JPH07240356A - ウェハの保管方法及びその輸送方法 - Google Patents
ウェハの保管方法及びその輸送方法Info
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- JPH07240356A JPH07240356A JP2972694A JP2972694A JPH07240356A JP H07240356 A JPH07240356 A JP H07240356A JP 2972694 A JP2972694 A JP 2972694A JP 2972694 A JP2972694 A JP 2972694A JP H07240356 A JPH07240356 A JP H07240356A
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- wafers
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウェハを洗浄した後、清浄度を維持したまま
保管又は輸送することのできるウェハの保管方法及びそ
の輸送方法を提供する。 【構成】 ウェハ２２を洗浄剤により洗浄し、洗浄剤を
付着させたまま急冷して洗浄剤を凍結させることによ
り、ウェハ２２の表面を洗浄剤の凍結層で覆う。
保管又は輸送することのできるウェハの保管方法及びそ
の輸送方法を提供する。 【構成】 ウェハ２２を洗浄剤により洗浄し、洗浄剤を
付着させたまま急冷して洗浄剤を凍結させることによ
り、ウェハ２２の表面を洗浄剤の凍結層で覆う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ウェハを、洗浄剤、例
えば、超純水、イソプロピルアルコール（以下ＩＰＡと
いう）等により洗浄した後、清浄度を維持したまま保管
又は輸送することを可能にしたウェハの保管方法及び輸
送方法に関する。
えば、超純水、イソプロピルアルコール（以下ＩＰＡと
いう）等により洗浄した後、清浄度を維持したまま保管
又は輸送することを可能にしたウェハの保管方法及び輸
送方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、半導体集積回路の製造工程に
おいては、ウェハへの不所望な付着物を除去するため、
超純水、イソプロピルアルコール等を用いてウェハの洗
浄を行う洗浄工程が設けられている。
おいては、ウェハへの不所望な付着物を除去するため、
超純水、イソプロピルアルコール等を用いてウェハの洗
浄を行う洗浄工程が設けられている。
【０００３】そして、このようなウェハの洗浄工程にお
いて、超純水等により最終洗浄されたウェハは、リンサ
ードライヤー等の乾燥装置により乾燥された後、収納容
器に収納され、次工程の作業場所、保管場所等に搬送さ
れている。
いて、超純水等により最終洗浄されたウェハは、リンサ
ードライヤー等の乾燥装置により乾燥された後、収納容
器に収納され、次工程の作業場所、保管場所等に搬送さ
れている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の半導体集積回路の製造工程においては、ウェハを洗
浄、乾燥した後、収納容器に収容して搬送及び保管を行
っている。
の半導体集積回路の製造工程においては、ウェハを洗
浄、乾燥した後、収納容器に収容して搬送及び保管を行
っている。
【０００５】しかしながら、このようにしてウェハの搬
送及び保管を行うと、搬送及び保管の際に微細な塵等が
ウェハ表面に付着することがある。ところが、半導体集
積回路の集積度がますます高まる今日において、ウェハ
表面上の塵等の汚染は、半導体集積回路の高集積化や高
歩留まりに極めて大きな悪影響を与えるようになってお
り、このような塵等の付着を防止して清浄度を維持する
ことが望まれている。また、ウェハ表面上に雰囲気中
の、有機溶剤等の蒸気が付着することもあり、半導体集
積回路の集積度がますます高まる近年、大きな問題とな
っている。
送及び保管を行うと、搬送及び保管の際に微細な塵等が
ウェハ表面に付着することがある。ところが、半導体集
積回路の集積度がますます高まる今日において、ウェハ
表面上の塵等の汚染は、半導体集積回路の高集積化や高
歩留まりに極めて大きな悪影響を与えるようになってお
り、このような塵等の付着を防止して清浄度を維持する
ことが望まれている。また、ウェハ表面上に雰囲気中
の、有機溶剤等の蒸気が付着することもあり、半導体集
積回路の集積度がますます高まる近年、大きな問題とな
っている。
【０００６】本発明は、かかる従来の事情に対処してな
されたもので、ウェハを洗浄した後、清浄度を維持した
まま保管又は輸送することのできるウェハの保管方法及
び輸送方法を提供することを目的とする。
されたもので、ウェハを洗浄した後、清浄度を維持した
まま保管又は輸送することのできるウェハの保管方法及
び輸送方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のウェハの保管方
法は、ウェハを洗浄剤により洗浄し、洗浄剤を付着させ
たまま洗浄剤を冷却して洗浄剤を凍結させることによ
り、ウェハの表面を洗浄剤の凍結層で覆うことを特徴と
する。
法は、ウェハを洗浄剤により洗浄し、洗浄剤を付着させ
たまま洗浄剤を冷却して洗浄剤を凍結させることによ
り、ウェハの表面を洗浄剤の凍結層で覆うことを特徴と
する。
【０００８】上記ウェハの保管方法において、洗浄剤と
しては、超純水、イソプロピルアルコールまたはその混
合物を用いることができる。
しては、超純水、イソプロピルアルコールまたはその混
合物を用いることができる。
【０００９】また、本発明のウェハの輸送方法は、表面
を洗浄剤の凍結層で覆ったウェハを、冷凍手段を備えて
内部を前記洗浄剤の凍結層の凝固点より低い温度に保持
した断熱性の収納容器に収納して搬送することを特徴と
する。
を洗浄剤の凍結層で覆ったウェハを、冷凍手段を備えて
内部を前記洗浄剤の凍結層の凝固点より低い温度に保持
した断熱性の収納容器に収納して搬送することを特徴と
する。
【００１０】上記ウェハの輸送方法において、洗浄剤と
しては、超純水、イソプロピルアルコールまたはその混
合物を用いることができる。
しては、超純水、イソプロピルアルコールまたはその混
合物を用いることができる。
【００１１】また、上記ウェハの輸送方法において、冷
凍手段としては、収納容器に収容された寒剤を用いるこ
とができる。
凍手段としては、収納容器に収容された寒剤を用いるこ
とができる。
【００１２】また、上記ウェハの輸送方法において、冷
凍手段としては、収納容器に装着されたペルチェ電気素
子を用いることができる。
凍手段としては、収納容器に装着されたペルチェ電気素
子を用いることができる。
【００１３】
【作用】本発明のウェハの保管方法及びその輸送方法に
よれば、ウェハ洗浄後、ウェハ表面の洗浄剤を急冷して
凍結させ、洗浄剤の凍結層でウェハの表面を覆った状態
で、このウェハを保管及び輸送する。
よれば、ウェハ洗浄後、ウェハ表面の洗浄剤を急冷して
凍結させ、洗浄剤の凍結層でウェハの表面を覆った状態
で、このウェハを保管及び輸送する。
【００１４】これによって、最終洗浄時の清浄度を維持
した状態で、ウェハを保管及び輸送することができ、雰
囲気中の、有機溶剤等の蒸気や塵等の付着を防止するこ
とができる。そして、後工程でさらに処理を施す際等
に、ウェハ表面の洗浄剤の凍結層を、超純水の流水等で
融解し、除去することにより、清浄度を維持した状態で
直ちに後工程の処理等を実施することができる。
した状態で、ウェハを保管及び輸送することができ、雰
囲気中の、有機溶剤等の蒸気や塵等の付着を防止するこ
とができる。そして、後工程でさらに処理を施す際等
に、ウェハ表面の洗浄剤の凍結層を、超純水の流水等で
融解し、除去することにより、清浄度を維持した状態で
直ちに後工程の処理等を実施することができる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しながら
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００１６】図１に、本実施例における各工程を示す。
同図に示す、洗浄工程では、複数枚のウェハを、バスケ
ット等に並列配置し、このバスケットごと超純水洗浄
槽、あるいは所定の洗浄液が収容された洗浄液槽に順次
浸漬して洗浄を行う。通常、この洗浄工程における最終
洗浄は、超純水洗浄あるいは、ＩＰＡ洗浄である。
同図に示す、洗浄工程では、複数枚のウェハを、バスケ
ット等に並列配置し、このバスケットごと超純水洗浄
槽、あるいは所定の洗浄液が収容された洗浄液槽に順次
浸漬して洗浄を行う。通常、この洗浄工程における最終
洗浄は、超純水洗浄あるいは、ＩＰＡ洗浄である。
【００１７】そして、最終洗浄が終了すると、次に、凍
結装置によるウェハの冷却工程が実施される。この冷却
工程は、例えば、図２に示すように、１または複数枚の
ウェハ２２をクランプ２１により挟持し、液体窒素２３
等が収容された凍結槽２４に浸漬することにより実施す
る。
結装置によるウェハの冷却工程が実施される。この冷却
工程は、例えば、図２に示すように、１または複数枚の
ウェハ２２をクランプ２１により挟持し、液体窒素２３
等が収容された凍結槽２４に浸漬することにより実施す
る。
【００１８】すなわち、ウェハ２２の表面に、洗浄剤で
ある超純水等が付着させたまま、この状態で、急冷する
ことにより、ウェハ表面を超純水等の凍結層で覆う。こ
のように、ウェハ２２の表面が、超純水等の凍結層によ
って覆われることにより、最終洗浄時の清浄度が保たれ
る。
ある超純水等が付着させたまま、この状態で、急冷する
ことにより、ウェハ表面を超純水等の凍結層で覆う。こ
のように、ウェハ２２の表面が、超純水等の凍結層によ
って覆われることにより、最終洗浄時の清浄度が保たれ
る。
【００１９】そして、このように、表面に超純水等の凍
結層が形成された状態で、ウェハ２２を、保管、輸送す
る。
結層が形成された状態で、ウェハ２２を、保管、輸送す
る。
【００２０】図３は、上述したようにして、急冷された
ウェハを搬送するための収納容器の構成を示すものであ
る。
ウェハを搬送するための収納容器の構成を示すものであ
る。
【００２１】同図において、３１は表面に超純水等の凍
結層が形成されたウェハであり、３２は洗浄された複数
のウェハ３１を並列配置する樹脂等からなるウェハキャ
リア、３３はウェハキャリア３２を収容し搬送するため
の断熱材等からなる収納容器である。
結層が形成されたウェハであり、３２は洗浄された複数
のウェハ３１を並列配置する樹脂等からなるウェハキャ
リア、３３はウェハキャリア３２を収容し搬送するため
の断熱材等からなる収納容器である。
【００２２】また、同図において、３４は低温状態を維
持するために冷凍手段として洗浄剤の凍結層の凝固点よ
り低い温度に保持することのできるドライアイス等の寒
剤、３５は収納容器の上部開口を閉塞する断熱材等から
なる蓋である。
持するために冷凍手段として洗浄剤の凍結層の凝固点よ
り低い温度に保持することのできるドライアイス等の寒
剤、３５は収納容器の上部開口を閉塞する断熱材等から
なる蓋である。
【００２３】上述したようにして超純水等の凍結層が形
成されたウェハ３１は、ウェハキャリア３２に複数枚収
納される。そして、長期間保管するような場合は、この
ウェハキャリア３２を、冷凍庫等等に収容して保管す
る。
成されたウェハ３１は、ウェハキャリア３２に複数枚収
納される。そして、長期間保管するような場合は、この
ウェハキャリア３２を、冷凍庫等等に収容して保管す
る。
【００２４】また、ウェハキャリア３２を搬送する際に
は、ウェハキャリア３２を図３に示したような収納容器
３３に収納して搬送を行う。これによって、ウェハ３１
を、次工程等に、表面に超純水等の凍結層が形成された
ままの状態で搬送することができる。
は、ウェハキャリア３２を図３に示したような収納容器
３３に収納して搬送を行う。これによって、ウェハ３１
を、次工程等に、表面に超純水等の凍結層が形成された
ままの状態で搬送することができる。
【００２５】そして、搬送先である次工程等において、
ウェハ３１に所定の処理を施す際には、超純水等をウェ
ハ３１に接触させて、ウェハ３１の表面を覆う洗浄剤の
凍結層を融解する。
ウェハ３１に所定の処理を施す際には、超純水等をウェ
ハ３１に接触させて、ウェハ３１の表面を覆う洗浄剤の
凍結層を融解する。
【００２６】これによって、ウェハ３１を、洗浄した後
の清浄度を維持したまま保管、輸送することができ、再
度洗浄等を行うことなく、直ちに後工程の処理等を実施
することが可能となる。したがって、歩留まりの向上
と、生産性の向上を図ることができる。
の清浄度を維持したまま保管、輸送することができ、再
度洗浄等を行うことなく、直ちに後工程の処理等を実施
することが可能となる。したがって、歩留まりの向上
と、生産性の向上を図ることができる。
【００２７】なお、上記した冷却工程においては、液体
窒素等の液体不活性ガスの他、アセトン−ドライアイス
等も使用できる。また、ノズル等から液体窒素等の液体
不活性ガスまたはアセトン−ドライアイス等で冷却した
ガスをウェハ表面上に噴射して凍結させる方法もある。
窒素等の液体不活性ガスの他、アセトン−ドライアイス
等も使用できる。また、ノズル等から液体窒素等の液体
不活性ガスまたはアセトン−ドライアイス等で冷却した
ガスをウェハ表面上に噴射して凍結させる方法もある。
【００２８】また、ウェハ２２を凍結させる際、複数枚
を束ねた状態で急冷し、これらのウェハを一体的に凍結
させることも可能であり、これらのウェハ２２が棒状に
凍結された状態で保管することも可能である。
を束ねた状態で急冷し、これらのウェハを一体的に凍結
させることも可能であり、これらのウェハ２２が棒状に
凍結された状態で保管することも可能である。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のウェハの
保管方法及びその輸送方法によれば、ウェハを洗浄した
後、清浄度を維持したまま保管又は輸送することができ
る。
保管方法及びその輸送方法によれば、ウェハを洗浄した
後、清浄度を維持したまま保管又は輸送することができ
る。
【図１】本発明の一実施例の構成を示すブロック図。
【図２】本発明の一実施例の冷却工程を示す図。
【図３】本発明の一実施例のウェハ搬送装置の構成を示
す図。
す図。
Claims (6)
- 【請求項１】 ウェハを洗浄剤により洗浄し、前記洗浄
剤を付着させたまま前記洗浄剤を冷却して前記洗浄剤を
凍結させることにより、前記ウェハの表面を前記洗浄剤
の凍結層で覆うことを特徴とするウェハの保管方法。 - 【請求項２】 前記洗浄剤が、超純水、イソプロピルア
ルコールまたはその混合物である請求項１記載のウェハ
の保管方法。 - 【請求項３】 表面を洗浄剤の凍結層で覆ったウェハ
を、冷凍手段を備えて内部を前記洗浄剤の凍結層の凝固
点より低い温度に保持した断熱性の収納容器に収納して
搬送することを特徴とするウェハの輸送方法。 - 【請求項４】 前記洗浄剤が、超純水、イソプロピルア
ルコールまたはその混合物である請求項３記載のウェハ
の輸送方法。 - 【請求項５】 請求項３または４記載の輸送方法におい
て、冷凍手段が収納容器に収納された寒剤であるウェハ
の輸送方法。 - 【請求項６】 請求項３または４記載の輸送方法におい
て、冷凍手段が収納容器に装着されたペルチェ電気素子
であるウェハの輸送方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2972694A JP3654923B2 (ja) | 1994-02-28 | 1994-02-28 | ウェハの保管方法及びその輸送方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2972694A JP3654923B2 (ja) | 1994-02-28 | 1994-02-28 | ウェハの保管方法及びその輸送方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07240356A true JPH07240356A (ja) | 1995-09-12 |
| JP3654923B2 JP3654923B2 (ja) | 2005-06-02 |
Family
ID=12284116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2972694A Expired - Fee Related JP3654923B2 (ja) | 1994-02-28 | 1994-02-28 | ウェハの保管方法及びその輸送方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3654923B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1048756A4 (en) * | 1998-10-05 | 2006-06-21 | Ebara Corp | DEVICE FOR PLATING SUBSTRATES |
| JP2007250759A (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-27 | Fujitsu Ltd | 半導体ウェハの保管方法及び半導体ウェハ用保管具 |
| US7942976B2 (en) | 2006-11-24 | 2011-05-17 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| US8029622B2 (en) | 2006-09-13 | 2011-10-04 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus, liquid film freezing method and substrate processing method |
| US8623146B2 (en) | 2011-01-20 | 2014-01-07 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
| US9214331B2 (en) | 2011-01-06 | 2015-12-15 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4514700B2 (ja) | 2005-12-13 | 2010-07-28 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
-
1994
- 1994-02-28 JP JP2972694A patent/JP3654923B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1048756A4 (en) * | 1998-10-05 | 2006-06-21 | Ebara Corp | DEVICE FOR PLATING SUBSTRATES |
| JP2007250759A (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-27 | Fujitsu Ltd | 半導体ウェハの保管方法及び半導体ウェハ用保管具 |
| US8029622B2 (en) | 2006-09-13 | 2011-10-04 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus, liquid film freezing method and substrate processing method |
| US7942976B2 (en) | 2006-11-24 | 2011-05-17 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| US9214331B2 (en) | 2011-01-06 | 2015-12-15 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
| US8623146B2 (en) | 2011-01-20 | 2014-01-07 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3654923B2 (ja) | 2005-06-02 |
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