JPH0758562B2 - 光ディスク成形用スタンパー洗浄装置 - Google Patents
光ディスク成形用スタンパー洗浄装置Info
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- JPH0758562B2 JPH0758562B2 JP10563688A JP10563688A JPH0758562B2 JP H0758562 B2 JPH0758562 B2 JP H0758562B2 JP 10563688 A JP10563688 A JP 10563688A JP 10563688 A JP10563688 A JP 10563688A JP H0758562 B2 JPH0758562 B2 JP H0758562B2
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 この発明は光ディスク成形用スタンパー洗浄装置に関
し、更に詳しくは光ディスク成形用スタンパーの脱脂装
置の付帯装置として好適で、且つコンパクト化された光
ディスク成形用スタンパー洗浄装置に関する。
し、更に詳しくは光ディスク成形用スタンパーの脱脂装
置の付帯装置として好適で、且つコンパクト化された光
ディスク成形用スタンパー洗浄装置に関する。
(ロ)従来の技術 スタンパー、すなわちLPディスク、光ディスクなどの情
報記録用ディスクを複製するためのマスター盤は、一般
に次のような工程で製造される。
報記録用ディスクを複製するためのマスター盤は、一般
に次のような工程で製造される。
まずガラス原盤を研磨し、その研磨面に感光性樹脂膜を
塗布し、光学的エッチング処理を施して所望の微細パタ
ーンを刻設する。次いでその微細パターン面に金属薄膜
を設け、更にニッケル電気メッキにより所望の厚さまで
肉盛りした後、元のガラス原盤部分から分離してスタン
パーとする。
塗布し、光学的エッチング処理を施して所望の微細パタ
ーンを刻設する。次いでその微細パターン面に金属薄膜
を設け、更にニッケル電気メッキにより所望の厚さまで
肉盛りした後、元のガラス原盤部分から分離してスタン
パーとする。
しかしながら、このスタンパーの表面には、感光性樹脂
膜が残留しており、この膜の除去に、アルカリ・界面活
性剤の混合溶液中で電解脱脂を行う電解脱脂洗浄法、有
機溶媒中で超音波によって洗浄する超音波洗浄法、又は
これらの併用洗浄法が採用されている(特開昭62−2145
35号公報参照)。
膜が残留しており、この膜の除去に、アルカリ・界面活
性剤の混合溶液中で電解脱脂を行う電解脱脂洗浄法、有
機溶媒中で超音波によって洗浄する超音波洗浄法、又は
これらの併用洗浄法が採用されている(特開昭62−2145
35号公報参照)。
(ハ)発明が解決しようとする課題 ところで情報記録用ディスクは、従来からのLPレコード
とは異なり最近では光によって記録情報を取り出す光デ
ィスクが飛躍的に多方面に使用されるようになってき
た。これらの光ディスクは、情報を記録するための溝幅
が、LPレコードの50mμに対しその1/100の0.5mμであ
る。
とは異なり最近では光によって記録情報を取り出す光デ
ィスクが飛躍的に多方面に使用されるようになってき
た。これらの光ディスクは、情報を記録するための溝幅
が、LPレコードの50mμに対しその1/100の0.5mμであ
る。
一方上述の各種洗浄法にて洗浄されたディスク成形用ス
タンパーに残留している微粒子は1〜10mμである。ま
たその後のスタンパーの使用(ディスクの成形)によっ
て付着する各種塵埃や微粒子もほぼ同様の大きさであ
る。
タンパーに残留している微粒子は1〜10mμである。ま
たその後のスタンパーの使用(ディスクの成形)によっ
て付着する各種塵埃や微粒子もほぼ同様の大きさであ
る。
従って従来のLPレコード成形用(又はアナログ用)スタ
ンパーでは、情報記録用の溝が上述のごとく50mμ程度
であるから、製造時の洗浄だけで十分であった。
ンパーでは、情報記録用の溝が上述のごとく50mμ程度
であるから、製造時の洗浄だけで十分であった。
これに対して光ディスク成形用(又はデジタル用)スタ
ンパーでは、情報記録用の溝が0.5mμ程度であるから、
1mμの微粒子でも、情報記録に致命的な影響がある。特
に光ディスク成形用スタンパーは、その情報記録用の溝
が細かく、しかも接近しているので、製造が難しく、高
価であり、一つのスタンパーで多数の光ディスクを成形
しなければならず、更に長期間の保存を要求される。
ンパーでは、情報記録用の溝が0.5mμ程度であるから、
1mμの微粒子でも、情報記録に致命的な影響がある。特
に光ディスク成形用スタンパーは、その情報記録用の溝
が細かく、しかも接近しているので、製造が難しく、高
価であり、一つのスタンパーで多数の光ディスクを成形
しなければならず、更に長期間の保存を要求される。
結局光ディスク成形用スタンパーは、成形作業中に付着
する塵埃や微粒子、長期間保存による腐食などのために
洗浄を必要とすることになる。
する塵埃や微粒子、長期間保存による腐食などのために
洗浄を必要とすることになる。
しかしながら、この発明の発明者の知るかぎり、このよ
うな光ディスク成形用スタンパーに対する桁違いの洗浄
を簡便に行う方法又は装置は知られていない。
うな光ディスク成形用スタンパーに対する桁違いの洗浄
を簡便に行う方法又は装置は知られていない。
一般のスタンパーの製造工程中で採用されている、上述
の電解脱脂洗浄法又は/及び超音波洗浄法の採用も考え
られるが、いずれも、洗浄度を従来の1/100に高めるこ
とは難しい。
の電解脱脂洗浄法又は/及び超音波洗浄法の採用も考え
られるが、いずれも、洗浄度を従来の1/100に高めるこ
とは難しい。
またスタンパーに基づいて光ディスクを成形する作業環
境全体をクリーン化することも考えられるが、これに
は、例えば作業室中の0.1mμ以上の塵埃を除去する設備
や、使用する水中に分散する同様の大きさの微粒子を除
去する設備が必要となり、これらの設備は大規模になら
ざるを得ず実用的ではなかった。
境全体をクリーン化することも考えられるが、これに
は、例えば作業室中の0.1mμ以上の塵埃を除去する設備
や、使用する水中に分散する同様の大きさの微粒子を除
去する設備が必要となり、これらの設備は大規模になら
ざるを得ず実用的ではなかった。
(ニ)課題を解決するための手段及びその作用 この発明は、一つの枠体内に、流し台及び作業台を組込
み、かつ流し台の上方にはスタンパーにかけるための純
水を供給する純水供給手段を、作業台の上にはエア濾過
器付乾燥手段を、上記以外の任意の位置にはスタンパー
の洗浄度を検査するための検査手段をそれぞれ設置し、 更に上記枠体の上部に、枠体外のエアをクリーン化して
枠体内へ供給するためのクリーンエア供給手段を設けた
ことを特徴とするコンパクト化された光ディスク成形用
スタンパー洗浄装置である。
み、かつ流し台の上方にはスタンパーにかけるための純
水を供給する純水供給手段を、作業台の上にはエア濾過
器付乾燥手段を、上記以外の任意の位置にはスタンパー
の洗浄度を検査するための検査手段をそれぞれ設置し、 更に上記枠体の上部に、枠体外のエアをクリーン化して
枠体内へ供給するためのクリーンエア供給手段を設けた
ことを特徴とするコンパクト化された光ディスク成形用
スタンパー洗浄装置である。
すなわち、この発明は、 i)枠体自体(装置全体)を、コンパクト化することに
よって通常のクリーンルーム内に配置できるようにし、 ii)枠体の上部に特定のクリーンエア供給手段を設け
て、そのクリーンルームとは1段高いクリーンエア領域
を簡便に形成できるようにし、 iii)そのクリーンエア作業領域内に純水供給手段、乾
燥手段、検査手段を配置することによって、1段高いク
リーンエア下で検査しながら純水による洗浄と乾燥を行
えるようにし、 これらのi)ii)iii)によって、スタンパーを簡便に
所定の洗浄度に洗浄できるようにするものである。
よって通常のクリーンルーム内に配置できるようにし、 ii)枠体の上部に特定のクリーンエア供給手段を設け
て、そのクリーンルームとは1段高いクリーンエア領域
を簡便に形成できるようにし、 iii)そのクリーンエア作業領域内に純水供給手段、乾
燥手段、検査手段を配置することによって、1段高いク
リーンエア下で検査しながら純水による洗浄と乾燥を行
えるようにし、 これらのi)ii)iii)によって、スタンパーを簡便に
所定の洗浄度に洗浄できるようにするものである。
この発明に係る光ディスク成形用スタンパー洗浄装置
は、もちろん単独で使用可能であるが、スタンパーをア
ルカリ溶液中で電解脱脂させる電解脱脂洗浄装置の付帯
装置とすることによって、より高い洗浄度が得られるス
タンパー洗浄装置とすることができる。
は、もちろん単独で使用可能であるが、スタンパーをア
ルカリ溶液中で電解脱脂させる電解脱脂洗浄装置の付帯
装置とすることによって、より高い洗浄度が得られるス
タンパー洗浄装置とすることができる。
以下この発明の各手段の構成を簡単に説明する。
純水供給手段は、水中の0.1mμ程度以上の微粒子を除去
して供給できるものであればよく、具体的には脱イオン
水を半透過膜(限外濾過膜、逆浸透膜など)を介してシ
ャワーできる構成が好ましい。
して供給できるものであればよく、具体的には脱イオン
水を半透過膜(限外濾過膜、逆浸透膜など)を介してシ
ャワーできる構成が好ましい。
乾燥手段は、純水によって洗浄されたスタンパーを乾燥
させるための手段であり、具体的には、枠体外又は枠体
内のエアをフィルターを介してクリーン化し(例えば、
0.1mμ程度以上の塵埃を除去)、加熱してスタンパーに
接触可能に通過できる乾燥室が好ましいものとして挙げ
られる。
させるための手段であり、具体的には、枠体外又は枠体
内のエアをフィルターを介してクリーン化し(例えば、
0.1mμ程度以上の塵埃を除去)、加熱してスタンパーに
接触可能に通過できる乾燥室が好ましいものとして挙げ
られる。
検査手段は、スタンパーが所定の洗浄度に達したかどう
かを確かめるための手段を意味し、具体的には、光をス
タンパーに照射できるハロゲンランプ、キセノンラン
プ、アルゴンランプなどが好ましく、その反射光を見て
ゴミか、汚れか、きずの有無を判定する。
かを確かめるための手段を意味し、具体的には、光をス
タンパーに照射できるハロゲンランプ、キセノンラン
プ、アルゴンランプなどが好ましく、その反射光を見て
ゴミか、汚れか、きずの有無を判定する。
クリーンエア供給手段は、枠体の上部に設置され、枠体
外(クリーンルーム)のエアをクリーン化(例えば0.1m
μ程度以上の塵埃を除去)して枠体内へ供給するための
手段を意味し、具体的には実施例のごとく、ファン、プ
レフィルタ及びフィルタを備えたユニットが好ましいも
のとして挙げられる。
外(クリーンルーム)のエアをクリーン化(例えば0.1m
μ程度以上の塵埃を除去)して枠体内へ供給するための
手段を意味し、具体的には実施例のごとく、ファン、プ
レフィルタ及びフィルタを備えたユニットが好ましいも
のとして挙げられる。
(ホ)実施例 以下図に示す実施例に基づいてこの発明を詳述する。な
お、これによってこの発明が限定されるものではない。
お、これによってこの発明が限定されるものではない。
まず第1図において、光ディスク成形用スタンパー洗浄
装置1は、大きく分けて本装置2と、この本装置とは別
体の付帯装置3とからなる。
装置1は、大きく分けて本装置2と、この本装置とは別
体の付帯装置3とからなる。
本装置2は、第2図において、電解液としてアルカリ脱
脂液4を充填した電解槽5と、ニッケル金属製スタンパ
ーSを電解液中に吊下保持できる、スタンパーSと同一
素材のニッケル金属製洗浄治具(陽極)6と、同じくス
タンパーSと同一素材のニッケル金属製対向電極(陰
極)7と、電源(図示省略)と、ヒータ8と、撹拌器K
とから主としてなる。
脂液4を充填した電解槽5と、ニッケル金属製スタンパ
ーSを電解液中に吊下保持できる、スタンパーSと同一
素材のニッケル金属製洗浄治具(陽極)6と、同じくス
タンパーSと同一素材のニッケル金属製対向電極(陰
極)7と、電源(図示省略)と、ヒータ8と、撹拌器K
とから主としてなる。
而して付帯装置3は、第1図において、枠体9と、この
枠体内の下部に組み込まれた流し台10及び作業台11と、
枠体9内の上部で、前記流し台10の上位に設置された超
純水供給用シャワー12と、同じく枠体9内の上部で、前
記作業台11の上に設置された乾燥室13と、この乾燥室と
前記シャワー12との間に設置されたスタンパー検査用ハ
ロゲンランプ照射器14と、枠体9の上部に設置され、枠
体9内にクリーンエアを供給するためのクリーンエア供
給ユニツト15とから主としてなる。
枠体内の下部に組み込まれた流し台10及び作業台11と、
枠体9内の上部で、前記流し台10の上位に設置された超
純水供給用シャワー12と、同じく枠体9内の上部で、前
記作業台11の上に設置された乾燥室13と、この乾燥室と
前記シャワー12との間に設置されたスタンパー検査用ハ
ロゲンランプ照射器14と、枠体9の上部に設置され、枠
体9内にクリーンエアを供給するためのクリーンエア供
給ユニツト15とから主としてなる。
以下付帯装置3の各構成を詳細に説明する。
枠体9は、上部と下部とを分離可能とし、上部が天板16
と、シャワー12、乾燥室13及び照射器14を取付ける後板
17と、透明合成樹脂製両側板18,19とによって形成され
る。下部は上述のとおり並んで一体に組み込まれた流し
台10と作業台11そのものである。かくして枠体9内に前
方に開放する空間が形成される。この空間に前記クリー
ンエア供給ユニット15からのクリーンエアが供給され、
外部[クリーンルーム20]とは一段高いクリーンエア領
域(クリーンベンチ)が形成される。
と、シャワー12、乾燥室13及び照射器14を取付ける後板
17と、透明合成樹脂製両側板18,19とによって形成され
る。下部は上述のとおり並んで一体に組み込まれた流し
台10と作業台11そのものである。かくして枠体9内に前
方に開放する空間が形成される。この空間に前記クリー
ンエア供給ユニット15からのクリーンエアが供給され、
外部[クリーンルーム20]とは一段高いクリーンエア領
域(クリーンベンチ)が形成される。
超純水供給用シャワー12は、脱イオン水供給源Wと、供
給された脱イオン水を加圧下(約1.5気圧)で全量通過
させる限外濾過膜フィルター(酢酸セルロース、ポリエ
ーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアクリロニトリル
などの合成樹脂製中空系)充填体21と、散水口22とから
なる。
給された脱イオン水を加圧下(約1.5気圧)で全量通過
させる限外濾過膜フィルター(酢酸セルロース、ポリエ
ーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアクリロニトリル
などの合成樹脂製中空系)充填体21と、散水口22とから
なる。
乾燥室13は、上に吸入口を下に排出口Eを有し、枠体9
内のエアを吸入口からファンBによってフィルタF及び
ヒータ(表面素材:テフロン加工したステンレス鋼,H)
を介して供給し、排出口Eから排出させることができ、
前面の扉Dを開放してスタンパーSを挿入するとクリー
ン化され加熱されたエアに接触できる。
内のエアを吸入口からファンBによってフィルタF及び
ヒータ(表面素材:テフロン加工したステンレス鋼,H)
を介して供給し、排出口Eから排出させることができ、
前面の扉Dを開放してスタンパーSを挿入するとクリー
ン化され加熱されたエアに接触できる。
スタンパー検査用ハロゲンランプ照射器14は、本体23
と、この本体から照射光を絞って任意の位置に導く導光
体24とからなる。
と、この本体から照射光を絞って任意の位置に導く導光
体24とからなる。
クリーンエア供給ユニット15は主としてファンB1と、プ
レフィルタF1と、フィルタF2とからなる。なお、25はス
タンパ保持用治具である。
レフィルタF1と、フィルタF2とからなる。なお、25はス
タンパ保持用治具である。
次に以上の構成を備えた光ディスク成形用スタンパー洗
浄装置1の使い方を説明する。
浄装置1の使い方を説明する。
i)本装置2 洗浄対象のスタンパーSを洗浄治具6に引掛けて電解液
中に吊下し、その洗浄治具(陽極)6と対向電極(陰
極)7との間に電源を介して直流電圧を印加する。かく
して電解よって、激しく発生するガスとアルカリ脱脂液
とがもつケン化、浸透、分散、乳化などの化学的、物理
的作用がスタンパーSに作用しスタンパーSが効果的に
洗浄される。なお、アルカリ脱脂液の交換は積算通電時
間が所定値に至ると行われる。
中に吊下し、その洗浄治具(陽極)6と対向電極(陰
極)7との間に電源を介して直流電圧を印加する。かく
して電解よって、激しく発生するガスとアルカリ脱脂液
とがもつケン化、浸透、分散、乳化などの化学的、物理
的作用がスタンパーSに作用しスタンパーSが効果的に
洗浄される。なお、アルカリ脱脂液の交換は積算通電時
間が所定値に至ると行われる。
ii)付帯装置3 本装置2で脱脂洗浄されたスタンパーSを電解槽5から
取り出し、流し台10上でシャワー12により超純水にさら
す。洗い程度(表面に残留する微粒子または塵埃の有
無)は、照射器14の導光体24によって、スタンパーSの
角度を調整しつつ照射し、その反射光を見て判断し、不
十分であれば再度超純水を当て、十分であれば乾燥室13
に挿入してクリーン化され加温(例:40℃)されたエア
に当て乾燥させる。
取り出し、流し台10上でシャワー12により超純水にさら
す。洗い程度(表面に残留する微粒子または塵埃の有
無)は、照射器14の導光体24によって、スタンパーSの
角度を調整しつつ照射し、その反射光を見て判断し、不
十分であれば再度超純水を当て、十分であれば乾燥室13
に挿入してクリーン化され加温(例:40℃)されたエア
に当て乾燥させる。
かくして所望の洗浄度(残留微粒子又は塵埃:0.1mμ以
下)のスタンパーが得られる。なお、付帯装置3は、上
部と下部に分割でき、それら分割された上・下部それぞ
れがクリーンを破ることなくクリーンルームに搬入・出
できるよう構成されているので好都合である。
下)のスタンパーが得られる。なお、付帯装置3は、上
部と下部に分割でき、それら分割された上・下部それぞ
れがクリーンを破ることなくクリーンルームに搬入・出
できるよう構成されているので好都合である。
(ヘ)発明の効果 この発明によれば、クリーンルームより一段高いクリー
ンエア領域にてスタンパーを純水洗いでき、その洗い程
度を確かめて乾燥させるように構成しているので、スタ
ンパーを簡便に所定の洗浄度に洗浄できる。
ンエア領域にてスタンパーを純水洗いでき、その洗い程
度を確かめて乾燥させるように構成しているので、スタ
ンパーを簡便に所定の洗浄度に洗浄できる。
第1図はこの発明に係る光ディスク成形用スタンパー洗
浄装置の一実施例を示す構成説明図、第2図はその本装
置の機能説明図である。 1……光ディスク成形用スタンパー洗浄装置、 2……本装置、3……付帯装置、9……枠体、10……流
し台、11……作業台、12……超純水供給用シャワー、13
……乾燥室、14……スタンパー検査用ハロゲンランプ照
射器、15……クリーンエア供給ユニット。
浄装置の一実施例を示す構成説明図、第2図はその本装
置の機能説明図である。 1……光ディスク成形用スタンパー洗浄装置、 2……本装置、3……付帯装置、9……枠体、10……流
し台、11……作業台、12……超純水供給用シャワー、13
……乾燥室、14……スタンパー検査用ハロゲンランプ照
射器、15……クリーンエア供給ユニット。
Claims (1)
- 【請求項1】一つの枠体内に、流し台及び作業台を組込
み、かつ流し台の上方にはスタンパーにかけるための純
水を供給する純水供給手段を、作業台の上にはエア濾過
器付乾燥手段を、上記以外の任意の位置にはスタンパー
の洗浄度を検査するための検査手段をそれぞれ設置し、 更に上記枠体の上部に、枠体外のエアをクリーン化して
枠体内へ供給するためのクリーンエア供給手段を設けた
ことを特徴とするコンパクト化された光ディスク成形用
スタンパー洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10563688A JPH0758562B2 (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 光ディスク成形用スタンパー洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10563688A JPH0758562B2 (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 光ディスク成形用スタンパー洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01275126A JPH01275126A (ja) | 1989-11-02 |
| JPH0758562B2 true JPH0758562B2 (ja) | 1995-06-21 |
Family
ID=14412946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10563688A Expired - Lifetime JPH0758562B2 (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 光ディスク成形用スタンパー洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0758562B2 (ja) |
-
1988
- 1988-04-28 JP JP10563688A patent/JPH0758562B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01275126A (ja) | 1989-11-02 |
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