JPH0656644B2 - 磁気記録ヘッド用コイルの製造方法 - Google Patents

磁気記録ヘッド用コイルの製造方法

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JPH0656644B2
JPH0656644B2 JP60018783A JP1878385A JPH0656644B2 JP H0656644 B2 JPH0656644 B2 JP H0656644B2 JP 60018783 A JP60018783 A JP 60018783A JP 1878385 A JP1878385 A JP 1878385A JP H0656644 B2 JPH0656644 B2 JP H0656644B2
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Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気ヘッド用のコイルの製造方法に関する。こ
の発明は磁気記録装置、ディスクメモリー、テープレコ
ーダー、ビデオスコープ等に用いる。
（従来の技術及び発明が解決しようとする問題点） 磁気記録ヘッドはギャップを有する開いた磁気回路とこ
の磁気回路の脚部に巻回されるコイルから成る。書き込
み（記録）動作中、コイルに流れる電流はギャップに磁
場を導びき、その結果情報を媒体に書き込むことが可能
となる。反対に読み出し（再生）中記録媒体から電流が
誘電され、該コイルの両端に電圧が発生し、それが測定
信号を成す。磁気記録ヘッド用コイルは一般に異なる面
で整えられた１つもしくは複数の導体ら旋状部からな
る。そのようなコイルを製造するために第１の導体ら旋
状部は付着物によって形成され、アセンプリでの絶縁層
の付着物によるものである金属媒体をエッチングされ
る。この方法は絶縁物質の第２のら旋状部を形成するこ
とをくりかえされる。被覆と２つの被覆を用いたことよ
り得られるエッチングの作用は２重ら旋状部が他の媒体
から分離されるように形成される。
このような手順は、特にワイ．ノロ（Ｙ．NORO）氏によ
る論文「ファブリケーション オブ ア マルチトラッ
ク シン−フィルム ヘッド」（“Fabrication of a m
ultitrack thin-film head”）に開示されている。これ
は1982年３月３日Vol.53「ジャーナル オブ アブライ
ド フィジックス(Journal of Applied Physics）」のP
P.2611-2613に発表されたものである。
この従来の製造がある点に関して十分であるが、実施す
ることは困難を有する。というのは、特にコイルを設け
るために必要な二重被覆によるためである。そして、第
２の被覆は第１に関して高精度な位置決めが必要であ
り、なおかつ得られた第１のら旋状部に関してより正確
な位置決めも必要である。
（発明の要約及び課題） この発明は単一の被覆をら旋状に巻くことのみで製造す
る方法によって前記問題点を除去することを目的とす
る。しかし、今だに２つの巻線またはコイルを得ること
は可能となっていない。
本発明によれば、この目的は付着される薄膜の技術によ
り通常の段階から最初に構成される方法によって達成さ
れる。ら旋状の溝の底と同時にら旋状物の２つの脚部の
間にある物質上に被覆される導体を付着することからな
る必要欠くべからざる第２の独自な段階によってなされ
る。そして、２つの磁性ら旋状部は同時に２つの異なる
表面に得られるし、包み込む単一の被覆は溝を得ること
ができるようになる。さらに、それらは２つの導電性テ
ープの自己整列をもっている。その上、得られた２つの
ら旋状部は相補された表面を覆う２つのら旋状部の表面
に対して垂直に見てしっかりと相補されている。従来技
術において、破壊の恐れに導びく２つのら旋状部の重複
部分がある。
特に、本発明は絶縁性支持体を絶縁性薄膜によって覆う
工程と、前記絶縁性薄膜がホトリソグラフによってエッ
チングされ、内部接点素子を形成する幅広の部分を中央
部として外部接点素子を形成する部分を外面とする第１
のら旋の形態を付与する工程と、前記支持体が前記第１
のら旋と相補関係にある第２のら旋の形態での溝を形成
するために被覆物として前記絶縁性被膜を用いることに
よってエッチングされる工程と、金属薄膜層がアセンブ
リにすなわち被覆物として用いられる前記絶縁性薄膜及
び同時にエッチングされた溝の底に付着し、前記内部接
点素子及び外部接点素子によって巻き終わる前記第１，
第２のら旋の２つの異なる表面で位置決めされ、相補関
係にある前記第１，第２のら旋の形状で２つの電極とな
るようにし、前記金属薄膜層が溝の深さと比べて小さな
厚みを有するようにする工程と、感光性樹脂をアセンブ
リに付着させ、その後前記第１，第２のら旋の領域の外
側における樹脂をエッチングによって除去し、これらの
ら旋の外側の絶縁性薄膜に付着した余分な金属層を除去
し、電気的結合部が一方のら旋の内部接点素子と他方の
ら旋の外部接点素子の間に形成される工程とからなるこ
とを特徴とする磁気記録ヘッド用コイルの製造方法に係
るものである。
（実施例） 第１図において、支持体２は例えばガラス、シリカまた
は有機層のような絶縁性物質から構成される。この支持
体２は絶縁性物質からなる１ミクロンかそれより小さい
厚さをもつ薄膜４によって覆われる。また、この支持体
２は例えばシリカまたは窒化シリコンの有機層で構成で
きる。この薄膜４は公知のフォトリソグラフィ法によっ
て支持体２に対して選択的エッチングされるものでなけ
ればならない。
第２図は薄膜４のエッチングされた結果を示している。
残された物質は外面上の中央部に広い領域をもつら旋状
部３となっている。これは第８図を見ればよくわかる。
第３図はマスクとして薄膜４を用いてエッチングを施す
ことにより得られた溝５を示している。
第４図は支持体２の第３図の状態から更にエッチング
（オーバエッチング）を施した様子を示している。同図
からわかるように支持体２の一部は薄膜４と接触してお
らず薄膜４の先端が支持体２に作られた溝５の各垂直壁
にたれかかるようになっている。
第５図は銅または他の良導電性物質からなる導電層６を
付着した様子を示す。この付着は真空下で行なわれるこ
とが好ましい。導電層は溝５の垂直壁を覆うことなく溝
５の底及び残された薄膜４上に設けられているのがわか
る。その結果これらの付着物はは、短絡することなく相
補的な２つのら旋状部を形成する。これら２つのら旋状
部は各々２つの異なる表面に、すなわち薄膜４の上面と
支持体２にエッチングで形成された溝５の底面に存在す
る。
第６図はさらに感光性樹脂８を設けた様子を示す。この
ようにすると、エッチングにより薄膜４の表面上に付着
した導電層６で余分な部分を除去することができる。
第７図は最終的に得られるコイルを示す。
第８図はコイル面に対して垂直にみたコイルの形態を示
す。支持体２にて得られたら旋状部は広領域10から始ま
り広領域13で終わる。薄膜４の上部表面で得られるら旋
状部は領域17で始まり領域15で終わっている。同じ方向
に巻いた連続性をもつ二重ら旋状部を形成するためには
周知の方法によって領域13と領域17とを結合するだけで
よい。そして、コイルの入力は電極10であり、出力は電
極15である。電極15は電極19と容易に結合できる。
第８図は２つのら旋状部のアームがスペースの無駄なし
でしっかりと相補することを示し、それは各導体の間に
すぐれた絶縁性を確保したままで得られる。例えば、溝
の形状にへこみの場所があったとしてもこのへこみは２
つの導電性ら旋状部の相補的性質を変化させない。一方
のら旋状部は他方より幅広であるが、一方のら旋状部は
他方と接触することはない。精度の良いエッチングは、
容易にエッチング可能な絶縁性物質を選択することによ
り達成できる。導電層６の金属は単にエッチングするこ
とはむずかしい。本発明によれば、電極17，19もしくは
15の回りを通るためエッチングされる金属として、高精
度なものは必要とされていない。
これらの理由で、例えばシリカ、窒化シリコンなどの堅
い物質が薄膜４に使用される。さらに、２つのら旋状部
の間に短絡の恐れを除去するために導電層６の厚さは溝
の深さのほぼ1/3に制限される。この溝の深さは例えば
1.5〜4.0μｍの深さであり、金属層の厚さは0.5〜1.0μ
ｍである。
第９図は、本発明におけるコイルを用いた磁気ヘッドを
示す断面図である。支持体２は堅い薄膜タイプの磁性体
20上に設けられる。この磁性体は磁気ヘッドの第１の磁
極片20をなす。同じく、堅い薄膜タイプの磁性体からな
る第２の磁極片22は電気的絶縁被覆層26によってコイル
の導体から電気的に絶縁されている。ヘッドの前部にお
いて、ギャップ24が第１の磁極片20と第２の磁極片22と
を分離し、一方ヘッドの後部において、２つの磁極片は
コイルの回りで磁気回路を閉成するために連結される。
効率のよい磁気ヘッドを得るために、２つの磁極片の後
部の閉成された領域からギャップの分離した距離ができ
るだけ短いことは重要なことである。磁性が隣接した導
体に導かれるまで、２つのら旋状部は任意の導体サイズ
に対して前記距離を最小限まで減少できる。当然、絶縁
された２つのら旋状部を多数組み合わせることができ
る。
（発明の効果） 以上説明したように、本発明によれば、同一の支持体上
に２つのら旋状の薄膜層にエエッチングによって高低を
設け、各ら旋が互いに相補関係となるように設けたこと
より従来の欠点を除去でき、確実に絶縁されると共に高
性能な磁気記録ヘッド用コイルの製造方法を提供するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第１図〜第７図は、本発明の方法による各製造段階を示
す図、第８図は本発明の磁気ヘッドの表面に対して垂直
にみたコイルを示す図、第９図は本発明のコイルを用い
た磁気記録ヘッドの断面図である。 ２，20……支持体、３……ら旋状部、 ４……薄膜、５……溝、 ６……導電層、８……樹脂、 10，15，17，19……電極、２２……磁極片、 24……ギャップ、26……電気的絶縁被覆。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】絶縁性支持体を絶縁性薄膜によって覆う工
    程と、 前記絶縁性薄膜がホトリソグラフによってエッチングさ
    れ、内部接点素子を形成する幅広の部分を中央部として
    外部接点素子を形成する部分を外面とする第１のら旋の
    形態を付与する工程と、 前記支持体が前記第１のら旋と相補関係にある第２のら
    旋の形態での溝を形成するために被覆物として前記絶縁
    性薄膜を用いることによってエッチングされる工程と、 金属薄膜層がアセンブリにすなわち被覆物として用いら
    れる前記絶縁性薄膜及び同時にエッチングされた溝の底
    に付着し、前記内部接点素子及び外部接点素子によって
    巻き終わる前記第１，第２のら旋の２つの異なる表面で
    位置決めされ、相補関係にある前記第１，第２のら旋の
    形状で２つの電極となるようにし、前記金属薄膜層が溝
    の深さと比べて小さな厚みを有するようにする工程と、 感光性樹脂をアセンブリに付着させ、その後前記第１，
    第２のら旋の領域の外側における樹脂をエッチングによ
    って除去し、これらのら旋の外側の絶縁性薄膜に付着し
    た余分な金属層を除去し、電気的結合部が一方のら旋の
    内部接点素子と他方のら旋の外部接点素子の間に形成さ
    れる工程とからなることを特徴とする磁気記録ヘッド用
    コイルの製造方法。
  2. 【請求項２】被覆としての前記絶縁性薄膜を用いた表面
    をもつ前記支持体の過剰なエッチングが前記溝に設けら
    れる各垂直壁にたれかかる各絶縁性薄膜を被覆する効果
    を有することを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載
    の方法。
  3. 【請求項３】前記絶縁性薄膜がシリカもしくは窒化シリ
    コンであることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記
    載の方法。
  4. 【請求項４】前記溝の底での金属付着物が前記溝の深さ
    のほぼ1/3の厚さを有することを特徴とする特許請求の
    範囲第１項に記載の方法。
  5. 【請求項５】前記溝が1.5〜4.0μｍの深さであることを
    特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の方法。
  6. 【請求項６】磁性薄膜が0.5〜1.0μｍの厚さであること
    を特徴とする特許請求の範囲第５項に記載の方法。
JP60018783A 1984-02-03 1985-02-04 磁気記録ヘッド用コイルの製造方法 Expired - Lifetime JPH0656644B2 (ja)

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