上に形成できるとともに、それ自体
のサイズを小型化できる。そして、PチャンネルMOS
FETを用いたときのように、駆動MOSFETQ1,
Q2から比較的大きな距離を持って離さなければならな
いことがないので高集積化となる。
According to this embodiment, the RAM is a CMOS-
Although manufactured by the IC technique, the memory cell MC is composed of the N-channel MOSFET and the polysilicon resistance element as described above. Static type R
As the AM memory cell, a P-channel MOSFET may be used instead of the polysilicon resistance element. The size of the memory cell can be reduced as compared with the case of using a P-channel MOSFET. That is, when a polysilicon resistor is used, it can be formed on the gate electrode of the drive MOSFET Q1 or Q2, and the size of itself can be reduced. And P channel MOS
As when using the FET, the drive MOSFET Q1,
High integration is achieved because there is no need to keep a relatively large distance from Q2.

【0023】同図において、特に制限されないが、各相
補データ線D0,D0Bと回路の接地電位との間には、
そのゲートに定常的に電源電圧VEEが供給されること
によって抵抗素子として作用するPチャンネル型の負荷
MOSFETQ9,Q10が設けられる。これらの負荷
MOSFETQ9,Q10は、そのサイズが比較的小さ
く形成されることによって、小さなコンダクタンスを持
つようにされる。これらの負荷MOSFETQ9,Q1
0には、それぞれ並列形態にPチャンネル型の負荷MO
SFETQ11,Q12が設けられる。これらの負荷M
OSFETQ11,Q12は、そのサイズが比較的大き
く形成されることによって、比較的大きなコンダクタン
スを持つようにされる。
In the figure, although not particularly limited, between the complementary data lines D0 and D0B and the ground potential of the circuit,
P-channel type load MOSFETs Q9 and Q10 are provided which act as resistance elements when the power supply voltage VEE is constantly supplied to their gates. These load MOSFETs Q9 and Q10 are formed to have a relatively small size so as to have a small conductance. These load MOSFETs Q9, Q1
0 is a P-channel type load MO in parallel form.
SFETs Q11 and Q12 are provided. These loads M
The OSFETs Q11 and Q12 are formed to have a relatively large size so that they have a relatively large conductance.

【0024】上記MOSFETQ9〜Q12がオン状態
における合成コンダクタンスとメモリセルMCの伝送ゲ
ートMOSFET及び記憶用MOSFETの合成コンダ
クタンスとの比は、上記メモリセルMCの読み出し動作
において、相補データ線D0,D0B等が、その記憶情
報に従った所望の電位差を持つような値に選ばれる。上
記各負荷MOSFETQ11,Q12のゲートには、書
き込み動作の時に回路の接地電位のようなハイレベルに
される内部書き込み信号WEが供給される。これによ
り、書き込み動作のとき、上記負荷MOSFETQ1
1,Q12はオフ状態にされる。したがって、書き込み
動作における相補データ線の負荷手段は、上記小さなコ
ンダクタンスのMOSFETQ9,Q10のみとなる。
The ratio of the combined conductance when the MOSFETs Q9 to Q12 are in the ON state and the combined conductance of the transmission gate MOSFET and the storage MOSFET of the memory cell MC is the same as that of the complementary data lines D0 and D0B in the read operation of the memory cell MC. , A value having a desired potential difference according to the stored information. An internal write signal WE, which is set to a high level such as the ground potential of the circuit during the write operation, is supplied to the gates of the load MOSFETs Q11 and Q12. As a result, during the write operation, the load MOSFET Q1
1, Q12 are turned off. Therefore, the load means of the complementary data line in the write operation is only the MOSFETs Q9 and Q10 having the small conductance.

【0025】この実施例では、特に制限されないが、カ
ラムスイッチを通して読み出されるメモリセルの読み出
し信号の信号振幅をメモリセルのアドレスに無関係にほ
ぼ一定にするために、上記のような負荷MOSFETQ
9〜Q12は、相補データ線D0,D0Bの遠端側、言
い換えるならばら、カラムスイッチ側に接続されるデー
タ線の端に対して反対側の端ではなく、相補データ線と
カラムスイッチに近接して設けられる。具体的に説明す
るならば、上記負荷MOSFETQ9〜Q12は、カラ
ムスイッチに最も近い位置に配置されるメモリセルとカ
ラムスイッチとの間に配置される。
In this embodiment, although not particularly limited, in order to make the signal amplitude of the read signal of the memory cell read through the column switch almost constant regardless of the address of the memory cell, the load MOSFET Q as described above is used.
9 to Q12 are not on the far end side of the complementary data lines D0 and D0B, in other words, on the side opposite to the end of the data line connected to the column switch side, but near the complementary data line and the column switch. Is provided. More specifically, the load MOSFETs Q9 to Q12 are arranged between the memory cell arranged closest to the column switch and the column switch.

【0026】同図において、ワード線W0は、Xデコー
ダ回路XDとワードドライバWDとによって選択される
が、同図では図面が複雑化されるのを防ぐために、アン
ド(AND)ゲート回路G1により、後述するようなプ
リデコーダ、サブワードドライバ及びワードドライバを
兼ねている。このことは、他の代表として示されている
ワード線Wnについても同様である。これらのデコーダ
及びワードドライバは、相互において類似のアンドゲー
ト回路G1,G2等により構成される。
In the figure, the word line W0 is selected by the X decoder circuit XD and the word driver WD, but in order to prevent the drawing from being complicated in the figure, an AND gate circuit G1 is used. It also serves as a predecoder, a subword driver, and a word driver, which will be described later. The same applies to the word line Wn shown as another representative. These decoders and word drivers are composed of AND gate circuits G1 and G2 which are similar to each other.

【0027】これらのアンドゲート回路G1,G2等の
入力端子には、外部から供給される複数ビットからなる
X系の外部アドレス信号AX(AX0〜AXi)を受け
るアドレスバッファXBによって形成された内部相補ア
ドレス信号が所定の組合せをもって印加される。
The input terminals of these AND gate circuits G1, G2, etc. are internally complementary formed by an address buffer XB which receives an X-system external address signal AX (AX0 to AXi) consisting of a plurality of bits supplied from the outside. Address signals are applied in a predetermined combination.

【0028】特に制限されないが、上記メモリアレイに
おける相補データ線D0と読み出し用の共通相補データ
線RCDとの間には、Pチャンネル型MOSFETQ5
かならるカラムスイッチが設けられる。他のデータ線D
0Bと読み出し用の共通相補データ線RCDBとの間に
も、Pチャンネル型MOSFETQ6からなるカラムス
イッチが設けられる。上記メモリアレイにおける相補デ
ータ線D0と書き込み用の共通相補データ線WCDとの
間には、Nチャンネル型MOSFETQ7かならるカラ
ムスイッチが設けられる。他のデータ線D0Bと書き込
み用の共通相補データ線WCDBとの間にも、Nチャン
ネル型MOSFETQ8からなるカラムスイッチが設け
られる。
Although not particularly limited, a P-channel MOSFET Q5 is provided between the complementary data line D0 and the read common complementary data line RCD in the memory array.
A corresponding column switch is provided. Other data line D
A column switch composed of a P-channel MOSFET Q6 is also provided between 0B and the read common complementary data line RCDB. A column switch consisting of an N-channel MOSFET Q7 is provided between the complementary data line D0 and the write common complementary data line WCD in the memory array. A column switch composed of an N-channel MOSFET Q8 is also provided between the other data line D0B and the common complementary data line WCDB for writing.

【0029】上記Nチャンネル型MOSFETQ7とQ
8のゲートには、カラム選択信号Y0が供給され、Pチ
ャンネル型MOSFETQ5とQ6のゲートには、イン
バータ回路N1によって反転されたカラム選択信号Y0
Bが供給される。これにより、カラム選択信号Y0がハ
イレベルの選択レベルにされると、上記Nチャンネル型
MOSFETQ7,Q8とPチャンネル型MOSFET
Q5,Q6がオン状態にされる。上記カラム選択信号Y
0は、上記Xデコーダ回路と類似の回路から構成される
Yデコード回路により形成される。
The N-channel type MOSFETs Q7 and Q
The column selection signal Y0 is supplied to the gate of the column 8, and the column selection signal Y0 inverted by the inverter circuit N1 is supplied to the gates of the P-channel MOSFETs Q5 and Q6.
B is supplied. As a result, when the column selection signal Y0 is set to the high selection level, the N-channel MOSFETs Q7 and Q8 and the P-channel MOSFET are
Q5 and Q6 are turned on. The column selection signal Y
0 is formed by a Y decoding circuit configured by a circuit similar to the above X decoding circuit.

【0030】読み出し動作のときには、回路の接地電位
に対してデータ線負荷抵抗等にメモリ電流が流れること
より生じる電圧降下分が読み出し信号として出力され
る。それ故、上記のようにPチャンネル型MOSFET
をカラムスイッチとして用いることにより、データ線に
おけるメモリセルの読み出し信号をMOSFETのしき
い値電圧によるレベル損失が生じることなく、そのまま
共通相補データ線RCD,RCDB側に伝えることがで
きる。また、書き込み動作においては、相補データ線D
0,D0Bのうち、一方を回路の接地電位のようなロウ
レベルにして、それに接続されるメモリセルの記憶MO
SFETをオフ状態にさせることより、他方の記憶MO
SFETをオン状態に切り換える。それ故、上記のよう
にNチャンネル型MOSFETをカラムスイッチとして
用いることにより、回路の接地電位のロウレベルをその
ままデータ線D0又はD0Bに伝えることができる。
In the read operation, the voltage drop caused by the memory current flowing through the data line load resistance or the like with respect to the ground potential of the circuit is output as a read signal. Therefore, as described above, the P-channel MOSFET
Is used as a column switch, the read signal of the memory cell on the data line can be directly transmitted to the common complementary data lines RCD and RCDB without causing level loss due to the threshold voltage of the MOSFET. In the write operation, the complementary data line D
One of 0 and D0B is set to a low level such as the ground potential of the circuit, and the memory MO of the memory cell connected thereto is
By turning off the SFET, the other memory MO
Switch the SFET on. Therefore, by using the N-channel MOSFET as a column switch as described above, the low level of the ground potential of the circuit can be directly transmitted to the data line D0 or D0B.

【0031】この実施例において、読み出し用の共通相
補データ線RCD,RCDには、読み出し用の共通相補
データ線に給電を行うPチャンネル型からなる負荷MO
SFETQ13,Q14が設けられる。これらの負荷M
OSFETQ13,Q14のゲートには、電源電圧VE
Eのようなロウレベルが定常的に供給されることによっ
て抵抗素子として作用する。この負荷MOSFETQ1
3,Q14の抵抗値は、上記データ線D0,D0Bに設
けられる負荷MOSFETQ11,Q12に対して十分
大きな抵抗値を持つように設定される。
In this embodiment, the common complementary data lines RCD and RCD for reading are loaded with a P-channel type load MO for supplying power to the common complementary data line for reading.
SFETs Q13 and Q14 are provided. These loads M
The power supply voltage VE is applied to the gates of the OSFETs Q13 and Q14.
When a low level such as E is constantly supplied, it functions as a resistance element. This load MOSFET Q1
The resistance values of Q3 and Q14 are set to have sufficiently large resistance values with respect to the load MOSFETs Q11 and Q12 provided on the data lines D0 and D0B.

【0032】上記読み出し用の共通相補データ線RC
D,RCDBは、センスアンプSAの入力端子に結合さ
れる。センスアンプSAの出力信号は、外部端子から出
力信号を送出するデータ出力回路OBの入力端子に伝え
られる。上記書き込み用の共通相補データ線WCD,W
CDBは、書き込みアンプWAの出力端子に結合され
る。この書き込みアンプWAの入力端子には、外部端子
から供給される書き込みデータを受けるデータ入力回路
IBの出力信号が供給される。このように共通データ線
を読み出し用と書き込み用に分離することにより、セン
スアンプSA及び書き込みアンプWAの動作に最適に共
通相補データ線の負荷条件を設定することができるもの
となる。
Common complementary data line RC for reading
D and RCDB are coupled to the input terminal of the sense amplifier SA. The output signal of the sense amplifier SA is transmitted to the input terminal of the data output circuit OB which outputs the output signal from the external terminal. Common complementary data lines WCD, W for writing
The CDB is coupled to the output terminal of the write amplifier WA. The output signal of the data input circuit IB which receives the write data supplied from the external terminal is supplied to the input terminal of the write amplifier WA. By thus separating the common data line for reading and for writing, the load condition of the common complementary data line can be optimally set for the operations of the sense amplifier SA and the write amplifier WA.

【0033】高速読み出し化のために読み出し用の共通
相補データ線RCD,RCDB間にイコライズ用のPチ
ャンネル型MOSFETQ13が設けられる。このMO
SFETQ13のゲートには、イコライズパルスEQが
供給される。イコライズパルスEQは、X系又はY系の
いずれか1ビットのアドレス信号でも変化したとき発生
され、MOSFETQ13をオン状態にして共通相補デ
ータ線RCD,RCDBを短絡させる。
A P-channel MOSFET Q13 for equalization is provided between the common complementary data lines RCD and RCDB for reading for high-speed reading. This MO
The equalizing pulse EQ is supplied to the gate of the SFET Q13. The equalize pulse EQ is generated when a 1-bit address signal of X system or Y system changes, and turns on the MOSFET Q13 to short-circuit the common complementary data lines RCD and RCDB.

【0034】上記実施例のスタティック型RAMのメモ
リセルからの読し動作は、次の通りである。メモリセル
のオン状態にされる記憶MOSFETは、定電流源とみ
なすことができる。それ故、メモリセルからの読み出し
ロウレベルは、負荷MOSFETQ11,Q12に最も
近いメモリセルMCnでは、データ線負荷MOSFET
Q11,Q12の抵抗分RLにメモリ電流Ioが流れる
ことより発生する電圧降下となる。上記メモリ電流Io
は、上記抵抗RLに並列形態に設けられるカラムスイッ
チの抵抗分RYと共通データ線負荷MOSFETQ1
3,Q14の抵抗分RPにも分流して流れるが、これら
の抵抗RY及びRPの直列合成抵抗は、上記抵抗RLに
比べて十分大きいから実質的に無視できる。
The read operation from the memory cell of the static RAM of the above embodiment is as follows. The storage MOSFET in which the memory cell is turned on can be regarded as a constant current source. Therefore, the read low level from the memory cell is the data line load MOSFET in the memory cell MCn closest to the load MOSFETs Q11 and Q12.
A voltage drop occurs due to the memory current Io flowing through the resistance component RL of Q11 and Q12. The memory current Io
Is the resistance RY of the column switch provided in parallel with the resistor RL and the common data line load MOSFET Q1.
Although it also shunts to the resistance component RP of 3 and Q14, the series combined resistance of these resistors RY and RP is sufficiently larger than the resistance RL and can be substantially ignored.

【0035】これに対して、上記負荷MOSFETから
もっとも遠い位置に配置されるメモリセルMC0では、
上記抵抗RLとデータ線の抵抗分RDにメモリ電流Io
が流れることになる。それ故、メモリセルの入出力ノー
ドでは、上記抵抗RL+RDによる大きな信号振幅にさ
れるが、カラムスイッチ側では上記同様に抵抗RLにメ
モリ電流Ioが流れることにより発生する電圧降下分の
みとなる。それ故、読み出し用の共通相補データ線RD
C,RCDBを通してセンスアンプSAの入力に伝えら
れるメモリセルの読み出し信号は、X系のアドレスに無
関係にほぼ一定にできる。
On the other hand, in the memory cell MC0 arranged farthest from the load MOSFET,
The memory current Io is applied to the resistor RL and the data line resistance RD.
Will flow. Therefore, at the input / output node of the memory cell, a large signal amplitude is set by the resistance RL + RD, but on the column switch side, only the voltage drop caused by the memory current Io flowing through the resistance RL is the same as the above. Therefore, the common complementary data line RD for reading
The read signal of the memory cell transmitted to the input of the sense amplifier SA through C and RCDB can be made substantially constant regardless of the X-system address.

【0036】図5には、上記のECLレベルをCMOS
レベルに変換するレベル変換回路の一実施例の回路図が
示されている。レベル変換回路の入力部は、基本的には
単位のECL回路から構成される。それ故、アドレスバ
ッファそのものが入力部として設けられる。外部から入
力されたECL信号を受けるトランジスタT1と基準電
圧VBBを受けるトランジスタT2とが差動形態にさ
れ、共通エミッタに定電流源Ioが設けられるととも
に、そのコレクタには負荷抵抗R1,R2が設けられ
る。差動トランジスタT1,T2のコレクタ出力は、ト
ランジスタT3,T4とエミッタに設けられた定電流源
Ioからなるエミッタフォロワ出力回路を通して次のレ
ベル増幅回路部に入力される。
FIG. 5 shows the above ECL level as CMOS.
A circuit diagram of an embodiment of a level conversion circuit for converting to a level is shown. The input section of the level conversion circuit is basically composed of a unit ECL circuit. Therefore, the address buffer itself is provided as an input section. A transistor T1 that receives an ECL signal input from the outside and a transistor T2 that receives a reference voltage VBB are formed in a differential form, a constant current source Io is provided in a common emitter, and load resistors R1 and R2 are provided in a collector thereof. To be The collector outputs of the differential transistors T1 and T2 are input to the next level amplifier circuit section through an emitter follower output circuit composed of transistors T3 and T4 and a constant current source Io provided at the emitter.

【0037】上記入力部により形成された相補出力信号
は、PチャンネルMOSFETQ1とQ2のゲートに供
給される。これらPチャンネル型MOSFETQ1とQ
2のソースは回路の接地電位に接続され、そのドレイン
には電流ミラー形態にされたNチャンネルMOSFET
Q3とQ4が設けられる。上記相補的な入力信号がゲー
トにそれぞれ供給されたPチャンネルMOSFETQ1
とQ2は、その相補入力信号レベルに従った相補的なド
レイン電流を流すようになる。
The complementary output signal formed by the input section is supplied to the gates of P-channel MOSFETs Q1 and Q2. These P-channel MOSFETs Q1 and Q
The source of 2 is connected to the ground potential of the circuit and its drain is an N-channel MOSFET in the form of a current mirror.
Q3 and Q4 are provided. P-channel MOSFET Q1 whose gates are supplied with the complementary input signals.
And Q2 flow complementary drain currents according to their complementary input signal levels.

【0038】例えば、一方のMOSFETQ1に流れる
電流が相対的に大きくされると、他方のMOSFETQ
2に流れる電流は相対的に小さくされる。この場合に
は、上記MOSFETQ1により形成されたドレイン電
流に応じて電流ミラー形態のNチャンネルMOSFET
Q3とQ4とにも大きな電流が流れる。したがって、P
チャンネルMOSFETQ2とNチャンネルMOSFE
TQ4とが相補的に動作させられ、共通接続されたドレ
インからはそのコンダクタンス比に対応したほゞ負の電
源電圧VEEのようなロウレベルの信号が形成される。
逆に、MOSFETQ2に流れる電流が相対的に大きく
され、MOSFETQ1に流れる電流が相対的に小さく
されると、ほゞ回路の接地電位のようなハイレベルが形
成される。
For example, when the current flowing through one MOSFET Q1 is made relatively large, the other MOSFET Q1.
The current flowing through 2 is made relatively small. In this case, a current mirror type N-channel MOSFET is formed according to the drain current formed by the MOSFET Q1.
A large current also flows through Q3 and Q4. Therefore, P
Channel MOSFET Q2 and N channel MOSFE
TQ4 is operated in a complementary manner, and a low level signal such as a substantially negative power supply voltage VEE corresponding to the conductance ratio is formed from the commonly connected drains.
Conversely, when the current flowing through the MOSFET Q2 is relatively increased and the current flowing through the MOSFET Q1 is relatively decreased, a high level such as the ground potential of the circuit is formed.

【0039】この実施例では、出力電流を大きくするた
めに、言い換えるならば、比較的大きな容量値を持つよ
うにされた容量性負荷を高速に駆動するために、上記レ
ベル変換回路の出力信号は、コレクタが回路の接地電位
点に接続されたトランジスタT1のベースに供給され
る。このトランジスタT1はカスケード接続されたトラ
ンジスタT2とともにトーテムポール型プッシュプル出
力回路を構成する。ロウレベルの側の出力トランジスタ
T2のコレクタとベースとの間には、特に制限されない
が、前段側の出力信号を受けるNチャンネルMOSFE
TQ5が設けられる。上記トランジスタT2のベースと
エミッタとの間には、出力信号を受けるロウレベル引き
抜き用のNチャンネルMOSFETQ6が設けられる。
In this embodiment, in order to increase the output current, in other words, to rapidly drive a capacitive load having a relatively large capacitance value, the output signal of the level conversion circuit is , The collector is supplied to the base of the transistor T1 connected to the ground potential point of the circuit. The transistor T1 constitutes a totem pole type push-pull output circuit together with the transistor T2 connected in cascade. Although there is no particular limitation between the collector and the base of the output transistor T2 on the low level side, an N channel MOSFE for receiving the output signal on the preceding stage side is not particularly limited.
TQ5 is provided. An N-channel MOSFET Q6 for pulling out a low level for receiving an output signal is provided between the base and the emitter of the transistor T2.

【0040】この構成に代え、MOSFETQ5は、上
記MOSFETQ1〜Q4と同様な構成であってその入
力信号が逆にされたレベル増幅回路の出力信号を受ける
ようにするものであってもよい。
Instead of this structure, the MOSFET Q5 may have the same structure as the MOSFETs Q1 to Q4 and receive the output signal of the level amplifying circuit whose input signal is inverted.

【0041】図6には、上記プリアンプの一実施例の回
路図が示されている。前記のように相補データ線D0,
D0B等は、Pチャンネル型のスイッチMOSFETを
介して一対からなる読み出し用共通データ線RCDに接
続される。この読み出し用共通データ線RCDには、次
のようなプリアンプが設けられる。
FIG. 6 shows a circuit diagram of one embodiment of the above preamplifier. As described above, the complementary data lines D0,
D0B and the like are connected to a pair of read common data lines RCD via a P-channel type switch MOSFET. The following preamplifier is provided on the read common data line RCD.

【0042】上記読み出し用共通相補データ線RCDに
読み出され信号は、エミッタフォロワトランジスタT1
2,T13、レベルシフト用のダイオード形態のトラン
ジスタT14,T15を介して差動トランジスタT1
6,T17のベースに伝えられる。上記エミッタフォロ
ワトランジスタT12、T13と差動トランジスタT1
6,T17のエミッタ側には、電流源として動作するM
OSFETQ19〜Q21が設けられる。これらのMO
SFETQ19〜Q21のゲートには、選択信号が供給
される。選択信号により上記MOSFETQ19〜Q2
1が動作状態になり定電流源としての動作を行う。これ
に対して、非選択状態にされるとMOSFETQ19〜
Q21が非動作状態なり、上記プリアンプの動作も停止
される。このプリアンプの出力信号は、マルチプレクサ
機能を持つセンスアンプSAに入力され、選択されたも
のが、出力回路を通して出力される。
The signal read out to the read common complementary data line RCD is the emitter follower transistor T1.
2, T13, a differential transistor T1 via level-shifting diode type transistors T14 and T15.
6, It is transmitted to the base of T17. The emitter follower transistors T12 and T13 and the differential transistor T1
6, M on the emitter side of T17 operates as a current source
OSFETs Q19 to Q21 are provided. These MO
A selection signal is supplied to the gates of the SFETs Q19 to Q21. Depending on the selection signal, the MOSFETs Q19 to Q2
1 becomes an operating state and operates as a constant current source. On the other hand, when the non-selected state is set, the MOSFET Q19-
Q21 becomes inoperative and the operation of the preamplifier is stopped. The output signal of this preamplifier is input to the sense amplifier SA having a multiplexer function, and the selected one is output through the output circuit.

【0043】なお、相補のデータ線D0,D0Bは、N
チャンネル型のスイッチMOSFETを介して一対から
なる書き込み用共通データ線WCDに接続される。この
書き込み用共通データ線WCDには、書き込み動作のと
き、前記のようなデータ入力バッファ及び書き込みアン
プを介して書き込みデータが入力される。
The complementary data lines D0 and D0B are N
It is connected to a pair of write common data lines WCD via a channel type switch MOSFET. In the write operation, write data is input to the write common data line WCD via the data input buffer and the write amplifier as described above.

【0044】図1には、この発明に係るスタティック型
RAMの一実施例の動作概念図が示されている。同図に
おいては、読み出しアクセスを例にして示されている。
1Aは、アドレス信号を受ける入力バッファであり、1
Bはクロックパルスを受ける入力バッファである。アド
レスバッファ1Aは、ECLレベルのアドレス信号を取
り込んでCMOSレベルに変換するという動作を行う。
このアドレスバッファ1Aの出力部には、ラッチ回路2
Aが設けられる。
FIG. 1 is a conceptual diagram showing the operation of one embodiment of the static RAM according to the present invention. In the figure, read access is shown as an example.
1A is an input buffer for receiving an address signal,
B is an input buffer for receiving clock pulses. The address buffer 1A takes in an ECL level address signal and converts it into a CMOS level.
The output portion of the address buffer 1A has a latch circuit 2
A is provided.

【0045】このラッチ回路2Aの出力信号は、プリデ
コーダ3に供給される。プリデコーダ3は、アドレス信
号を解読してワード線の選択信号を形成する。カラム系
のアドレス信号を受けるデコーダ3は、データ線の選択
信号を形成する。プリデコーダ3の出力信号は、遅延手
段としても機能する中間バッファ4Aを介してラッチ回
路2Bに入力される。このラッチ回路2BのX系の選択
信号は、中間バッファ4Bを介してメインワードドライ
バ5に供給される。サブワードドライバ6は、上記メイ
ンワードドライバ5の出力信号と、カラム系のデコード
信号とを受けてサブワード線の選択信号を形成する。
The output signal of the latch circuit 2A is supplied to the predecoder 3. The predecoder 3 decodes the address signal to form a word line selection signal. The decoder 3 which receives a column address signal forms a selection signal for the data line. The output signal of the predecoder 3 is input to the latch circuit 2B via the intermediate buffer 4A that also functions as a delay unit. The X-system selection signal of the latch circuit 2B is supplied to the main word driver 5 via the intermediate buffer 4B. The sub-word driver 6 receives the output signal of the main word driver 5 and the column-based decode signal and forms a sub-word line selection signal.

【0046】サブワードドライバにより選択されたサブ
ワード線に接続されたメモリセル7が選択される。メモ
リセル7に保持されていた記憶情報は、カラム系の選択
動作により選択されたものがプリアンプ8により増幅さ
れてセンスアンプ9に伝えられる。このセンスアンプ9
の出力には、ラッチ回路2Cが設けられる。このラッチ
回路2Cの出力信号は、出力回路10を通して外部端子
Doから出力される。
The memory cell 7 connected to the sub-word line selected by the sub-word driver is selected. The stored information held in the memory cell 7 is selected by the column-system selection operation, amplified by the preamplifier 8 and transmitted to the sense amplifier 9. This sense amplifier 9
A latch circuit 2C is provided at the output of. The output signal of the latch circuit 2C is output from the external terminal Do through the output circuit 10.

【0047】入力バッファ1Bは、ECLレベルのクロ
ックパルスCLKを受け、それをCMOSレベルに変化
し、内部のクロックパルスとして用いられる。この実施
例では、前記のような各ラッチ回路の前段回路での信号
伝播遅延時間に応じて、遅延時間が設定された遅延回路
11A、11B及び11Cが設けられる。上記遅延回路
11Aを通してアドレスバッファ1Aの後段に設けられ
たラッチ回路2Aに供給されるクロックパルスCLK1
が形成される。上記遅延回路11Bにより、プリデコー
ダの後段に設けられたラッチ回路2Bに供給されるクロ
ックパルスCLK2が形成される。上記遅延回路11C
によりセンスアンプ9の後段に設けられたラッチ回路2
Cに供給されるクロックパルスCLK3が形成される。
なお、ラッチ回路2Cは、センスアンプSAがECLレ
ベルの出力信号を形成することに対応してECL回路に
より構成される。
The input buffer 1B receives the ECL level clock pulse CLK, changes it to the CMOS level, and uses it as an internal clock pulse. In this embodiment, the delay circuits 11A, 11B and 11C having the delay time set according to the signal propagation delay time in the preceding circuit of each latch circuit as described above are provided. A clock pulse CLK1 supplied to the latch circuit 2A provided at the subsequent stage of the address buffer 1A through the delay circuit 11A.
Is formed. The delay circuit 11B forms a clock pulse CLK2 to be supplied to the latch circuit 2B provided in the subsequent stage of the predecoder. The delay circuit 11C
By the latch circuit 2 provided in the subsequent stage of the sense amplifier 9.
The clock pulse CLK3 supplied to C is formed.
The latch circuit 2C is composed of an ECL circuit in response to the sense amplifier SA forming an ECL level output signal.

【0048】これに代えて、入力バッファ1BからEC
Lレベルの出力信号を出力させる機能を設け、その信号
をECL構成の遅延回路11Cにより遅延させてECL
レベルのクロックパルスCLK3を形成するものであっ
てもよい。上記遅延回路11Aないし11Cは、インバ
ータ回路の形態で示されているが、その数はおおまかな
遅延時間を表している。それ故、例えば、ラッチ回路2
Aには、2個のインバータ回路によってクロックパルス
CLKと同相のクロックパルスCLK1が供給され、ラ
ッチ回路2Bと2Cには、1個と3個のインバータ回路
によってクロックパルスCLKと逆相のクロックパルス
CLK2とCLK3が供給されるということを表すもの
でないことに注意する必要がある。
Instead of this, the input buffer 1B to the EC
A function for outputting an L level output signal is provided, and the signal is delayed by the delay circuit 11C having an ECL structure to obtain the ECL.
The level clock pulse CLK3 may be formed. The delay circuits 11A to 11C are shown in the form of inverter circuits, but the number thereof represents a rough delay time. Therefore, for example, the latch circuit 2
A clock pulse CLK1 having the same phase as the clock pulse CLK is supplied to A by the two inverter circuits, and clock signals CLK2 having a phase opposite to the clock pulse CLK is supplied to the latch circuits 2B and 2C by the one and three inverter circuits. Note that this does not mean that CLK3 and CLK3 are supplied.

【0049】図2には、この発明に係るスタティック型
RAMにおけるパイプライン動作を説明するためのタイ
ミング図が示されている。アドレス信号ADDとクロッ
クパルスCLKとは一対一に対応させて入力される。図
示しない、他の制御信号CEBやWEBや書込み動作に
おける入力データも上記アドレスADDに対応されて入
力される。
FIG. 2 is a timing chart for explaining the pipeline operation in the static RAM according to the present invention. The address signal ADD and the clock pulse CLK are input in one-to-one correspondence. Other control signals CEB and WEB (not shown) and input data in the write operation are also input corresponding to the address ADD.

【0050】上記のようなアドレス信号ADDとクロッ
クパルスCLKに対して、内部のラッチ回路2Aないし
2Cには、前記のような遅延回路11Aないし11Cに
より遅延時間TD1ないしTD3のように遅延されたク
ロックパルスCLK1ないしCLK3が供給される。
In response to the address signal ADD and the clock pulse CLK as described above, the internal latch circuits 2A to 2C are delayed by the delay circuits 11A to 11C as described above as delay times TD1 to TD3. The pulses CLK1 to CLK3 are supplied.

【0051】アドレスバッファの次段に設けられたラッ
チ回路(同図ではレジスタとして示されている)2A
は、遅延時間TD1だけ遅れたタイミングで最初のアド
レス信号A0の取り込みを行う。続いて、2番目のクロ
ックパルスCLKに同期して入力されるアドレス信号A
1の取り込みに先立って、ラッチ回路2Aに保持された
アドレス信号A0は、プリデコーダ3及び中間バッファ
4Aを通してラッチ回路2Bに伝えられており、クロッ
クパルスCLK2により保持される。これにより、ラッ
チ回路2Bの前段回路の実質的なサイクル時間は、クロ
ックパルスCLKの基本サイクル時間Tcyc +(TD2
−TD1)のように、基本サイクル時間より小さな時間
とされる。
A latch circuit (shown as a register in the figure) 2A provided in the next stage of the address buffer.
Takes in the first address signal A0 at a timing delayed by the delay time TD1. Then, the address signal A input in synchronization with the second clock pulse CLK
Prior to the capture of 1, the address signal A0 held in the latch circuit 2A is transmitted to the latch circuit 2B through the predecoder 3 and the intermediate buffer 4A, and is held by the clock pulse CLK2. As a result, the substantial cycle time of the preceding circuit of the latch circuit 2B is equal to the basic cycle time Tcyc + (TD2 of the clock pulse CLK.
-TD1), the time is smaller than the basic cycle time.

【0052】続いて、3番目のクロックパルスCLKに
同期して入力されるアドレス信号A2の取り込みに先立
って、上記のようにラッチ回路2Aに保持されたアドレ
ス信号A1がプリデコーダ3及び中間バッファ4Aを通
してラッチ回路2Bに伝えられており、クロックパルス
CLK2により保持される。また、ラッチ回路2Bの出
力信号の変化によりアドレスの切り替えが行われるが、
そのとき前のアドレスにより読み出されて信号がプリア
ンプ8〜センスアンプ9を通してラッチ回路2Cの入力
に伝えられており、クロックパルスCLK3により保持
される。このラッチ回路2Cの前段回路の実質的なサイ
クル時間は、クロックパルスCLKの基本サイクル時間
Tcyc +(TD3−TD2)のように、基本サイクル時
間より大きな時間とされる。
Then, prior to fetching the address signal A2 input in synchronization with the third clock pulse CLK, the address signal A1 held in the latch circuit 2A as described above is transferred to the predecoder 3 and the intermediate buffer 4A. Is transmitted to the latch circuit 2B through the latch circuit 2B and is held by the clock pulse CLK2. Further, although the address is switched by the change of the output signal of the latch circuit 2B,
At that time, the signal read by the previous address is transmitted to the input of the latch circuit 2C through the preamplifier 8 to the sense amplifier 9, and is held by the clock pulse CLK3. The substantial cycle time of the preceding circuit of the latch circuit 2C is set to be longer than the basic cycle time, such as the basic cycle time Tcyc + (TD3-TD2) of the clock pulse CLK.

【0053】このような遅延回路11Aなしい11Cに
よるクロックパルスCLKの遅延により、アドレス信号
A0に着目した各段の許容信号伝播遅延時間は、ラッチ
回路2Aから2Bに至る信号伝達経路では、Tcyc +
(TD2−TD1)のように基本サイクル時間より短く
され、ラッチ回路2Bから2Cに至る信号伝達経路で
は、Tcyc +(TD3−TD2)のように基本サイクル
より長くできる。すなわち、ラッチ回路2Aから2Bに
至る回路ではプリデコーダ3及び中間バッファのように
回路段数が少ないことに対応させて許容時間を短くし、
ラッチ回路2Bから2Cに至る回路では、メインワード
ドライバやサブワードドライバによるメモリセルの選択
動作、メモリセルからの記憶情報の読み出し動作のよう
に時間かかることに対応させて許容時間を長くすること
ができる。
Due to the delay of the clock pulse CLK by such a delay circuit 11A or 11C, the allowable signal propagation delay time of each stage focusing on the address signal A0 is Tcyc + in the signal transmission path from the latch circuits 2A to 2B.
It is made shorter than the basic cycle time like (TD2-TD1) and can be made longer than the basic cycle like Tcyc + (TD3-TD2) in the signal transmission path from the latch circuits 2B to 2C. That is, in the circuits from the latch circuits 2A to 2B, the allowable time is shortened in response to the small number of circuit stages such as the predecoder 3 and the intermediate buffer.
In the circuits from the latch circuits 2B to 2C, the permissible time can be lengthened in response to the time-consuming operations such as the memory cell selection operation by the main word driver and the sub word driver and the read operation of the stored information from the memory cell. .

【0054】このような構成により、例えば基本サイク
ルが4nsとしても、ラッチ回路2Aから2Bに至る回
路でのサイクル時間T2を2nsのように短くし、その
分ラッチ回路2Bから2Cに至る回路でのサイクル時間
T3を6nsのように長くできる。これより、外部から
4nsでのパイプライン動作によるメモリアクセスが実
現できる。
With such a configuration, even if the basic cycle is 4 ns, for example, the cycle time T2 in the circuits from the latch circuits 2A to 2B is shortened to 2 ns, and the circuit from the latch circuits 2B to 2C is correspondingly shortened. The cycle time T3 can be increased to 6 ns. As a result, memory access can be realized from the outside by a pipeline operation in 4 ns.

【0055】なお、書込みを動作では、書込みデータの
伝送経路に、上記アドレス信号の伝送経路と対応させた
ダミーのラッチ回路が1個設けられ、入力されてから2
番目のクロックパルスに対応して行われるメモリセルの
選択動作に同期して書込みデータが伝えられる。
In the write operation, one dummy latch circuit corresponding to the above-mentioned address signal transmission path is provided in the write-data transmission path, and two dummy latch circuits are provided after input.
Write data is transmitted in synchronization with the memory cell selection operation performed in response to the second clock pulse.

【0056】上記の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。すなわち、 (1) メモリアクセスの開始から終了までの回路を複
数段に分け、クロックパルスのエッジにより前段回路の
出力信号を取り込むラッチ回路を設けるとともに、前段
回路での信号伝播遅延時間に対応させて上記ラッチ回路
に供給されるクロックパルスを遅延させることにより、
実質的な各回路間における信号伝播遅延時間を各回路段
ごとに振り分けて設定することができ、集積度や消費電
力を犠牲にすることなく動作の高速化を図ることができ
るという効果が得られる。
The operation and effect obtained from the above embodiment are as follows. That is, (1) the circuit from the start to the end of the memory access is divided into a plurality of stages, and a latch circuit that takes in the output signal of the preceding stage circuit at the edge of the clock pulse is provided, and the signal propagation delay time in the preceding stage circuit is dealt with. By delaying the clock pulse supplied to the latch circuit,
The signal propagation delay time between the respective circuits can be set substantially according to each circuit stage, and the operation speed can be increased without sacrificing the degree of integration and power consumption.

【0057】(2) 入出力インターフェイスがECL
互換性を持つBi−CMOS構成の高速スタティック型
RAMに適用することにより、集積度や消費電力を犠牲
にすることなく、超高速化を実現することができるとい
う効果が得られる。
(2) Input / output interface is ECL
By applying it to a compatible high-speed static RAM having a Bi-CMOS configuration, it is possible to achieve an ultra-high speed without sacrificing the degree of integration and power consumption.

【0058】(3) 上記(1)のようにラッチ回路間
での許容信号伝播遅延時間をクロックパルスを遅延され
ることにより行うというパイプライン動作制御方法にお
いては、信号伝達経路おけるラッチ回路の挿入箇所が柔
軟性を持つので回路の設計やレイアウト設計が容易にな
るという効果が得られる。
(3) In the pipeline operation control method in which the allowable signal propagation delay time between the latch circuits is performed by delaying the clock pulse as in the above (1), the latch circuit is inserted in the signal transmission path. Since the location is flexible, the effect of facilitating the circuit design and layout design can be obtained.

【0059】以上本発明者よりなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種
々変更可能であることはいうまでもない。例えば、図1
において、メモリセルの選択動作は、メインワードドラ
イバとサブワードドライバによって行うもの他、ワード
ドライバのみにより行うようにしてもよい。ECLレベ
ルからCMOSレベルに変換する回路は、種々の実施形
態を採ることができるものである。あるいは、ECL構
成のみ又はCMOS構成のみにより回路が構成されても
よい。また、スタティック型RAMにあっては、共通デ
ータ線又は共通相補データ線には書き込み動作後の高速
読み出しを行うために、ライトリカバリ回路のような付
加回路を設けるものとしてもよい。ラッチ回路は、レジ
スタ又はフリップフロップ等のようにクロックパルスの
エッジに同期してデータを取り込んで保持するという動
作を行うものであれば何であってもよい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention of the present application is not limited to the embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say. For example, in FIG.
In the above, the selection operation of the memory cell may be performed not only by the main word driver and the sub word driver but also by the word driver only. A circuit for converting from the ECL level to the CMOS level can adopt various embodiments. Alternatively, the circuit may be configured by only the ECL configuration or only the CMOS configuration. Further, in the static RAM, an additional circuit such as a write recovery circuit may be provided on the common data line or the common complementary data line in order to perform high-speed reading after the write operation. The latch circuit may be anything as long as it performs an operation of fetching and holding data in synchronization with an edge of a clock pulse, such as a register or a flip-flop.

【0060】この発明は、スタティック型RAMの他
に、メモリセルとしてダイナミック型メモリセルを用い
るたものであってもよい。このようなRAMに代えて、
ROMに適用するものであってもよい。ROMは、読み
出し動作しかなく、通常連続して複数からなるデータの
読み出しが行われるから、前記のようなパインプライン
動作に向いている。
The present invention may use a dynamic memory cell as a memory cell in addition to the static RAM. Instead of such a RAM,
It may be applied to a ROM. The ROM is suitable only for the above-described pineline operation since the ROM only has a read operation, and a plurality of pieces of data are normally read continuously.

【0061】[0061]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、メモリアクセスの開始から
終了までの回路を複数段に分け、クロックパルスのエッ
ジにより前段回路の出力信号を取り込むラッチ回路を設
けるとともに、前段回路での信号伝播遅延時間に対応さ
せて上記ラッチ回路に供給されるクロックパルスを遅延
させることにより、実質的な各回路間における信号伝播
遅延時間を各回路段ごとに振り分けて設定することがで
き、集積度や消費電力を犠牲にすることなく動作の高速
化を図ることができる。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, the circuit from the start to the end of the memory access is divided into a plurality of stages, and a latch circuit for taking in the output signal of the preceding circuit at the edge of the clock pulse is provided, and the above latch circuit is provided corresponding to the signal propagation delay time in the preceding circuit. By delaying the clock pulse that is supplied to each circuit, the signal propagation delay time between each circuit can be set by distributing it to each circuit stage, and high-speed operation can be achieved without sacrificing the degree of integration and power consumption. Can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明に係るスタティック型RAMの一実施
例を示す動作概念図である。
FIG. 1 is an operation conceptual diagram showing an embodiment of a static RAM according to the present invention.

【図2】この発明に係るスタティック型RAMにおける
パイプライン動作を説明するためのタイミング図であ
る。
FIG. 2 is a timing diagram for explaining a pipeline operation in the static RAM according to the present invention.

【図3】この発明が適用されるスタティック型RAMの
一実施例を示すブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing an embodiment of a static RAM to which the present invention is applied.

【図4】図3のスタティック型RAMのメモリアレイ部
とその周辺回路の一実施例を示す具体的回路図である。
FIG. 4 is a specific circuit diagram showing an embodiment of a memory array section of the static RAM of FIG. 3 and its peripheral circuits.

【図5】ECLレベルをCMOSレベルに変換するレベ
ル変換回路の一実施例を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an embodiment of a level conversion circuit for converting an ECL level into a CMOS level.

【図6】上記プリアンプの一実施例を示す回路図であ
る。
FIG. 6 is a circuit diagram showing an embodiment of the preamplifier.

【図7】この発明に先立って検討されたスタティック型
RAMの一実施例を示す動作概念図である。
FIG. 7 is an operation conceptual diagram showing one embodiment of a static RAM examined prior to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1A…アドレスバッファ、1B…入力バッファ、2A〜
2C…ラッチ回路、3…デコーダ、4A,4B…中間バ
ッファ、5…メインワードドライバ、6…サブワードド
ライバ、7…メモリセル、8…プリアンプ、9…センス
アンプ、10…出力回路、11A〜11C…遅延回路。
XB…X系アドレスバッファ、YB…Y系アドレスバッ
ファ、XD…X系デコーダ回路、YD…Y系デコーダ回
路、WD…ワードドライバ、YS…カラムスイッチ(Y
セレクタ)、MARY…メモリアレイ、SA…センスア
ンプ、OB…データ出力回路、IB…データ入力回路、
WA…書き込みアンプ、TG…タイミング制御回路、M
C…メモリセル、W0,Wn…ワード線、D0,D0B
…相補データ線、RCD,RCDB…読み出し用共通相
補データ線、WCD,WCDB…書き込み用共通相補デ
ータ線。
1A ... address buffer, 1B ... input buffer, 2A ...
2C ... Latch circuit, 3 ... Decoder, 4A, 4B ... Intermediate buffer, 5 ... Main word driver, 6 ... Subword driver, 7 ... Memory cell, 8 ... Preamplifier, 9 ... Sense amplifier, 10 ... Output circuit, 11A to 11C ... Delay circuit.
XB ... X system address buffer, YB ... Y system address buffer, XD ... X system decoder circuit, YD ... Y system decoder circuit, WD ... Word driver, YS ... Column switch (Y
Selector), MARY ... memory array, SA ... sense amplifier, OB ... data output circuit, IB ... data input circuit,
WA ... Write amplifier, TG ... Timing control circuit, M
C ... Memory cell, W0, Wn ... Word line, D0, D0B
... Complementary data lines, RCD, RCDB ... Common complementary data lines for reading, WCD, WCDB ... Common complementary data lines for writing.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メモリアクセスの開始から終了までの回
路が複数段に分けられ、クロックパルスのエッジにより
前段回路の出力信号を取り込むラッチ回路と、前段回路
での信号伝播遅延時間に対応させて上記ラッチ回路に供
給されるクロックパルスを遅延させる遅延回路とを備
え、パイプライン方式によりメモリアクセスを行うこと
を特徴とする半導体記憶装置。
1. A circuit from a memory access start to an end is divided into a plurality of stages, and a latch circuit for fetching an output signal of the preceding circuit at an edge of a clock pulse and a signal propagation delay time in the preceding circuit are provided in correspondence with the latch circuit. A semiconductor memory device comprising: a delay circuit for delaying a clock pulse supplied to a latch circuit, and performing memory access by a pipeline method.
【請求項2】 上記ラッチ回路は、アドレスバッファの
後段と、プリデコーダの後段と、センスアンプの後段と
に設けられるものであることを特徴とする請求項1の半
導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the latch circuit is provided in a subsequent stage of an address buffer, a subsequent stage of a predecoder, and a subsequent stage of a sense amplifier.
【請求項3】 上記アドレスバッファは、ECLレベル
の信号をCMOSレベルに変換するレベル変換回路を持
つものでありその出力信号を受けるラッチ回路はCMO
S回路により構成され、CMOS構成のメモリセルから
読み出された信号はプリアンプを通してセンスアンプに
入力されてECLレベルに変換されるものでありその出
力信号を受けるラッチ回路はECL構成のラッチ回路で
あることを特徴とする請求項2の半導体記憶装置。
3. The address buffer has a level conversion circuit for converting an ECL level signal into a CMOS level, and a latch circuit for receiving the output signal is a CMO.
A signal which is composed of an S circuit and is read from a memory cell of CMOS structure is input to a sense amplifier through a preamplifier and converted to an ECL level, and a latch circuit which receives the output signal is a latch circuit of ECL structure. 3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein
【請求項4】 メモリアクセスの開始から終了までの回
路を複数段に分けて構成し、クロックパルスのエッジに
より前段回路の出力信号を取り込むラッチ回路を設ける
とともに、前段回路での信号伝播遅延時間に対応させて
上記ラッチ回路に供給されるクロックパルスを遅延させ
ることを特徴とする半導体記憶装置のパイプライン動作
制御方法。
4. A circuit from the start to the end of memory access is divided into a plurality of stages, and a latch circuit for fetching an output signal of the preceding circuit at the edge of a clock pulse is provided and a signal propagation delay time in the preceding circuit is reduced. A pipeline operation control method for a semiconductor memory device, characterized in that the clock pulse supplied to the latch circuit is delayed correspondingly.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0896573A (en) * 1994-09-28 1996-04-12 Nec Corp Semiconductor storage device
JP2011222117A (en) * 1998-04-01 2011-11-04 Mosaid Technologies Inc Semiconductor memory asynchronous pipeline
US8601231B2 (en) 1998-04-01 2013-12-03 Mosaid Technologies Incorporated Semiconductor memory asynchronous pipeline

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US9548088B2 (en) 1998-04-01 2017-01-17 Conversant Intellectual Property Management Inc. Semiconductor memory asynchronous pipeline

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