JPH0780956A - 光散乱材の製造方法 - Google Patents
光散乱材の製造方法Info
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- JPH0780956A JPH0780956A JP5254925A JP25492593A JPH0780956A JP H0780956 A JPH0780956 A JP H0780956A JP 5254925 A JP5254925 A JP 5254925A JP 25492593 A JP25492593 A JP 25492593A JP H0780956 A JPH0780956 A JP H0780956A
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光散乱率の高い光散乱材を提供する。
【構成】 導光板、フィルム、樹脂薄板などの基体上
に、樹脂と貧溶媒４とからなる樹脂被膜を形成する。樹
脂被膜中の樹脂が貧溶媒４に溶解しきれなくなって凝集
して析出し、凝集樹脂相５と貧溶媒相６とに二相分離を
起こした後に、樹脂被膜を乾燥して貧溶媒４を気化させ
ることにより、基体上に非球形でかつ連続した多数の微
細空孔を有する樹脂被膜が形成された光散乱材を得る。
に、樹脂と貧溶媒４とからなる樹脂被膜を形成する。樹
脂被膜中の樹脂が貧溶媒４に溶解しきれなくなって凝集
して析出し、凝集樹脂相５と貧溶媒相６とに二相分離を
起こした後に、樹脂被膜を乾燥して貧溶媒４を気化させ
ることにより、基体上に非球形でかつ連続した多数の微
細空孔を有する樹脂被膜が形成された光散乱材を得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光散乱率が高い光散乱
材の製造方法に関するものである。
材の製造方法に関するものである。
【０００２】液晶ディスプレイのバックライトは、薄型
で、高輝度かつ均一な発光を行なうことが必要である。
このような液晶ディスプレイのバックライトとして、透
明な導光板の側方に線光源が配置され、線光源からの距
離に応じて形成密度の変化したグラデーションパターン
を有する光散乱反射部が導光板裏面に設けられたエッジ
ライト方式の面光源装置が多く用いられている。
で、高輝度かつ均一な発光を行なうことが必要である。
このような液晶ディスプレイのバックライトとして、透
明な導光板の側方に線光源が配置され、線光源からの距
離に応じて形成密度の変化したグラデーションパターン
を有する光散乱反射部が導光板裏面に設けられたエッジ
ライト方式の面光源装置が多く用いられている。
【０００３】光散乱反射部は、線光源から導光板内に入
射した光を上方に散乱反射させ導光板の上面より出射さ
せる。よって、光散乱反射部の光散乱率を高めることが
面光源装置の高輝度化の重要なポイントとなる。
射した光を上方に散乱反射させ導光板の上面より出射さ
せる。よって、光散乱反射部の光散乱率を高めることが
面光源装置の高輝度化の重要なポイントとなる。
【０００４】また、面光源装置には、導光板の表側に拡
散板を配置したものがある。拡散板は、導光板より出射
した光を散乱させることにより光散乱反射部の形成部分
と非形成部分との輝度差を解消して均一な発光面を得る
ものである。
散板を配置したものがある。拡散板は、導光板より出射
した光を散乱させることにより光散乱反射部の形成部分
と非形成部分との輝度差を解消して均一な発光面を得る
ものである。
【０００５】
【従来の技術】従来より、導光板裏面に光散乱反射部を
形成する方法としては、白色顔料やガラスビーズなどの
光散乱性微粒子が混入されたインキを用いてグラデーシ
ョンパターンの光散乱層を導光板裏面に直接印刷する方
法や、ガス発生物質が混入されたインキを用いてグラデ
ーションパターンの光散乱層を導光板裏面に直接印刷し
た後、光照射または加熱により発泡させ内部に多数の気
泡が封入された樹脂層を形成する方法があった。
形成する方法としては、白色顔料やガラスビーズなどの
光散乱性微粒子が混入されたインキを用いてグラデーシ
ョンパターンの光散乱層を導光板裏面に直接印刷する方
法や、ガス発生物質が混入されたインキを用いてグラデ
ーションパターンの光散乱層を導光板裏面に直接印刷し
た後、光照射または加熱により発泡させ内部に多数の気
泡が封入された樹脂層を形成する方法があった。
【０００６】また、導光板裏面に光散乱反射部を形成す
る別の方法として、線光源からの距離に応じて形成密度
の変化したグラデーションパターンを有する光透過性層
を導光板裏面に設けた後、白色顔料やガラスビーズなど
の光散乱性微粒子が混入されたインキを全面塗布したフ
ィルムを導光板裏面に積層する方法や、線光源からの距
離に応じて形成密度の変化したグラデーションパターン
を有する光透過性層を導光板裏面に設けた後、ガス発生
物質が混入されたインキを全面塗布し光照射または加熱
により塗布膜が発泡されたフィルムを導光板裏面に積層
する方法がある。
る別の方法として、線光源からの距離に応じて形成密度
の変化したグラデーションパターンを有する光透過性層
を導光板裏面に設けた後、白色顔料やガラスビーズなど
の光散乱性微粒子が混入されたインキを全面塗布したフ
ィルムを導光板裏面に積層する方法や、線光源からの距
離に応じて形成密度の変化したグラデーションパターン
を有する光透過性層を導光板裏面に設けた後、ガス発生
物質が混入されたインキを全面塗布し光照射または加熱
により塗布膜が発泡されたフィルムを導光板裏面に積層
する方法がある。
【０００７】また、拡散板の場合には、上記の光散乱性
微粒子が混入されたインキを全面塗布したフィルムや、
ガス発生物質が混入されたインキを全面塗布し光照射ま
たは加熱により塗布膜が発泡されたフィルムを用いたも
のがあった。
微粒子が混入されたインキを全面塗布したフィルムや、
ガス発生物質が混入されたインキを全面塗布し光照射ま
たは加熱により塗布膜が発泡されたフィルムを用いたも
のがあった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来技
術には、以下のような問題があった。
術には、以下のような問題があった。
【０００９】つまり、白色顔料やガラスビーズなどの光
散乱性微粒子が混入されたインキを用いる方法では、イ
ンキとしての印刷適性を出すためには光散乱性微粒子の
含有率に限界があり、高い光散乱率は得られなかった。
また、光散乱微粒子の粒径が大きいため、光散乱微粒子
の混入によって得られる塗布膜の凹凸が粗くなり、やは
り高い光散乱率は得られなかった。
散乱性微粒子が混入されたインキを用いる方法では、イ
ンキとしての印刷適性を出すためには光散乱性微粒子の
含有率に限界があり、高い光散乱率は得られなかった。
また、光散乱微粒子の粒径が大きいため、光散乱微粒子
の混入によって得られる塗布膜の凹凸が粗くなり、やは
り高い光散乱率は得られなかった。
【００１０】また、ガス発生物質が混入されたインキを
用い光照射や加熱により塗布膜を発泡させる方法では、
発生した気泡がほぼ球形に近く形成される。換言すれ
ば、気泡の表面積が非常に小さくなるため、気泡と樹脂
の界面、すなわち光散乱界面の表面積が大きくならな
い。よって、高い光散乱率は得られなかった。
用い光照射や加熱により塗布膜を発泡させる方法では、
発生した気泡がほぼ球形に近く形成される。換言すれ
ば、気泡の表面積が非常に小さくなるため、気泡と樹脂
の界面、すなわち光散乱界面の表面積が大きくならな
い。よって、高い光散乱率は得られなかった。
【００１１】加えて、気泡を高密度に発生させようとす
ると、気泡の発生によって塗布層が膨れ上がるのでパタ
ーンの精度が極端に悪くなり、たとえばドットグラデー
ションを印刷しても忠実なパターンを再現できず、輝度
の不均一性の原因となる。また、発泡により膜質が極端
に脆くなる。よって、発泡密度に限界があり、高い光散
乱率は得られなかった。
ると、気泡の発生によって塗布層が膨れ上がるのでパタ
ーンの精度が極端に悪くなり、たとえばドットグラデー
ションを印刷しても忠実なパターンを再現できず、輝度
の不均一性の原因となる。また、発泡により膜質が極端
に脆くなる。よって、発泡密度に限界があり、高い光散
乱率は得られなかった。
【００１２】したがって、本発明は、以上のような問題
点を解決し、光散乱率の高い光散乱材を提供することを
目的とする
点を解決し、光散乱率の高い光散乱材を提供することを
目的とする
【００１３】
【課題を解決するための手段および作用】上記の目的を
達成するために、本発明の光散乱材の製造方法は、良溶
媒に溶解した樹脂液を基体上に塗布または印刷して樹脂
被膜を形成し、樹脂被膜中の良溶媒が完全乾燥する前に
樹脂被膜を良溶媒より高沸点の貧溶媒中にさらし、その
後樹脂被膜を乾燥させることによって良溶媒、貧溶媒の
順で気化させて非球形でかつ連続した多数の微細空孔を
有する樹脂被膜が基体上に形成された光散乱材を得るよ
うに構成した。
達成するために、本発明の光散乱材の製造方法は、良溶
媒に溶解した樹脂液を基体上に塗布または印刷して樹脂
被膜を形成し、樹脂被膜中の良溶媒が完全乾燥する前に
樹脂被膜を良溶媒より高沸点の貧溶媒中にさらし、その
後樹脂被膜を乾燥させることによって良溶媒、貧溶媒の
順で気化させて非球形でかつ連続した多数の微細空孔を
有する樹脂被膜が基体上に形成された光散乱材を得るよ
うに構成した。
【００１４】また、本発明の光散乱材の製造方法は、良
溶媒に溶解した樹脂液を基体上に塗布または印刷して樹
脂被膜を形成し、樹脂被膜中の良溶媒が完全乾燥する前
に樹脂被膜を良溶媒と同等または良溶媒より低沸点でか
つ良溶媒に対して過剰な貧溶媒中にさらし、その後樹脂
被膜を乾燥させることによって貧溶媒を気化させて非球
形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜が基
体上に形成された光散乱材を得るように構成した。
溶媒に溶解した樹脂液を基体上に塗布または印刷して樹
脂被膜を形成し、樹脂被膜中の良溶媒が完全乾燥する前
に樹脂被膜を良溶媒と同等または良溶媒より低沸点でか
つ良溶媒に対して過剰な貧溶媒中にさらし、その後樹脂
被膜を乾燥させることによって貧溶媒を気化させて非球
形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜が基
体上に形成された光散乱材を得るように構成した。
【００１５】また、本発明の光散乱材の製造方法は、良
溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる混合溶液中
に溶解した樹脂液を基体上に塗布または印刷して樹脂被
膜を形成し、この樹脂被膜を乾燥させることによって良
溶媒、貧溶媒の順で気化させて非球形でかつ連続した多
数の微細空孔を有する樹脂被膜が基体上に形成された光
散乱材を得るように構成した。
溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる混合溶液中
に溶解した樹脂液を基体上に塗布または印刷して樹脂被
膜を形成し、この樹脂被膜を乾燥させることによって良
溶媒、貧溶媒の順で気化させて非球形でかつ連続した多
数の微細空孔を有する樹脂被膜が基体上に形成された光
散乱材を得るように構成した。
【００１６】以下、本発明を図を用いてさらに詳しく説
明する。
明する。
【００１７】図１〜図１１は本発明に係る光散乱材の製
造方法の一実施例を示す模式図、図１２〜１４は本発明
に係る光散乱材を用いた面光源装置を示す断面図であ
る。１は樹脂被膜、２は樹脂、３は良溶媒、４は貧溶
媒、５は凝集樹脂相、６は貧溶媒相、７は空隙、８は微
細空孔を有する樹脂被膜、９は導光板、１０は線光源、
１１は光散乱層、１２１，１２２，１２３は光散乱材、
１３は光透過性層、１４は支持体をそれぞれ示す。
造方法の一実施例を示す模式図、図１２〜１４は本発明
に係る光散乱材を用いた面光源装置を示す断面図であ
る。１は樹脂被膜、２は樹脂、３は良溶媒、４は貧溶
媒、５は凝集樹脂相、６は貧溶媒相、７は空隙、８は微
細空孔を有する樹脂被膜、９は導光板、１０は線光源、
１１は光散乱層、１２１，１２２，１２３は光散乱材、
１３は光透過性層、１４は支持体をそれぞれ示す。
【００１８】本発明は、次のようにして、非球形でかつ
連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜８が基体上に
形成された光散乱材１２１，１２２，１２３を得る。
連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜８が基体上に
形成された光散乱材１２１，１２２，１２３を得る。
【００１９】＜方法１＞基体は、導光板９である場合
（図１２参照）と導光板９に積層する支持体１４である
場合（図１３および図１４参照）とがある。
（図１２参照）と導光板９に積層する支持体１４である
場合（図１３および図１４参照）とがある。
【００２０】線光源１０からの距離に応じて面積率の変
化するグラデーションパターンの光散乱層１１を導光板
９裏面に直接形成して光散乱材１２１とした場合には、
導光板９が基体となる（図１２参照）。導光板９の材質
としては、アクリル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニ
ルなどの樹脂、あるいはガラスなどを使用する。
化するグラデーションパターンの光散乱層１１を導光板
９裏面に直接形成して光散乱材１２１とした場合には、
導光板９が基体となる（図１２参照）。導光板９の材質
としては、アクリル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニ
ルなどの樹脂、あるいはガラスなどを使用する。
【００２１】また、線光源１０からの距離に応じて面積
率の変化するグラデーションパターンの光透過性層１３
を導光板９裏面に形成し、光散乱層１１を全面塗布形成
した支持体１４を導光板９を光散乱材１２２として透過
性層１３を有する面に積層した場合（図１３参照）、あ
るいは光散乱層１１を全面塗布形成した支持体１４を光
散乱材１２３として導光板９の表側に積層した場合（図
１４参照）には、支持体１４が基体となる。支持体１４
は、フィルムや樹脂薄板からなり、これらの材質として
は、アクリル、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂
を使用する。
率の変化するグラデーションパターンの光透過性層１３
を導光板９裏面に形成し、光散乱層１１を全面塗布形成
した支持体１４を導光板９を光散乱材１２２として透過
性層１３を有する面に積層した場合（図１３参照）、あ
るいは光散乱層１１を全面塗布形成した支持体１４を光
散乱材１２３として導光板９の表側に積層した場合（図
１４参照）には、支持体１４が基体となる。支持体１４
は、フィルムや樹脂薄板からなり、これらの材質として
は、アクリル、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂
を使用する。
【００２２】まず、これらの基体上に、樹脂２を良溶媒
３に溶解した樹脂液を塗布または印刷する（図１参
照）。良溶媒３とは溶質を溶かす能力の大きい溶媒のこ
とをいう。これに反し溶質を溶かす能力の小さい溶媒を
貧溶媒４という。良溶媒３としては、たとえばポリスチ
レン樹脂に対しては、ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエ
ステル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノンなどのケトン、四塩化炭素、ジクロロエタンなどの
ハロゲン化炭化水素のほか、テトラヒドロフラン、シク
ロヘキサンなどが使用される。また、アクリル樹脂に対
しては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭
化水素、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、アセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケ
トン、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭
化水素のほか、クロロホルムなどが使用される。もちろ
ん、上記ポリスチレン樹脂やアクリル樹脂以外の樹脂２
に対しても良溶媒３が適宜選択される。塗布および印刷
の方法は、必要膜厚やパターン精度の度合いによって適
当な方法を選べばよく、たとえば、バーコート、ロール
コート、ディップコートなどの塗布法、スクリーン、グ
ラビア、オフセットなどの印刷法が使用できる。
３に溶解した樹脂液を塗布または印刷する（図１参
照）。良溶媒３とは溶質を溶かす能力の大きい溶媒のこ
とをいう。これに反し溶質を溶かす能力の小さい溶媒を
貧溶媒４という。良溶媒３としては、たとえばポリスチ
レン樹脂に対しては、ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエ
ステル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノンなどのケトン、四塩化炭素、ジクロロエタンなどの
ハロゲン化炭化水素のほか、テトラヒドロフラン、シク
ロヘキサンなどが使用される。また、アクリル樹脂に対
しては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭
化水素、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、アセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケ
トン、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭
化水素のほか、クロロホルムなどが使用される。もちろ
ん、上記ポリスチレン樹脂やアクリル樹脂以外の樹脂２
に対しても良溶媒３が適宜選択される。塗布および印刷
の方法は、必要膜厚やパターン精度の度合いによって適
当な方法を選べばよく、たとえば、バーコート、ロール
コート、ディップコートなどの塗布法、スクリーン、グ
ラビア、オフセットなどの印刷法が使用できる。
【００２３】次に、樹脂被膜１中の良溶媒３が完全乾燥
する前に、樹脂被膜１を良溶媒３より高沸点の貧溶媒４
中にさらす。貧溶媒４としては、たとえばポリスチレン
樹脂に対しては、メタノール、n-ブタノール、n-オクタ
ノール、エチレングリコール、ジアセトンアルコール、
メトキシエタノールなどのアルコールなどが使用され
る。また、アクリル樹脂に対しては、ジアセトンアルコ
ール、メトキシエタノールなどを一部除くアルコールな
どが使用される。また、ポリスチレン樹脂やアクリル樹
脂以外の樹脂２に対しても貧溶媒４が適宜選択される。
なお、良溶媒３と貧溶媒４の沸点の高低は相対的なもの
であり、たとえばアクリル樹脂に対する良溶媒３と貧溶
媒４は、ジエチルベンゼンとそれより高沸点のn-オクタ
ノールの組み合わせなどが使用される。また、ポリスチ
レン樹脂に対する良溶媒３と貧溶媒４は、キシレンとそ
れより高沸点のn-ヘキサノールの組み合わせ、あるいは
テトラヒドロフランとそれより高沸点のn-ブタノールの
組み合わせなどが使用される。樹脂被膜１を良溶媒３よ
り高沸点の貧溶媒４中にさらす方法は、たとえば、貧溶
媒４を入れた液槽に樹脂被膜１の形成された基体を浸け
たり、樹脂被膜１表面にシャワーやスプレーなどで貧溶
媒４を浴びせる方法を使用する。このとき、樹脂被膜１
中より良溶媒３が徐々に溶け出し、逆に樹脂被膜１中に
良溶媒３に比べて高沸点の貧溶媒４が徐々に浸透して
（図２参照）、樹脂被膜１は樹脂２と良溶媒３と良溶媒
３より高沸点の貧溶媒４とからなる層へと変化する（図
３参照）。
する前に、樹脂被膜１を良溶媒３より高沸点の貧溶媒４
中にさらす。貧溶媒４としては、たとえばポリスチレン
樹脂に対しては、メタノール、n-ブタノール、n-オクタ
ノール、エチレングリコール、ジアセトンアルコール、
メトキシエタノールなどのアルコールなどが使用され
る。また、アクリル樹脂に対しては、ジアセトンアルコ
ール、メトキシエタノールなどを一部除くアルコールな
どが使用される。また、ポリスチレン樹脂やアクリル樹
脂以外の樹脂２に対しても貧溶媒４が適宜選択される。
なお、良溶媒３と貧溶媒４の沸点の高低は相対的なもの
であり、たとえばアクリル樹脂に対する良溶媒３と貧溶
媒４は、ジエチルベンゼンとそれより高沸点のn-オクタ
ノールの組み合わせなどが使用される。また、ポリスチ
レン樹脂に対する良溶媒３と貧溶媒４は、キシレンとそ
れより高沸点のn-ヘキサノールの組み合わせ、あるいは
テトラヒドロフランとそれより高沸点のn-ブタノールの
組み合わせなどが使用される。樹脂被膜１を良溶媒３よ
り高沸点の貧溶媒４中にさらす方法は、たとえば、貧溶
媒４を入れた液槽に樹脂被膜１の形成された基体を浸け
たり、樹脂被膜１表面にシャワーやスプレーなどで貧溶
媒４を浴びせる方法を使用する。このとき、樹脂被膜１
中より良溶媒３が徐々に溶け出し、逆に樹脂被膜１中に
良溶媒３に比べて高沸点の貧溶媒４が徐々に浸透して
（図２参照）、樹脂被膜１は樹脂２と良溶媒３と良溶媒
３より高沸点の貧溶媒４とからなる層へと変化する（図
３参照）。
【００２４】次に、樹脂被膜１を乾燥させることによっ
て、まず良溶媒３を気化させる（図４参照）。良溶媒３
を気化させると、樹脂被膜１中の樹脂２が良溶媒３より
高沸点の貧溶媒４に溶解しきれなくなって凝集して析出
し、凝集樹脂相５と貧溶媒相６とに二相分離を起こす
（図５参照）。
て、まず良溶媒３を気化させる（図４参照）。良溶媒３
を気化させると、樹脂被膜１中の樹脂２が良溶媒３より
高沸点の貧溶媒４に溶解しきれなくなって凝集して析出
し、凝集樹脂相５と貧溶媒相６とに二相分離を起こす
（図５参照）。
【００２５】さらに乾燥して良溶媒３より高沸点の貧溶
媒４を気化させると（図６参照）、良溶媒３より高沸点
の貧溶媒４が飛び去った後に空隙７が残り、非球形でか
つ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜８となる
（図７参照）。
媒４を気化させると（図６参照）、良溶媒３より高沸点
の貧溶媒４が飛び去った後に空隙７が残り、非球形でか
つ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜８となる
（図７参照）。
【００２６】また、光散乱材を得る別の方法として、次
の方法２、方法３がある。
の方法２、方法３がある。
【００２７】＜方法２＞まず、方法１と同様に基体上に
良溶媒３に樹脂２を溶解した樹脂液を塗布または印刷す
る（図８参照）。
良溶媒３に樹脂２を溶解した樹脂液を塗布または印刷す
る（図８参照）。
【００２８】次に、樹脂被膜１中の良溶媒３が完全乾燥
する前に、樹脂被膜１を良溶媒３と同等または良溶媒３
より低沸点でかつ良溶媒３に対して過剰な貧溶媒４中に
さらす。なお、良溶媒３に対して過剰な量の貧溶媒４を
必要とする理由は、貧溶媒４の沸点が良溶媒３に比べて
同等か低い場合、樹脂被膜１中の良溶媒３を貧溶媒４と
十分に置換しておかないと、乾燥時に貧溶媒４が良溶媒
３より先に気化してしまい、良溶媒３のみが樹脂被膜１
中に残って微細空孔を有する樹脂層８が形成できないか
らである。良溶媒３と同等または良溶媒３より低沸点で
かつ良溶媒３に対して過剰な貧溶媒４中にさらす方法
は、たとえば、過剰量の貧溶媒４を入れた液槽に樹脂被
膜１の形成された基体を浸けたり、樹脂被膜１表面にシ
ャワーやスプレーなどで過剰量の貧溶媒４を浴びせる方
法を使用する。このとき、樹脂被膜１中より良溶媒３が
徐々に溶け出し、逆に良溶媒３と同等かまたは良溶媒３
より低沸点の貧溶媒４が徐々に樹脂被膜１中に浸透して
（図９参照）、最終的に樹脂被膜１は樹脂２と貧溶媒４
とからなる層へと変化する。その結果、樹脂被膜１中の
樹脂２は貧溶媒４に溶解しきれなくなって凝集して析出
し、凝集樹脂相５と貧溶媒相６とに二相分離を起こす
（図１０参照）。
する前に、樹脂被膜１を良溶媒３と同等または良溶媒３
より低沸点でかつ良溶媒３に対して過剰な貧溶媒４中に
さらす。なお、良溶媒３に対して過剰な量の貧溶媒４を
必要とする理由は、貧溶媒４の沸点が良溶媒３に比べて
同等か低い場合、樹脂被膜１中の良溶媒３を貧溶媒４と
十分に置換しておかないと、乾燥時に貧溶媒４が良溶媒
３より先に気化してしまい、良溶媒３のみが樹脂被膜１
中に残って微細空孔を有する樹脂層８が形成できないか
らである。良溶媒３と同等または良溶媒３より低沸点で
かつ良溶媒３に対して過剰な貧溶媒４中にさらす方法
は、たとえば、過剰量の貧溶媒４を入れた液槽に樹脂被
膜１の形成された基体を浸けたり、樹脂被膜１表面にシ
ャワーやスプレーなどで過剰量の貧溶媒４を浴びせる方
法を使用する。このとき、樹脂被膜１中より良溶媒３が
徐々に溶け出し、逆に良溶媒３と同等かまたは良溶媒３
より低沸点の貧溶媒４が徐々に樹脂被膜１中に浸透して
（図９参照）、最終的に樹脂被膜１は樹脂２と貧溶媒４
とからなる層へと変化する。その結果、樹脂被膜１中の
樹脂２は貧溶媒４に溶解しきれなくなって凝集して析出
し、凝集樹脂相５と貧溶媒相６とに二相分離を起こす
（図１０参照）。
【００２９】最後に、樹脂被膜１を乾燥して貧溶媒４を
気化させると（図１１参照）、貧溶媒４が飛び去った後
に空隙７が残り、非球形でかつ連続した多数の微細空孔
を有する樹脂被膜８となる（図７参照）。
気化させると（図１１参照）、貧溶媒４が飛び去った後
に空隙７が残り、非球形でかつ連続した多数の微細空孔
を有する樹脂被膜８となる（図７参照）。
【００３０】＜方法３＞まず、良溶媒３と良溶媒３より
高沸点の貧溶媒４とからなる混合溶液中に樹脂２を溶解
した樹脂液を基体上に塗布または印刷する（図３参
照）。良溶媒３および良溶媒３より高沸点の貧溶媒４と
しては、方法１と同様のものを用いることができる。
高沸点の貧溶媒４とからなる混合溶液中に樹脂２を溶解
した樹脂液を基体上に塗布または印刷する（図３参
照）。良溶媒３および良溶媒３より高沸点の貧溶媒４と
しては、方法１と同様のものを用いることができる。
【００３１】次に、方法１と同様に樹脂被膜１を乾燥さ
せることによって、まず良溶媒３を気化させ（図４参
照）、樹脂被膜１に凝集樹脂相５と貧溶媒相６の二相分
離を起こさせる（図５参照）。
せることによって、まず良溶媒３を気化させ（図４参
照）、樹脂被膜１に凝集樹脂相５と貧溶媒相６の二相分
離を起こさせる（図５参照）。
【００３２】さらに乾燥して貧溶媒４を気化させる（図
６参照）と、貧溶媒４が飛び去った後に空隙７が残り、
非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜
８となる（図７参照）。
６参照）と、貧溶媒４が飛び去った後に空隙７が残り、
非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜
８となる（図７参照）。
【００３３】なお、方法１〜３によって製造された光散
乱材は、樹脂２、良溶媒３、貧溶媒４の組み合わせや混
合比率、塗布膜厚、乾燥温度などの条件設定によって微
細空孔の平均径、形状および密度を調節し、光散乱や光
透過の条件設定を行なうことができる。
乱材は、樹脂２、良溶媒３、貧溶媒４の組み合わせや混
合比率、塗布膜厚、乾燥温度などの条件設定によって微
細空孔の平均径、形状および密度を調節し、光散乱や光
透過の条件設定を行なうことができる。
【００３４】
【実施例】以下、本発明の光散乱材の製造方法について
実施例を示す。
実施例を示す。
【００３５】実施例１ 厚さ１mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂
と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーター
で塗布した。 アクリル樹脂（三菱レイヨン株式会社製、BR−85） 20重量部 シクロヘキサノン（良溶媒） 80重量部
と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーター
で塗布した。 アクリル樹脂（三菱レイヨン株式会社製、BR−85） 20重量部 シクロヘキサノン（良溶媒） 80重量部
【００３６】コーティング後直ちに樹脂被膜の形成され
た基体を良溶媒より高沸点のn-オクタノール（貧溶媒）
中に浸漬してシクロヘキサノン（良溶媒）とn-オクタノ
ール（貧溶媒）とを一部入れ換え、樹脂被膜を樹脂と良
溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる層とした。
その後、50℃、30分間オーブン中で乾燥させることによ
って、シクロヘキサノン（良溶媒）、n-オクタノール
（貧溶媒）の順で気化させて光散乱材を得た。
た基体を良溶媒より高沸点のn-オクタノール（貧溶媒）
中に浸漬してシクロヘキサノン（良溶媒）とn-オクタノ
ール（貧溶媒）とを一部入れ換え、樹脂被膜を樹脂と良
溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる層とした。
その後、50℃、30分間オーブン中で乾燥させることによ
って、シクロヘキサノン（良溶媒）、n-オクタノール
（貧溶媒）の順で気化させて光散乱材を得た。
【００３７】乾燥により基体上に形成された微細空孔を
有する樹脂被膜は白色不透明であり、膜厚は25μmであ
った。顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が0.
4μmの微細空孔が密に存在していた。
有する樹脂被膜は白色不透明であり、膜厚は25μmであ
った。顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が0.
4μmの微細空孔が密に存在していた。
【００３８】このようにして得られた光散乱材を、導光
板裏面に設けられたグラデーションパターンを有する光
透過性層上に積層して光散乱反射部を形成したところ、
光散乱率が高いので導光板の出射面での輝度が向上し
た。
板裏面に設けられたグラデーションパターンを有する光
透過性層上に積層して光散乱反射部を形成したところ、
光散乱率が高いので導光板の出射面での輝度が向上し
た。
【００３９】実施例２ 厚さ１mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂
と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液を200線のスク
リーン印刷により、ピッチが1.5mmの円形のドットグラ
デーションパターンに印刷した。 ポリスチレン樹脂（重合度約1400） 25重量部 酢酸ブチル（良溶媒） 75重量部
と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液を200線のスク
リーン印刷により、ピッチが1.5mmの円形のドットグラ
デーションパターンに印刷した。 ポリスチレン樹脂（重合度約1400） 25重量部 酢酸ブチル（良溶媒） 75重量部
【００４０】印刷後2分間室温でレベリングした後、樹
脂被膜の形成された基体を良溶媒より高沸点のエチレン
グリコールモノアセテート（貧溶媒）中に浸漬して酢酸
ブチル（良溶媒）とエチレングリコールモノアセテート
（貧溶媒）とを一部入れ換え、樹脂被膜を樹脂と良溶媒
と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる層とした。その
後、50℃、30分間オーブン中で乾燥させることによって
酢酸ブチル（良溶媒）、エチレングリコールモノアセテ
ート（貧溶媒）の順で気化させて光散乱材を得た。
脂被膜の形成された基体を良溶媒より高沸点のエチレン
グリコールモノアセテート（貧溶媒）中に浸漬して酢酸
ブチル（良溶媒）とエチレングリコールモノアセテート
（貧溶媒）とを一部入れ換え、樹脂被膜を樹脂と良溶媒
と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる層とした。その
後、50℃、30分間オーブン中で乾燥させることによって
酢酸ブチル（良溶媒）、エチレングリコールモノアセテ
ート（貧溶媒）の順で気化させて光散乱材を得た。
【００４１】乾燥により基体上にグラデーションパター
ンで形成された微細空孔を有する樹脂被膜は白色不透明
であり、膜厚は20μｍであった。顕微鏡で樹脂被膜を観
察したところ、平均径が0.7μｍの微細空孔が密に存在
していた。
ンで形成された微細空孔を有する樹脂被膜は白色不透明
であり、膜厚は20μｍであった。顕微鏡で樹脂被膜を観
察したところ、平均径が0.7μｍの微細空孔が密に存在
していた。
【００４２】このようにして得られた光散乱材を、導光
板として用いたところ、光散乱率が高いので導光板の出
射面での輝度が向上した。
板として用いたところ、光散乱率が高いので導光板の出
射面での輝度が向上した。
【００４３】実施例３ 厚さ１mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂
と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーター
で塗布した。 アクリル樹脂（三菱レイヨン株式会社製、BR−85） ９重量部 酢酸エチル（良溶媒） 91重量部
と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーター
で塗布した。 アクリル樹脂（三菱レイヨン株式会社製、BR−85） ９重量部 酢酸エチル（良溶媒） 91重量部
【００４４】コーティング後直ちに樹脂被膜の形成され
た基体を良溶媒より高沸点のn-ペンタノール（貧溶媒）
中に浸漬して 酢酸エチル（良溶媒）とn-ペンタノール
（貧溶媒）とを一部入れ換え、樹脂被膜を樹脂と良溶媒
と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる層とした。その
後、50℃、30分間オーブン中で乾燥させることによって
酢酸エチル（良溶媒）、n-ペンタノール（貧溶媒）の順
で気化させて光散乱材を得た。
た基体を良溶媒より高沸点のn-ペンタノール（貧溶媒）
中に浸漬して 酢酸エチル（良溶媒）とn-ペンタノール
（貧溶媒）とを一部入れ換え、樹脂被膜を樹脂と良溶媒
と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる層とした。その
後、50℃、30分間オーブン中で乾燥させることによって
酢酸エチル（良溶媒）、n-ペンタノール（貧溶媒）の順
で気化させて光散乱材を得た。
【００４５】乾燥により基体上に形成された微細空孔を
有する樹脂被膜は乳白色半透明であり、膜厚は1.8μmで
あった。顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が
1.5μmの微細空孔が密に存在していた。
有する樹脂被膜は乳白色半透明であり、膜厚は1.8μmで
あった。顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が
1.5μmの微細空孔が密に存在していた。
【００４６】このようにして得られた光散乱材を、拡散
板として用いたところ、光散乱率が高いので拡散板の出
射面での輝度が均一になった。
板として用いたところ、光散乱率が高いので拡散板の出
射面での輝度が均一になった。
【００４７】実施例４ 厚さ１mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂
と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーター
で塗布した。 ポリスチレン樹脂（重合度約1400） 30重量部 トルエン（良溶媒） 70重量部
と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーター
で塗布した。 ポリスチレン樹脂（重合度約1400） 30重量部 トルエン（良溶媒） 70重量部
【００４８】コーティング後直ちに樹脂被膜の形成され
た基体を良溶媒より低沸点でかつ良溶媒に対して過剰な
n-プロパノール（貧溶媒）中に５分間浸漬してトルエン
とn-プロパノール（貧溶媒）とを十分に入れ換え、その
後50℃、30分間オーブン中で乾燥してn-プロパノール
（貧溶媒）を気化させて光散乱材を得た。
た基体を良溶媒より低沸点でかつ良溶媒に対して過剰な
n-プロパノール（貧溶媒）中に５分間浸漬してトルエン
とn-プロパノール（貧溶媒）とを十分に入れ換え、その
後50℃、30分間オーブン中で乾燥してn-プロパノール
（貧溶媒）を気化させて光散乱材を得た。
【００４９】乾燥により基体上に形成された微細空孔を
有する樹脂被膜は白色不透明であり、膜厚は30μmであ
った。顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が0.
5μmの微細空孔が密に存在していた。
有する樹脂被膜は白色不透明であり、膜厚は30μmであ
った。顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が0.
5μmの微細空孔が密に存在していた。
【００５０】このようにして得られた光散乱材を、導光
板裏面に設けられたグラデーションパターンを有する光
透過性層上に積層したところ、光散乱率が高いので導光
板の出射面での輝度が向上した。
板裏面に設けられたグラデーションパターンを有する光
透過性層上に積層したところ、光散乱率が高いので導光
板の出射面での輝度が向上した。
【００５１】実施例５ 厚さ１mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂
と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液を200線のスク
リーン印刷により、ピッチが1.5mmの円形のドットグラ
デーションパターンに印刷した。 アクリル樹脂（三菱レイヨン株式会社製、BR−85） 20重量部 ジアセトンアルコール（良溶媒） 80重量部
と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液を200線のスク
リーン印刷により、ピッチが1.5mmの円形のドットグラ
デーションパターンに印刷した。 アクリル樹脂（三菱レイヨン株式会社製、BR−85） 20重量部 ジアセトンアルコール（良溶媒） 80重量部
【００５２】印刷後２分間室温でレベリングした後、樹
脂被膜の形成された基体を良溶媒より低沸点でかつ良溶
媒に対して過剰なn-ヘキサノール（貧溶媒）中に30秒間
浸漬してジアセトンアルコール（良溶媒）とn-ヘキサノ
ール（貧溶媒）とを十分に入れ換え、その後50℃、30分
間オーブン中で乾燥してn-ヘキサノール（貧溶媒）を気
化させて光散乱材を得た。
脂被膜の形成された基体を良溶媒より低沸点でかつ良溶
媒に対して過剰なn-ヘキサノール（貧溶媒）中に30秒間
浸漬してジアセトンアルコール（良溶媒）とn-ヘキサノ
ール（貧溶媒）とを十分に入れ換え、その後50℃、30分
間オーブン中で乾燥してn-ヘキサノール（貧溶媒）を気
化させて光散乱材を得た。
【００５３】乾燥により基体上にグラデーションパター
ンで形成された微細空孔を有する樹脂被膜は白色不透明
であり、膜厚は15μｍであった。顕微鏡で樹脂被膜を観
察したところ、平均径が0.3μｍの微細空孔が密に存在
していた。
ンで形成された微細空孔を有する樹脂被膜は白色不透明
であり、膜厚は15μｍであった。顕微鏡で樹脂被膜を観
察したところ、平均径が0.3μｍの微細空孔が密に存在
していた。
【００５４】このようにして得られた光散乱材を、導光
板として用いたところ、光散乱率が高いので導光板の出
射面での輝度が向上した。
板として用いたところ、光散乱率が高いので導光板の出
射面での輝度が向上した。
【００５５】実施例６ 厚さ１mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂
と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーター
で塗布した。 アクリル樹脂（三菱レイヨン株式会社製、BR85） ７重量部 酢酸ブチル（良溶媒） 93重量部
と良溶媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーター
で塗布した。 アクリル樹脂（三菱レイヨン株式会社製、BR85） ７重量部 酢酸ブチル（良溶媒） 93重量部
【００５６】コーティング後直ちに樹脂被膜の形成され
た基体を良溶媒より低沸点でかつ良溶媒に対して過剰な
n-ブタノール（貧溶媒）中に20秒間浸漬して酢酸ブチル
（良溶媒）とn-ブタノール（貧溶媒）とを十分に入れ換
え、その後50℃、30分間オーブン中で乾燥してn-ブタノ
ール（貧溶媒）を気化させて光散乱材を得た。
た基体を良溶媒より低沸点でかつ良溶媒に対して過剰な
n-ブタノール（貧溶媒）中に20秒間浸漬して酢酸ブチル
（良溶媒）とn-ブタノール（貧溶媒）とを十分に入れ換
え、その後50℃、30分間オーブン中で乾燥してn-ブタノ
ール（貧溶媒）を気化させて光散乱材を得た。
【００５７】乾燥により基体上に形成された微細空孔を
有する樹脂被膜は乳白色半透明であり、膜厚は1.5μmで
あった。顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が
１μmの微細空孔が密に存在していた。
有する樹脂被膜は乳白色半透明であり、膜厚は1.5μmで
あった。顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が
１μmの微細空孔が密に存在していた。
【００５８】このようにして得られた光散乱材を、拡散
板として用いたところ、光散乱率が高いので拡散板の出
射面での輝度が均一になった。
板として用いたところ、光散乱率が高いので拡散板の出
射面での輝度が均一になった。
【００５９】実施例７ 厚さ１mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂
と良溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる下記の
組成の樹脂液をバーコーターで塗布した。 ポリスチレン樹脂（重合度約1400） 20重量部 キシレン（良溶媒） 50重量部 n-ヘキサノール（貧溶媒） 30重量部
と良溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる下記の
組成の樹脂液をバーコーターで塗布した。 ポリスチレン樹脂（重合度約1400） 20重量部 キシレン（良溶媒） 50重量部 n-ヘキサノール（貧溶媒） 30重量部
【００６０】樹脂液を塗布した後、50℃、30分間オーブ
ン中で乾燥させることによってキシレン（良溶媒）、n-
ヘキサノール（貧溶媒）の順で気化させて光散乱材を得
た。
ン中で乾燥させることによってキシレン（良溶媒）、n-
ヘキサノール（貧溶媒）の順で気化させて光散乱材を得
た。
【００６１】乾燥により基体上に形成された微細空孔を
有する樹脂被膜は白色不透明であり、膜厚は30μmであ
った。顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が0.
5μmの微細空孔が密に存在していた。
有する樹脂被膜は白色不透明であり、膜厚は30μmであ
った。顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が0.
5μmの微細空孔が密に存在していた。
【００６２】このようにして得られた光散乱材を、導光
板裏面に設けられたグラデーションパターン有する光透
過性層上に積層したところ、光散乱率が高いので導光板
の出射面での輝度が向上した。
板裏面に設けられたグラデーションパターン有する光透
過性層上に積層したところ、光散乱率が高いので導光板
の出射面での輝度が向上した。
【００６３】実施例８ 厚さ１mmの透明アクリル樹脂板からなる基体上に、樹脂
と良溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる下記の
組成の樹脂液を200線のスクリーン印刷により、ピッチ
が1.5mmの円形のドットグラデーションパターンに印刷
した。 アクリル樹脂（三菱レイヨン株式会社製、BR85） 20重量部 ジエチルベンゼン（良溶媒） 60重量部 n-オクタノール（貧溶媒） 20重量部
と良溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とからなる下記の
組成の樹脂液を200線のスクリーン印刷により、ピッチ
が1.5mmの円形のドットグラデーションパターンに印刷
した。 アクリル樹脂（三菱レイヨン株式会社製、BR85） 20重量部 ジエチルベンゼン（良溶媒） 60重量部 n-オクタノール（貧溶媒） 20重量部
【００６４】印刷後、60℃、1時間オーブン中で乾燥さ
せることによってジエチルベンゼン（良溶媒）、n-オク
タノール（貧溶媒）の順で気化させて光散乱材を得た。
せることによってジエチルベンゼン（良溶媒）、n-オク
タノール（貧溶媒）の順で気化させて光散乱材を得た。
【００６５】乾燥により基体上にグラデーションパター
ンで形成された微細空孔を有する樹脂被膜は白色不透明
であり、膜厚は30μmであった。顕微鏡で樹脂被膜観察
したところ、平均径が0.3μmの微細空孔が密に存在して
いた。
ンで形成された微細空孔を有する樹脂被膜は白色不透明
であり、膜厚は30μmであった。顕微鏡で樹脂被膜観察
したところ、平均径が0.3μmの微細空孔が密に存在して
いた。
【００６６】このようにして得られた光散乱材を、導光
板として用いたところ、光散乱率が高いので導光板の出
射面での輝度が向上した。
板として用いたところ、光散乱率が高いので導光板の出
射面での輝度が向上した。
【００６７】実施例９ 厚さ0.5mmの透明ポリエチレンテレフタレート樹脂から
なる基体上に、樹脂と良溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶
媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーターで塗布
した。 ポリスチレン樹脂（重合度約1400） ９重量部 テトラヒドロフラン（良溶媒） 67重量部 n-ブタノール（貧溶媒） 24重量部
なる基体上に、樹脂と良溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶
媒とからなる下記の組成の樹脂液をバーコーターで塗布
した。 ポリスチレン樹脂（重合度約1400） ９重量部 テトラヒドロフラン（良溶媒） 67重量部 n-ブタノール（貧溶媒） 24重量部
【００６８】印刷後、50℃、30分間オーブン中で乾燥さ
せることによってテトラヒドロフラン（良溶媒）、n-ブ
タノール（貧溶媒）の順で気化させて光散乱材を得た。
せることによってテトラヒドロフラン（良溶媒）、n-ブ
タノール（貧溶媒）の順で気化させて光散乱材を得た。
【００６９】乾燥により形成された微細空孔を有する樹
脂被膜は乳白色半透明であり、膜厚は2.0μmであった。
顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が１μmの
微細空孔が密に存在していた。
脂被膜は乳白色半透明であり、膜厚は2.0μmであった。
顕微鏡で樹脂被膜を観察したところ、平均径が１μmの
微細空孔が密に存在していた。
【００７０】このようにして得られた光散乱材を、拡散
板として用いたところ、光散乱率が高いので拡散板の出
射面での輝度が均一になった。
板として用いたところ、光散乱率が高いので拡散板の出
射面での輝度が均一になった。
【００７１】
【発明の効果】本発明の光散乱材の製造方法は、非球形
で連続した多数の微細空孔を有する樹脂層を基体上に形
成することのできるものである。
で連続した多数の微細空孔を有する樹脂層を基体上に形
成することのできるものである。
【００７２】したがって、樹脂層中の樹脂と微細空孔と
の間の光散乱界面の面積が大きいので、光散乱率の高い
光散乱材が得られる。
の間の光散乱界面の面積が大きいので、光散乱率の高い
光散乱材が得られる。
【図１】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図２】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図３】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図４】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図５】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図６】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図７】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図８】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図９】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図１０】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例
を示す模式図である。
を示す模式図である。
【図１１】本発明に係る光散乱材の製造方法の一実施例
を示す模式図である。
を示す模式図である。
【図１２】本発明に係る光散乱材を用いた面光源装置を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図１３】本発明に係る光散乱材を用いた面光源装置を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図１４】本発明に係る光散乱材を用いた面光源装置を
示す断面図である。
示す断面図である。
１ インキ層 ２ 樹脂 ３ 良溶媒 ４ 貧溶媒 ５ 凝集樹脂相 ６ 貧溶媒相 ７ 微細空孔 ８ 樹脂層 ９ 導光板 １０ 線光源 １１ 光散乱層 １２１ 光散乱材 １２２ 光散乱材 １２３ 光散乱材 １３ 光透過性層 １４ 支持体
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年９月８日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２９】最後に、樹脂被膜１を乾燥して貧溶媒４を
気化させると（図１１参照）、貧溶媒４が飛び去った後
に微細空孔７が残り、非球形でかつ連続した多数の微細
空孔を有する樹脂被膜８となる（図７参照）。
気化させると（図１１参照）、貧溶媒４が飛び去った後
に微細空孔７が残り、非球形でかつ連続した多数の微細
空孔を有する樹脂被膜８となる（図７参照）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３２】さらに乾燥して貧溶媒４を気化させる（図
６参照）と、貧溶媒４が飛び去った後に微細空孔７が残
り、非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂
被膜８となる（図７参照）。
６参照）と、貧溶媒４が飛び去った後に微細空孔７が残
り、非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂
被膜８となる（図７参照）。
Claims (3)
- 【請求項１】 良溶媒に溶解した樹脂液を基体上に塗布
または印刷して樹脂被膜を形成し、樹脂被膜中の良溶媒
が完全乾燥する前に樹脂被膜を良溶媒より高沸点の貧溶
媒中にさらし、その後樹脂被膜を乾燥させることによっ
て良溶媒、貧溶媒の順で気化させて非球形でかつ連続し
た多数の微細空孔を有する樹脂被膜が基体上に形成され
た光散乱材を得ることを特徴とする光散乱材の製造方
法。 - 【請求項２】 良溶媒に溶解した樹脂液を基体上に塗布
または印刷して樹脂被膜を形成し、樹脂被膜中の良溶媒
が完全乾燥する前に樹脂被膜を良溶媒と同等または良溶
媒より低沸点でかつ良溶媒に対して過剰な貧溶媒中にさ
らし、その後樹脂被膜を乾燥させることによって貧溶媒
を気化させて非球形でかつ連続した多数の微細空孔を有
する樹脂被膜が基体上に形成された光散乱材を得ること
を特徴とする光散乱材の製造方法。 - 【請求項３】 良溶媒と良溶媒より高沸点の貧溶媒とか
らなる混合溶液中に溶解した樹脂液を基体上に塗布また
は印刷して樹脂被膜を形成し、この樹脂被膜を乾燥させ
ることによって良溶媒、貧溶媒の順で気化させて非球形
でかつ連続した多数の微細空孔を有する樹脂被膜が基体
上に形成された光散乱材を得ることを特徴とする光散乱
材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5254925A JPH0780956A (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | 光散乱材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5254925A JPH0780956A (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | 光散乱材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0780956A true JPH0780956A (ja) | 1995-03-28 |
Family
ID=17271768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5254925A Withdrawn JPH0780956A (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | 光散乱材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0780956A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011104765A1 (ja) * | 2010-02-26 | 2011-09-01 | 株式会社クラレ | 導光板及び導光板の製造方法 |
| JP2011186056A (ja) * | 2010-03-05 | 2011-09-22 | Fujifilm Corp | 防眩性フィルムの製造方法 |
| JP2013508780A (ja) * | 2009-10-24 | 2013-03-07 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 空隙を有するディフューザー |
| JP2014202994A (ja) * | 2013-04-08 | 2014-10-27 | 帝人株式会社 | 反射偏光フィルム積層体、それからなる液晶ディスプレイ用光学部材および液晶ディスプレイ |
| CN111933824A (zh) * | 2020-07-06 | 2020-11-13 | 华南理工大学 | 一种作为光取出层的微透镜、散射层及其制备方法 |
| WO2023054591A1 (ja) * | 2021-09-30 | 2023-04-06 | 古河電気工業株式会社 | 紫外線、可視光線および／または赤外線を拡散反射する物品およびその製造方法 |
-
1993
- 1993-09-16 JP JP5254925A patent/JPH0780956A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013508780A (ja) * | 2009-10-24 | 2013-03-07 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 空隙を有するディフューザー |
| JP2015165326A (ja) * | 2009-10-24 | 2015-09-17 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 空隙を有するディフューザー |
| WO2011104765A1 (ja) * | 2010-02-26 | 2011-09-01 | 株式会社クラレ | 導光板及び導光板の製造方法 |
| JP5436655B2 (ja) * | 2010-02-26 | 2014-03-05 | 株式会社クラレ | 導光板及び導光板の製造方法 |
| TWI464462B (zh) * | 2010-02-26 | 2014-12-11 | Kuraray Co | 導光板及導光板之製造方法 |
| JP2011186056A (ja) * | 2010-03-05 | 2011-09-22 | Fujifilm Corp | 防眩性フィルムの製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20001128 |