JPH0667424A

JPH0667424A - 立体画像表示盤の製造方法

Info

Publication number: JPH0667424A
Application number: JP21901092A
Authority: JP
Inventors: Kenji Tokuoka; 謙二徳岡; Shigeru Danjo; 滋檀上
Original assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Current assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date: 1992-08-18
Filing date: 1992-08-18
Publication date: 1994-03-11

Abstract

(57)【要約】【目的】可撓性に優れ、暗光下でも視認性に優れた立体
画像表示盤の製造方法を提供することにある。【構成】基材１上に画像用光重合性樹脂層２を形成し、
マスク３を通して露光、硬化させ、未硬化部分を除去し
て所定の立体画像パターン４を形成する表示盤の製造方
法であって、上記光重合性樹脂層２が、（ａ）線状共重
合体、（ｂ）ウレタンオリゴマー（メタ）アクリレー
ト、（ｃ）付加重合性モノマー、（ｄ）活性光線により
増感する光重合開始剤及び（ｅ）蛍光染料又は（ｆ）蛍
光顔料を構成成分とし、該光重合性樹脂層２を基材上に
形成し、該光重合性樹脂層２に、マスク３を通して露
光、硬化させて、所定の立体画像パターンを形成するこ
とを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基材上の所定位置に任
意の画像パタ−ンが形成された立体画像表示盤の製造方
法に関する。このような表示盤は、例えば、各種装置の
計器盤、地図、風景画等を配した表示盤、車両用スピー
ドメータの文字盤等に使用することができる。

【０００２】

【従来の技術】従来より、メーターの文字盤の文字、数
字等は、樹脂基材上に印刷によって形成されるものが一
般的であり、通常、平面的な画像であることが多い。と
ころが、近年、高級化指向の高まりや多様化の要求に合
わせて、これらの表示画像に質感を付与し、視認性を向
上させるため、画像の立体化が検討されている。

【０００３】表示画像を立体化するための方法として、
例えば、厚膜印刷による立体感の付与、ホットスタンピ
ングによる凹凸の転写などが考えられるが、いずれも画
像の形成方法が複雑で量産性に乏しいという欠点があ
る。また、例えば、型成形方法を用いれば量産は可能で
あるが、微細な模様に適用できないという問題点があ
る。

【０００４】量産性及び装飾性に優れた立体画像の形成
方法として、例えば、特開平２−１２２２２０号公報
に、基材上に光硬化性樹脂層を形成し、該光硬化性樹脂
層を所定の部分を露光、硬化させ、未硬化部分を現像除
去することにより、凹凸模様を形成して立体画像表示盤
を製造する方法が開示されている。しかしながら、表示
盤に立体画像層を形成しただけでは、暗光下で立体画像
の明度は低く、そのため立体感が乏しく視認性に欠ける
という問題点ガある。

【０００５】一方、表示盤として使用する場合には、機
器への組み込みの際の変形や、機器運転中の振動等種々
の応力に耐える必要がある。特に、表示盤を立体化し、
その厚みが増すと、変形に対する応力が増加するため、
平面画像に比べて柔軟な画像組成物が要求される。

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記欠点に
鑑みてなされたものであり、その目的は、可撓性に優
れ、暗光下でも視認性に優れた立体画像表示盤の製造方
法を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の立体画像表示盤
の製造方法は、基材上に光重合性樹脂層を形成し、マス
クを通して露光、硬化させ、未硬化部分を除去して所定
の立体画像パターンを形成する表示盤の製造方法であっ
て、上記光重合性樹脂層が、（ａ）カルボキシル基を含
有するα、β−不飽和エチレン系単量体１０〜４０重量
％と前記以外のα、β−不飽和エチレン系単量体６０〜
９０重量％を構成成分とする重量平均分子量が２万〜５
０万の線状共重合体１００重量部、（ｂ）光重合可能な
不飽和化合物２０〜１２０重量部、（ｄ）活性光線によ
り増感する光重合開始剤０．５〜５重量部ならびに
（ｅ）蛍光材料０．１〜１０重量部よりなる光重合性樹
脂組成物を成分とし、該光重合性樹脂層を基材上に形成
して露光、硬化させ、立体画像パターンを形成すること
を特徴とし、そのことにより、上記目的が達成される。

【０００７】本発明について以下に説明する。本発明で
使用される光重合性樹脂組成物は、線状共重合体
（ａ）、光重合可能な不飽和化合物（ｂ）、付加重合性
モノマー（ｃ）、光重合開始剤（ｄ）ならびに蛍光材料
（ｅ）を構成成分とする。

【０００８】上記線状共重合体（ａ）は、カルボキシル
基を含有するα、β−不飽和エチレン系単量体と、前記
以外のα、β−不飽和エチレン系単量体を構成成分とす
る。

【０００９】上記カルボキシ基を含有するα、β−不飽
和エチレン単量体としては、例えば、（メタ）アクリル
酸、クロトン酸、マレイン酸（無水物）、フマル酸、イ
タコン酸等の不飽和カルボン酸が挙げられる。

【００１０】また、前記以外のα、β−不飽和エチレン
系単量体としては、例えば、スチレン、ｏ−メチルスチ
レン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、α−
メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、２，４−ジメチ
ルスチレン、ｐ−ｎ−ヘキシルスチレン、ｐ−ｎ−オク
チルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−フェニルス
チレン、３，４−ジメチルクロルスチレンなどのスチレ
ン類；α−ビニルナフタレンなどのビニルナフタレン
類；エチレン、プロピレン、ブチレンまたはＣ₅〜Ｃ₃₀
及びそれ以上のα−オレフィン類；塩化ビニル、臭化ビ
ニル、弗化ビニルなどのハロゲン化ビニル類；酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニルなどのビニルエス
テル類；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル
酸プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）
アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−オクチ
ル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸
−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸−２−クロ
ルエチル、α−クロル（メタ）アクリル酸メチル、（メ
タ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ジメチル
アミノエチルなどの（メタ）アクリル酸エステル類；ビ
ニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテルなどのビニ
ルエーテル類；ビニルメチルケトン、ビニルエチルケト
ンなどのビニルケトン類；Ｎ−ビニルピロール、Ｎ−ビ
ニルインドールなどのＮ−ビニル化合物；（メタ）アク
リロニトリル、（メタ）アクリル酸アミド類があげられ
る。

【００１１】線状共重合体（ａ）の構成成分中のカルボ
キシ基を含有するα、β−不飽和エチレン系単量体に相
当する部分の量は、少なくなると現像液であるアルカリ
水溶液に不溶になるため、アルカリ水溶液による現像が
できなくなり、多くなると塗工溶媒又はたの成分との相
溶性が低下し、解像性も低下するので、１０〜４０重量
％に限定され、好ましくは１５〜３５重量％である。そ
して、線状共重合体（ａ）の構成成分中のα、β−不飽
和エチレン系単量体に相当する部分以外の量は、９０〜
６０重量％である。

【００１２】また、線状共重合体（ａ）の重量平均分子
量は、小さくなるとコールドフローを起こし易くなり、
ロール状に巻いて保存すると、光重合性樹脂組成物にし
わが入って使用できなくなり、大きくなるとアルカリ水
溶液に溶解し難くなって解像性も低下するので、２万〜
５０万に限定され、好ましくは５万〜３０万である。

【００１３】本発明で使用される光重合可能な不飽和化
合物（ｂ）は、下記一般式（Ｉ）、（II）及（III)で表
される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種以
上の化合物である。

【００１４】

【化５】

【００１５】式（Ｉ）において、Ｒ¹は２価の炭化水素
基、Ｒ²、Ｒ³は水素又はメチル基、Ｘは２価の炭化水
素基、ｍは５〜１００の整数、ｎは１〜１５の整数をそ
れぞれ示す。

【００１６】

【化６】

【００１７】式（II）において、Ｒ⁴は２価の炭化水素
基、Ｒ⁵、Ｒ⁶は水素又はメチル基、Ｙは２価の炭化水
素基、ｐは５〜１００の整数、ｑは１〜１５の整数をそ
れぞれ示す。

【００１８】

【化７】

【００１９】式（III)において、Ｒ⁷は２価の炭化水素
基、Ｒ⁸、Ｒ⁹ Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹は水素又はメチル基、Ｚは
２価の炭化水素基、ｒは５〜１００の整数、ｓは１〜１
５の整数をそれぞれ示す。

【００２０】ここで、Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁷で示される２価
の炭化水素基としては、直鎖、分岐鎖、脂環式又は芳香
族等の部分から構成される炭化水素基、例えば、エチレ
ン基、プロピレン基、ネオペンチル基等が挙げられる。

【００２１】また、Ｘ、Ｙ、Ｚで示される２価の炭化水
素基としては、直鎖、分岐鎖、脂環式又は芳香族等の部
分から構成される炭化水素基、例えば、ヘキサメチレン
基、トリレン基、イソホロン基等が挙げられる。

【００２２】上記不飽和化合物（ｂ）の製法は、任意の
方法が採用されてよく、例えば、ジイソシアネートとジ
オールを、求める化合物の組成比に合う割合で混合して
反応させ、末端にイソシアネート基をもつウレタンオリ
ゴマーを形成した後、水酸基をもつ（メタ）アクリレー
トを添加して末端にあるイソシアネート基と反応させれ
ばよい。この際、必要ならば、酢酸エチル、メチルエチ
ルケトン、トルエンなどの有機溶剤に溶解して反応させ
てもよく、さらにジブチルスズラウレートなどの触媒を
添加してもよい。

【００２３】光重合性樹脂組成物中の不飽和化合物
（ｂ）の量は、少なくなると露光、現像後の光重合性樹
脂組成物層の柔軟性が低下し、多くなるとコールドフロ
ーが起こり易くなるとともに解像性が低下するので、前
記線状共重合体（ａ）１００重量部に対して２０〜１２
０重量部に限定され、好ましくは４０〜１００重量部で
ある。

【００２４】また、不飽和化合物（ｂ）の重量平均分子
量は、小さくなると露光、現像後の樹脂組成物層の柔軟
性が低下し、大きくなると現像時間が長くなるので、
１，０００〜１０，０００の範囲が好ましく、より好ま
しくは１，５００〜８，０００である。

【００２５】本発明で使用される付加重合性モノマー
（ｃ）は、一般式（IV）で表される化合物であって、式
中、Ｒ¹²及びＲ¹³は、水素又はメチル基を示し、ｍは６
の整数を示す。

【００２６】

【化８】

【００２７】上記付加重合性モノマー（ｃ）は、分子内
にＯＨ基を有しているため、露光後希薄なアルカリ水溶
液で現像する際、未露光部分の現像性を高めるととも
に、後述する蛍光材料を分散する際、良好な分散剤とし
て作用する。

【００２８】光重合性樹脂組成物中の付加重合性モノマ
ー（ｃ）の量は、少なくなると現像時間が長くなるとと
もに、顔料の分散性が低下し、多くなると顔料の分散性
は向上するが、露光部分の耐現像性が低下するととも
に、光硬化性樹脂層自体のコールドフローが起こり易く
なるので、前記線状共重合体（ａ）１００重量部に対し
て５〜１００重量部に限定され、好ましくは２０〜７０
重量部である。

【００２９】本発明で使用される光重合開始剤（ｄ）と
しては、紫外線、可視光線等の活性光線により、上記不
飽和化合物（ｂ）及び付加重合性モノマー（ｃ）を活性
化し、重合を開始させる性質を有するものであればよ
い。

【００３０】上記光重合開始剤（ｄ）のうち、紫外線で
活性化するものとしては、例えば、ソジウムメチルジチ
オカーバメイトサルファイド、テトラメチルチウラムモ
ノサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジベン
ゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイドなど
のサルファイド類；チオキサントン、２−エチルチオキ
サントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチ
ルチオキサントン等のチオキサントン誘導体；ヒドラゾ
ン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゼンジアゾニウ
ム等の（ジ）アゾ化合物；ベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノ
ン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、
ベンジルアントラキノン、ｔ−ブチルアントラキノン、
２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノ
ン、２−アミノアントラキノン、２−クロロアントラキ
ノン、ベンジルジメチルケタール、メチルフェニルグリ
オキシレート等の芳香族カルボニル化合物；ｐ−ジメチ
ルアミノ安息香酸メチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸
エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、ｐ−ジエ
チルアミノ安息香酸イソプロピル等のジアルキルアミノ
安息香酸エステル類；ベンゾイルパーオキサイド、ジ−
ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、
キュメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物；９−フ
ェニルアクリジン、９−ｐ−メトキシフェニルアクリジ
ン、９−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン
等のアクリジン誘導体；９，１０−ジメチルベンズフェ
ナジン、９−メチルベンズフェナジン、１０−メトキシ
ベンズフェナジン等のフェナジン誘導体；６，４’，
４”−トリメトキシ−２，３−ジフェニルキノキサリン
等のキノキサリン誘導体；２，４，５−トリフェニルイ
ミダゾイル二量体；ハロゲン化ケトン；アシルホスフィ
ノキシド、アシルホスフォナート等のアシル化リン化合
物等が挙げられる。

【００３１】また、可視光線で活性化するものとして
は、例えば、２−ニトロフルオレン、２，４，６−トリ
フェニルビリリウム四弗化ホウ素塩、２，４，６−トリ
ス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
３，３’−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケト
ン等が挙げられる。

【００３２】上記光重合性樹脂組成物中の光重合開始剤
（ｄ）の量は、少なくなると硬化時間が長くなったり、
十分硬化しないため画像の形成ができなくなり、多くな
ると硬化した樹脂が黄変したり，もろくなったりするの
で、前記線状共重合体（ａ）１００重量部に対して、
０．１〜１０重量部に限定される。

【００３３】本発明で使用される蛍光材料（ｅ）として
は、蛍光顔料や蛍光染料が好適に使用され、例えば、ジ
キサンチレン、２，２’−ジヒドロキシ−α−ナフタル
ドアジン、アンスラピリミジン等の有色顔料；ローダミ
ン、エオジン、ブリリアントスルフォフラベンＦＦ、ピ
ラミン等の染料をアクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、尿素
樹脂、メラミン樹脂等に最適濃度で分散させて粉砕した
もの；酸性ポリエステル樹脂と４−アミノ−1,8 −ナフ
タール−ｐ−ジフェニルイミド等の塩基性染料を反応さ
せ、レーキ化した後粉砕したもの等が挙げられる。

【００３４】また、上記以外に、ナフトトリアゾイルス
チルベンスルホネート、ジアミノスチルベンジスルホネ
ート等のスチルベン誘導体；１，２−ビスベンゾキサゾ
イルエチレン、２，５−ビスベンゾキサゾイルチオフェ
ン、１，３−ジフェニルピラリゾン等のスチルベン同級
体；アミノクマリン、ナフチルクマリン等のクマリン染
料等が挙げられる。

【００３５】上記光重合性組成物中の蛍光材料（ｅ）の
量は、少なくなると蛍光の効果が小さくなり、多くなる
と線状共重合体（ａ）、光重合可能な不飽和化合物
（ｂ）に対して相溶性が著しく低下し、付加重合性モノ
マー（ｃ）の添加量を増やしても分散性が向上せず、凝
集物が発生し、溶液中で顔料又は染料の沈降が起こるの
で、前記線状共重合体（ａ）１００重量部に対して、
０．１〜１０重量部に限定される。

【００３６】本発明で使用される光重合性樹脂組成物の
構成は上述の通りであるが、必要に応じて、ジオクチル
フタレート、トリエチレングリコールジアセテート、ｐ
−トルエンスルホンアミド、Ｎ−エチルトルエンスルホ
ンアミド等の可塑剤；ヒドロキノン、ｐ−メトキシフェ
ノール等の熱重合禁止剤；安定剤；紫外線吸収剤；酸化
防止剤；メチルエチルケトン、トルエン等の溶媒等が添
加されてもよい。

【００３７】本発明において、光重合性樹脂組成物から
光重合性樹脂層を作製する方法としては、例えば、光重
合性樹脂組成物の希釈溶液を、ポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）、延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）等のフ
ィルム上に、一定の厚さとなるように流延し、乾燥させ
て、光重合性樹脂フィルムを形成し、該光重合性樹脂フ
ィルムを後述する基材上に熱ラミネートする方法が挙げ
られる。上記基材には、前以て離型処理が施されていて
もよい。また、光重合性樹脂組成物を希釈する溶媒とし
ては、例えば、メチルエチルケトン（以下ＭＥＫとい
う）、トルエン等が好適である。

【００３８】上記光重合性樹脂フィルムの厚さについて
は、特に制限はないが、表示盤に立体感を付与するため
には、厚い方が好ましく、例えば、上記樹脂フィルムの
複数層を熱ラミネートして、表示盤としての厚さが０．
３〜２ｍｍ程度となるように積層されればよい。

【００３９】本発明に用いられる基材としては、特に限
定されるものではないが、一般には、アクリル樹脂、ポ
リカ−ボネ−ト、ポリエチレンテレフタレート（以下Ｐ
ＥＴという）等のプラスチックシートもしくはプレー
ト；ガラス板；セラミック板；金属板等が好適に用いら
れ、例えば、可撓性、透明性、耐熱性等の必要特性を考
慮して選択さすればよい。また、これらの基材上に予め
任意の画像を印刷しておいてもよい。

【００４０】本発明によって形成される表示盤の画像パ
ターンは、光重合性樹脂フィルム層に、例えば、ネガマ
スクを通して露光、現像することにより得られるが、露
光するための光源としては、特に限定されるものではな
く、従来公知のものが使用でき、例えば、超高圧水銀
灯、メタルハライドランプ等が好適に用いられる。

【００４１】また、現像する際に用いられる現像液とし
ては、特に限定されるものではないが、例えば、濃度
０．５〜５重量％の炭酸ナトリウム水溶液が用いられ
る。また、現像装置については、特に制限はなく、公知
のものが使用可能である。

【００４２】

【実施例】以下に本発明を実施例に基づいて説明する。

【００４３】（実施例１）〔光重合可能な不飽和化合物（ｂ）の調製〕滴下漏斗、
温度計、還流冷却器およびメカニカルスタラーを備えた
４つ口フラスコにヘキサメチレンジイソシアネート５０
４重量部（３ｍｏｌ当量）と、溶媒として乾燥メチルエ
チルケトン（ＭＥＫ）８２６重量部およびジブチルスズ
ジラウレート（触媒）１重量部を加えて攪拌しながらポ
リエチレングリコール９１６重量部（２ｍｏｌ当量、平
均分子量：４５８）を加えて５時間還流した。次いで、
ペンタエリスリトール５９６重量部（２ｍｏｌ当量）を
滴下し、さらに５時間還流して反応させた後、ＭＥＫを
蒸発させて、光重合可能な不飽和化合物（ｂ）を調製し
た。（上記不飽和化合物（ｂ）は、式（Ｉ）において、
Ｒ¹＝（ＣＨ₂)₂、Ｒ²＝Ｒ ³＝Ｈ、Ｘ＝（Ｃ
Ｈ₂）₆、ｍ＝１０、ｎ＝２、重量平均分子量＝２０１
６である。）

【００４４】〔光重合性樹脂組成物の調製〕（１）線状共重合体１００重量部〔メタクリル酸メチル／メタクリル酸ブチル／アクリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸＝３１／３１／１３／２５（重量比）、重量平均分子量＝１５万〕（２）上記不飽和化合物９０重量部（３）ヘキサンジオール−１，６−ビス（３−アクリロキシ− ６５重量部２−ヒドロキシプロピル）（日本化薬社製、商品名「Ｒ−１６７」）（４）光重合開始剤２重量部（成分：ベンジルメタールケタール、チバガイギー社製、商品名「イルガキュアー６５１）上記化合物（１）〜（４）を３００重量部のＭＥＫに溶
解後、ガラスビーズを入れたアトライターにて、ジキサ
ンチレン２重量部を５時間分散して、光重合性樹脂組成
物の溶液を調製した。〔光重合性樹脂フィルムの調製〕上記溶液をＰＥＴフィ
ルム上に流延、乾燥して、厚さ１００μｍの光重合性樹
脂フィルムを作製した。上記溶液及び光重合性樹脂フィ
ルム中の蛍光顔料の分散性を肉眼で観察し、その結果を
表４に示す。〔立体画像表示盤の作製〕上記光重合性樹脂フィルムを
ＰＥＴフィルムをつけたまま、厚さ５００μｍのポリカ
ーボネート基材上にラミネートロールによって圧着し、
ＰＥＴフィルムを剥がした。同様の圧着操作を５回繰り
返して、図１に示すように、厚さ５００μｍの光重合性
樹脂層２を形成した。但し最外層の光重合性樹脂フィル
ム２２は、ＰＥＴフィルム２１を剥がさず、着けたまま
とした。次いで、図２に示すように、文字、目盛りに対
応する部分以外を遮光したフォトマスク３を光重合性樹
脂層２のＰＥＴフィルム２１上に密着させ、３Ｋｗの高
圧水銀灯により、１０００ｍＪ／ｃｍ²の光の強さで照
射した。次に、ＰＥＴフィルム２１を剥がし、３０℃、
１％炭酸ナトリウム水溶液を１．０ｋｇ／ｃｍ²の圧力
で、３６０秒間スプレー現像して、立体画像表示盤を作
製した。

【００４５】〔立体画像表示盤の性能評価〕（ａ）現像性の評価現像性の指標として、立体画像表示盤の未露光部分が現
像液に対して完全に溶解するまでの時間（秒）を測定
し、その結果を表５に示す。高解像性を得るには、現像
時間の２／３、つまり２４０秒程度で現像されることが
望ましい。（ｂ）視認性の評価得られた立体画像表示盤の、暗光２００ルックス（Ｌ
Ｘ）の照度下における画像層の照度を、キセノン自動蛍
光測色計にて測定し、その結果を表５に示す。（ｃ）屈曲性の評価得られた立体画像表示盤を、９０℃のオーブン中に５０
０時間放置した後、１０ｍｍ直径の丸棒に巻きつけて、
画像層が破壊するどうかを調べ、その結果を表５に示
す。

【００４６】（実施例２〜１０）表１及び２に示す不飽
和化合物を調製した後、表３に示す配合組成の光重合性
樹脂組成物溶液を調製し、実施例１と同様にして、立体
画像表示盤を作製した後、該表示盤の性能評価を行い、
その結果を表５に示す。

【００４７】

【表１】

【００４８】

【表２】

【００４９】

【表３】

【００５０】

【表４】

【００５１】（比較例１〜９）表１及び２に示す不飽和
化合物を調製した後、表４に示す配合組成の光重合性樹
脂組成物溶液を調製し、実施例１と同様にして、立体画
像表示盤を作製した後、該表示盤の性能評価を行い、そ
の結果を表６に示す。比較例１は、光重合可能な不飽和
化合物の分子量が小さいため、画像層の屈曲性評価で破
断した。また、比較例２及び３は、光重合可能な不飽和
化合物の分子量が大きいため、現像時間が長くかかり、
解像性の低下が認められた。また、比較例６では、光重
合性樹脂フィルムを調製しようとしたところ、コールド
フローが起こり、光重合性樹脂フィルムとして、適切な
ものは得られなかった。

【００５２】

【表５】

【００５３】

【表６】

【００５４】

【発明の効果】本発明によれば、可撓性に優れ、暗い照
明下でも立体画像パターンの明度が高く、立体感に優
れ、視認性の大きい立体画像表示盤を提供する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明において、基体上に形成された光重合性
樹脂層を示す模式断面図である。

【図２】本発明において、基体上に形成された光重合性
樹脂層に露光する状況を示す模式断面図である。

【図３】本発明において、基体上に形成された立体画像
パターンを示す模式断面図である。

【符号の説明】

１基材２光重合性樹脂層３フォトマスク４立体画像パターン２１ＰＥＴフィルム２２光重合性樹脂フィルム

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材上に光重合性樹脂層を形成し、マスク
を通して露光、硬化させ、未硬化部分を除去して所定の
立体画像パターンを形成する表示盤の製造方法であっ
て、上記光重合性樹脂層が、（ａ）カルボキシル基を含有するα、β−不飽和エチレ
ン系単量体１０〜４０重量％と前記以外のα、β−不飽
和エチレン系単量体６０〜９０重量％を構成成分とする
重量平均分子量が２万〜５０万の線状共重合体１００重
量部、（ｂ）下記一般式（Ｉ）、（II）及び (III)で表される
化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種以上の光
重合可能な不飽和化合物２０〜１２０重量部、【化１】（式中、Ｒ¹は２価の炭化水素基、Ｒ²、Ｒ³は水素又
はメチル基、Ｘは２価の炭化水素基、ｍは５〜１００の
整数、ｎは１〜１５の整数をそれぞれ示す。）【化２】（式中、Ｒ⁴は２価の炭化水素基、Ｒ⁵、Ｒ⁶は水素又
はメチル基、Ｙは２価の炭化水素基、ｐは５〜１００の
整数、ｑは１〜１５の整数をそれぞれ示す。）【化３】（式中、Ｒ⁷は２価の炭化水素基、Ｒ⁸、Ｒ⁹ Ｒ¹⁰、
Ｒ¹¹は水素又はメチル基、Ｚは２価の炭化水素基、ｒは
５〜１００の整数、ｓは１〜１５の整数をそれぞれ示
す。）（ｃ）一般式 (IV) で表される付加重合性モノマー５〜
１００重量部、【化４】（式中、Ｒ¹²及びＲ¹³は、水素原子又はメチル基を示
し、ｔは６の整数を示す。）（ｄ）活性光線により増感する光重合開始剤０．５〜５
重量部ならびに、（ｅ）蛍光材料０．１〜１０重量部よりなる光重合性樹
脂組成物を成分とし、該光重合性樹脂層を基材上に形成
して露光、硬化させ、立体画像パターンを形成すること
を特徴とする立体画像表示盤の製造方法。